Method of forming a rim phase shifting mask and using the rim phase shifting mask to form a semiconductor device
Номер патента: TW200405134A
Опубликовано: 01-04-2004
Автор(ы): Bernard J Roman, Cesar M Garza, J Dauksher William, Kevin J Nordquist, Panwitter J S Mangat, Wei E Wu
Принадлежит: Motorola Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-04-2004
Автор(ы): Bernard J Roman, Cesar M Garza, J Dauksher William, Kevin J Nordquist, Panwitter J S Mangat, Wei E Wu
Принадлежит: Motorola Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for phase shift mask design, fabrication, and use
Номер патента: US20020015900A1. Автор: John Petersen. Владелец: Petersen Advanced Lithography Inc. Дата публикации: 2002-02-07.