Method for Avoiding Damage to Overlay Metrology Mark
Номер патента: US20230161268A1
Опубликовано: 25-05-2023
Автор(ы): Chengchang Wei
Принадлежит: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 25-05-2023
Автор(ы): Chengchang Wei
Принадлежит: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Technologies for overlay metrology marks
Номер патента: US20230420381A1. Автор: Martin N. Weiss. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-12-28.