Apparatus and method for removing a cmp polishing pad from a platen
Номер патента: US20050277368A1
Опубликовано: 15-12-2005
Автор(ы): A. Ernesto Saldana, Cormac Walsh, Gerard Moloney, Jun Liu
Принадлежит: Ebara Technologies Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 15-12-2005
Автор(ы): A. Ernesto Saldana, Cormac Walsh, Gerard Moloney, Jun Liu
Принадлежит: Ebara Technologies Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Device and method for preventing settlement of particles on a chemical-mechanical polishing pad
Номер патента: US5968841A. Автор: Michael Francis Lofaro,William Francis Landers,Adam Dan Ticknor. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-10-19.