Resist composition for immersion exposure, method of forming resist pattern using the same, and fluorine-containing compound
Номер патента: EP2088466A1
Опубликовано: 12-08-2009
Автор(ы): Daiju Shiono, Sanae Furuya, Takahiro Dazai, Takayoshi Mori, Tomoyuki Hirano
Принадлежит: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 12-08-2009
Автор(ы): Daiju Shiono, Sanae Furuya, Takahiro Dazai, Takayoshi Mori, Tomoyuki Hirano
Принадлежит: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Resist composition for immersion exposure, method of forming resist pattern using the same, and fluorine-containing compound
Номер патента: US8642244B2. Автор: Daiju Shiono,Tomoyuki Hirano,Takahiro Dazai,Takayoshi Mori,Sanae Furuya. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2014-02-04.