屏蔽薄膜及其制造方法、使用该薄膜的电路基片制造方法
Номер патента: CN1205845C
Опубликовано: 08-06-2005
Автор(ы): 中村真治, 岸本邦雄, 竹中敏昭, 越后文雄, 近藤俊和
Принадлежит: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 08-06-2005
Автор(ы): 中村真治, 岸本邦雄, 竹中敏昭, 越后文雄, 近藤俊和
Принадлежит: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for manufacturing a three-dimensional circuit substrate
Номер патента: US5090122A. Автор: Hiroji Kitagawa. Владелец: Kitagawa Industries Co Ltd. Дата публикации: 1992-02-25.