Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Substrate drying apparatus, substrate processing apparatus and substrate drying method

Substrate drying apparatus, substrate processing apparatus and substrate drying method

Номер патента: KR101103870B1
Опубликовано: 12-01-2012
Автор(ы): 류이치 치카모리, 슈이치 야스다, 오사무 타마다, 타다시 미야기, 테츠야 하마다
Принадлежит: 가부시키가이샤 소쿠도
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Vacuum drying apparatus and vacuum drying method using the same

Номер патента: US9927172B2. Автор: HAO WANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Vacuum drying apparatus and vacuum drying method using the same

Номер патента: US20160238315A1. Автор: HAO WANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-18.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A2. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing apparatus and system including the same

Номер патента: US20230402297A1. Автор: Dong Min Kim,Hyung Chul Kim,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Substrate processing system, aligning apparatus, and substrate shape monitoring method

Номер патента: US20230294932A1. Автор: Kento TOKAIRIN. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09601357B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Mitsukazu Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240242977A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240055277A1. Автор: Masayuki ORISAKA,Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate drying apparatus using supercritical fluid, substrate processing equipment including the same, and substrate processing method

Номер патента: JP4545181B2. Автор: 重 根 趙,▲教▼ 旭 具. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-15.

Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning method, display manufacturing apparatus and display manufacturing method

Номер патента: KR101373784B1. Автор: 요시타카 야마모토,준이치 다나카,하루미치 히로세,히데아키 데라카도,요시히로 안도,유키노부 니시베,고이치 다나카. Владелец: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2014-03-13.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US12068175B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate cartridge, substrate processing apparatus, substrate processing system, control apparatus, and method of manufacturing display element

Номер патента: US8801307B2. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-08-12.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US11257692B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-22.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US20220139734A1. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing apparatus, polishing head, and substrate processing method

Номер патента: US20210362285A1. Автор: Toshimitsu IGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate processing apparatus, polishing head, and substrate processing method

Номер патента: US11787006B2. Автор: Toshimitsu IGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, SUBSTRATE HOLDING MECHANISM, AND SUBSTRATE HOLDING METHOD

Номер патента: US20150050863A1. Автор: Kobayashi Kenichi,SHINOZAKI Hiroyuki,OGAWA Takahiro,Makino Natsuki,Sotozaki Hiroshi,NABEYA Osamu,MATSUDA Naoki,KUNISAWA Junji,MIYAZAKI Mitsuru,KATSUOKA Seiji,MORISAWA Shinya. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-19.

Substrate processing apparatus, conveyance mechanism and substrate processing method

Номер патента: WO2022070952A1. Автор: 真士 若林. Владелец: 東京エレクトロン株式会社. Дата публикации: 2022-04-07.

Alignment apparatus, substrate processing apparatus, alignment method, and substrate processing method

Номер патента: JP7259476B2. Автор: 秀樹 駒田,孝徳 若林. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-18.

Substrate processing apparatus control method and substrate processing apparatus

Номер патента: JP4342921B2. Автор: 剛秀 山下,真一 篠塚,栄希 和田. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-10-14.

Transfer module, substrate processing system having transfer chamber, and substrate processing method using substrate transfer system

Номер патента: WO2018135792A1. Автор: Saeng Hyun Cho,Sung Il Ahn. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-07-26.

Substrate transfer device, substrate processing device equipped with it, and substrate transfer method

Номер патента: JP6802726B2. Автор: 丈二 ▲桑▼原. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-16.

PROCESSING APPARATUS, PROCESSING SYSTEM, AND SUBSTRATE TRANSFER DEVICE

Номер патента: KR100386130B1. Автор: 다카유키 도시마,마사미 아키모토,에이지 야마구치,히데타미 야에가시,준이치 가타노,다카유키 기타노,히로시 신야,나루아키 이이다. Владелец: 동경 엘렉트론 주식회사. Дата публикации: 2003-08-25.

Substrate drying apparatus, storage medium, and substrate drying method

Номер патента: US10395949B2. Автор: Tomoatsu Ishibashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-08-27.

Substrate drying apparatus, substrate drying method and control program

Номер патента: US20130219740A1. Автор: Akira Nakamura,Takahiro Ogawa,Shinji Kajita,Kenichi Sugita,Tomoatsu Ishibashi,Koichi Fukaya. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2013-08-29.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240249964A1. Автор: Seiji Nakashima,Shinsuke TAKAKI,Akihiro TERAMOTO,Ryo SHOBU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Cleaning/drying apparatus and cleaning/drying method

Номер патента: US20090084415A1. Автор: Mitsuru Kubo,Michinao Nomura,Chujiro FUKASAWA. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-04-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240282598A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate transferring apparatus, and liquid processing apparatus and substrate processing equipment including same

Номер патента: US20240222174A1. Автор: Eun Jung Lee,Young Jin Jang,Gui Su PARK,Jun Hyun LIM,Hee Jun YOUN,Seul Gi CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Drying apparatus, substrate processing system, and drying method

Номер патента: US20200365425A1. Автор: Katsuhiro Morikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A3. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240210836A1. Автор: Young Seop CHOI,Joo Sung Lee,Bok Kyu Lee,Je Myung Cha,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and processing apparatus fabrication method

Номер патента: US20240175629A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4407661A1. Автор: YANG Han,Xi Wang,HUI Wang,Jun Wang,Jian Wang,Hui Shen,Xiaoyan Zhang,Fuping CHEN,Shena JIA,Wenjun Wang,Yinxiao LU. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing system

Номер патента: US20240258147A1. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240280906A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and computer-readable storage medium stored with substrate processing program

Номер патента: US09627192B2. Автор: Naoyuki Okamura,Kazuki Kosai,Fumihiro Kamimura,Kazuhiro Teraoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240128111A1. Автор: Tae Yong Kim,Byungin AN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09972515B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09870914B2. Автор: Yuki Yoshida,Koji Kagawa,Meitoku Aibara,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus and processed substrate manufacturing method

Номер патента: US09673067B2. Автор: Mitsuru Miyazaki,Toshio Yokoyama,Junji Kunisawa,Teruaki HOMBO,Naoki TOYOMURA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Supercritical drying apparatus and method of drying substrate using the same

Номер патента: US20200227253A1. Автор: Yongsun Ko,Byung-kwon CHO,Jihoon Jeong,Youngtak KIM,Sangjine Park,Seulgee JEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-07-16.

Substrate Treating Apparatus And Substrate Treating Method

Номер патента: US20130199578A1. Автор: Hiroyuki Araki,Kentaro Tokuri. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09721815B2. Автор: Hiroaki Takahashi,Kentaro Tokuri. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09966289B2. Автор: Osamu Morita,Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Yasuaki Komae,Daigi KAMIMURA,Shigeru Odake. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Fixture drying apparatus and method

Номер патента: US09514972B2. Автор: Joe Moore,Scott Roberts,Kevin Ferguson,Chris Schneller,Kathryn Whitaker,Stephen Islas,Jim Puissant. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Substrate transfer system and substrate processing system

Номер патента: US09570336B2. Автор: Masatoshi FURUICHI,Yoshiki Kimura. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot

Номер патента: US20150332947A1. Автор: Masatoshi FURUICHI,Yoshiki Kimura. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2015-11-19.

Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot

Номер патента: US20150332946A1. Автор: Masatoshi FURUICHI,Yoshiki Kimura. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2015-11-19.

Substrate transfer system, substrate processing system, and substrate transfer robot

Номер патента: US09620405B2. Автор: Masatoshi FURUICHI,Yoshiki Kimura. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Processing chamber cleaning method, cleaning attachment and substrate processing system

Номер патента: US20240157410A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing method

Номер патента: US20240234189A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09703199B2. Автор: Takashi Taguchi,Toru Asano,Tsuyoshi Mitsuhashi,Yukio Toriyama. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240254628A1. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12091753B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, fluid supplying method and storage medium

Номер патента: US09662685B2. Автор: Gentaro Goshi,Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Gen You. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Organic solvent supplying apparatus, substrate processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203726A1. Автор: Ki Bong Kim,Yong Hyun Choi,Myung Seok Cha,Ju Yeon SONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253221A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253230A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable storage medium recording therein substrate processing program

Номер патента: US09805957B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yuki Yoshida,Satoru Tanaka,Kazuyoshi Shinohara,Yosuke Kawabuchi,Kotaro Oishi,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus, operating method thereof, and photo spinner equipment

Номер патента: US20240178011A1. Автор: Ho Jin Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP1801860A1. Автор: Takehiko c/o Tokyo Electron AT Limited ORII,Kenji c/o Tokyo Electron AT Limited SEKIGUCHI,Noritaka c/o Tokyo Electron Kyushu Ltd. UCHIDA,Satoru c/o Tokyo Electron Kyushu Limited TANAKA,Hiroki c/o Tokyo Electron AT Limited OHNO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-06-27.

Control apparatus, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240321611A1. Автор: Shinichiro Mori,Hiroyuki Mitsui. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09687887B2. Автор: Atsuyasu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09373528B2. Автор: Mitsunori Komatsu,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Process Chamber and Substrate Processing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20210217636A1. Автор: Hyosan Lee,Kuntack Lee,Yong-jhin Cho,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Jung-min Oh,Yungjun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09768039B2. Автор: Yuki Yoshida,Satoru Tanaka,Kazuyoshi Shinohara,Hidetoshi Nakao,Norihiro Ito,Meitoku Aibara,Kazuhiro Aiura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09721814B2. Автор: Masanobu Sato,Hiroyuki Yashiki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307277A1. Автор: Takahiro Yamaguchi,Jun SAWASHIMA,Akihisa ENSATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240194502A1. Автор: Gentaro Goshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing module and substrate processing device equipped with same

Номер патента: EP4459663A1. Автор: Yasunori DEGUCHI. Владелец: Daikin Finetech Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09595433B2. Автор: Hiroaki Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate Processing System

Номер патента: US20100132611A1. Автор: Yoshitaka Koyama. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2010-06-03.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20200126823A1. Автор: Keisuke Sasaki,Suguru Enokida,Masashi Tsuchiyama,Akihiro TERAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230408194A1. Автор: Haewon Choi. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate processing apparatus and maintenance method thereof

Номер патента: US09613837B2. Автор: Ken Horiuchi,Koji Ando,Shigeru Senzaki,Michishige Saito,Shingo Koiwa,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449857B2. Автор: Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240231232A1. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Yoji SAKATA,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20230062447A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12074048B2. Автор: Yuji Kawaguchi,Hiroki Harada,Tokutarou Hayashi,Tatsuhiko Tsujihashi,Tsuyoshi OTSUKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing apparatus, method of operating substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09696262B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Batch-type vertical substrate processing apparatus and substrate holder

Номер патента: US09613838B2. Автор: Mitsuhiro Okada,Kazuhide Hasebe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing apparatus and substrate conveying apparatus for use in the same

Номер патента: US09624046B2. Автор: Ichiro Mitsuyoshi,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09530677B2. Автор: Akinori Tanaka,Daisuke Hara,Takatomo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing apparatus and process control method thereof

Номер патента: US20230163003A1. Автор: Young Hwan YANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Batch type substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230054580A1. Автор: Minju Lee,Hyungjoon Kim,Sangyub IE,Eunyeoung CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-23.

Multi-chamber apparatus and method for ald

Номер патента: EP4244403A1. Автор: Vladimir Kuznetsov,Jacobus Hubertus Maria BEIJERSBERGEN,Simon Cornelis VAN DER LINDE. Владелец: LEVITECH BV. Дата публикации: 2023-09-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057326B2. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240339339A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus maintenance method

Номер патента: US20240240859A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Robot assemblies, substrate processing apparatus, and methods for transporting substrates in electronic device manufacturing

Номер патента: US09799544B2. Автор: Paul Z. Wirth. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Control apparatus, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US09772624B2. Автор: Takanori Saito,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230402303A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Tsunenaga Nakashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4432335A2. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240312849A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09666464B2. Автор: Hiroshi Kikuchi,Naoto Saito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus maintenance method

Номер патента: US20240242978A1. Автор: Yuichi Tanaka,Manabu Yamanaka,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki,Katsuhiro Ookawa,Tomotaka OMAGARI,Takuya ITAHASHI,Keiichi Yahata,Shuji OIE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and method of transferring a substrate

Номер патента: US09786532B2. Автор: Takashi Mitsuya,Keiichi Kurashina,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Kenichi Akazawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate processing apparatus and control position setting method

Номер патента: US20240297061A1. Автор: Hiroyuki Wada,Gaku Watanabe,Ryoya TOMINAGA,Akashi FUJIO,Masami DODO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12116666B2. Автор: Takeshi Ito,Tomoshi Taniyama,Daigi KAMIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate supporting apparatus, substrate processing apparatus, substrate supporting method, control program of substrate supporting apparatus, and recording medium

Номер патента: US8340811B2. Автор: Majima Kazuyuki,Goshokubo Gen. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-12-25.

Transfer apparatus, and related components and methods, for transferring substrates

Номер патента: US20240170321A1. Автор: Andrew Kretzschmar,Masato Ishii,Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Transfer apparatus, and related components and methods, for transferring substrates

Номер патента: WO2024112369A1. Автор: Andrew Kretzschmar,Masato Ishii,Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240201602A1. Автор: Cheng Cheng,HUI Wang,Jun Wang,Jun Wu,Mark Lee,Andrew Jung,Bruce SOHN,Yy KIM. Владелец: Cleanchip Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20120160805A1. Автор: Mitsuo Suzuki,Kiyoshi Ehara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing method

Номер патента: SG177250A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii,Hideto Nagashima. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-02-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20150243536A1. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10186418B2. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230101475A1. Автор: Hiroki Tajiri,Masayuki ORISAKA,Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190103291A1. Автор: Tooru Nakamura,Kouji Kimoto,Hiroaki Inadomi,Yoshihisa Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Substrate processing system, substrate processing method, and control program

Номер патента: US12062559B2. Автор: Minoru Nagasawa,Kunio Takano,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus including heat-shield plate

Номер патента: US09953850B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Compact substrate processing tool with multi-station processing and pre-processing and/or post-processing stations

Номер патента: US09916995B2. Автор: Karl Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Continuous substrate processing system

Номер патента: US09748125B2. Автор: Nag B. Patibandla,Li-Qun Xia,Banqiu Wu,Toshiaki Fujita,Pravin K. Narwankar,Ralf Hofmann,Jeonghoon Oh,Srinivas Satya. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate processing apparatus, substrate transfer method and substrate transfer device

Номер патента: US09530676B2. Автор: Kenichi Suzuki,Hiroshi Sotozaki,Mitsuru Miyazaki,Toshio Yokoyama,Junji Kunisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Slide and pivot assemblies for process module bias assemblies of substrate processing systems

Номер патента: US20230154772A1. Автор: BIN Yuan,Michael C. Kellogg,David William Paquet,Dexter Yuk Hing CHONG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-05-18.

Substrate processing device, substrate processing method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220406626A1. Автор: Hiroshi Fujita,Tomohiko Sugita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240249962A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12087598B2. Автор: Takashi Tsukamoto,Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Daisuke Hara,Masahisa OKUNO,Toru Kakuda,Hideto TATENO,Takuya Joda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing system

Номер патента: US20200411341A1. Автор: George Xinsheng Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing apparatus including exhaust ports and substrate processing method

Номер патента: US09875895B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium recording substrate processing program

Номер патента: US09824861B2. Автор: Junya Sato,Yoshikazu Ishikawa,Toshihiko Hamada,Toshiyuki Kobayashi,Masahiro Numakura,Shouichi Otake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Substrate processing system and substrate transfer control method

Номер патента: US09646864B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09396978B2. Автор: Takeshi Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234183A1. Автор: Naofumi Ohashi,Teruo Yoshino,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing unit, substrate transfer method, substrate cleansing process unit, and substrate plating apparatus

Номер патента: EP1920458A1. Автор: Kenichi Suzuki,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Ryo Kato,Teruyuki Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2008-05-14.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230085140A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani,Shun Matsui,Toshiro Koshimaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US10186422B2. Автор: Keiji Osada,Daisuke Morisawa,Naohide Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing tube, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the apparatus

Номер патента: US20240011154A1. Автор: Jaehyung Lee,Hyunju Lee,Hyouncheol Kim,Byunghwan Kong,ByeongHoon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230207376A1. Автор: Kiyoshi Mori,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180019145A1. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Substrate processing system having improved substrate transport system

Номер патента: US20090060689A1. Автор: G. X. Guo,K. A. Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-05.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US12040166B2. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US20240339306A1. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09978619B2. Автор: Naoki Tajima,Koji Motoi,Terutaka YAMAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09799542B2. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09548229B2. Автор: Masamichi Yachi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09330950B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Substrate processing system

Номер патента: WO2024151636A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation Us, Llc. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150303077A1. Автор: Masatoshi Kaneda,Ryo Shimada,Kazuki NAGAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Substrate processing system

Номер патента: US20200126831A1. Автор: Ting-Yu Wu,Chuan-Chang Feng,Mao-Lin Liu. Владелец: Scientech Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate process apparatus

Номер патента: WO2020252476A3. Автор: Alexander Krupyshev,Robert May,Daniel Babbs,Leigh SHARROCK. Владелец: Brooks Automation, Inc.. Дата публикации: 2021-02-04.

Systems and methods for monitoring of a controlled environment in a substrate processing system

Номер патента: US20240304477A1. Автор: Bert Jongbloed,Gido Van Der Star. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing system

Номер патента: US20240355654A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation US LLC. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing device and substrate transfer method

Номер патента: US09929030B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09698037B2. Автор: Yuichi Matsuda,Tomoyuki Yamada,Takashi Nogami,Shinobu Sugiura,Seiyo Nakashima. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09589819B1. Автор: Satoshi Takano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Substrate processing apparatus, program for controlling the same, and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US09443748B2. Автор: Makoto Shirakawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-09-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing system having the same

Номер патента: US20230416923A1. Автор: Seung Ho Lee,Kee Jun KIM. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240079256A1. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Taro Yamamoto,Suguru Enokida,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11869789B2. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Taro Yamamoto,Suguru Enokida,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230056038A1. Автор: Naruaki Iida,Kousei Ide,Kazuya Matsushita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Processing apparatus group management system, processing apparatus group management method, and program

Номер патента: US20230083863A1. Автор: Shinji Yamamoto,Kouhei NISHIKAWA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing device comprising door unit having inclined surface

Номер патента: US11701693B2. Автор: Hyung Chul Kim,Dong Hwa Lee,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Apparatus for transferring substrate, substrate processing system and method of processing substrate

Номер патента: US20240120225A1. Автор: Akinori Shimamura,Dongwei Li,Hiromitsu Sakaue,Takehiro Shindo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing device comprising door unit having inclined surface

Номер патента: US20230001462A1. Автор: Hyung Chul Kim,Dong Hwa Lee,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Management device for substrate processing system and management method for substrate processing system

Номер патента: US20230205174A1. Автор: Man Gyu LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160121373A1. Автор: Daisuke Aoki,Junya Minamida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20070009649A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Seiichi Kaise. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Chiller make-break connector for substrate processing systems

Номер патента: US12074039B2. Автор: Alexander Charles Marcacci. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing system with vertical arrangement structure

Номер патента: US20230260806A1. Автор: Hyung Chul Kim,Dong Hwa Lee,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Tools and methods for mounting transport rails in a substrate processing system

Номер патента: US20090279990A1. Автор: Stuart Scollay. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 2009-11-12.

Method, device, and non-transitory computer readable medium for determining timing of removing substrate from cassette in substrate processing device, and substrate processing device

Номер патента: US12119246B2. Автор: Hidetatsu Isokawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate processing apparatus and a method for fabricating a semiconductor device by using same

Номер патента: US20020182870A1. Автор: Akihiro Sato,Tatsuhisa Matsunaga,Norio Akutsu. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2002-12-05.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20120149208A1. Автор: Takahito Nakajima. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-06-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230260807A1. Автор: Yasuo Kiyohara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate cartridge, substrate processing apparatus, substrate processing system, control apparatus, and method of manufacturing display element

Номер патента: TW201131855A. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-09-16.

Substrate cartridge, substrate processing apparatus, substrate processing system, control apparatus, and method of manufacturing display element

Номер патента: US20110085841A1. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-04-14.

Inspection method, substrate processing method including the same, and substrate processing device using the substrate processing method

Номер патента: US20240201103A1. Автор: Sarah Kim,Jaeyong Park,Younghoon Kim,Sungil Cho,Myunggeun SONG,Changyul KIM,Taeil Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

ETCHING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, ETCHING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180076056A1. Автор: Tanaka Yuji,HARUMOTO Masahiko,ASAI Masaya,KANEYAMA Koji. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-15.

Exposure device, substrate processing apparatus, exposure method and substrate processing method

Номер патента: US20190086808A1. Автор: Yuji Tanaka,Yasuhiro Fukumoto,Masahiko Harumoto,Koji Kaneyama,Masaya Asai,Chisayo NAKAYAMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-21.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, MIXING METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20220139734A1. Автор: YOSHIDA Hiroshi,Ogura Kouji,NONAKA Jun,INADA Takao,NISHIWAKI Yoshinori. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-05.

SUBSTRATE HOLDING AND ROTATING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE EQUIPPED WITH SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20160096205A1. Автор: Kato Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-07.

SUBSTRATE PROCESSING METHOD, SEMICONDUCTOR PRODUCTION METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20220148888A1. Автор: Sato Masanobu,Kobayashi Kenji,Nakano Yuta. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-12.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, SUBSTRATE HOLDING MECHANISM, AND SUBSTRATE HOLDING METHOD

Номер патента: US20140302676A1. Автор: Kobayashi Kenichi,SHINOZAKI Hiroyuki,OGAWA Takahiro,Makino Natsuki,Sotozaki Hiroshi,NABEYA Osamu,MATSUDA Naoki,KUNISAWA Junji,MIYAZAKI Mitsuru,KATSUOKA Seiji,MORISAWA Shinya. Владелец: . Дата публикации: 2014-10-09.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, MIXING METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20200294823A1. Автор: YOSHIDA Hiroshi,Ogura Kouji,NONAKA Jun,INADA Takao,NISHIWAKI Yoshinori. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-17.

Exposure device, substrate processing apparatus, exposure method and substrate processing method

Номер патента: TWI712865B. Автор: 金山幸司,田中裕二,中山知佐世,春本将彦,浅井正也,福本靖博. Владелец: 日商斯庫林集團股份有限公司. Дата публикации: 2020-12-11.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus

Номер патента: US20030060917A1. Автор: Kenji Sugimoto,Kenji Kamei,Tamihiro Bun,Kinya Murata,Kenji Hashinoki,Noriaki Yokono,Tsuyoshi Mitsuhashi. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2003-03-27.

Substrate holding and rotating device, substrate processing device equipped with same, and substrate processing method

Номер патента: US9962744B2. Автор: Hiroshi Kato. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing system for mass production and substrate processing method using the same

Номер патента: KR101240913B1. Автор: 박원석,권기청,양창실,나용호,양두영. Владелец: 주성엔지니어링(주). Дата публикации: 2013-03-08.

Substrate transferring apparatus, substrate processing apparatus with it and substrate processing method using it

Номер патента: KR101243743B1. Автор: 황병수,정종범,최익기. Владелец: (주)대명이엔지. Дата публикации: 2013-03-13.

Exposure device, substrate processing apparatus, exposure method and substrate processing method

Номер патента: TW201925919A. Автор: 金山幸司,田中裕二,中山知佐世,春本将彦,浅井正也,福本靖博. Владелец: 日商斯庫林集團股份有限公司. Дата публикации: 2019-07-01.

Substrate processing method, computer storage medium and substrate processing system

Номер патента: CN101527259B. Автор: 大塚贵久. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-11-16.

Substrate holding and rotating device, substrate processing device equipped with same, and substrate processing method

Номер патента: WO2014203587A1. Автор: 加藤　洋. Владелец: 大日本スクリーン製造株式会社. Дата публикации: 2014-12-24.

Substrate processing apparatus, substrate transport method, semiconductor device manufacturing method, and substrate processing apparatus maintenance method

Номер патента: JP5575507B2. Автор: 誠 野村. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-08-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable medium storing program

Номер патента: US09859109B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US9337070B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-10.

Substrate drying method, photoresist developing method, photolithography method including the same, and substrate drying system

Номер патента: US20200152486A1. Автор: Soo Young Choi,Sunghyun Park,Hyosan Lee,Kuntack Lee,Yong-jhin Cho,Young-Hoo Kim,Ji Hoon Cha,Chawon KOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-05-14.

Substrate drying device, substrate processing device, and substrate manufacturing method

Номер патента: EP4459665A1. Автор: Yasunori DEGUCHI,Ai ARAKI,Yoshikazu FUTAMATA. Владелец: Daikin Finetech Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Substrate drying apparatus, substrate drying method and storage medium

Номер патента: US11854815B2. Автор: Yosuke Kawabuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Substrate drying apparatus, substrate drying method and storage medium

Номер патента: US20200357649A1. Автор: Yosuke Kawabuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234160A1. Автор: Keiji Magara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate treatment method and substrate treatment device

Номер патента: EP4343818A1. Автор: Keiji Magara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-27.

Substrate processing apparatus and method of driving relay member

Номер патента: US20220037125A1. Автор: Shin Matsuura,Nobutaka Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20070065760A1. Автор: Yoshitake Ito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240253093A1. Автор: Koji Ando,Noritake SUMI,Tomohiro Motono. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230311170A1. Автор: Toru Hirata,Yoshinori Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12094694B2. Автор: Sumi Tanaka,Tamihiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and spray module of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220392790A1. Автор: Jongchul Kim,InWoo BACK,YeongSeop BYEON,InCheol YEO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230084826A1. Автор: Jung Hwan Lee,Young Jun Kim,Sung Ho ROH,Cheong Hwan Jeong,Tae Dong Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230241636A1. Автор: Yoko TAKAKITA. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus and apparatus cleaning method

Номер патента: US12087599B2. Автор: Osamu Kuroda,Hidemasa ARATAKE,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274451A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Internal pressure control apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240304427A1. Автор: Tae-hyun Kim,Sang Ki Nam,Sung Ho Jang,Seul Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240326406A1. Автор: Seong Soo JEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234100A9. Автор: Je Ho Kim,Tae Suk Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12033872B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234173A1. Автор: Hiroki Koyama. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US20190055647A1. Автор: Kook Tae Kim,Bongjin Kuh,In-Sun Yi,Soojin HONG,Sukjin CHUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing apparatus and method of processing a substrate and of manufacturing a processed workpiece

Номер патента: WO2019105944A8. Автор: Hartmut Rohrmann,Hubert Breuss,Heinz Felzer,Dominik Jaeger. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2020-05-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240266144A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Jaewon Jeong,Naohiko Okunishi,SeungBo SHIM,Kyeongtea BANG,Kihwan Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307262A1. Автор: Koichi Higuchi,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4404242A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100647A1. Автор: Boun Yoon,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230257877A1. Автор: Yasushi Takeuchi,Manabu Honma,Junnosuke Taguchi,Ibuki HAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing method, thermal processing apparatus, and semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US20240186161A1. Автор: Sung Kyu Park,Sung Yong Lee,Myung Hwan Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240301555A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240299971A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240332041A1. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4447096A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09997382B2. Автор: Kenji Kobayashi,Kazuhide Saito,Kenji Izumoto,Akihisa Iwasaki,Takemitsu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus and methods

Номер патента: US09972511B2. Автор: Takashi KURATOMI,Brent Biggs. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09970112B2. Автор: Kenichi Suzaki,Yasunobu Koshi,Akihito Yoshino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus, monitoring device of substrate processing apparatus, and monitoring method of substrate processing apparatus

Номер патента: US09927373B2. Автор: Motoi Okada,Shigeyuki IIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180185885A1. Автор: Akio Hashizume,Junichi Ishii,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449807B2. Автор: Toshimitsu Namba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

System for monitoring failure of substrate processing apparatus, and method for monitoring failure of substrate processing apparatus

Номер патента: US09412256B2. Автор: Ichiro NAMIOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12020936B2. Автор: Takeshi Tamura,Hirotoshi Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20240213059A1. Автор: Gyeong Won SONG,Hee Man AHN,Sung Hun Eom,Jae Seung YU. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130084709A1. Автор: Masahiro Miyagi,Kazunori Fujikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-04.

Substrate processing system

Номер патента: US20200257269A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US20180342479A1. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US10833045B2. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-10.

Substrate processing apparatus and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240153811A1. Автор: Young Joon Kim,Sang Duk HWANG,Jai Hoon KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09881784B2. Автор: Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Keiji Tanouchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09640382B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240240321A1. Автор: Jin An JUNG,Da Un Jung,In Woo BACK. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12044973B2. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate treating apparatus and substrate treating method

Номер патента: US20180182646A1. Автор: Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090192652A1. Автор: Tomoyuki Yamada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-30.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US20190091733A1. Автор: Michinori IWAO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220334491A1. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240248417A1. Автор: Hiroyuki Iwaki,Shinsuke TAKAKI,Ryohei FUJISE,Yoji SAKATA,Kenichirou Matsuyama,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo,Shingo Katsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and a method of processing a substrate using the same

Номер патента: US20230360931A1. Автор: Sung Yong Park,Junghyun Song,Ansook Sul,Donok Choi,Jeonghun Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-09.

Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240312800A1. Автор: Hakuba KITAGAWA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4456119A1. Автор: Ju Young Park,So Jin Jeong,Seong Min Nam,Da In Kim. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Ejection inspection apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US09887106B2. Автор: Hiroshi Sano,Itaru Furukawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09859136B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yoichi Tokunaga,Hiromitsu Namba,. Fitrianto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus and nozzle cleaning method

Номер патента: US09764345B2. Автор: Yuki Yoshida,Tetsuya Oda,Satoru Tanaka,Yoshinori Ikeda,Kazuyoshi Shinohara,Yoshihiro Kai,Meitoku Aibara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus, substrate detection method of substrate processing apparatus and storage medium

Номер патента: US09691646B2. Автор: Kohei Mori,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Lifting device, substrate processing apparatus having lifting device, and unit transferring method

Номер патента: US20150082613A1. Автор: Tadakazu Sone,Hiroyuki Shinozaki,Hiroshi Aono,Toshio Yokoyama,Hideo Aizawa,Kenji Shinkai. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-03-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178047A1. Автор: Yungi Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240238848A1. Автор: Shuhei Takahashi,Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Akira Fujita,Takafumi Kinoshita,Tomoyuki Hashimoto,Kazuhiro Aiura,Daisuke Saiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210237221A1. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing apparatus and processing cup cleaning method

Номер патента: US20180025922A1. Автор: Hiroki Tsujikawa,Kazuhiro Fujita,Masahide Ikeda,Atsuyasu Miura,Yuya TSUCHIHASHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-25.

Substrate processing system, substrate detecting apparatus, and substrate detecting method

Номер патента: US20120160040A1. Автор: Yuichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09795999B2. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi,Yosuke Himori. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Liquid treatment method, substrate processing apparatus and non-transitory storage medium

Номер патента: US09766543B2. Автор: Izumi Hasegawa,Yuichiro KUNUGIMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Liquid processing apparatus and liquid processing method

Номер патента: US20180032092A1. Автор: Hiroshi Komiya,Keigo Satake,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing apparatus and shutter

Номер патента: US20240128058A1. Автор: Takashi Aramaki,Atsushi Ogata,Gyeong Min Park,Lifu Li,Kojiro MATSUZAKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12036662B2. Автор: Yoshifumi Okada,Tomoyuki Shinohara,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing system and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240112933A1. Автор: Bongcheol Kim,Jeonghee Choi,Hyungwan Do. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-04.

Substrate processing apparatus and producing method of semiconductor device

Номер патента: US7892983B2. Автор: Masanori Sakai,Taketoshi Sato,Takaaki Noda,Norikazu Mizuno,Hironobu Miya. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-02-22.

Substrate processing apparatus and substrate placing method

Номер патента: US20240274462A1. Автор: Makoto Fujiwara,Daisuke Ikemoto,Hideyuki Fukushima,Kenji SUGAKAWA,Norifumi Kohama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09966282B2. Автор: Kunihiro Miyazaki,Kenji Minami,Yuji Nagashima,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus and method of manufacture using the same

Номер патента: US20180114714A1. Автор: Taewoo Kang,Byung Lyul Park,Kyoung Hwan Kim,Hyungjun Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-26.

Heating device, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20110021039A1. Автор: Hitoshi Murata,Masaaki Ueno,Tetsuya Kosugi,Shinobu Sugiura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-01-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20170278726A1. Автор: Katsuhiko Miya. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate treatment apparatus, and method for controlling temperature of heater

Номер патента: US09758870B2. Автор: Jae-ho Lee,Kyong-Hun Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je,Myung-In Kim. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09728443B2. Автор: Kenji Kobayashi,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Apparatus and method for depositing electronically conductive pasting material

Номер патента: US09666416B2. Автор: Wei D. Wang,John C. Forster,Anantha Subramani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and non-transitory storage medium

Номер патента: US09627232B2. Автор: Keiichi Tanaka,Kousuke Yoshihara,Tomohiro Iseki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Inner wall and substrate processing apparatus

Номер патента: US12040198B2. Автор: Atsushi Tanaka,Hiroyuki Ogawa,Yuji Asakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12076820B2. Автор: Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Rotating Device

Номер патента: US20080042328A1. Автор: Sumi Tanaka,Kouki Suzuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-21.

Inner Wall and substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240321602A1. Автор: Atsushi Tanaka,Hiroyuki Ogawa,Yuji Asakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12123091B2. Автор: Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Daigi KAMIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Lifting device, substrate processing apparatus having lifting device, and unit transferring method

Номер патента: US09666469B2. Автор: Tadakazu Sone,Hiroyuki Shinozaki,Hiroshi Aono,Toshio Yokoyama,Hideo Aizawa,Kenji Shinkai. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing apparatus and heating equipment

Номер патента: US09460946B2. Автор: Hitoshi Murata,Tetsuya Kosugi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-04.

Substrate processing apparatus and substrate placing method

Номер патента: US20240282617A1. Автор: Kimio Motoda,Norio Wada,Shintaro SUGIHARA,Hideyuki Fukushima,Kenji SUGAKAWA,Norifumi Kohama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240248418A1. Автор: Hyun Woo Kim,Dong-Wook Kim,Yong Suk Choi,Cha Won Koh,Kyung Won Seo,Kyung-won Kang,Seok Heo,Sang Joon Hong,Young Il Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and abnormality detection method

Номер патента: US20220285182A1. Автор: Yasuhiko Kojima,Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Hiroaki Chihaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing apparatus and abnormality detection method

Номер патента: US20220285197A1. Автор: Yasuhiko Kojima,Tetsuya Miyashita,Einstein Noel Abarra,Hiroaki Chihaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Transfer apparatus, and related components and methods, for transferring substrates

Номер патента: US20240274448A1. Автор: Andrew Kretzschmar,Masato Ishii,Shu-Kwan LAU,Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong,Ernesto J. ULLOA,Bharath Bopanna PUTTICHANDA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Supercritical drying method for semiconductor substrate and supercritical drying apparatus

Номер патента: US09583330B2. Автор: Hiroshi Tomita,Hidekazu Hayashi,Yohei Sato,Kazuyuki Mitsuoka,Mitsuaki Iwashita,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Hisashi Okuchi,Gen You,Linan JI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20020160560A1. Автор: Satoshi Okada,Eisuke Nishitani,Michiko Nishiwaki,Katsuhisa Kasanami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2002-10-31.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09543220B2. Автор: Takeo Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing systems and robot apparatus for transporting substrates in electronic device manufacturing

Номер патента: US09457464B2. Автор: Izya Kremerman,Jeffrey C. Hudgens. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240242985A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180197748A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Koji Takeya,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Board processing apparatus, board processing method, and board processing system

Номер патента: US20160161941A1. Автор: Takashi Koshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US20160189991A1. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110065288A1. Автор: Toru Harada,Masayoshi Minami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-17.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321650A1. Автор: Yuji Otsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus and gas supply method thereof

Номер патента: US20240309504A1. Автор: Yeong-Been KIM,Hyun-Shik AHN. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768042B2. Автор: Ayumi Higuchi,Asuka WAKITA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09766617B2. Автор: Keiji Osada,Junichi Ogawa,Youichi Nakayama,Hiroaki DEWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US09673072B2. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Substrate processing apparatus including auxiliary gas supply port

Номер патента: US09593415B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12033864B2. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: US9153430B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-10-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200243350A1. Автор: Hiroshi Abe,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI,Tsutomu Osuka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate

Номер патента: US20240162052A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20060289431A1. Автор: Shinichi Ito,Tsuyoshi Shibata,Kei Hayasaki,Koutarou Sho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11742223B2. Автор: Yuji Kimura,Yoshihiro Kai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080526B2. Автор: Do Hyung Kim,Young Woon Kim,Woong Kyo Oh,Kwang Su YOO,Yun Gyu HA. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20230027653A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054828B2. Автор: Kohei Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing method

Номер патента: US20110200949A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203702A1. Автор: Seungpil Chung,Sungik Park,Yongsu Jang,Jungyoon Yang,Inseong Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4420831A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Makoto Kashiwagi,Mao Fujisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304452A1. Автор: Hiroshi Marumoto,Tsunemoto OGATA,Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US12091751B2. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing method

Номер патента: US8367308B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-02-05.

Substrate processing device

Номер патента: US20240312803A1. Автор: Shusaku Matsumoto,Koichiro Kawano,Shiguma KATO,Tomoya Iwasaki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US09816182B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Yuichi Wada,Iwao Nakamura,Manabu Izumi,Hideto TATENO,Keishin Yamazaki,Takurou USHIDA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Support information display method, maintenance support method of substrate processing apparatus, support information display control apparatus, substrate processing system and recording medium

Номер патента: US09810905B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Toru Yamauchi,Toshiaki Kodama,Sensho Kobayashi,Kazuya Uoyama,Gaku Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Acoustically-monitored semiconductor substrate processing systems and methods

Номер патента: US09429247B2. Автор: Michael Johnson,Joseph Yudovsky,Todd J. Egan,Kommisetti SUBRAHMANYAM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230307254A1. Автор: Yuta Segawa,Chiaki MORIYA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213077A1. Автор: Woojin Chung,Kyungmo Kim,Jeongcheol LEE,Jungheum NAM,Myunggeun MIN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing device and dielectric plate alignment method

Номер патента: EP4394850A1. Автор: Ju-Young Park,Kwang-Sung YOO. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12051605B2. Автор: Yusuke Hashimoto,Hiroki Sakurai,Daisuke Goto,Takahiro Koga,Nobuhiro Ogata,Kanta Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240249956A1. Автор: Yohei Midorikawa,Ryo Kuwajima,Yohei NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240014055A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki,Kyohei Kita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate cleaning method, processing container cleaning method, and substrate processing device

Номер патента: US11504751B2. Автор: Kenji Sekiguchi,Shuuichi Nishikido,Kyoko Ikeda,Kazuya Dobashi,Tsunenaga Nakashima,Masato Nakajo,Takahiro YASUTAKE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-22.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230282505A1. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Atsushi Moriya,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US11499224B2. Автор: Tetsuaki Inada,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-11-15.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240297023A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190206695A1. Автор: Kazuya Koyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20220068642A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Daisuke Suzuki,Koji Kagawa,Kenji Sekiguchi,Yoshihiro Takezawa,Syuhei YONEZAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Method, computer program product and apparatus for scheduling maintenance actions in a substrate processing system

Номер патента: US20050033463A1. Автор: Wim Tel,Harm Rossing,Suzan Auer-Jongepier. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-02-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190057890A1. Автор: Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing apparatus with capabilities of automatic device configuration and a method thereof

Номер патента: US20240210906A1. Автор: Tsutomu Makino,Trung Ngo Minh. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-27.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus comprising same

Номер патента: EP4428897A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate processing device, manufacturing method for semiconductor device, and reaction tube

Номер патента: US12062546B2. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Hidenari YOSHIDA,Shigeru Odake. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09933702B2. Автор: Jiro Higashijima,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09895711B2. Автор: Jian Zhang,Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Eiichiro Okamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09875920B1. Автор: Yasuhiro Mizuguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-23.

Flexible temperature compensation systems and methods for substrate processing systems

Номер патента: US09864361B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Marcus Carbery. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Cooled pin lifter paddle for semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09859145B2. Автор: Andreas Fischer,Dean Larson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09852933B2. Автор: Norihiro Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09852931B2. Автор: Masanobu Sato,Masahiro Miyagi,Hiroyuki Araki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09818630B2. Автор: Akira Takahashi,Kazuyuki Toyoda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing device and substrate processing method for carrying out chemical treatment for substrate

Номер патента: US09786527B2. Автор: Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate processing method, program, computer-readable storage medium, and substrate processing system

Номер патента: US09690185B2. Автор: Hidetami Yaegashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09502239B2. Автор: Masahisa OKUNO,Hideto TATENO,Takuya Joda,Masamichi Kurokawa,Tooru KAKUDA. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2016-11-22.

Heat transfer sheet adhering apparatus and method

Номер патента: US09427913B2. Автор: Kazuya Matsumoto,Toshinori KITABATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213043A1. Автор: Euisang Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230175124A1. Автор: Jiwon KWAK,Songyi Baek,Taemin Kim,Sejin KYUNG,Daewee KONG,Youngtack SIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4333035A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20090178762A1. Автор: Hironobu Shimizu,Nobuo Ishimaru. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-16.

Substrate processing system

Номер патента: US20240191351A1. Автор: Dieter Pierreux. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20170278729A1. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200135505A1. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2020-04-30.

Substrate processing in a process chamber for semiconductor manufacturing and apparatus management controller with error analysis

Номер патента: US11086304B2. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Takayuki KAWAGISHI,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-08-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080572B2. Автор: Masahiro DOGOME,Masatomo KITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20170062245A1. Автор: Sang-Dong Kwon,Sang-Rok Oh,Jong-Woo Sun,Kwang-Nam Kim,Jung-pyo HONG,Yong-Moon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-02.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240319707A1. Автор: Shinichiro Mori,Hiroyuki Mitsui,Yuji Yamaoka,Hiroshi Ekko,Kyo TAKATA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and program

Номер патента: EP4435537A1. Автор: Shinichiro Mori,Hiroyuki Mitsui,Yuji Yamaoka,Hiroshi Ekko,Kyo TAKATA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451310A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Hyen Woo Chu. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Substrate processing system and particle removal method

Номер патента: US12062557B2. Автор: Tatsuya Morioka,Daisuke Hara,Akihiro Matsui,Hideyuki Osada,Genichi Nanasaki,Hikaru Nihei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing method

Номер патента: US09543162B2. Автор: Takashi Ota,Kazuhide Saito,Taiki HINODE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090014126A1. Автор: Yasufumi Koyama,Masami Ohtani. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2009-01-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US10331034B2. Автор: Yuji Tanaka,Masahiko Harumoto,Koji Kaneyama,Masaya Asai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, control method for substrate processing apparatus and storage medium

Номер патента: US9389601B2. Автор: Yasunori Nakamura,Nobuhiko Nakagawa,Naohiko Kawashima. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100573A1. Автор: Manabu Yamamoto,Takashi Izuta,Mitsutoshi Sasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240149312A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11972958B2. Автор: Takumi Honda,Hiroyuki Masutomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Gate valve, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240068090A1. Автор: Yukio Ohizumi,Yoshifumi HOSHINO,Kaito SUZUKI. Владелец: Kitz SCT Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210098279A1. Автор: Katsuhiro Yamazaki,Emi Matsui,Yoshikazu Ohtani,Kyouhei TOMIOKA,Shunya KUBOTA. Владелец: Shin Etsu Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178024A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240184208A1. Автор: Hyun Min Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: EP4060077A2. Автор: Taketoshi Sato,Makoto Sambu,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180096837A1. Автор: Yi-Cheng Wang. Владелец: Wet Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230369018A1. Автор: Jaewon Shin,Sangjeong LEE,Jongwon Park,Yoonseok Choi,Kyunghun JANG,Youngun Bong,Hanlim Kang,Hyunwoo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US11257701B2. Автор: Hidekazu Kiyama,Kazutoshi Ishimaru,Takehiro Kadokura,Takashige Suematsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240006160A1. Автор: Yunsang Kim,Kwangryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4333036A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240079251A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate processing system for removing peripheral portion of substrate, substrate processing method and computer readable recording medium thereof

Номер патента: US11752576B2. Автор: Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160010210A1. Автор: Hidehiro Yanai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-01-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234093A1. Автор: Sejin Oh,Dougyong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160059274A1. Автор: Katsuhiko Miya,Naozumi Fujiwara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411296A1. Автор: Jeong Seok Kang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Improved heater for use in substrate processing apparatus to deposit tungsten

Номер патента: EP1080485A1. Автор: Jun Zhao,Talex Sajoto,Leonid Selyutin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-03-07.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20190153602A1. Автор: Shinichiro Misaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Substrate processing method

Номер патента: US20070004057A1. Автор: Toshio Kaneko,Toru Nishiwaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-04.

Substrate processing device

Номер патента: US20240318307A1. Автор: Heeyeon Kim,Seongho Park,Hyunho Choi,Byunghwan Kong,Seongwan KIM,Heesun Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing method, substrate processing system and computer-readable recording medium

Номер патента: US20240290607A1. Автор: Takashi Uno,Satoshi Okawa,Naoyuki Okamura,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing system including coil with RF powered faraday shield

Номер патента: US12087557B2. Автор: SHEN Peng,Anthony Nguyen,Dan Marohl,Tamarak Pandhumsoporn. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

RF reference measuring circuit for a direct drive system supplying power to generate plasma in a substrate processing system

Номер патента: US12106947B2. Автор: Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240332047A1. Автор: Yoshitaka Miura,Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240355647A1. Автор: Takashi Uno,Naoyuki Okamura,Keisuke Sakaguchi,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US09991137B2. Автор: Tatsuya Fujii. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09847239B2. Автор: Yuichiro Inatomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09790597B2. Автор: Kenichi Yamaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Substrate processing apparatus, purging apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US09695509B2. Автор: Makoto Hirano,Akinari Hayashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09646862B2. Автор: Atsushi UMEKAWA,Akinori Ishii,Masahisa OKUNO,Katsuyoshi Hamano,Takuya Joda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09630296B2. Автор: Tomoatsu Ishibashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Substrate processing apparatus, control method adopted in substrate processing apparatus and program

Номер патента: US20060176928A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Toshiyuki Kobayashi,Shinichiro Hayasaka,Seiichi Kaise. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-08-10.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US10199240B2. Автор: Hiroshi Tomita,Hidekazu Hayashi,Yohei Sato,Kazuyuki Mitsuoka,Mitsuaki Iwashita,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Hisashi Okuchi,Gen You. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-02-05.

Semiconductor device manufacturing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US8172946B2. Автор: Mikio Ohno,Yoshikazu Takashima,Tomoshi Taniyama. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2012-05-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20020132480A1. Автор: Tadashi Iino,Naoki Shindo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-09-19.

Substrate processing control method, substrate processing apparatus and storage medium

Номер патента: US11862496B2. Автор: Yoshitaka Konishi,Toyohisa Tsuruda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240084448A1. Автор: Takafumi Sasaki,Hidetoshi Mimura,Hidenari YOSHIDA,Yusaku OKAJIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230416917A1. Автор: Sang Cheol Park,Bong Su Choi,Seung Han KIM,Kee Jun KIM. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240071794A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11915947B2. Автор: Koji Yamashita,Takumi Honda,Hironobu Hyakutake,Shinji Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Substrate processing apparatus and control method of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220399209A1. Автор: Tomonori Okumura,Keisuke Tsugao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-15.

Substrate processing system and substrate transfer apparatus and method

Номер патента: US20230282492A1. Автор: Toshiaki Toyomaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220157567A1. Автор: Takashi Aramaki,Hiroshi Tsujimoto,Lifu Li,Junya Kuramoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240021457A1. Автор: Kenichirou Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11887871B2. Автор: Yuichi Tanaka,Yoshihiro Kai,Kazushige Sano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Substrate processing apparatus and temperature regulation method

Номер патента: US20240014054A1. Автор: Tatsuya Watanabe,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240021412A1. Автор: Jae Hoo Lee,Yoon Jong JU,Min Sung HAN,Seong Pyo Ahn,Hyun Min Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Processing apparatus and processing method

Номер патента: US20220148890A1. Автор: Atsushi Sawachi,Kosuke Ogasawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11859280B2. Автор: Takafumi Sasaki,Hidetoshi Mimura,Hidenari YOSHIDA,Yusaku OKAJIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-02.

Apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US11897006B2. Автор: Ki Young Kwak,Sang Young KWON,Cha Sub Shim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Substrate processing method, substrate processing system and substrate processing apparatus

Номер патента: US10520831B2. Автор: Yoshihiro Kondo,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20190096711A1. Автор: Yoshinori Nishiwaki,Hideaki Sato,Takao Inada,Hiroki Ohno,Hisashi Kawano,Takahiko Otsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Information processing apparatus and parameter control method

Номер патента: US20240087925A1. Автор: Kiwamu Ito,Yuichi Takenaga,Youngtai KANG,Rui IKEDA,Ken OKOSHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing chamber, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230043451A1. Автор: Yongmyung Jun,Seohyun Kim,Hyunjin Ko,Jae Seong RYU,Inkwang BAE,Seungbu BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate processing apparatus, processing liquid and substrate processing method

Номер патента: TW202011501A. Автор: 奥谷学,阿部博史,屋敷啓之. Владелец: 日商斯庫林集團股份有限公司. Дата публикации: 2020-03-16.

Injector and substrate processing appartatus using the same, and substrate processing method

Номер патента: US20200102652A1. Автор: Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Etching device, substrate processing apparatus, etching method and substrate processing method

Номер патента: KR102021660B1. Автор: 마사히코 하루모토,고지 가네야마,유지 다나카,마사야 아사이. Владелец: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스. Дата публикации: 2019-09-16.

Substrate cleaning device, substrate cleaning system, substrate processing system, substrate cleaning method and substrate processing method

Номер патента: KR20230012426A. Автор: 다카시 시노하라,준이치 이시이,노부아키 오키타,가즈키 나카무라,요시후미 오카다,도모유키 시노하라,다쿠마 다카하시. Владелец: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스. Дата публикации: 2023-01-26.

Substrate cleaning device, substrate cleaning system, substrate processing system, substrate cleaning method and substrate processing method

Номер патента: JP2023013349A. Автор: Kazuki Nakamura,Yoshifumi Okada,Junichi Ishii,Takashi Shinohara,Tomoyuki Shinohara,Takuma Takahashi,一樹 中村,智之 篠原,敬 篠原,淳一 石井,吉文 岡田,展彬 沖田,Nobuaki Okita,拓馬 ▲高▼橋. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-26.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, substrate holding mechanism, and substrate holding method

Номер патента: KR101725268B1. Автор: 세이지 가츠오카,히로시 소토자키,미츠루 미야자키,나오키 마츠다,준지 구니사와,겐이치 고바야시,히로유키 시노자키,오사무 나베야,신야 모리사와,다카히로 오가와,나츠키 마키노. Владелец: 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼. Дата публикации: 2017-04-10.

Substrate processing apparatus, bevel cover, and substrate processing method

Номер патента: CN112928011A. Автор: 石川大,高桥祐树. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-06-08.

Substrate processing method, computer storage medium, and substrate processing system

Номер патента: JPWO2019039432A1. Автор: 武 田村,田村　武,隼斗 田之上. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Injector and substrate processing appartatus using the same, and substrate processing method

Номер патента: US20200102652A1. Автор: Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate drying apparatus

Номер патента: US12094731B2. Автор: Takuya Tsushima,Hirotaka Ohashi,Fumiya OKAZAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate drying apparatus

Номер патента: US20190279884A1. Автор: Koji Yamashita,Yoshihiro Kai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-12.

Substrate drying apparatus

Номер патента: US20210249281A1. Автор: Takuya Tsushima,Hirotaka Ohashi,Fumiya OKAZAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-08-12.

Substrate drying method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10760852B2. Автор: Hiroshi Abe,Noriyuki Kikumoto,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-01.

Substrate drying method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190063834A1. Автор: Hiroshi Abe,Noriyuki Kikumoto,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09472441B2. Автор: Takahiro Ogawa,Hisajiro NAKANO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate drying device and method of drying substrate using the same preliminary class

Номер патента: US12119240B2. Автор: Sejin Park,Sungyong PARK,Ansook Sul,Donok Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate drying device and method of drying substrate using the same

Номер патента: US20230187231A1. Автор: Sejin Park,Sungyong PARK,Ansook Sul,Donok Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-15.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230102650A1. Автор: Sungjoo An,Janghee Lee,Geuno JEONG,Seran OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220152780A1. Автор: Junichi Kitano,Yuichi Douki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200105574A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200083064A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482428B2. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274450A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09490151B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Satoshi TODA,Yuji Asakawa,Yohei Midorikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Processing liquid ejection nozzle, nozzle arm, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11776824B2. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura,Tatsuhiro Ueki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Control method of substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153748A1. Автор: Morihito Inagaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Processing system, processing method, measurement apparatus, substrate processing apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US12140878B2. Автор: Shinichi Egashira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-11-12.

Substrate processing apparatus and method of detecting indentation formed in substrate

Номер патента: SG10201806154TA. Автор: Takahashi Nobuyuki,Wen Zhongxin,Sakugawa Suguru. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-02-27.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus, information processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20210020487A1. Автор: Yuichi Takenaga,Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Substrate processing apparatus and method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US12046485B2. Автор: Shusei TAKEBAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Proximity pin, substrate processing apparatus, and method of processing substrate in substrate processing apparatus

Номер патента: WO2019100201A1. Автор: Rong Li,Bin Hu,Hanlin Wang,Dawei Yang,Xinjie Zhang,Weishuai Zhang. Владелец: HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2019-05-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09964358B2. Автор: Takashi Miyamoto,Osamu Yamazaki,Konosuke Hayashi,Jun Matsushita. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Gas injection apparatus and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US09732424B2. Автор: Jung-Hwan Lee,Woo-young Park,Tae-Ho Hahm. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus, processing apparatus, and method for manufacturing device

Номер патента: US09651868B2. Автор: Masaki Kato,Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09576808B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US12014946B2. Автор: Genji Sakata,Hidekazu Yokoo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Processing substrate apparatus and method

Номер патента: US20240165758A1. Автор: Seong Soo Lee,Jeong Yeong PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240157408A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Daisuke Goto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207344A1. Автор: Seiji Nakano,Tokutarou Hayashi,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20220206399A1. Автор: Sun Mi Kim,Oh Jin Kwon,Ji Su Hong. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20200126822A1. Автор: Hitoshi Nakai,Manabu Okutani,Yasunori KANEMATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Drying apparatus and method based on supercritical fluid

Номер патента: US20240363370A1. Автор: BIN Li,HUI Wang,Jun Wang,Jian Wang,XIN ZHAO,Bin He,Xiaoyan Zhang,Fuping CHEN,Xiaofeng Tao,Yingnan Sun,Shena JIA,Zhenming Chu,Deyun Wang. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240355644A1. Автор: Naoki Shibata,Shinsuke TAKAKI,Yoji SAKATA,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12142483B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Seiji Nakano,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Munehisa Kodama,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: WO2022238622A1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2022-11-17.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4338191A1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-03-20.

Substrate processing apparatus and monitoring method

Номер патента: US11765879B2. Автор: Junnosuke Taguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Wafer storage container drying apparatus and cleaning system

Номер патента: US20240302099A1. Автор: Yukinobu Nishibe,Junji Ishihara,Hisaaki Miyasako. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: FI20205023A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-11.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: CA3165295A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4087955A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2022-11-16.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: WO2021140270A1. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057327B2. Автор: Satoshi BIWA,Satoshi Okamura,Katsuhiro Ookawa,Yuichi Douki,Yuichiro KUNUGIMOTO,Masataka GOSHO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11735457B2. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09815093B2. Автор: Takayoshi Tanaka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240371661A1. Автор: Satoshi BIWA,Satoshi Okamura,Katsuhiro Ookawa,Yuichi Douki,Yuichiro KUNUGIMOTO,Masataka GOSHO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Substrate processing apparatus and method of fabricating the same

Номер патента: US20230323558A1. Автор: Shinya Ueda,SungHoon Jun,Byeongpil Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium of performing liquid exchange processing according to liquid exchange condition

Номер патента: US11282719B2. Автор: Kouji Takuma,Go Ayabe,Jong Won Yun,Ryo Manabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-22.

Substrate processing apparatus, model data generation apparatus, substrate processing method, and model data generation method

Номер патента: US20240194507A1. Автор: Kiyoshi Mori,Tsuyoshi Moriya,Takayuki Yamagishi,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09816183B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12062563B2. Автор: Itsuki Kobata,Keita Yagi,Nobuyuki Takahashi,Yoichi Shiokawa,Toru Maruyama,Katsuhide Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and substrate processing method

Номер патента: US20240363309A1. Автор: Naofumi Ohashi,Tsuyoshi Takeda,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device and computer-readable recording medium

Номер патента: US09523150B2. Автор: Hideharu Itatani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411336A1. Автор: Masanobu Sato,Masayuki ORISAKA,Noritake SUMI,Daiki UEHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10867817B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20180218929A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200168487A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10615062B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-07.

Substrate processing apparatus, alignment device, substrate processing method and alignment method

Номер патента: US20190049865A1. Автор: Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-14.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Substrate processing module and method of moving a workpiece

Номер патента: US20240258136A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing module and method of moving a workpiece

Номер патента: US12080571B2. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing method

Номер патента: US20240250064A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Yoshihiro Tsutsumi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, electrical power supply system, and electrical power supply method

Номер патента: US20240297054A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Antenna and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240304416A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09555437B2. Автор: Hitoshi Nakai,Yasuhiko Ohashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4415033A1. Автор: Kazuki Nakamura,Yoshifumi Okada,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321624A1. Автор: Kenichiro Saito,Satoshi Ushida. Владелец: Daikin Finetech Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240355669A1. Автор: Yasutaka Mizomoto,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09808836B2. Автор: Kenya Ito,Tetsuji Togawa,Keisuke Uchiyama,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09566616B2. Автор: Kenya Ito,Tetsuji Togawa,Keisuke Uchiyama,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Selectively groundable cover ring for substrate process chambers

Номер патента: US09472443B2. Автор: Zhenbin Ge,Muhammad M. Rasheed,Goichi Yoshidome,Kirankumar Savandaiah,William Johanson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate processing apparatus and processing condition adjustment method

Номер патента: US11809091B2. Автор: Masashi Enomoto,Kentaro Yamamura,Masahide Tadokoro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Substrate processing apparatus and processing condition adjustment method

Номер патента: US20220252992A1. Автор: Masashi Enomoto,Kentaro Yamamura,Masahide Tadokoro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230395390A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and substrate support

Номер патента: US20230304149A1. Автор: Kenichi Suzaki,Yuma IKEDA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Package substrate processing method and protective tape

Номер патента: US20190109094A1. Автор: Youngsuk Kim,Byeongdeck Jang. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Rotating shaft sealing device and processing apparatus for semiconductor substrate using the same

Номер патента: US11764102B2. Автор: Hee Jang Rhee. Владелец: Sealink Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240269862A1. Автор: Takayuki Hatanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, non-transitory computer-readable recording medium and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12106998B2. Автор: Naofumi Ohashi,Masanori Nakayama,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate support plate, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US20240363331A1. Автор: Seunghwan Lee,DaeYoun Kim,Jaehyun Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12131918B2. Автор: Sang Min Lee,Seung Hoon Oh,Yong Joon Im,Hyo Won Yang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US12068140B2. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240331998A1. Автор: Susumu Hayakawa,Tomohiro Kaneko,Kazuya IKEUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09929008B2. Автор: Yu Sasaki,Kosuke Takahashi,Masahiko Kaminishi,Yu WAMURA,Fumiaki Hayase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus having a pillar support structure for preventing transformation of a ceiling portion

Номер патента: US09683290B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US20240371611A1. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-11-07.

Substrate processing apparatus, recording medium and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09595460B2. Автор: Tsukasa Iida. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482429B2. Автор: Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US20240105470A1. Автор: Dong Il Park,Sang-Woo JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240006166A1. Автор: Minyoung Kim,Hanglim Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Vacuum molding apparatus, substrate processing system having the same and substrate processing method using the same

Номер патента: US20150056754A1. Автор: Seock Hyun Park. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

Substrate processing apparatus, article manufacturing method, substrate processing method, substrate processing system, management apparatus, and storage medium

Номер патента: US20200333718A1. Автор: Shinichiro Koga,Takahiro Takiguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Substrate processing method, micropattern forming method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12057323B2. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing method, component processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US11798793B2. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida,Koki MUKAIYAMA,Yusuke WAKO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Substrate processing method, component processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240006168A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida,Koki MUKAIYAMA,Yusuke WAKO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Ultrapure water supply apparatus, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230302502A1. Автор: Jiyeon Lee,Seyoon KIM,Cheolmin SHIN,Jongha Yun,Juhui PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing method and apparatus, and fabrication process of a semiconductor device

Номер патента: KR20070096973A. Автор: 요시히로 나카타,겐지 이시카와,히데노리 미요시,유키오 다키가와,히데키 다테이시. Владелец: 후지쯔 가부시키가이샤. Дата публикации: 2007-10-02.

Substrate processing method and apparatus, and fabrication process of a semiconductor device

Номер патента: KR100847917B1. Автор: 요시히로 나카타,겐지 이시카와,히데노리 미요시,유키오 다키가와,히데키 다테이시. Владелец: 후지쯔 가부시키가이샤. Дата публикации: 2008-07-22.

Substrate processing method, component processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220238315A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida,Koki MUKAIYAMA,Yusuke WAKO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-28.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, SUBSTRATE HOLDING MECHANISM, AND SUBSTRATE HOLDING METHOD

Номер патента: US20200047309A1. Автор: Kobayashi Kenichi,SHINOZAKI Hiroyuki,OGAWA Takahiro,Makino Natsuki,Sotozaki Hiroshi,NABEYA Osamu,MATSUDA Naoki,KUNISAWA Junji,MIYAZAKI Mitsuru,KATSUOKA Seiji,MORISAWA Shinya. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-13.

VACUUM MOLDING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM HAVING THE SAME AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20150056754A1. Автор: Park Seock Hyun. Владелец: SAMSUNG ELECTRO-MECHANICS CO., LTD.. Дата публикации: 2015-02-26.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, BEVEL MASK AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210175052A1. Автор: Takahashi Yuki,ISHIKAWA Dai. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-10.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, SUBSTRATE HOLDING MECHANISM, AND SUBSTRATE HOLDING METHOD

Номер патента: US20170252894A1. Автор: Kobayashi Kenichi,SHINOZAKI Hiroyuki,OGAWA Takahiro,Makino Natsuki,Sotozaki Hiroshi,NABEYA Osamu,MATSUDA Naoki,KUNISAWA Junji,MIYAZAKI Mitsuru,KATSUOKA Seiji,MORISAWA Shinya. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-07.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, substrate holding mechanism, and substrate holding method

Номер патента: KR101958874B1. Автор: 세이지 가츠오카,히로시 소토자키,미츠루 미야자키,나오키 마츠다,준지 구니사와,겐이치 고바야시,히로유키 시노자키,오사무 나베야,신야 모리사와,다카히로 오가와,나츠키 마키노. Владелец: 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼. Дата публикации: 2019-03-15.

Substrate processing method, exposure apparatus, and method for producing device by immersing substrate in second liquid before immersion exposure through first liquid

Номер патента: US8040489B2. Автор: Katsushi Nakano,Masahiko Okumura,Tomoharu Fujiwara,Tarou Sugihara,Takeyuki Mizutani. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-10-18.

Nozzle, substrate processing apparatus including same, and substrate processing method

Номер патента: KR102404528B1. Автор: 김선미,권오진,최세형. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2022-06-02.

Substrate processing method, exposure apparatus and method for manufacturing device

Номер патента: KR101236120B1. Автор: 도모하루 후지와라,가츠시 나카노,마사히코 오쿠무라,다케유키 미즈타니,다로우 스기하라. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2013-02-28.

Exposure equipment, substrate processing equipment, substrate exposure method and substrate processing method

Номер патента: JP6985803B2. Автор: 裕二 田中,靖博 福本,友宏 松尾,孝文 大木,正也 浅井,将彦 春本,知佐世 中山. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-22.

Developing apparatus, substrate processing apparatus, developing method and substrate processing method

Номер патента: TWI636490B. Автор: 金山幸司,田中裕二,春本將彥,淺井正也. Владелец: 日商斯庫林集團股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, substrate holding mechanism, and substrate holding method

Номер патента: US11426834B2. Автор: Takahiro Ogawa,Hiroshi Sotozaki,Naoki Matsuda,Osamu Nabeya,Hiroyuki Shinozaki,Seiji Katsuoka,Mitsuru Miyazaki,Kenichi Kobayashi,Shinya Morisawa,Natsuki Makino,Junji Kunisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-08-30.

Substrate processing method, exposure apparatus and method for manufacturing device

Номер патента: KR101285951B1. Автор: 도모하루 후지와라,가츠시 나카노,마사히코 오쿠무라,다케유키 미즈타니,다로우 스기하라. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2013-07-12.

Exposure device, substrate processing apparatus, exposure method and substrate processing method

Номер патента: TWI659275B. Автор: 田中裕二,中山知佐世,春本将彦,浅井正也,福本靖博,松尾友宏,大木孝文. Владелец: 日商斯庫林集團股份有限公司. Дата публикации: 2019-05-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, substrate holding mechanism, and substrate holding method

Номер патента: EP2131387A2. Автор: Takahiro Ogawa,Hiroshi Sotozaki,Naoki Matsuda,Osamu Nabeya,Hiroyuki Shinozaki,Seiji Katsuoka,Kenichi Kobayashi,Shinya Morisawa,Natsuki Makino,Junji Kunisawa,Mitusru Miyazaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2009-12-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, substrate holding mechanism, and substrate holding method

Номер патента: US9687957B2. Автор: Takahiro Ogawa,Hiroshi Sotozaki,Naoki Matsuda,Osamu Nabeya,Hiroyuki Shinozaki,Seiji Katsuoka,Mitsuru Miyazaki,Kenichi Kobayashi,Shinya Morisawa,Natsuki Makino,Junji Kunisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Method of preparing a chemical liquid for substrate processing, chemical liquid preparation unit, and substrate processing system

Номер патента: CN103426795A. Автор: 三浦淳靖,石川秀和. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-04.

Substrate processing device, semiconductor manufacturing device, and substrate processing method

Номер патента: WO2020174874A1. Автор: 及川　文利. Владелец: 株式会社荏原製作所. Дата публикации: 2020-09-03.

Substrate processing method, computer storage medium and substrate processing system

Номер патента: WO2016017415A1. Автор: 豊久 ▲鶴▼田,吉原　孝介,智弘 井関. Владелец: 東京エレクトロン株式会社. Дата публикации: 2016-02-04.

Substrate processing system, management apparatus, and display method

Номер патента: JP6204344B2. Автор: 一良 山本. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-27.

Ultrapure water suppy apparatus, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230303416A1. Автор: Eunhye PARK,Jieun JANG,Wuyoung Choi,Jongha Yun,Gwangwon Son. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate treating apparatus, substrate treating facility including the apparatus, and substrate treating method using the apparatus

Номер патента: KR101582569B1. Автор: 최진호,유양열. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2016-01-07.

Substrate processing apparatus, storage medium and substrate processing method

Номер патента: US20190013181A1. Автор: Kazuhiro Nishiwaki. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-01-10.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US09953840B2. Автор: Mitsunori Nakamori,Hiromi Kiyose,Kazuyuki Mitsuoka,Hiroshi Marumoto,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus including nozzle unit and substrate processing method

Номер патента: US20240091819A1. Автор: Hyeon Jun Lee,So Young PARK,Ju Hwan Lee,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate weight measurement apparatus, a substrate processing apparatus including the same, and a method of processing a substrate using the substrate processing apparatus

Номер патента: US20230384681A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20240096597A1. Автор: Takeshi Yasui,Koichiro Harada,Katsunori Funaki,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180033618A1. Автор: Kazuo Yabe,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210159095A1. Автор: Masami Yamashita,Gentaro Goshi,Toru Ihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing method and control apparatus

Номер патента: US09798317B2. Автор: Katsuhiko Komori,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Precoat method for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240191349A1. Автор: Atsushi Tanaka,Taichi Monden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09431220B1. Автор: Naofumi Ohashi,Atsuhiko Suda,Kazuyuki Toyoda,Masanori Nakayama,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-08-30.

Apparatus and method for processing substrate using supercritical fluid

Номер патента: US20240186135A1. Автор: Thomas Jongwan Kwon,Hae Won Choi,Chengyeh Hsu. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130340796A1. Автор: Itaru Kanno,Norihiro Ito,Yosuke Hachiya,Kotaro Ooishi,Hisashi Kawano,Jun Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Method of performing maintenance on substrate processing apparatus, and the substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339307A1. Автор: Takahiro Murakami,Takayuki Suzuki,Yuya MINOURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09818600B2. Автор: Takayuki Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Fabrication method of silicon carbide semiconductor apparatus and silicon carbide semiconductor apparatus fabricated thereby

Номер патента: US09768260B2. Автор: Takashi Tsuji,Kenji Fukuda,Akimasa Kinoshita. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09748077B2. Автор: Sang Don Lee,Jeung Hoon Han,Seung Hoon Seo,Chul Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09659767B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Atsushi Sano,Hidehiro Yanai,Tadashi Takasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-23.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09472398B2. Автор: Tatsuyuki Saito,Masanori Sakai,Yukinao Kaga,Takashi Yokogawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240189856A1. Автор: Koichi Matsunaga,Teruhiko Kodama,Hideaki Iwasaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234170A9. Автор: Kenji Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207339A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Group management apparatus, substrate processing system and method of managing files of substrate processing apparatus

Номер патента: US09400794B2. Автор: Osamu Ueda,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-07-26.

Substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240212989A1. Автор: Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toru Kakuda,Toshiya Shimada,Tomohiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230091850A1. Автор: Yuji Takebayashi,Shota Tanaka,Yusaku OKAJIMA,Hiroki HATTA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20080075640A1. Автор: Teruo Yoshino,Tomohiko Takeda,Nobuo Ishimaru,Katsuyoshi Hamano,Ken Sugihara. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-03-27.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20110212626A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-01.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US8901011B2. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-12-02.

Substrate Processing Apparatus and Semiconductor Device Producing Method

Номер патента: US20080153309A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-06-26.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer readable recording medium

Номер патента: US09644265B2. Автор: Tetsuo Yamamoto,Takafumi Sasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12027393B2. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210335636A1. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307258A1. Автор: Toru Endo,Keisuke TAKAGI,Yusuke TAKEMATSU,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20220145464A1. Автор: Shuhei SAIDO,Hiroaki Hiramatsu,Takuro Ushida. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220134375A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240288775A1. Автор: Soichiro Okada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma generating device, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240249923A1. Автор: Akihiro Sato,Tsuyoshi Takeda,Yukitomo Hirochi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11733612B2. Автор: Kazuya Iwata,Norihisa Koga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11761084B2. Автор: Hiroki ARAI,Yukihiro Mori,Yuya Nonaka. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-19.

High-pressure container, substrate processing apparatus, and method for manufacturing high-pressure container

Номер патента: US20140145390A1. Автор: Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Gen You,Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09805938B2. Автор: Naozumi Fujiwara,Yuji Sugahara,Toru EDO,Seiji Ano,Jun SAWASHIMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus and processing liquid supply method

Номер патента: US20180090306A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240261932A1. Автор: Yuichi Sato,Kohei Ohshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09966268B2. Автор: Arito Ogawa,Atsuro Seino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09583360B2. Автор: Akio Ui,Hisataka Hayashi,Keisuke Kikutani. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09552987B2. Автор: Takahiro Shiozawa,Kenichi Ueda,Keiichi Tanaka,Yuichiro Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240290577A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Hiroki Endo,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Nozomu Nagashima,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240242975A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12045037B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing method including reprocessing rejected wafers

Номер патента: US09847263B2. Автор: Tsuneo Torikoshi,Hirofumi OTAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Substrate processing system, liquid amount measuring method, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20220171294A1. Автор: Shinichi Hatakeyama,Akihiro TERAMOTO,Yuichiro KUNUGIMOTO,Yuta Nishiyama,Shota Ueyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-02.

Substrate processing device and determination method

Номер патента: US11461136B2. Автор: Ken Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-04.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US20190295870A1. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180305816A1. Автор: Akira Takahashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-10-25.

Prediction method and apparatus for substrate processing apparatus

Номер патента: US20070215574A1. Автор: Hideki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-09-20.

Substrate processing apparatus including processing unit

Номер патента: US09869019B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US09496134B2. Автор: Shinya Sasaki,Yuji Takebayashi,Shintaro Kogura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Film deposition apparatus, substrate processing apparatus, film deposition method, and computer-readable storage medium for film deposition method

Номер патента: US09416448B2. Автор: Hitoshi Kato,Manabu Honma,Kohichi Orito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285166A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using rf plasma cycling and purging

Номер патента: US20170011893A1. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-12.

Substrate processing method

Номер патента: US20110237083A1. Автор: Akira Nakagawa,Yoshinobu Hayakawa,Yusuke Okazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20190139791A1. Автор: Hiromi Kiyose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20200168434A1. Автор: Masanori Nakayama,Teruo Yoshino,Koichiro Harada,Hiroto Igawa,Masaki Murobayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220251709A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240290609A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Takashi Sakuma,Yoshiyuki Hanada,Kunihiro Tada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200144052A1. Автор: Gentaro Goshi,Keisuke Egashira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Substrate processing device, polishing device, and substrate processing method

Номер патента: US20240139782A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Koichi Fukaya,Daichi Kondo. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US12106941B2. Автор: Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09899195B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Coating system and method for coating interior fluid wetted surfaces of a component of a semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09873940B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,John Daugherty,John Michael Kerns,Robert Griffith O'Neill,Nash Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Methods for removing contamination from surfaces in substrate processing systems

Номер патента: US09805914B2. Автор: Chun Yan,Xinyu Bao,Adam Lane,Zhenwen Ding,Teng-Fang Kuo,Jim Zhongyi He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Electromagnetic dipole for plasma density tuning in a substrate processing chamber

Номер патента: US09779953B2. Автор: Joseph F. Aubuchon,Tza-Jing Gung,Samer Banna. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Method for processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768012B2. Автор: Masanori Sakai,Tsutomu Kato,Yuji Takebayashi,Hirohisa Yamazaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-19.

Systems and methods for eliminating flourine residue in a substrate processing chamber using a plasma-based process

Номер патента: US09601319B1. Автор: Joydeep Guha,Andrew Stratton Bravo,Amit Pharkya. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Processing gas diffusing and supplying unit and substrate processing apparatus

Номер патента: US09484213B2. Автор: Toshifumi Ishida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09478408B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194497A1. Автор: Takao Matsumoto,Hajime NISHIDE,Kwichang KANG. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210366721A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Masaru Izawa,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-25.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing system, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230099451A1. Автор: Osamu Ueda,Kazuhide Asai,Norihito SHINOZAWA,Takanori KYOGOKU. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Method of cleaning semiconductor substrate, and method of manufacturing semiconductor device and semiconductor substrate processing apparatus for use in the same

Номер патента: US20060046500A1. Автор: MAKOTO Miyamoto. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2006-03-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12065746B2. Автор: Masaki Inaba,Yasutoshi Okuno,Akihisa Iwasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220189779A1. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Yu Nunoshige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230057538A1. Автор: Chul-Joo Hwang,Duck Ho Kim,Il Hyong CHO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240307821A1. Автор: Koji Kagawa,Mitsunori Nakamori,Yosuke Hachiya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US12051571B2. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa,Kazuya Ichiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Method for cleaning chamber or component, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4383314A1. Автор: Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Substrate processing method, substrate processing device, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20240120177A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Seung Bo SHIM,Tae-Hwa Kim,Ji Mo LEE,Jae Bin KIM,Dong Hyeon Na,Myeong Soo SHIN,Woong Jin CHEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240282578A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09970109B2. Автор: Jun Yoshikawa,Motoshi Fukudome. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and method of processing substrate

Номер патента: US09695511B2. Автор: Hitoshi Murata,Masaaki Ueno,Tetsuya Kosugi,Masashi Sugishita. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220208567A1. Автор: Mikio Nakashima,Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240035168A1. Автор: Hironobu Hyakutake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240120213A1. Автор: Sung Yong Park,Woo Rim LEE,Myoung Jae Seo,Sung Gil Kang,Hyun Ho Doh,In Hye Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210305053A1. Автор: Rintaro Higuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11450530B2. Автор: Rintaro Higuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-20.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11869748B2. Автор: Takeshi Yasui,Koichiro Harada,Katsunori Funaki,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Processing liquid supply system, processing liquid supply apparatus, and carrier storage apparatus

Номер патента: US11521854B2. Автор: Kazuya Hashimoto,Hikaru AKADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200152443A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Substrate processing apparatus, substrate mounting table cover, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer readable recording medium

Номер патента: US20220415700A1. Автор: Takayuki Sato,Yuichiro Takeshima,Masaki Murobayashi,Tomokazu WAKUI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing method

Номер патента: US20100048026A1. Автор: Takashi Sone,Ellchl Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-02-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063882A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Liquid chemical supplying system, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20160368030A1. Автор: Sang Won Bae,Hyosan Lee,Seokhoon Kim,Kuntack Lee,Kyoung Hwan Kim,Jung-min Oh,Ingi KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20070277856A1. Автор: Akio Hashizume. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-12-06.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US11769677B2. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing device

Номер патента: US20170117160A1. Автор: Akio Hashizume,Takashi Ota. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-27.

Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230143327A1. Автор: Sang Ki Nam,Kyung-Sun Kim,Kangmin JEON,Nam Kyun Kim,Kuihyun YOON,Seunghan BAEK,Dongseok Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220293398A1. Автор: WonKi Jeong,DaeYoun Kim,JuIll Lee,Hyungchul Moon,GeunHwi Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-09-15.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110294280A1. Автор: Yoshiro Hirose,Yushin Takasawa,Hajime Karasawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-12-01.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063883A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180195178A1. Автор: Masayuki Otsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate manufacturing method

Номер патента: US20240312804A1. Автор: Yohei Yamashita,Gousuke Shiraishi,Hayato TANOUE,Kento ARAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339334A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054824B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Kiyotaka Horikawa,Junichiro Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing method

Номер патента: US09937602B2. Автор: Yukiteru Matsui,Masako Kodera,Yosuke Otsuka. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Etch system and method for single substrate processing

Номер патента: US09852920B2. Автор: Ian J. Brown,Wallace P. Printz. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09623434B2. Автор: Yoshifumi Amano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Method of conditioning vacuum chamber of semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09548188B2. Автор: Dennis Michael Hausmann. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09524847B2. Автор: Makoto Kobayashi,Jun Tamura,Hiroshi Tsujimoto,Nobuhiro Wada,Jun Oyabu,Mamoru NAOI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09494877B2. Автор: Kazuhiro Nishimura,Yasushi Nakamura,Ryuichi Chikamori,Yasuo Kawamatsu. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Substrate processing device equipped with semicircle shaped antenna

Номер патента: US09416451B2. Автор: Il Kwang Yang,Byung Gyu Song,Song Hwan Park,Sung Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and recipe selection method

Номер патента: US11921426B2. Автор: Song Zhang,Yukifumi Yoshida,Katsuya Akiyama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Information processing system, information processing method, program, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220093409A1. Автор: Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Keisuke Namiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Substrate processing apparatus and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20240045405A1. Автор: Mitsunori Sugiyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230008278A1. Автор: Takeshi Matsumoto,Tomohiro Kaneko,Shuhei Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20190393028A1. Автор: Tomohiro Kaneko,Shuhei Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20150179408A1. Автор: Naotaka Noro,Kouji Shimomura,Eiichi Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11869781B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and processing liquid

Номер патента: US20230271230A1. Автор: Yukifumi Yoshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Apparatus and method for processing substrate using plasma

Номер патента: US20220076925A1. Автор: Dong Hun Kim,Seong Gil Lee,Dong Sub Oh,Wan Jae Park,Joun Yaek Koo,Ji Hwan Lee,Young Je UM,Myoung Sub Noh,Du Ri Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-10.

Apparatus and method for processing substrate using plasma

Номер патента: US20230317417A1. Автор: Jae Hoo Lee,Yoon Jong JU,Min Sung HAN,Wan Jae Park. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240068109A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate cartridge, substrate-processing apparatus, substrate-processing system, substrate-processing method, control apparatus, and method of manufacturing display element

Номер патента: US09379339B2. Автор: Hideya Inoue. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-06-28.

Substrate processing system, inspection apparatus and inspection method

Номер патента: TW200949237A. Автор: Kazutaka Taniguchi,Akio Sanda,Kichiji Azai. Владелец: Dainippon Screen Mfg. Дата публикации: 2009-12-01.

Substrate rotating apparatus, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230046060A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-16.

Substrate processing apparatus cleaning method and substrate processing apparatus

Номер патента: JP7190915B2. Автор: 大介 鈴木,寛之 林,由裕 竹澤,成樹 藤田,達也 宮原,純史 有賀,晋哉 菊地. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-16.

Substrate processing apparatus, storage medium, and substrate processing method

Номер патента: CN110634758A. Автор: 村松大輔,和田隆,野口哲,安達渉. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-12-31.

Substrate processing apparatus, storage medium and substrate processing method

Номер патента: US11685998B2. Автор: Takashi Wada,Wataru Adachi,Satoru Noguchi,Daisuke Muramatsu. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-27.

Substrate processing device, substrate transfer device, and substrate replacement method

Номер патента: JP2598353B2. Автор: 信行 高橋,実 並木. Владелец: アネルバ株式会社. Дата публикации: 1997-04-09.

Substrate state determination device, substrate processing device, model creation device, and substrate state determination method

Номер патента: JP7134033B2. Автор: 弘幸 佐藤,淳司 鈴木,淳哉 佐藤,基 岡田,拓郎 筒井,圭 佐野,貴之 北,直 明石,雄太 芳賀,極 月野. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-09.

Apparatus and method for drying substrate

Номер патента: US20230010670A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-01-12.

Apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US11908710B2. Автор: Jin Woo JUNG,Yong Hee Lee,Do Hyeon YOON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20240170305A1. Автор: Jin Woo JUNG,Yong Hee Lee,Do Hyeon YOON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate drying device and substrate drying method

Номер патента: US20230005762A1. Автор: Tomoatsu Ishibashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-01-05.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: US20240248282A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: WO2024158418A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Substrate processing system and its control method

Номер патента: US20240055283A1. Автор: Kenji Ikeda,Tasuku Suzuki,Nobuyuki Kawabata,Jun Kitagawa,Masato Anzai,Taichi YOSHIOKA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A2. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-03.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20210333722A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-10-28.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20230161270A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-05-25.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A3. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-01-12.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20240288780A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11587805B2. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140363587A1. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240234172A9. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240136206A1. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Semiconductor substrate processing apparatus and the method thereof

Номер патента: US20230203654A1. Автор: Todd Dunn,Taku Omori,Cheuk Li,Aadil Vora,Paridhi GUPTA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US8883030B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Substrate processing system and group management device

Номер патента: US20230101147A1. Автор: Ryuichi Kimura,Hiroakira MATSUI,Naruhisa MIYAZAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09960073B2. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240361072A1. Автор: Kazuhiro Shoji,Tomohiro Uemura,Shuhei NEMOTO,Ryotaro SHINOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230178396A1. Автор: Seok Heo,Young Ho Hwang,Eun Seok SEO,Jun O PARK,Jae Hong Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Recipe creation method or apparatus utilizing a series of steps according to a target recipe file for semiconductor manufacturing or substrating processing

Номер патента: US12066815B2. Автор: Takatoshi Seki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4421856A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240286168A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Part for substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210178523A1. Автор: Michishige Saito,Sho Yamahira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US10825837B2. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-03.

Substrate processing apparatus and nozzle cleaning method

Номер патента: US20140352730A1. Автор: Yuki Yoshida,Tetsuya Oda,Satoru Tanaka,Yoshinori Ikeda,Kazuyoshi Shinohara,Yoshihiro Kai,Meitoku Aibara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-12-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240258107A1. Автор: kana Tahara,Masaki Inaba,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US20180097018A1. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

A substrate processing apparatus and a method

Номер патента: WO2023041844A1. Автор: Jani KIVIOJA,Tom Blomberg,Juho Poutiainen,Antti KUITUNEN,Heikki Alakoski. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2023-03-23.

A substrate processing apparatus and a method

Номер патента: EP4402301A1. Автор: Jani KIVIOJA,Tom Blomberg,Juho Poutiainen,Antti KUITUNEN,Heikki Alakoski. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-07-24.

Atomic layer deposition processing apparatus to reduce heat energy conduction

Номер патента: US09518321B2. Автор: Masanori Sakai,Kazuhiro Yuasa,Yoshihiko Yanagisawa,Mitsuro Tanabe,Yasutoshi Tsubota. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180056470A1. Автор: Katsuhiko Tokushige,Mitsuru Miyazaki,Masayoshi Imai,Katsuhide Watanabe,Junji Kunisawa,Takeshi Iizumi,Suguru Ogura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12087588B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate Processing Apparatus and Furnace Opening Assembly Thereof

Номер патента: US20200187305A1. Автор: Shuhei SAIDO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20210189560A1. Автор: Marko Pudas,Vaino Kilpi,Timo Malinen. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2021-06-24.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP3642386A1. Автор: Marko Pudas,Timo Malinen,V in KILPI. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2020-04-29.

Component of substrate processing apparatus and method for forming a film thereon

Номер патента: US09828690B2. Автор: Koji Mitsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Substrate processing apparatus and noise impact reducing method

Номер патента: US20220070977A1. Автор: Kazuhito Yamada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US11626818B2. Автор: Hideto Saito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-11.

Adjustable fluid inlet assembly for a substrate processing apparatus and method

Номер патента: US12110588B2. Автор: Marko Pudas,Vaino Kilpi,Timo Malinen. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-10-08.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240224238A1. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Kenji Shirako,Daigi KAMIMURA,Hironori Shimada,Akira Horii,Norihiro YAMASHIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240243019A1. Автор: Masanori Nakayama,Hiroki Kishimoto,Hiroto Igawa,Yuki Yamakado,Yuichiro Takeshima,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing module and laser beam providing method

Номер патента: US20240006167A1. Автор: Yunsang Kim,Kwang Ryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US20090143890A1. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-04.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US8255072B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Substrate processing method, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12083553B2. Автор: Yusuke MIYAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method

Номер патента: US09477162B2. Автор: Tetsuya Hamada,Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing module, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US20210148760A1. Автор: Jongwoo SUN,Hyung Joo Lee,Kyeonghun KIM,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150059645A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

Substrate processing apparatus equipped with substrate scanner

Номер патента: US20210280444A1. Автор: Hsin-Hsu Lin,Ming-Tso Chen,Kao-Hua Wu,Ming-Che Lai,Hua-Wei Peng,Chia-He Cheng,Chao-Chi Lu,Kuo-Tsai Lo,Huan-Hsin Yeh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2021-09-09.

Substrate processing apparatus for supplying gas of water repellent agent and substrate processing method

Номер патента: US12042815B2. Автор: Koji Tanaka,Koji Yamashita,Yusuke Yamamoto,Kotaro Tsurusaki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20100285225A1. Автор: Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09713822B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: WO2021141665A1. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180164702A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-06-14.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: US12073224B2. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Machine learning platform for substrate processing

Номер патента: EP4405766A1. Автор: David Everton Norman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing apparatus, control method, and computer-readable storage medium

Номер патента: US12094737B2. Автор: Atsushi Yamamoto,Kenji Adachi,Masato Imamura,Tomohiko Muta,Masayuki Kajiwara,Katsunori Ichino,Takeaki Sakamoto,Daisuke Ishimaru,Takuya Tajiri,Tetsuro Iriyama,Hiroki Okaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12042813B2. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Defect control and stability of dc bias in rf plasma-based substrate processing systems using molecular reactive purge gas

Номер патента: US20180347046A1. Автор: Arul Dhas,Christopher Ramsayer,Kareem Boumatar. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240261814A1. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Valve module and substrate processing device comprising the same

Номер патента: US12092235B2. Автор: Jae Min Lee,Sang Min Kim. Владелец: Presys Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Electrostatic chuck, glass substrate processing method, and said glass substrate

Номер патента: US09866151B2. Автор: Toshifumi Sugawara,Yoshiaki Tatsumi. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09607867B2. Автор: Yuji Kajihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US11829676B2. Автор: Naoki Miyata,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20210333721A1. Автор: Naoki Miyata,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing system, method of controlling substrate processing system, computer-readable storage medium, and method of manufacturing article

Номер патента: US20190371637A1. Автор: Kenji Yamamoto,Mitsuhiro Masuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-05.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904978A2. Автор: Naoki Miyata,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-03.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904978A3. Автор: Naoki Miyata,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-01-12.

Home port and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US20230195030A1. Автор: Tae Hoon Lee,Do Yeon Kim,Young Jun SON,Hyun Yoon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Motor attachment bracket, motor attachment structure, and substrate processing apparatus

Номер патента: SG10201800586RA. Автор: Tanaka Hideaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230241634A1. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Schedule creation method, schedule creating device, substrate processing apparatus, substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US20230041766A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara,Keisuke Inugai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4394847A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Discharge method, discharge system and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230052781A1. Автор: Daesoo Kim,Jimin CHOI. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Substrate processing device, method for controlling substrate processing device, and storage medium storing a program

Номер патента: US10991605B2. Автор: Takuya Tsushima,Junitsu Yamakawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-04-27.

Substrate processing system printed-circuit control board assembly with one or more heater layers

Номер патента: US20190166700A1. Автор: Eric Pape,Fred Dennis Egley,Changyou Jing. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Substrate processing system printed-circuit control board assembly with one or more heater layers

Номер патента: WO2019108365A1. Автор: Eric Pape,Changyou Jing,Fred Egley. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-06-06.

Substrate Processing System with a Damage Preventing Function

Номер патента: US20150129420A1. Автор: Sang Hyun Park,Dong Hyun Lee,Sung Jin Park,Kwang Jin Jeon,Jin Haon Kwon,Hyun Pil Oh. Владелец: SNU PRECISION CO LTD. Дата публикации: 2015-05-14.

In-situ film growth rate monitoring apparatus, systems, and methods for substrate processing

Номер патента: US12077880B2. Автор: Yong Zheng,TAO Sheng,Nyi Oo Myo,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing device using multi-zone heat transfer structure and temperature control method

Номер патента: US20240304487A1. Автор: Ji Hwan Kim,Gi Chung Kwon,Hee Tae KWON,In Young BANG. Владелец: Industry Academic Collaboration Foundation of Kwangwoon University. Дата публикации: 2024-09-12.

Heater moving type substrate processing apparatus

Номер патента: US09644895B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus and exhaust system capable of adjusting inner pressure of process chamber thereof, and method thereof

Номер патента: US20240076780A1. Автор: Takayuki Nakada,Masamichi Yachi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240036476A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200395227A1. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240003011A1. Автор: Kwang Ryul Kim,Yun Sang Kim,Jin Hee Hong. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240021445A1. Автор: Hiroyuki Higashi,Hiroki Sakurai,Nobuhiro Ogata,Minsung Kim,Shinichi Umeno,Yenrui Hsu,Shoki MIZUGUCHI,Kazuya Goda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, STORAGE MEDIUM AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190013181A1. Автор: Nishiwaki Kazuhiro. Владелец: ASM IP HOLDING B.V.. Дата публикации: 2019-01-10.

Substrate processing chamber, deposition apparatus and gas distributor

Номер патента: JP5100936B2. Автор: ムルゲシュ ラクスマン,クリシュナラヤ パデュマナバーン,エス． コックス ミッシェル,ライ キャンフェン．,デュベイ ナレンドラ,ケイ． チョ トム,ゴンダールカール スディール,エル． パン リリー. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-12-19.

Information processing system, information processing apparatus, apparatus, and non-transitory computer readable medium storing information processing program

Номер патента: US09300631B2. Автор: Takayuki Suzuki. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-29.

Apparatus and method for drying

Номер патента: US09500407B2. Автор: Jin Kyu Park,Tae Sik KIM,Jun Ho Chung,Woo Jin Jang,Bong Hyun CHO,Hun Young PARK. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: US20240266156A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-08.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: EP4411785A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-07.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240282557A1. Автор: Jinuk Park,Euijin Park,Dongyup Choo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230085592A1. Автор: Jong Sik Kim,Ji Hun Lee. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20180037995A1. Автор: Takayuki Karakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230116739A1. Автор: Sung-Yeol Kim,Sung Yong Lim,Woong Jin CHEON,Sung Hwi Cho,Mee Hyun LIM,Seong Ha JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-13.

Substrate processing apparatus, and magnetic recording medium manufacturing method

Номер патента: US20100025363A1. Автор: Kazuto Yamanaka,Satoshi Hitomi,David Djulianto DJAYAPRAWIRA,Masahiro Shibamoto,Ayumu Miyoshi. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-02-04.

Apparatus and methods for using high frequency chokes in a substrate deposition apparatus

Номер патента: US20110259362A1. Автор: Carl A. Sorensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-10-27.

Substrate processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20240258083A1. Автор: Makoto Kato,Ryoma Muto,Kaisei SUGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Oven drying apparatus and coating device

Номер патента: US20230296315A1. Автор: PENG Jin,Chao Guo,Lijun Li,Yinxiang LIN,Nengwu LIAO,Xuefeng KANG. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Oven drying apparatus and coating device

Номер патента: US12085335B2. Автор: PENG Jin,Chao Guo,Lijun Li,Yinxiang LIN,Nengwu LIAO,Xuefeng KANG. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Drying apparatus and system for preparing batteries

Номер патента: US20240310123A1. Автор: Guangsheng Chen,Jiancheng CAI,Haohua YU,Haohao YAN,Ganyu XU. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US9237638B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-01-12.

Showerhead, substrate processing apparatus including the same, and semiconductor fabrication method using the same

Номер патента: US20240331981A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-03.

Direct temperature control for a component of a substrate processing chamber

Номер патента: EP1070336A1. Автор: Nitin Khurana,Tushar Mandrekar,Anish Tolia. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-01-24.

Apparatus and methods for reducing particles in semiconductor process chambers

Номер патента: US09761416B2. Автор: ANAND Kumar,Shahid Rauf,Michael D. Willwerth,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Tom K. Cho,Yogananda SARODE VISHWANATH,Bradley Howard. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using same

Номер патента: US09564287B2. Автор: Jun Abe,Takeshi Ohse,Norikazu Yamada,Shinji Himori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Apparatus and methods for controlling ion energy distribution

Номер патента: EP4244883A1. Автор: James Rogers,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-20.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US12112927B2. Автор: Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-10-08.

Apparatus and method for efficient materials use during substrate processing

Номер патента: US09589769B2. Автор: Vikram Singh,Richard J. Hertel,Ernest E. Allen,Vijayakumar C. Venugopal. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Electrode Sheet Drying Apparatus, Electrode Sheet Manufacturing System Comprising Same, and Electrode Sheet Drying Method

Номер патента: US20240234678A9. Автор: Ji Hwan Kim,Oh Cheol Kwon,Soon Sik Choi. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma shutter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240096606A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Electrode drying apparatus

Номер патента: EP4435877A1. Автор: Doo Hyun Lee,Tae Yeon Kim,Chang Bum Ahn,Jae Huoung SON. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-09-25.

Substrate processing method

Номер патента: US20230235457A1. Автор: Ji Hyun Cho,Hong Min Yoon,Jae Sung Roh,Chul Joo Hwang,Cheong SON,Se Whan JIN,Hong Soo YOON,Youn Joo JANG. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US09925571B2. Автор: Akihiro Kikuchi,Mitsuhiro Tomura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and abnormality detection method

Номер патента: US12087562B2. Автор: Katsuhito Hirose,Kazushi HIKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Ignition control method, film formation method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240312763A1. Автор: Takeshi Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus having ground electrode

Номер патента: US09970111B2. Автор: Kohei Fukushima,Takeshi Ando,Koichi Shimada,Hiroyuki Matsuura,Yutaka Motoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09455125B2. Автор: Makoto Kobayashi,Jun Tamura,Tetsuji Sato,Akihiro Yoshimura,Hiroshi Tsujimoto,Nobuhiro Wada,Masato Horiguchi,Mamoru NAOI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Exhaust gas processing apparatus having plasma source and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240249925A1. Автор: Jaehyun Kim,Suji Gim,Young Heo,Sunwoo YOOK,Kookjin Ann,Taijong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate Processing Apparatus, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Substrate Processing Method

Номер патента: US20220090260A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Substrate Processing Apparatus, Substrate Processing Method, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Non-transitory Computer-readable Recording Medium

Номер патента: US20230081219A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Drying apparatus for powder raw material for manufacturing secondary cell with electric heater

Номер патента: US20230221072A1. Автор: Nam Geol LEE,Seung Hoon YUM. Владелец: Kangwon Energy Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Capacitively coupled plasma substrate processing apparatus

Номер патента: US20240258079A1. Автор: Seungho Lee,Taeho Shin,Buil Jeon,JungSu Park,Dooho LIM,Bumsoo ON. Владелец: Innovation For Creative Devices Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12119211B2. Автор: Changmin Lee. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-15.

Temperature measuring method, substrate processing system and component to be provided in substrate processing apparatus of the substrate processing system

Номер патента: US09952032B2. Автор: Chishio Koshimizu,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451311A1. Автор: Kwang Sung Yoo. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US8251012B2. Автор: Nobuo Ishimaru. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2012-08-28.

Gas supply apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: WO2024055142A1. Автор: HUI Wang,Shan ZHANG,Tom Kim,Jacob Lee,William BAEK,Sulan Xie,Hongcai Fei. Владелец: Cleanchip Technologies Limited. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230290618A1. Автор: Naoki Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

SUBSTRATE CARTRIDGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, CONTROL APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY ELEMENT

Номер патента: US20140290041A1. Автор: KIUCHI Tohru. Владелец: . Дата публикации: 2014-10-02.

SIGNAL PROCESSING APPARATUS, APPARATUS AND METHOD FOR MONITORING CHANNEL SPACING AND SYSTEM

Номер патента: US20170310440A1. Автор: Tao Zhenning,DOU Liang,ZHAO Ying,Li Huihui. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2017-10-26.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus control method

Номер патента: US20240149599A1. Автор: Beomjeong OH,Jong Nam NA. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Drying apparatuses and drying methods using the same

Номер патента: US20240349585A1. Автор: Youyuan Kuang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Dual substrate processing

Номер патента: WO2023192773A3. Автор: Alexander Sou-Kang Ko. Владелец: KATEEVA, INC.. Дата публикации: 2023-12-07.

Vacuum drying apparatuses, vacuum drying methods and display panels

Номер патента: US20240306482A1. Автор: Youyuan Kuang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Optimization program and substrate process system

Номер патента: US09804592B2. Автор: Kazuya Fukao. Владелец: Fuji Machine Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4104941A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia & Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220063139A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11986978B2. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Heating element for a substrate processing system.

Номер патента: NL2033372B1. Автор: Van Rijn Richard,Joseph Wehenkel Dominique. Владелец: Applied Nanolayers B V. Дата публикации: 2024-05-08.

Method and devices for qualifying substrate-processing production processes

Номер патента: AU2002351691A1. Автор: Bernd Muller,Ulrich Wittreich,Hartmut Meier. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2003-06-10.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, ARTICLE MANUFACTURING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, MANAGEMENT APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20200333718A1. Автор: Takiguchi Takahiro,Koga Shinichiro. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-22.

DEVELOPMENT UNIT, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, DEVELOPMENT METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190041755A1. Автор: Tanaka Yuji,HARUMOTO Masahiko,ASAI Masaya,KANEYAMA Koji. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-07.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, STORAGE MEDIUM AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190390345A1. Автор: Wada Takashi,Adachi Wataru,NOGUCHI Satoru,Muramatsu Daisuke. Владелец: ASM IP HOLDING B.V.. Дата публикации: 2019-12-26.

Exposure equipment, substrate processing equipment, substrate exposure method and substrate processing method

Номер патента: JP6811119B2. Автор: 裕二 田中,田中　裕二,靖博 福本,友宏 松尾,孝文 大木,正也 浅井,将彦 春本,知佐世 中山. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-13.

Substrate inspection device, substrate processing device, substrate inspection method, and substrate processing method

Номер патента: WO2020044784A1. Автор: 幸治 中川,友宏 松尾. Владелец: 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス. Дата публикации: 2020-03-05.

Bio signal processing apparatus, apparatus and method for living body information detecting

Номер патента: KR20180060724A. Автор: 권의근,윤승근. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2018-06-07.

reusable fuel processing apparatus, apparatus and method for cleaning carbon carbon from vapors

Номер патента: BR112018076624A2. Автор: Fowler David,OLUWASEUN Oluwadare,F. Tenore Anthony,N. Tenore Anthony. Владелец: Golden Renewable Energy, LLC. Дата публикации: 2019-04-02.

Ink drying apparatus

Номер патента: US20200031142A1. Автор: Hideo Izawa,Koichi Oyama,Kazushige Sato,Yuuichi Yamazaki,Hidetoshi Kon,Ayumu Sasaki. Владелец: Miyakoshi Printing Machinery Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Drying device, electrode sheet manufacturing apparatus, and electrode sheet drying method

Номер патента: EP4403859A1. Автор: Lei Lu,Zheng Wang,Yalong Wang,Shengwu Zhang,Shisong LI,Kaiming DENG,Linzhen YU,Changyuan HU. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Drying apparatus and drying method for raw silk degumming process

Номер патента: US12037709B2. Автор: Zhonghao CHENG,Yuchai SUN. Владелец: SUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-07-16.

Multistage drying apparatus and multistage drying method for sheet material to be treated

Номер патента: US20190176359A1. Автор: Noriyuki Sato,Wataru Kato,Masaru Ishiguro,Keisuke Mizutani,Kazuya Aoyama. Владелец: Taihei Machinery Works Ltd. Дата публикации: 2019-06-13.

Vacuum drying apparatus and vacuum drying method

Номер патента: US10627160B2. Автор: Makoto Miura,Yoichi Ohinata,Takuya Morikawa,Tsuyoshi Yoshimoto,Norihisa Takada,Takashi Hanamoto. Владелец: Iwate University NUC. Дата публикации: 2020-04-21.

Drying apparatus, printing apparatus, and drying method with temperature adjustment of medium

Номер патента: US09702624B2. Автор: Jun Yamada,Akihiro Toya. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Web drying apparatus and web drying method

Номер патента: EP3715756A1. Автор: Takeshi Matsuda,Keisuke Hirai,Yoshikuni Takeichi,Kenta Hiramatsu,Ryota Uemura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-30.

Substrate rotation processing device and substrate polishing device

Номер патента: US20240207999A1. Автор: Hiroki Miyamoto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Apparatus and method for processing waste material

Номер патента: WO2017013457A1. Автор: Tibor Rozsas,Ferenc HORN,István FLÖSSER. Владелец: Flösser István. Дата публикации: 2017-01-26.

Apparatus and method for processing waste material

Номер патента: EP3325243A1. Автор: Tibor Rozsas,Ferenc HORN,István FLÖSSER. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-05-30.

Adjustment apparatus for adjusting processing units provided in a substrate processing apparatus, and a substrate processing apparatus having such an adjustment apparatus

Номер патента: US09915938B2. Автор: Koichi Takeda,Takamasa Nakamura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Support for washing machine and cloths drying apparatus

Номер патента: RU2291922C2. Автор: Йоон Сеок ЯНГ. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2007-01-20.

Drying apparatus and washing and drying integrated machine

Номер патента: EP4397804A1. Автор: Xing Li,Tong Liu,Ming Xu,Ming Liu,Zhe Wang,Chuanlin Duan,Zhimin Yang,Hang Qi,Junjun FANG,Jibai HUANG,Chenghu Lin,Gang Quan,Yadong YAN. Владелец: Shenzhen Roborock Innovation Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Cap drying apparatus and systems and methods thereof

Номер патента: US20200103167A1. Автор: Todd Renell Allen. Владелец: Allen Research Tech Services Inc. Дата публикации: 2020-04-02.

Drying apparatus and washing and drying integrated machine

Номер патента: AU2022340524A1. Автор: Xing Li,Tong Liu,Ming Xu,Ming Liu,Zhe Wang,Chuanlin Duan,Zhimin Yang,Hang Qi,Junjun FANG,Jibai HUANG,Chenghu Lin,Gang Quan,Yadong YAN. Владелец: Shenzhen Roborock Innovation Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Gas exhaust frames including pathways having size variations, and related apparatus and methods

Номер патента: US20240360590A1. Автор: Lori Washington,Ala Moradian,Vishwas Kumar Pandey. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Drying apparatus and oven

Номер патента: US20230272975A1. Автор: Yuting Li,Tao Nie,Shisong LI,Huan CHE,Yalong QING. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Drying apparatus and oven

Номер патента: EP4235071A1. Автор: Yuting Li,Tao Nie,Shisong LI,Huan CHE,Yalong QING. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Medical Implement Drying Apparatus

Номер патента: US20200271382A1. Автор: Drew R. Radford,Paul Leung. Владелец: CENORIN LLC. Дата публикации: 2020-08-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240329547A1. Автор: Shinichi Machidori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4393607A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Gas recycling systems, substrate processing systems, and related apparatus and methods for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240175126A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Mukhles SOWWAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Dish washing apparatus and dish drying apparatus

Номер патента: US11819175B2. Автор: Teoh Hwa Ang. Владелец: Blosh Co Pte Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Condensation channel for drying apparatus, and drying apparatus

Номер патента: AU2022433280A1. Автор: Tao Li,LONG Yang,Peishi Lv,Xiangjiu FANG. Владелец: Qingdao Haier Washing Machine Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Drying apparatus and related methods

Номер патента: US12042101B2. Автор: Ji Sun YOON,Sang Yoon Lee,Seung Yup LEE,Hyun Sun Yoo,Byung Soo Oh,Hyun-Joo JEON,So Ra CHEON. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2024-07-23.

Gas recycling systems, substrate processing systems, and related apparatus and methods for semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024118117A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Mukhles SOWWAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing apparatus and method for detecting an abnormality of an ozone gas concentration

Номер патента: US09618493B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09606454B2. Автор: Takashi Taguchi,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Apparatus and method for processing substrate using supercritical fluid

Номер патента: US20240183037A1. Автор: Thomas Jongwan Kwon,Hae Won Choi,Chengyeh Hsu. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Coating apparatus and substrate processing equipment

Номер патента: EP4368301A1. Автор: Qi Zhang,Jie GENG,Haishang CAO,Hanrong BI. Владелец: Jiangsu Contemporary Amperex Technology Ltd. Дата публикации: 2024-05-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240309506A1. Автор: Sung Hwan Lee,Kun Woo Park,Woo Young Park,Jae Jin Han. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing system, substrate processing apparatus and method for accumulating data for substrate processing apparatus

Номер патента: US09720407B2. Автор: Yoshitaka Koyama,Hiroyuki Iwakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate support structure, vacuum drying apparatus and method for vacuum drying a substrate

Номер патента: US09719723B2. Автор: Hongwei XING,Min YUAN,Huihui Mu,Hequn Zhang,Longgen Yang. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Drying apparatus and image forming apparatus capable of improving heat conductivity and abrasion resistance of heat-transfer portion

Номер патента: US20240165971A1. Автор: Nobuhiro Maezawa. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Variable power heater freeze-dryer apparatus and methods of use

Номер патента: WO2024073844A1. Автор: Darren Lloyd,Kailyn SLENDERS,William SLENDERS,Mark Guckert. Владелец: Peak & Prairies Industries Corp.. Дата публикации: 2024-04-11.

Drying apparatus and methods for ethanol production

Номер патента: US20120291306A1. Автор: Jeffrey L. Tate,James A. Rehkopf,David A. Mirko. Владелец: J JIREH HOLDINGS LLC. Дата публикации: 2012-11-22.

Drying apparatus and method for controlling same

Номер патента: US20200263346A1. Автор: Dong Gyu Lee,Jin Woo Hong,Byung Han Lim,Young Uk Yun,Kwon Jin Kim,Dong Sik Jin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-08-20.

Drying apparatus and printing apparatus

Номер патента: US20190001707A1. Автор: Tomohiro YODA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Drying apparatus and method for drying containers containing cleaning fluid

Номер патента: CA3228867A1. Автор: Ulf Reinhardt,Wilko Harms. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-02-23.

Attachments and drying apparatuses having the attachments

Номер патента: US20240341441A1. Автор: Zhao Tong,Lingdong GU,Chufeng LIU. Владелец: SZ Zuvi Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Product drying apparatus and methods

Номер патента: US09848629B1. Автор: Douglas S. Clark,Adrian L. Strahm,Keith A. Erdley,Scott E. VanDalsem,Adam S. Hinton. Владелец: Wenger Manufacturing LLC. Дата публикации: 2017-12-26.

Product drying apparatus and methods

Номер патента: US09848628B1. Автор: Douglas S. Clark,Adrian L. Strahm,Keith A. Erdley,Scott E. VanDalsem,Adam S. Hinton. Владелец: Wenger Manufacturing LLC. Дата публикации: 2017-12-26.

Schedule creation program generating method, schedule creation program generating apparatus, schedule creating apparatus, recording medium, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240329624A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Spray drying apparatus and air pollution control system

Номер патента: US09511305B2. Автор: Toshihiro Fukuda,Seiji Kagawa,Nobuyuki Ukai,Tatsuto Nagayasu,Naoyuki Kamiyama. Владелец: Mitsubishi Hitachi Power Systems Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Substrate processing apparatus, lithography apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US09459541B2. Автор: Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Freeze drying methods and apparatuses

Номер патента: US09459044B1. Автор: Rex C Haddock,D Barry McCann. Владелец: Harvest Right LLC. Дата публикации: 2016-10-04.

Drying apparatus and image forming system

Номер патента: US20220281236A1. Автор: Tomoya Hotani,Masaki Murashima. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2022-09-08.

Drying method and drying apparatus for coating layer

Номер патента: EP1462746A3. Автор: Kazuhiro Oki,Takeshi Kitaoka. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-10-27.

Flash drying apparatus and method of producing particles

Номер патента: US20230053323A1. Автор: Masahiro Kobayashi,Takeshi Tsujino,Koki Inoue,Shota Amano,Junya Asaoka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-02-16.

Coating apparatus and substrate processing equipment

Номер патента: US20240246110A1. Автор: Qi Zhang,Jie GENG,Haishang CAO,Hanrong BI. Владелец: Jiangsu Contemporary Amperex Technology Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Homing methods for lift assemblies, and related apparatus and components, for substrate processing chambers

Номер патента: US20240326187A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Aniketnitin Patil. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Drying apparatus and conveying system

Номер патента: US09994047B2. Автор: Ken Onodera. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Exhaust flow rate control apparatus and substrate processing apparatus provided therewith

Номер патента: US09616545B2. Автор: Hiroyuki Shinozaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-04-11.

Dishcloth drying apparatus and method

Номер патента: US09598812B1. Автор: Nancy L. Beltran. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-21.

Laundry drying apparatus and control method thereof

Номер патента: EP2714981A1. Автор: Wenfeng Pang,Yanglei Zhu,Yanhong Chen. Владелец: BSH BOSCH UND SIEMENS HAUSGERAETE GMBH. Дата публикации: 2014-04-09.

Drying apparatus and method of drying material

Номер патента: EP3058298A1. Автор: Jérémy Miller,Ben Frisby. Владелец: Spirax Sarco Ltd. Дата публикации: 2016-08-24.

Drying apparatus and method of drying material

Номер патента: WO2015055982A1. Автор: Jérémy Miller,Ben Frisby. Владелец: SPIRAX-SARCO LIMITED. Дата публикации: 2015-04-23.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240310739A1. Автор: Jaehong Lee,Ho Young Kim,Sunghwan Kim,Kyoungwhan OH,Jaekyung PARK,Yohan CHOE. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2024-09-19.

Drying apparatus and related methods

Номер патента: US12114815B2. Автор: Ji Sun YOON,Sang Yoon Lee,Seung Yup LEE,Hyun Sun Yoo,Byung Soo Oh,Hyun-Joo JEON,So Ra CHEON. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2024-10-15.

Data acquisition method of substrate processing apparatus and sensing substrate

Номер патента: US09915677B2. Автор: Hikaru AKADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Apparatus and method

Номер патента: US09783887B2. Автор: Pekka Soininen,Sami Sneck. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2017-10-10.

Drying apparatus and washing machine having the same and control method thereof

Номер патента: US09657432B2. Автор: Seong Min Oak,Min Hee Kang,Phil Soo Chang,Seok Keun Bae,Hye Joon Seok. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-05-23.

Fabric drying apparatus, fabric image forming apparatus, and fabric image forming system

Номер патента: EP4407085A1. Автор: Shigetoshi Hosaka. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Vacuum freeze-drying apparatus and frozen particle manufacturing method

Номер патента: US09759485B2. Автор: Masaki Ito,Takao Kinoshita,Katsuhiko Ito,Takashi Hanamoto,Youichi Oohinata. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Drying apparatus and control method thereof

Номер патента: US20230126136A1. Автор: Yoonhee CHOI,Jongyoub RYU,Jooyoo KIM,Dongjun Shin,Kyungjae Kim,Hyungseon SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-27.

Drying apparatus

Номер патента: US12070164B2. Автор: DAE WOONG Kim,Hyun Ki Kim,Sang Yoon Lee,Seung Yup LEE,Min Kyu Oh,Yang Hwan No,Byung Soo Oh,Seong Woo AN,Yeon A Jo,Gi Seop Kwon. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2024-08-27.

Drying apparatus

Номер патента: US3818602A. Автор: W Eppes. Владелец: Corning Glass Works. Дата публикации: 1974-06-25.

Drying Apparatus, Electrode Plate Manufacturing Device, and Electrode Plate Drying Method

Номер патента: US20240247870A1. Автор: Lei Lu,Zheng Wang,Yalong Wang,Shengwu Zhang,Shisong LI,Kaiming DENG,Linzhen YU,Changyuan HU. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Nanofiber filtered films and soluble substrate processing

Номер патента: WO2021081361A1. Автор: Marcio D. Lima. Владелец: Lintec Of America, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Nanofiber filtered films and soluble substrate processing

Номер патента: US20220363543A1. Автор: Marcio D. Lima. Владелец: Lintec of America Inc. Дата публикации: 2022-11-17.

Alighment apparatus and alignment method thereof

Номер патента: US20080261495A1. Автор: Hung-Sheng Cho,Kun-Hsing Hsiao,Jung-Min Kuo. Владелец: Innolux Display Corp. Дата публикации: 2008-10-23.

Information processing device, substrate processing device, and information processing method

Номер патента: US20240302817A1. Автор: Takamasa Nakamura,Hirofumi OTAKI,Sho ICHINOSE. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and computer-readable storage medium storing substrate processing program

Номер патента: US09675992B2. Автор: Satoshi Kaneko,Yoshihiro Kawaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Substrate processing device and method for measuring process gas temperature and concentration

Номер патента: US20240241042A1. Автор: Yuji Obata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Apparatus and method for drying tubing

Номер патента: US3574948A. Автор: Raymond A Heisler. Владелец: Individual. Дата публикации: 1971-04-13.

Dryer apparatus and dryer control system

Номер патента: US20020152634A1. Автор: Douglas Clark,Paul Tedman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-24.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: WO2024147966A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-11.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: US20240230189A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240219837A1. Автор: Ki Won Han,Jun Ho Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Steam sterilizer and sterilization drying method thereof

Номер патента: EP4364757A2. Автор: Lihui LU,Yuanye SHEN,Kejie ZHENG. Владелец: Ningbo Haishu Yeson Medical Device Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-08.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: WO2018182886A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-10-04.

Steam sterilizer and sterilization drying method thereof

Номер патента: EP4364757A3. Автор: Lihui LU,Yuanye SHEN,Kejie ZHENG. Владелец: Ningbo Haishu Yeson Medical Device Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: US20180281027A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Inline vacuum processing apparatus, method of controlling the same, and information recording medium manufacturing method

Номер патента: SG162699A1. Автор: Masahiro Kawata. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-07-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09822450B2. Автор: Eiji Ozaki,Keisuke Ueda,Toshikazu Nakazawa,Norihito Tsukamoto. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09732421B2. Автор: Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09587314B2. Автор: Taketoshi Sato,Hiroaki Hiramatsu,Yukitomo Hirochi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Substrate processing apparatus, simulation apparatus, storage medium and simulation method

Номер патента: US09558304B2. Автор: Satoko Yamamoto,Kimitoshi MIURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Gas inlet tube assembly for an improved gas mixture in a substrate processing apparatus

Номер патента: US20240124981A1. Автор: DongRak Jung,Jongsu Kim,Arun THOTTAPPAYIL. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Method for performing preventative maintenance in a substrate processing system

Номер патента: WO2011112968A1. Автор: Robert D. Clark,Cory Wajda,Steven P. CONSIGLIO. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2011-09-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09869022B2. Автор: Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240376603A1. Автор: Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09487863B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Kazuhiro Morimitsu,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-08.

Drying apparatus for window

Номер патента: RU2752209C1. Автор: Герберт КАММЕРЛОЭР,Томас ВИМБЕРГЕР. Владелец: СИМЕНС МОБИЛИТИ ГМБХ. Дата публикации: 2021-07-23.

Infrared light source drying apparatus and drying method

Номер патента: US20180356153A1. Автор: Yat Ming Ku. Владелец: JADE CHARM INDUSTRIAL Ltd. Дата публикации: 2018-12-13.

Substrate processing device and control method for substrate processing device

Номер патента: US20230201860A1. Автор: Jae Hong Kim,Young-Joo Seo,Sang Hyun Son,Sang Min HA,Hyeong Jun CHO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Methods of detecting non-conforming substrate processing events during chemical mechanical polishing

Номер патента: US12036635B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Jeonghoon Oh,Ashish BHUSHAN,John Anthony GARCIA,Stephen Thomas CORMIER,Nick Joseph JACKSON,Manoj BALAKUMAR,Nandkishore PATIDAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing method

Номер патента: US20180134607A1. Автор: Yasushi Ito,Kenichi Ichikawa,Kaori TATEISHI. Владелец: Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2018-05-17.

Substrate processing apparatus, data processing method, and data processing program

Номер патента: US20240272592A1. Автор: Yuki Kataoka,Takuro TSUTSUI,Yukiya SAITOU,Yuanchieh LING. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Spray drying apparatus of dehydration filtrate from desulfurization waste water, and air pollution control system

Номер патента: US09527004B2. Автор: Toshihiro Fukuda,Seiji Kagawa,Nobuyuki Ukai,Tatsuto Nagayasu,Naoyuki Kamiyama. Владелец: Mitsubishi Hitachi Power Systems Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Method of substrate processing

Номер патента: RU2436882C2. Автор: Гэри П. ФАДЖИТТ,Террелл Дж. ГРИН,Скотт Э. ДЖИНТЕР,Джон У. СТОЛАРЗ,Роберт У. КАРЛСОН,Стенли Х. мл. МАКГРЮ,Стивен П. МЕЦЛЕР. Владелец: Мидвествако Корпорейшн. Дата публикации: 2011-12-20.

Spray drying method and apparatus and cleaning method for such an apparatus

Номер патента: AU1871297A. Автор: Poul Bach,Keith Masters. Владелец: Niro Atomizer AS. Дата публикации: 1997-05-07.

Vacuum freeze-drying method, injection nozzle for a vacuum freeze-drying apparatus, and vacuum freeze-drying apparatus

Номер патента: US20230168034A1. Автор: Susumu Arai,Tsuyoshi Yoshimoto,Tsutomu Nishihashi,Sora UEMATSU,Hiromu MATSUBAYASHI,Masaki Itou,Nobuhiro MOTEGI. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-06-01.

Surface treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US20240191344A1. Автор: Yumiko Kawano,Hiroki Murakami,Shuji Azumo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system

Номер патента: US20230366715A1. Автор: Zhiyuan Ye,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Patricia M. Liu,Zuoming Zhu,Bindusagar MARATH SANKARATHODI,Jyothi RAJEEVAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system

Номер патента: WO2022220900A1. Автор: Zhiyuan Ye,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Patricia M. Liu,Zuoming Zhu,Bindusagar MARATH SANKARATHODI,Jyothi RAJEEVAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295024A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Makoto Takahashi,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295023A1. Автор: Makoto Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Portable painting and drying apparatuses

Номер патента: US10661295B2. Автор: Kyle Robinson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-05-26.

Portable painting and drying apparatuses

Номер патента: US20200122179A1. Автор: Kyle Robinson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-04-23.

Freeze-drying device and freeze-drying method

Номер патента: US20240263876A1. Автор: Yoichi Ohinata,Tsuyoshi Yoshimoto,Tomomitsu Ozeki. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: US20240142310A1. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: WO2024091827A3. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-07-04.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: WO2024091827A2. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-05-02.

Freeze-drying device and freeze-drying method

Номер патента: US12092398B2. Автор: Yoichi Ohinata,Tsuyoshi Yoshimoto,Tomomitsu Ozeki. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Disturbance compensation for substrate processing recipes

Номер патента: US12130606B2. Автор: Paul Z. Wirth,Atilla KILICARSLAN,Raechel Chu-Hui Tan,Brooke Elise Montgomery. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-29.

Devices and methods for starting strip material in a substrate processing machine

Номер патента: US09764512B2. Автор: Orion A. CAVINS,Cynthia A. STEWART-IRVIN,Martin E. Koeltzow. Владелец: HB Fuller Co. Дата публикации: 2017-09-19.

Devices and methods for starting strip material in a substrate processing machine

Номер патента: US09669588B2. Автор: Orion A. CAVINS,Martin E. Koeltzow. Владелец: HB Fuller Co. Дата публикации: 2017-06-06.

Spray drying apparatus for dehydrated filtrate from desulfurization waste water, and air pollution control system

Номер патента: US09468861B2. Автор: Toshihiro Fukuda,Seiji Kagawa,Nobuyuki Ukai,Tatsuto Nagayasu,Naoyuki Kamiyama. Владелец: Mitsubishi Hitachi Power Systems Ltd. Дата публикации: 2016-10-18.

Portable washing and drying apparatus

Номер патента: US09439553B1. Автор: Niloufar Gabbay. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-09-13.

Radiation drying apparatus

Номер патента: RU2294107C2. Автор: Эдуард Семёнович Гореньков,Анатолий Николаевич Шевцов,Борис Александрович Музыченко. Владелец: Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт виноградарства и виноделия им. Я.И. Потапенко (ВНИИВиВ). Дата публикации: 2007-02-27.

Water-containing solid fuel drying apparatus and drying method

Номер патента: MY153789A. Автор: Kinoshita Masaaki,Yamaguchi Yoshiki,Matsumoto Keigo,Yokohama Katsuhiko,Kansha Yasuki,Tsutsumi Atsushi,MOCHIZUKI Kazuhiro,Kaneko Shozo,KOSAKA Kenichiro,KAWAMOTO Noboru,Fushimi Chihiro,Ohura Koji. Владелец: Mitsubishi Heavy Ind Ltd. Дата публикации: 2015-03-31.

In-line type film forming apparatus and method of manufacturing magnetic recording medium using the same

Номер патента: US20150125597A1. Автор: Satoru Ueno,Seiya NAGAI. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2015-05-07.

In-line type film forming apparatus and method of manufacturing magnetic recording medium using the same

Номер патента: US10381034B2. Автор: Satoru Ueno,Seiya NAGAI. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2019-08-13.

Data processing method, data processing apparatus, and recording medium with data processing program recorded thereon

Номер патента: US11829451B2. Автор: Tomonori Fujiwara,Atsushi Sonoda,Hideji NAOHARA,Yumiko HIRATO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

SUBSTRATE CARTRIDGE, SUBSTRATE-PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE-PROCESSING SYSTEM, SUBSTRATE-PROCESSING METHOD, CONTROL APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY ELEMENT

Номер патента: US20120215338A1. Автор: Inoue Hideya. Владелец: . Дата публикации: 2012-08-23.

Substrate processing method, exposure apparatus, and method for producing device by immersing substrate in second liquid before immersion exposure through first liquid

Номер патента: US20120008112A1. Автор: . Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-12.

Substrate processing method, computer storage medium, and substrate processing system

Номер патента: JP6081728B2. Автор: 誠 村松,高広 北野,村松　誠,北野　高広,忠利 冨田,啓士 田内. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, substrate holding mechanism, and substrate holding method

Номер патента: CN101599423B. Автор: 小林贤一,锅谷治,国泽淳次,牧野夏木,宫崎充,筱崎弘行,松田尚起,外崎宏,胜冈诚司,森泽伸哉,小川贵弘. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2014-03-12.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, APPARATUS, AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM STORING INFORMATION PROCESSING PROGRAM

Номер патента: US20130246506A1. Автор: Suzuki Takayuki. Владелец: FUJI XEROX CO., LTD.. Дата публикации: 2013-09-19.

APPARATUSES AND METHODS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION

Номер патента: US20120000422A1. Автор: Zheng Bo,Ai Hua,YU SANG HO,UMOTOY Salvador P.,Lam Hyman,Jackson Michael,Yuan Xiaoxiong (John),Wang Hou Gong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR EXPOSING A SUBSTRATE TO UV RADIATION USING A REFLECTOR HAVING BOTH ELLIPTICAL AND PARABOLIC REFLECTIVE SECTIONS

Номер патента: US20120003398A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROLLER, MASS FLOW CONTROLLER SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND GAS FLOW RATE ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20120000542A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLYING MEANS HAVING SHIELDING MEANS FOR FEEDING LINE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000609A1. Автор: DO Jae-Chul,JEON Bu-Il,SONG Myung-Gon,LEE Jung-Rak. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING INCLUDING A MASKING LAYER

Номер патента: US20120001320A1. Автор: Kumar Nitin,Duong Anh,Lang Chi-I,Chiang Tony P.,BOUSSIE Thomas R.,Malhotra Sandra G.,Fresco Zachary,Tong Jinhong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR THERMAL BASED SUBSTRATE PROCESSING WITH VARIABLE TEMPERATURE CAPABILITY

Номер патента: US20120003388A1. Автор: Wu Kai,YUAN XIAOXIONG,TZU GWO-CHUAN,KHANDELWAL AMIT,WANG BENJAMIN CHENG,GELATOS AVGERINOS V.,KARAZIM MICHAEL P.,LIN JING,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Chamber cleaning for substrate processing systems

Номер патента: WO2024196580A1. Автор: Hu Kang,Ming Li,Dong Wang,Xin Meng,Defu LIANG,Rohit ODE,Huifeng Zheng,Joseph Lindsey Womack. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-26.

Drying apparatus with inert head for suspended layer

Номер патента: RU2313744C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов,Мари Олеговна Кочетова,Мария Олеговна Кочетова,Сергей Савельевич Кочетов,Сергей Сергеевич Кочетов,Геннадий Васильевич Львов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2007-12-27.

Complex drying apparatus

Номер патента: RU2282119C1. Автор: Игорь Юрьевич Алексанян,н Игорь Юрьевич Алексан,Валерий Владимирович Давидюк. Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение Высшего профессионального образования Астраханский государственный технический университет (ФГОУ ВПО АГТУ). Дата публикации: 2006-08-20.

Improvements in Vacuum Drying Apparatus.

Номер патента: GB190407010A. Автор: . Владелец: SUERTHER MACHINEN FABRIK VORM. Дата публикации: 1905-03-16.

Improvements in Mechanical Drying Apparatus.

Номер патента: GB189714069A. Автор: Herbert Healey Wing. Владелец: Individual. Дата публикации: 1897-07-17.

Grain drying apparatus

Номер патента: RU2263862C2. Автор: В.И. Курдюмов,Г.В. Карпенко,М.А. Карпенко. Владелец: Федеральное образовательное учреждение высшего профессионального образования Ульяновская государственная сельскохозяйственная академия. Дата публикации: 2005-11-10.

Drum-screw drying apparatus

Номер патента: RU2301385C1. Автор: Анатолий Митрофанович Гридчин,Валерий Станиславович Лесовик,Владимир Семенович Севостьянов,Артур Алексеевич Макридин,Всеволод Афанасьевич Минко,нов Владимир Семенович Севость,Юрий Геннадиевич Чашин,Геннадий Петрович Чашин. Владелец: Ооо "Рецикл". Дата публикации: 2007-06-20.

Drying apparatus

Номер патента: RU2249165C2. Автор: Ю.Д. Тарасов,А.Б. Рыжих,лухин А.Ф. Пр,А.Ф. Прялухин. Владелец: Тарасов Юрий Дмитриевич, ООО "Инвест-Проект". Дата публикации: 2005-03-27.

Vacuum drying apparatus for soap processing

Номер патента: RU2183662C1. Автор: Р.Р. Сафин,Р.Г. Сафин,В.А. Лашков,Г.И. Самойлов,Ф.С. Зиатдинова,Р.Б. Сибгатуллин,В.Т. Алексеев,Е.И. Левашко. Владелец: Научно-технический центр по разработке технологий и оборудования. Дата публикации: 2002-06-20.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.