Substrate processing control method, substrate processing apparatus and storage medium
Номер патента: US11862496B2
Опубликовано: 02-01-2024
Автор(ы): Toyohisa Tsuruda, Yoshitaka Konishi
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 02-01-2024
Автор(ы): Toyohisa Tsuruda, Yoshitaka Konishi
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate processing control method, substrate processing apparatus and storage medium
Номер патента: US20240087928A1. Автор: Yoshitaka Konishi,Toyohisa Tsuruda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.