Photosensitive material manufacturing method
Номер патента: JPH0619564B2
Опубликовано: 16-03-1994
Автор(ы): 裕 岡
Принадлежит: Fuji Photo Film Co Ltd
Опубликовано: 16-03-1994
Автор(ы): 裕 岡
Принадлежит: Fuji Photo Film Co Ltd
Photoinitiator compositions including amino acids, coumarin and titanocene and photosensitive materials using the same
Номер патента: US5811218A. Автор: Yasunori Kojima,Hiroshi Suzuki,Shigeki Katogi,Makoto Kaji,Mitsumasa Kojima,Hideo Hagiwara,Masataka Nunomura,Dai Kawasaki,Hidetaka Satou. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1998-09-22.