• Главная
  • synthesis method of CNF on transition metal by Chemical Vapor Deposition, and CNF thereof

synthesis method of CNF on transition metal by Chemical Vapor Deposition, and CNF thereof

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Preparation method of nitrogen-doped carbon nanotube material containing transition metal

Номер патента: CN110773217B. Автор: 曹雪波,李孟丽. Владелец: Jiaxing University. Дата публикации: 2022-11-04.

Systems and methods for production of graphene by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20140255621A1. Автор: Peter V. Bedworth,Steven W. Sinton. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Mask free methods of depositing compositions to form heterostructures

Номер патента: US20180142109A1. Автор: Rui Dong,Irma Kuljanishvili,Logan MOORE. Владелец: St Louis University. Дата публикации: 2018-05-24.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: EP4329948A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn LLC. Дата публикации: 2024-03-06.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: WO2022232583A8. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn, Llc. Дата публикации: 2023-12-21.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: US20240209567A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Lithium transition metal oxide

Номер патента: US5160712A. Автор: Michael M. Thackeray,Rosalind J. Gummow. Владелец: Technology Finance Corp Pty Ltd. Дата публикации: 1992-11-03.

Synthesis method of ssz-39 using modified reaction composition

Номер патента: RU2735527C1. Автор: Роджер МОЛТОН,Чарльз Б. ЛИТТЛ. Владелец: Сачем, Инк.. Дата публикации: 2020-11-03.

Method of producing a synthetic diamond

Номер патента: US12037703B2. Автор: Dale Vince. Владелец: Ecotricity Group Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Method of producing a synthetic diamond

Номер патента: US09994970B2. Автор: Dale Vince. Владелец: Ecotricity Group Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

High-purity and high-yield 4-bromofluorobenzene synthesis method

Номер патента: ZA202400346B. Автор: Ding Peijie,Ni Jinfeng,Zhao Shixin. Владелец: Shandong Xinlong Agrochem Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-25.

ZSM-5 type molecular sieve synthesis method

Номер патента: US09963350B2. Автор: Xiaojun Bao,Haiyan Liu,Yuanyuan Yue,Shengbao HE,Tiesen Li,Jianning Yu. Владелец: China University of Petroleum Beijing. Дата публикации: 2018-05-08.

Polysaccharide microfibre synthesis method

Номер патента: RU2404194C2. Автор: Анэттэ ХЭИНЭС-СОН-ХУЛЬТЭН. Владелец: Акцо Нобель Н.В.. Дата публикации: 2010-11-20.

Graphene quantum dots synthesis method

Номер патента: US09725324B2. Автор: Ji-Lin Shen,Tzu-Neng Lin,Ken-Hua Chih. Владелец: CHUNG YUAN CHRISTIAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-08-08.

Device and method of asymmetrical jointing of parts made from carbon and metal by strips

Номер патента: RU2352497C1. Автор: Эмманюэль ЖАК. Владелец: Эрбюс Франс. Дата публикации: 2009-04-20.

Growth of silicon and boron nitride nanomaterials on carbon fibers by chemical vapor deposition

Номер патента: US09676627B2. Автор: Lingchuan Li. Владелец: University of Dayton. Дата публикации: 2017-06-13.

Metal sulfide filled carbon nanotubes and synthesis methods thereof

Номер патента: US20230203712A1. Автор: Wenzhi Li,Yuba Poudel. Владелец: Florida International University FIU. Дата публикации: 2023-06-29.

Metal sulfide filled carbon nanotubes and synthesis methods thereof

Номер патента: US20210324537A1. Автор: Wenzhi Li,Yuba Poudel. Владелец: Florida International University FIU. Дата публикации: 2021-10-21.

Method for efficiently eliminating graphene wrinkles formed by chemical vapor deposition

Номер патента: US12116281B2. Автор: Jie Xu,Libo GAO,Guowen Yuan. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-10-15.

Method of making composite articles from silicon carbide

Номер патента: US20200040449A1. Автор: William F Fischer, III,Walter Wrigglesworth, III,Lauren Montgomery. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-02-06.

Reactor and method for production of silicon by chemical vapor deposition

Номер патента: US09793116B2. Автор: Werner O. Filtvedt,Josef Filtvedt. Владелец: Dynatec Engineering AS. Дата публикации: 2017-10-17.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US10556799B2. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-02-11.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20170096345A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-04-06.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20180339907A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-11-29.

Two-dimensional transition metal dichalcogenide micro- supercapacitors

Номер патента: US20190139713A1. Автор: Wonbong Choi. Владелец: University of North Texas. Дата публикации: 2019-05-09.

Two-dimensional transition metal dichalcogenide micro-supercapacitors

Номер патента: WO2017177168A1. Автор: Wonbong Choi. Владелец: University of North Texas. Дата публикации: 2017-10-12.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: MY174019A. Автор: Wenjun Qin,Aaron D Rhodes,Chad Fero,Jeffrey C Gum. Владелец: OCI Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-04.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: WO2014100401A1. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron D. RHODES. Владелец: GTAT CORPORATION. Дата публикации: 2014-06-26.

Plasma enhanced chemical vapor deposition of graphene on optical fibers

Номер патента: US20230212743A1. Автор: Nai-Chang Yeh,Deepan Kishore Kumar. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2023-07-06.

Methods and Systems for Stabilizing Filaments in a Chemical Vapor Deposition Reactor

Номер патента: US20140170337A1. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron Dean Rhodes. Владелец: GTAT Corp. Дата публикации: 2014-06-19.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US09701541B2. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron Dean Rhodes. Владелец: OCI Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Metal sulfide filled carbon nanotubes and synthesis methods thereof

Номер патента: US11932966B2. Автор: Wenzhi Li,Yuba Poudel. Владелец: Florida International University FIU. Дата публикации: 2024-03-19.

Ammonia synthesis method

Номер патента: US09884770B2. Автор: Shinichi Takeshima. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Binary and ternary metal chalcogenide materials and method of making the same

Номер патента: EP2130942A3. Автор: Liu Yang,Manchao Xiao. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2012-12-05.

Method of producing metallic nano particle colloidal dispersions

Номер патента: US20180015537A1. Автор: Kenneth J. Reed. Владелец: Zerovalent Nanometals Inc. Дата публикации: 2018-01-18.

Superhard dielectric compounds and methods of preparation

Номер патента: WO2003058644A2. Автор: John Kouvetakis,John Tolle,I. S. T. Tsong,Levi Torrison. Владелец: Arizona Board of Regents. Дата публикации: 2003-07-17.

Method of preparing sparsely pillared organic-inorganic hybrid compound

Номер патента: EP3851413A1. Автор: Jisoon Ihm,Seok Hwan PARK. Владелец: Innonep Inc. Дата публикации: 2021-07-21.

Superhard dielectric compounds and methods of preparation

Номер патента: US20040191151A1. Автор: John Kouvetakis,John Tolle,Levi Torrison,I S T Tsong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-30.

Flash joule heating synthesis method and compositions thereof

Номер патента: US12054391B2. Автор: James Mitchell Tour,Wilbur Carter Kittrell,Weiyin Chen,Duy X. LUONG. Владелец: William Marsh Rice University. Дата публикации: 2024-08-06.

Catalyst and ammonia synthesis method

Номер патента: RU2247600C2. Автор: Клаус Я. Х. ЯКОБСЕН. Владелец: ХАЛЬДОР ТОПСЕЭ А/С. Дата публикации: 2005-03-10.

Combination gas curtains for continuous chemical vapor deposition production of silicon bodies

Номер патента: CA1178179A. Автор: Henry W. Gutsche. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1984-11-20.

Chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: EP3377671A1. Автор: Daniel J. DESROSIER,Chad R. FERO. Владелец: GTAT Corp. Дата публикации: 2018-09-26.

Carbon nanoparticle synthesis method and use thereof for huvec cancer treatment

Номер патента: WO2022103364A1. Автор: Afsin KARIPER. Владелец: Erciyes Universitesi. Дата публикации: 2022-05-19.

Carbon-carbon cross coupling catalyzed by transition metals on solid supports

Номер патента: EP1687282A2. Автор: Bogdan Kazimierz Wilk. Владелец: WYETH LLC. Дата публикации: 2006-08-09.

Carbon-carbon cross coupling catalyzed by transition metals on solid supports

Номер патента: US20050137438A1. Автор: Bogdan Wilk. Владелец: WYETH LLC. Дата публикации: 2005-06-23.

Method of synthesis of ammonia

Номер патента: RU2189353C1. Автор: Клаус И. Х. ЯКОБСЕН,Михаэль БОЕ. Владелец: ХАЛЬДОР ТОПСЕЭ А/С. Дата публикации: 2002-09-20.

Synthesis method of ZIF-67 derived CoO

Номер патента: CN111559761A. Автор: 胡悦,钟丽,钱金杰,李启彭. Владелец: Zhaotong University. Дата публикации: 2020-08-21.

Manufacturing of diffractive pigments by fluidized bed chemical vapor deposition

Номер патента: US09732228B2. Автор: Alberto Argoitia. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2017-08-15.

A method of making a continuous coating on the surface of a part

Номер патента: CA2433907C. Автор: LAURENT David,Jacques Thebault,Philippe Girard,Jean-Eric Pelletan. Владелец: SNECMA Propulsion Solide SA. Дата публикации: 2010-10-19.

Transition metal alloys for use as a gate electrode and devices incorporating these alloys

Номер патента: EP1654767A1. Автор: Kari Harkonen,Mark Doczy,Teemu Lang,Nathan Baxter,Robert Chau. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2006-05-10.

Transition metal alloys for use as a gate electrode and devices incorporating these alloys

Номер патента: EP1654767B1. Автор: Kari Harkonen,Mark Doczy,Teemu Lang,Nathan Baxter,Robert Chau. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2010-09-29.

Method of forming a secondary emissive coating on a dynode

Номер патента: US4395437A. Автор: Alan G. Knapp. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1983-07-26.

Method of making beryllium shapes from powder metal

Номер патента: US3724050A. Автор: E Velten,G Jagaciak,J Wambold,A Epstein. Владелец: Beryllium Corp. Дата публикации: 1973-04-03.

Method of isolating antibodies using polyalkylene glycol and transition metals

Номер патента: EP2288358B1. Автор: Robert S. Gronke,Orlando A. Jaquez. Владелец: Biogen MA Inc. Дата публикации: 2015-09-23.

Method of Isolating Biomacromolecules Using Polyalkylene Glycol and Transition Metals

Номер патента: US20090292109A1. Автор: Robert S. Gronke,Orlando A. Jaquez. Владелец: BIOGEN IDEC MA INC. Дата публикации: 2009-11-26.

Method of coating a surface of a substrate with a metal by electroplating

Номер патента: US20070062817A1. Автор: Jerome Daviot,Jose Gonzalez,Herve Monchoix,Frédéric Raynal. Владелец: Alchimer SA. Дата публикации: 2007-03-22.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: US20220372201A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-11-24.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: WO2021163025A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: Drexel Uniiversity. Дата публикации: 2021-08-19.

Compact head and compact system for vapor deposition

Номер патента: US12043894B2. Автор: David MUNOZ-ROJAS. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 2024-07-23.

Fluoro-containing thermal chemical vapor deposition process and article

Номер патента: US20180163308A1. Автор: David A. Smith. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-06-14.

Deposition metalizing bulk material by chemical vapor

Номер патента: US4606941A. Автор: William C. Jenkin. Владелец: Jenkin William C. Дата публикации: 1986-08-19.

Selenophene-Based Low Band Gap Active Layers by Chemical Vapor Deposition

Номер патента: US20130089659A1. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-04-11.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A3. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-08-22.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A2. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-06-27.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: AU2003232015A1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2003-11-17.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1502292B1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2010-08-25.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US09975143B2. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Method and apparatus for molding of cnf-cmc onto molded pulp

Номер патента: WO2023163888A3. Автор: Jeffrey Youngblood,Endrina FORTI,Jiangxuan ZHANG. Владелец: PURDUE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2023-10-05.

Method and apparatus for molding of cnf-cmc onto molded pulp

Номер патента: AU2023224020A1. Автор: Jeffrey Youngblood,Endrina FORTI,Jiangxuan ZHANG. Владелец: PURDUE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2024-09-05.

Chemical vapor deposition coating, article, and method

Номер патента: US09777368B2. Автор: David A. Smith,James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Low κ dielectric inorganic/organic hybrid films and method of making

Номер патента: US7153580B2. Автор: John Felts,Peter Rose,Eugene Lopata. Владелец: Aviza Technology Inc. Дата публикации: 2006-12-26.

Intelligent synthesis device and synthesis method of silver nanowires

Номер патента: LU504740B1. Автор: Wei Zhao. Владелец: Nanjing Vocational College Of Information Tech. Дата публикации: 2024-01-15.

Corrosion-resistant coated article and thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US12036765B2. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US20240359430A1. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Quantum dot-polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09970939B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Method of producing transparent, haze-free tin oxide coatings

Номер патента: CA1268673A. Автор: Georg H. Lindner. Владелец: M&T Chemicals Inc. Дата публикации: 1990-05-08.

Method and apparatus for molding of cnf-cmc onto molded pulp

Номер патента: WO2023163888A2. Автор: Jeffrey Youngblood,Endrina FORTI,Jiangxuan ZHANG. Владелец: PURDUE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2023-08-31.

3d metal printhead assembly method of manufacture

Номер патента: US20210102286A1. Автор: Jeffrey Herman,Charles Pateros,David Pain,Andrew Edmonds,Edward White,Kareemullah Shaik. Владелец: Fabric8Labs Inc. Дата публикации: 2021-04-08.

Localized atmospheric laser chemical vapor deposition

Номер патента: EP2842156A1. Автор: Selim Elhadj,Manyalibo Joseph Matthews. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2015-03-04.

Apparatus and method for chemical vapor deposition control

Номер патента: EP2580368A1. Автор: Eric J. Strang,Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-04-17.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US20160059260A1. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Method of heavy metals deposits ore dressing

Номер патента: RU2245740C1. Автор: Б.П. Деркачев. Владелец: Деркачев Борис Павлович. Дата публикации: 2005-02-10.

Carbon composite article and method of making same

Номер патента: CA1161214A. Автор: Robert W. Mitchell,Gary Baldelli,Donald H. Leeds. Владелец: BF Goodrich Corp. Дата публикации: 1984-01-31.

Inverse filtration apparatus and method of use

Номер патента: WO1998017384A1. Автор: Manoj C. Desai,Ronald N. Zuckermann,David C. Jones,Jason P. Chinn. Владелец: Chiron Corporation. Дата публикации: 1998-04-30.

Method of using carbon nanotubes fuel production

Номер патента: US20140330059A1. Автор: Kanchan Mondal,Saikat Talapatra. Владелец: Southern Illinois University System. Дата публикации: 2014-11-06.

Ceramic laminated article, a method of producing the same and a ceramic laminate

Номер патента: US20030072930A1. Автор: Hiromichi Kobayashi,Toshio Oda,Hirotake Yamada. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2003-04-17.

Methods of preparation of omniphobic surfaces

Номер патента: US20220145037A1. Автор: Siamak Nejati,Mona Bavarian,Mahdi Mohammadi Ghaleni. Владелец: NuTech Ventures Inc. Дата публикации: 2022-05-12.

Synthesis device and synthesis method

Номер патента: WO2024190737A1. Автор: Yuma OTAKE,Jun-ichi Ogawa,Taiki SHAMOTO. Владелец: YOKOGAWA ELECTRIC CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-19.

Method of cleaning for coating application plants

Номер патента: RU2554838C2. Автор: Петер НЕФФ. Владелец: Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Трюббах. Дата публикации: 2015-06-27.

Low platinum catalyst and method of preparation

Номер патента: US09825308B1. Автор: Di-Jia Liu,Lina Chong. Владелец: UChicago Argonne LLC. Дата публикации: 2017-11-21.

Atomic layer deposition and etching of transition metal dichalcogenide thin films

Номер патента: US20230250534A1. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Jani Hämäläinen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-08-10.

Method of making a multilayer tool surface with PCNA interruption of CVD, and tool made by the process

Номер патента: US5869147A. Автор: Udo KÖNIG. Владелец: Widia GmbH. Дата публикации: 1999-02-09.

Method of coating complex substrates

Номер патента: US5139824A. Автор: Paul Lowden,Joseph Liburdi,Alina Aguero. Владелец: Liburdi Engineering Ltd. Дата публикации: 1992-08-18.

Oxide/organic polymer multilayer thin films deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: WO1999057330A9. Автор: Seshu B Desu,John J Senkevich. Владелец: Seshu B Desu. Дата публикации: 2000-02-10.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: EP4395800A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-10.

Chemical vapor deposition of thick inorganic coating on a polarizer

Номер патента: US11746418B2. Автор: Brian Johnson,Matthew R. Linford,Anubhav Diwan. Владелец: Moxtek Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Compounds for forming alumina films using chemical vapor deposition method and process for preparing the compound

Номер патента: US20030010256A1. Автор: Hyun-koock Shin. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-01-16.

Method of forming a film on a substrate by chemical vapor deposition

Номер патента: US11885022B2. Автор: Waichi Yamamura,Chikara MORI. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Susceptorless reactor for growing epitaxial layers on wafers by chemical vapor deposition

Номер патента: US20030111009A1. Автор: Vadim Boguslavskiy,Alexander Gurary. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2003-06-19.

Process for the deposition of thin layers by chemical vapor deposition

Номер патента: US20020127338A1. Автор: Annette Saenger. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-09-12.

Method of substrate treatment

Номер патента: RU2410341C2. Автор: Николя НАДО,Маркус ЛЕРГЕН,Стефани РОШ,Уве ШМИДТ. Владелец: СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС. Дата публикации: 2011-01-27.

Method of producing tungsten rhenium alloys by chemical vapor deposition

Номер патента: US3637374A. Автор: Frederick A Glaski,Robert A Holzi,James R Humphrey. Владелец: Fansteel Inc. Дата публикации: 1972-01-25.

Self-limiting chemical vapor deposition and atomic layer deposition methods

Номер патента: US09607920B2. Автор: Mary EDMONDS,Andrew C. Kummel,Atif M. NOORI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Method of fabricating light-scattering substrate

Номер патента: US09464351B2. Автор: Hyun Bin Kim,June Hyoung Park,Gun Sang Yoon. Владелец: Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Selective area chemical vapor deposition

Номер патента: CA2028438C. Автор: Michael A. Pickering,Raymond L. Taylor,Joseph T. Keeley,Jitendra Singh Goela. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1993-11-30.

Triangular deposition chamber for a vapor deposition system

Номер патента: CA2120092C. Автор: Jitendra S. Goela,Lee E. Burns,James C. Macdonald,Alexander Teverovsky. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1997-05-20.

Method of manufacturing silicon carbide structure

Номер патента: US8865519B2. Автор: Joung Il Kim,Jae Seok Lim,Mi-Ra Yoon. Владелец: Tokai Carbon Korea Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-21.

Apparatus for producing diamonds by chemical vapor deposition and articles produced therefrom

Номер патента: US5204145A. Автор: Steven M. Gasworth. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1993-04-20.

Method of depositing textured tin oxide

Номер патента: CA1333461C. Автор: Anthony W. Catalano,Charles M. Fortmann,James G. O'dowd,Ora Jean Lee. Владелец: Solarex Corp. Дата публикации: 1994-12-13.

Method of manufacturing a piezoelectric thin film

Номер патента: US12063023B2. Автор: Sang Jeong An. Владелец: Wavelord Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Methods of fabricating interconnects for semiconductor components

Номер патента: US7410898B2. Автор: Shuang Meng,Garo J. Derderian,Kyle K. Kirby. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2008-08-12.

Methods of fabricating interconnects for semiconductor components

Номер патента: US20050186777A1. Автор: Kyle Kirby,Shuang Meng,Garo Derderian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-08-25.

Methods of fabricating interconnects for semiconductor components

Номер патента: SG131950A1. Автор: Shuang Meng,Kyle K Kirby,Garo J Derderian. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-05-28.

Method of chemical vapor deposition of metal films

Номер патента: EP1021589A1. Автор: Chantal Arena,Joseph T. Hillman,Emmanuel Guidotti,Ronald T. Bertram. Владелец: Tokyo Electron Arizona Inc. Дата публикации: 2000-07-26.

Embedded wire chemical vapor deposition (ewcvd)

Номер патента: EP4363630A1. Автор: Joseph Pegna,Kirk L. Williams,Shay L. Harrison. Владелец: Free Form Fibers LLC. Дата публикации: 2024-05-08.

Chemical vapor deposition using N,O polydentate ligand complexes of metals

Номер патента: US09528182B2. Автор: Gary S. Silverman,Roman Y. Korotkov,Martin E. Bluhm. Владелец: Arkema Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US8298338B2. Автор: Ji Hye Shim,Changsung Sean KIM,Sang Duk Yoo,Jong Pa HONG,Won Shin LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-10-30.

Slab laser and amplifier and method of use

Номер патента: RU2650807C9. Автор: Стивен Л. КАННИНГЕМ,Мартин А. СТЮАРТ. Владелец: Мартин А. СТЮАРТ. Дата публикации: 2018-09-06.

Apparatus for growing epitaxial layers on wafers by chemical vapor deposition

Номер патента: US6547876B2. Автор: Michael Spencer,Ian Ferguson,Alexander Gurary. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2003-04-15.

Method of sputtering a carbon protective film on a magnetic disk with high sp3 carbon.

Номер патента: MY124998A. Автор: PENG Gang,YAMASHITA Tsutomu,Chen Tu,Hong Liu Wen. Владелец: Komag Incorporated. Дата публикации: 2006-07-31.

Chemical vapor deposition system arrangement

Номер патента: US20160053375A1. Автор: William David Grove,Nicholas Peter Deskevich. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-02-25.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20130341513A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Boston University. Дата публикации: 2013-12-26.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: EP1204782A1. Автор: Robert J. Bailey,Thomas E. Kane,Lisa H. Michael. Владелец: Silicon Valley Group Thermal Systems LLC. Дата публикации: 2002-05-15.

Process for chemical vapor deposition of transition metal nitrides

Номер патента: WO1991008322A1. Автор: Roy G. Gordon,Renaud Fix,David Hoffman. Владелец: President and Fellows of Harvard College. Дата публикации: 1991-06-13.

Method of forming composite articles from CVD gas streams and solid particles or fibers

Номер патента: US5348765A. Автор: Peter Reagan,Ann N. Scoville,Rebecca Leaf. Владелец: Thermo Electron Corp. Дата публикации: 1994-09-20.

Chemical vapor deposition of silicon nitride using a remote plasma

Номер патента: WO2024102586A1. Автор: Andrew J. McKerrow,Shane Tang,Gopinath Bhimarasetti. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-16.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A4. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-10-30.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A1. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-05-15.

Method of operating filament assisted chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2012112334A2. Автор: Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2012-08-23.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20100200757A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-12.

Shell connection device and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: LU505605B1. Автор: Haibo Huo. Владелец: Univ Zhengzhou Aeronautics. Дата публикации: 2024-05-24.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US09915001B2. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Methanol synthesis method

Номер патента: RU2519940C2. Автор: ФИЛИППИ Эрманно,ОСТУНИ Раффаэле. Владелец: Метанол Касале С.А.. Дата публикации: 2014-06-20.

Silicon-nitride-containing thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20170167015A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Methods of synthesizing cell-free protein

Номер патента: US6869774B2. Автор: Tomio Ogasawara,Yaeta Endo,Tatsuya Sawasaki. Владелец: CellFree Sciences Co Ltd. Дата публикации: 2005-03-22.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: US20240209498A1. Автор: Paul Connolly Quayle. Владелец: Great Lakes Crystal Technologies Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: WO2024138229A1. Автор: . Владелец: Great Lakes Crystal Technologies, Inc.. Дата публикации: 2024-06-27.

Method for chemical vapor deposition in high aspect ratio spaces

Номер патента: EP1897131A2. Автор: Ya-Hong Xie. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2008-03-12.

Method for chemical vapor deposition in high aspect ratio spaces

Номер патента: WO2007001296A2. Автор: Ya-Hong Xie. Владелец: The Regents of the University of California. Дата публикации: 2007-01-04.

Method of determining deposition temperature

Номер патента: US20040146643A1. Автор: Wen-Cheng Lien,Shih-Liang Chou,Tsung-De Lin,Tian-Jue Hong,Tsung-Chin Wu,Kou-Yow Tseng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2004-07-29.

Chemical vapor deposition tool and process for fabrication of photovoltaic structures

Номер патента: US09972740B2. Автор: Jianming Fu,Yongkee Chae. Владелец: Tesla Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Radiation heated reactor for chemical vapor deposition on substrates

Номер патента: US4263872A. Автор: Vladimir S. Ban. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1981-04-28.

Halogen alkyl nitrate synthesis method

Номер патента: RU2388746C2. Автор: Романо РИВОЛТА,Петер ФИНЛАНДЕР. Владелец: Никокс С.А.. Дата публикации: 2010-05-10.

Chemical vapor deposition of mullite coatings and powders

Номер патента: AU4963496A. Автор: Rao Mulpuri,Vinod Sarin. Владелец: Boston University. Дата публикации: 1996-07-24.

Method for chemical vapor deposition of titanium nitride films at low temperatures

Номер патента: US5378501A. Автор: Robert F. Foster,Joseph T. Hillman. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1995-01-03.

Methods and apparatus for reducing as-deposited and metastable defects in amorphous silicon

Номер патента: AU2022281245A1. Автор: Gautam Ganguly. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-10-26.

Methods and apparatus for reducing as-deposited and metastable defects in amorphous silicon

Номер патента: EP4347915A1. Автор: Gautam Ganguly. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-04-10.

Methods and apparatus for reducing as-deposited and metastable defects in amorphous silicon

Номер патента: WO2022250818A1. Автор: Gautam Ganguly. Владелец: Gautam Ganguly. Дата публикации: 2022-12-01.

Method of synthesizing copper precursors

Номер патента: US20020142591A1. Автор: David Evans,Sheng Hsu,Wei-Wei Zhuang. Владелец: Sharp Laboratories of America Inc. Дата публикации: 2002-10-03.

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF CuInXGa1- X(SeyS1-y)2 THIN FILMS AND USES THEREOF

Номер патента: WO2008151067A3. Автор: Tim Anderson,W K Kim. Владелец: W K Kim. Дата публикации: 2009-02-19.

Processing system and method for chemical vapor deposition

Номер патента: EP1100980A2. Автор: Joseph T. Hillman. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2001-05-23.

Method for selective deposition and devices

Номер патента: US20110120757A1. Автор: David H. Levy. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-05-26.

Microwave plasma chemical vapor deposition apparatus comprising an inclined rotating substrate holder

Номер патента: US5234502A. Автор: Osamu Mochizuki,Toshiharu Hoshi,Hiroaki Itoh. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Cooled mirror construction by chemical vapor deposition

Номер патента: US4378626A. Автор: Frederick G. Eitel. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 1983-04-05.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods

Номер патента: US20230072705A1. Автор: Prerna Goradia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-09.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: WO2023031951A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Prerna Goradia. Дата публикации: 2023-03-09.

A chemical vapor deposition chamber article

Номер патента: WO2020242292A8. Автор: Marcus Gerardus Van Munster,Guiming SONG. Владелец: Schunk Xycarb Technology B.V.. Дата публикации: 2021-01-28.

Silicon-based explosive devices and methods of manufacture

Номер патента: US20120174808A1. Автор: Ronald G. Polcawich,Luke J. Currano,Wayne Churaman,Mark Gelak. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 2012-07-12.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20020051847A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-02.

Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide

Номер патента: WO2009131842A1. Автор: Bunmi T. Adekore,Jonathan Pierce. Владелец: Lumenz, Inc.. Дата публикации: 2009-10-29.

Laser-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20230203660A1. Автор: Rodney S. Harris,Stephen G. Topping. Владелец: River Electro Optics LLC. Дата публикации: 2023-06-29.

Method for preventing vacuum pump pipeline from blockage, and chemical vapor deposition machine

Номер патента: US20200208262A1. Автор: Jianfeng SHAN. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide

Номер патента: EP2279284A1. Автор: Bunmi T. Adekore,Jonathan Pierce. Владелец: LUMENZ Inc. Дата публикации: 2011-02-02.

Chemical vapor deposition process for depositing a titanium oxide coating

Номер патента: US09938619B2. Автор: Jun Ni,Srikanth Varanasi,Douglas M. Nelson. Владелец: Pilkington Group Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Novel form of hydroquinone and synthesis method thereof

Номер патента: RU2458037C2. Автор: ТЬЕСС Жан-Клод ЛЕ. Владелец: Родиа Операсьон. Дата публикации: 2012-08-10.

Method of making synthetic diamond film

Номер патента: CA2108845C. Автор: Matthew Simpson,Robert M. Frey. Владелец: Norton Co. Дата публикации: 1999-08-17.

Method of manufacturing large capacity preforms by MCVD

Номер патента: US6988379B2. Автор: Marc Nicolardot,Jean-Florent Campion,Gerard Orcel. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2006-01-24.

Method of in-situ cleaning for LPCVD TEOS pump

Номер патента: US6498104B1. Автор: David Chi,Kent Kuohua Chang,Fuodoor Gologhlan,Hector Serrato. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2002-12-24.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials

Номер патента: CA2595761A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-10.

Method of reducing stress-induced mechanical problems in optical-quality thin films

Номер патента: EP1302792A3. Автор: Luc Ouellet,Jonathan Lachance. Владелец: Dalsa Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-08-04.

Method of manufacturing a semiconductor device with a contact hole

Номер патента: US20020182854A1. Автор: Junichi Miyano,Kiyohiko Toshikawa,Yoshikazu Motoyama. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2002-12-05.

Fluorescent dye-labeled glucose bioprobe, synthesis method and usage thereof

Номер патента: US8679854B2. Автор: Seung Bum Park,Jong Min Park,Myung Haing Cho,Hyang Yeon Lee. Владелец: SNU R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2014-03-25.

Synthesis method of hydroxybenzylamine

Номер патента: US12024483B2. Автор: Changping Xu,Yanrong JIA. Владелец: Taizhou Chuangyuan Industrial Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Single crystal transition metal dichalcogenide thin film and method for synthesizing the same

Номер патента: US11859308B2. Автор: Soo Ho CHOI,Ki Kang KIM. Владелец: SUNGKYUNKWAN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-01-02.

Synthesis method of aromatic amine carboxylic acid derivative

Номер патента: NL2033448B1. Автор: Qu Wenyan. Владелец: Beijing Yinong Biotechnology Co ltd. Дата публикации: 2023-07-28.

Improved olefin synthesis method

Номер патента: RU2405022C1. Автор: Адам Дж. КАНЬЮ. Владелец: Юоп Ллк. Дата публикации: 2010-11-27.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US4107352A. Автор: Mohammad Javid Hakim. Владелец: Westinghouse Canada Inc. Дата публикации: 1978-08-15.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US20160060763A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Metalorganic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: US20200115800A1. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2020-04-16.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20240175135A1. Автор: Sung-Chul Choi,Kwang-Il Cho. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Synthesis method of glyco-drug radiotracer precursor

Номер патента: US20140066609A1. Автор: YU Chang,Wuu-Jyh Lin,Mei-Hui Wang,Cheng-Fang Hsu,Kuei-Lin Lu. Владелец: Institute of Nuclear Energy Research. Дата публикации: 2014-03-06.

Chemical vapor deposition device capable of reciprocating rotation and lifting

Номер патента: US20240327986A1. Автор: Xueqin Pan,Xiaoliang Jin,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Gas shower device, chemical vapor deposition device and method

Номер патента: US09945031B2. Автор: Yong Jiang,Zhiyou Du. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Method for improved growth of two-dimensional transition metal dichalcogenides

Номер патента: US09620665B1. Автор: Stephen F. Bartolucci,Daniel B. Kaplan. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 2017-04-11.

Method of making composite substrate from sic

Номер патента: RU2728484C2. Автор: Содзи АКИЯМА,Йосихиро КУБОТА,Хироюки НАГАСАВА. Владелец: Кусик Инк.. Дата публикации: 2020-07-29.

Xylitol synthesis method

Номер патента: RU2388741C2. Автор: Джонатан А. СТЭПЛИ,Джеймс Н. БЕМИЛЛЕР. Владелец: Пердью Рисерч Фаундейшн. Дата публикации: 2010-05-10.

Method of an apparatus for forming thin film for semiconductor device

Номер патента: US5240505A. Автор: Masanobu Iwasaki,Hiromi Itoh. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1993-08-31.

Dialkoxyorganoborane synthesis method

Номер патента: RU2423369C2. Автор: Элизабет БУРКХАРДТ,Уильям ЭТКИНС. Владелец: Басф Акциенгезельшафт. Дата публикации: 2011-07-10.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: WO2006116776A3. Автор: Eunsung Park,Kevin Casey,Catherine E Talor. Владелец: Catherine E Talor. Дата публикации: 2007-05-03.

Thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20180258529A1. Автор: James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone,Thomas F. Vezza,William David Grove. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

Methods of vapor deposition of ruthenium using an oxygen-free co-reactant

Номер патента: US11976352B2. Автор: Jacob Woodruff,Guo Liu,Ravindra Kanjolia. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-07.

Precursor selection method for chemical vapor deposition techniques

Номер патента: US20080243460A1. Автор: Timothy P. Holme,Masayuki Sugawara,Friedrick B. Prinz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-10-02.

Receptor material, synthesis method and use thereof

Номер патента: US20240334824A1. Автор: Baomin Xu,Zhixin Liu,Xingzhu Wang. Владелец: Southern University of Science and Technology. Дата публикации: 2024-10-03.

Chemical vapor deposition method of silicon dioxide film

Номер патента: US5360646A. Автор: Katsumi Morita. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1994-11-01.

Prevention of low pressure chemical vapor deposition silicon dioxide undercutting and flaking

Номер патента: CA1166129A. Автор: Bernard M. Kemlage. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-04-24.

Chemical vapor deposition

Номер патента: CA1251100A. Автор: Guy Brien,Richard Cloutier,Laszlo Szolgyemy,Edward C.D. Darwall. Владелец: Edward C.D. Darwall. Дата публикации: 1989-03-14.

Method of surface alloying sialon articles

Номер патента: US4913936A. Автор: Pankaj K. Mehrotra,Joyce L. Swiokla. Владелец: Kennametal Inc. Дата публикации: 1990-04-03.

Chemical vapor deposition method of growing oxide films with giant magnetoresistance

Номер патента: US5487356A. Автор: Jiming Zhang,Yi-Oun Li. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 1996-01-30.

Inverted diffusion stagnation point flow reactor for vapor deposition of thin films

Номер патента: CA2016970A1. Автор: Prasad N. Gadgil. Владелец: SIMON FRASER UNIVERSITY. Дата публикации: 1991-11-16.

Continuous chemical vapor deposition reactor

Номер патента: CA1068582A. Автор: Roger N. Anderson. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1979-12-25.

Vapor deposition processes

Номер патента: US12065739B2. Автор: Mikko Ritala,Timo Hatanpää,Anton Vihervaara. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-20.

Heterocyclic compounds and the synthesis method thereof

Номер патента: US20150284504A1. Автор: Sheng-Wen Cheng,Yen-Ju Cheng,De-Yang Chiou. Владелец: National Chiao Tung University NCTU. Дата публикации: 2015-10-08.

Chemical synthesis method of diphenyl chlorophosphate

Номер патента: NL2029670B1. Автор: Zhang Qin,LI Juan,WANG SHANGQI,Tian Yongjie,Ding Hongjun. Владелец: Heze Dijade Chemical Corp. Дата публикации: 2022-10-21.

Chemical synthesis method of diphenyl chlorophosphate

Номер патента: NL2029670A. Автор: Zhang Qin,LI Juan,WANG SHANGQI,Tian Yongjie,Ding Hongjun. Владелец: Heze Dijade Chemical Corp. Дата публикации: 2021-12-21.

Chemical vapor deposition coatings on titanium

Номер патента: US3787223A. Автор: C Reedy. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1974-01-22.

Novel 2h-chromene synthesis methods

Номер патента: RU2397980C2. Автор: Петер ШНАЙДЕР,Шуэб ТАТАУИ. Владелец: Арпида Аг. Дата публикации: 2010-08-27.

Method of making primary current detector using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US4851367A. Автор: David J. Wolf. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1989-07-25.

Method of making an electrode from reinforced lead dioxide

Номер патента: RU2691967C1. Автор: Дмитрий Юрьевич Тураев. Владелец: Дмитрий Юрьевич Тураев. Дата публикации: 2019-06-19.

Vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1274429A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1990-09-25.

Metal-organic (MO) chemical vapor deposition method and MO chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US6180541B1. Автор: Jae-Hyun Joo. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2001-01-30.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US6110283A. Автор: Takaaki Kawahara,Mikio Yamamuka,Tsuyoshi Horikawa,Masayoshi Tarutani. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2000-08-29.

Chemical vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1305910C. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1992-08-04.

Atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4834020A. Автор: Lawrence D. Bartholomew,Nicholas M. Gralenski,Michael A. Richie,Michael L. Hersh. Владелец: Watkins Johnson Co. Дата публикации: 1989-05-30.

Method and system for inline chemical vapor deposition

Номер патента: WO2012170166A3. Автор: Piero Sferlazzo,Thomas Michael Lampros. Владелец: AVENTA TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2013-04-25.

Platinum source compositions for chemical vapor deposition of platinum

Номер патента: US5783716A. Автор: Thomas H. Baum,Peter S. Kirlin,Sofia Pombrik. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 1998-07-21.

Gas injection system for chemical vapor deposition using sequenced valves

Номер патента: WO2012082225A1. Автор: William E. Quinn,Eric A. Armour. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2012-06-21.

Gas Injection System For Chemical Vapor Deposition Using Sequenced Valves

Номер патента: US20160168710A1. Автор: William E. Quinn,Eric A. Armour. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2016-06-16.

Technique for high efficiency metalorganic chemical vapor deposition

Номер патента: US20030049932A1. Автор: Sam Yang,Weimin Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-13.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus for solar cell

Номер патента: US20160225933A1. Автор: Heonmin Lee,Dongjoo YOU,Wonki Yoon. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2016-08-04.

Methods of fabricating interconnects for semiconductor components

Номер патента: US20050186790A1. Автор: Kyle Kirby,Shuang Meng,Garo Derderian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-08-25.

Methods of fabricating interconnects for semiconductor components

Номер патента: US20050186770A1. Автор: Kyle Kirby,Shuang Meng,Garo Derderian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-08-25.

Methods of fabricating interconnects for semiconductor components

Номер патента: US20070141835A1. Автор: Kyle Kirby,Shuang Meng,Garo Derderian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-21.

Methods of fabricating interconnects for semiconductor components

Номер патента: SG131951A1. Автор: Shuang Meng,Kyle K Kirby,Garo J Derderian. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-05-28.

Methods of fabricating interconnects for semiconductor components

Номер патента: WO2005083778A1. Автор: Shuang Meng,Garo J. Derderian,Kyle K. Kirby. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2005-09-09.

Method of forming ferroelectric film

Номер патента: US20040259275A1. Автор: Takeshi Kijima,Eiji Natori,Yasuaki Hamada. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2004-12-23.

Preparation method of phenylisoxazoline compound

Номер патента: US20230303545A1. Автор: Changling Liu,Aiying Guan,Qiao Wu,Jichun Yang,Enming WU,Gongxin WU. Владелец: Shenyang Sinochem Agrochemicals R&D Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Synthesis method of chiral (S)-nicotine

Номер патента: US11981653B2. Автор: Yang Zou,Jun Zou,Meisen LIU,Weixian LUO. Владелец: Shenzhen Zinwi Biotech Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Vapor Deposition Processes

Номер патента: US20240368763A1. Автор: Mikko Ritala,Timo Hatanpää,Anton Vihervaara. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-11-07.

Sic single crystal and method of its production

Номер патента: RU2160329C1. Автор: Китий ТАНИНО,Китийя ТАНИНО. Владелец: Ниппон Пиллар Пэкинг Ко., Лтд. Дата публикации: 2000-12-10.

Method of making carbon-carbon composites

Номер патента: US5061414A. Автор: Glen B. Engle. Владелец: NUCLEAR AND AEROSPACE MATERIALS CORP. Дата публикации: 1991-10-29.

Method of chemical vapor deposition in a continuous treatment line

Номер патента: US5352490A. Автор: Masahiro Abe,Kazuhisa Okada,Shuzo Fukuda. Владелец: NKK Corp. Дата публикации: 1994-10-04.

Light olefin synthesis method and device for realising said method

Номер патента: RU2398754C2. Автор: Андреа Джулио БОДЗАНО. Владелец: Юоп Ллк. Дата публикации: 2010-09-10.

Low thermal budget chemical vapor deposition processing

Номер патента: US20080119059A1. Автор: Yuji Maeda,R. Suryanarayanan Iyer,Jacob W. Smith. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-05-22.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20030165619A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-04.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: US20220275509A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2022-09-01.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: EP4298665A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Method of fabricating a MOS device

Номер патента: US20020168855A1. Автор: John Smythe,John Berg. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-11-14.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11702749B2. Автор: Jing Lu,Jes Asmussen,Yajun Gu,Shreya Nad. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-07-18.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials via alternating layers

Номер патента: US20090022883A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Ovonyx Inc. Дата публикации: 2009-01-22.

Apparatus and concept for minimizing parasitic chemical vapor deposition during atomic layer deposition

Номер патента: EP1238421A4. Автор: Ofer Sneh,Carl Galewski. Владелец: Genus Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Method for improving film uniformity in plasma enhanced chemical vapor deposition system

Номер патента: US20050025906A1. Автор: Hui-Chu Lin,Wen-Cheng Lu. Владелец: Toppoly Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2005-02-03.

Method of forming a silicon comprising layer

Номер патента: US20230360905A1. Автор: Werner Knaepen,Bert Jongbloed,Dieter Pierreux,Arjen KLAVER. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-09.

Method for chemical vapor deposition in high aspect ratio spaces

Номер патента: US20060290013A1. Автор: Ya-Hong Xie. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Methods of fabricating interconnects for semiconductor components

Номер патента: EP1719168A1. Автор: Shuang Meng,Garo J. Derderian,Kyle K. Kirby. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-11-08.

Microwave plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240158910A1. Автор: Zhiwen Kang,Bingfeng CAI,Kangfu GUO. Владелец: Wuhan Youmeike Automation Co ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

High density plasma chemical vapor deposition chamber

Номер патента: US20020112666A1. Автор: Pei-Ren Jeng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Chemical vapor deposition tool and operating method thereof

Номер патента: US20170032940A1. Автор: Chien-Ta Lee,Pen-Li HUNG,Yu-Shan SHIH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-02.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: WO2023059827A1. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2023-04-13.

Film quality control in a linear scan physical vapor deposition process

Номер патента: US20190311905A1. Автор: Joung Joo Lee,Xianmin Tang,Bencherki Mebarki. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-10.

Chemical vapor deposition of dense and transparent zirconia films

Номер патента: US5145720A. Автор: Toshio Hirai,Hisanori Yamane. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 1992-09-08.

Method of preparation of electrode for electrocatalysis

Номер патента: CA3175601A1. Автор: Alberto Bucci,Julio Lloret-Fillol. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-10-21.

Method of preparation of electrode for electrocatalysis

Номер патента: AU2021255897A1. Автор: Alberto Bucci,Julio Lloret-Fillol. Владелец: Institut Catala dInvestigacio Quimica ICIQ. Дата публикации: 2022-11-03.

Method of preparation of electrode for electrocatalysis

Номер патента: EP4136274A1. Автор: Alberto Bucci,Julio Lloret-Fillol. Владелец: Institut Catala dInvestigacio Quimica ICIQ. Дата публикации: 2023-02-22.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: WO2023059827A9. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-02-15.

Wafer carrier and metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20220064791A1. Автор: Yen-Lin LAI,Jyun-De Wu,Shen-Jie Wang,Chien-Chih Yen. Владелец: PlayNitride Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Titanium containing dielectric films and methods of forming same

Номер патента: AU7083400A. Автор: Cem Basceri,Dan Gealy. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-26.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: EP4413177A1. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US20200040447A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US10975467B2. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2021-04-13.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US20190085446A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Method of inhibiting production of projections in metal deposited-film

Номер патента: US20030108673A1. Автор: Fumiaki Kikui,Takeshi Nishiuchi,Yoshimi Tochishita. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-06-12.

Auxiliary gasline-heating unit in chemical vapor deposition

Номер патента: US20010042930A1. Автор: Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Peng-Yih Peng,Fu-Yang Yu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-22.

Sic composite and method of production thereof

Номер патента: US20010033936A1. Автор: Yasuhiro Akune,Kichiya Tanino. Владелец: Nippon Pillar Packing Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-25.

Device, system and method for plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA3192596A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-24.

Microwave energy-assisted chemical vapor infiltration

Номер патента: WO1993019856A1. Автор: Edward L. Paquette,Iftikhar Ahmad,Richard Silberglitt. Владелец: Technology Assessment And Transfer, Inc.. Дата публикации: 1993-10-14.

Plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US10151033B2. Автор: Yuji Takano,Hiromichi Nakata,Yoji Sato,Takayasu Sato,Kazutaka Tachibana,Osamu Ariyada,Ryo TSURUMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-12-11.

Chemical Vapor Deposition Diamond (CVDD) Wires for Thermal Transport

Номер патента: US20210143080A1. Автор: Philip Andrew Swire,Nina Biddle. Владелец: Microsemi Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: WO2023160793A1. Автор: Hristo Strakov,Vasileios PAPAGEORGIOU,Manfred Pfitzner,Anja BÄUMCHEN. Владелец: Ihi Bernex Ag. Дата публикации: 2023-08-31.

Titanium containing dielectric films and methods of forming same

Номер патента: EP1212476A1. Автор: Cem Basceri,Dan Gealy. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-06-12.

Method of Growing Personalized Single Crystal Diamond

Номер патента: US20240240354A1. Автор: William Holber,Robert J. BASNETT. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2024-07-18.

High pressure spatial chemical vapor deposition system and related process

Номер патента: US20240209502A1. Автор: Siddha Pimputkar. Владелец: Lehigh University. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20160376707A1. Автор: Yuji Takano,Hiromichi Nakata,Yoji Sato,Takayasu Sato,Kazutaka Tachibana,Osamu Ariyada,Ryo TSURUMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

Multifunctional wafer pretreatment chamber and chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240337011A1. Автор: Yongjun Feng,Dongping Zhou,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Slotted seal plates and slotted preforms for chemical vapor deposition densification

Номер патента: US09834842B2. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Method of forming borides in carbon composites

Номер патента: US09725803B2. Автор: Jean-Francois Le Costaouec,Paul Perea. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Shower head unit and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US09493875B2. Автор: Pyung-Yong Um. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US09410247B2. Автор: Jung Hyun Lee,Jong Hyun Lee,Young Sun Kim,Ki Sung Kim,Suk Ho Yoon,Hyun Seok Ryu. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-09.

5-(4-[4-(5-cyano-3-indolyl)butyl]-1-piperazinyl)benzofuran-2-carboxamide synthesis method

Номер патента: RU2397981C2. Автор: Андреас БАТЕ. Владелец: Мерк Патент Гмбх. Дата публикации: 2010-08-27.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: WO2020096976A1. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S.H. Chen. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2020-05-14.

Diamond films and methods of making diamond films

Номер патента: CA2548782A1. Автор: John Harvie Chaffin Iii. Владелец: Nanotech Llc. Дата публикации: 2005-06-23.

Chemical vapor deposition wafer boat

Номер патента: CA1234972A. Автор: Arthur J. Learn,Dale R. DuBois. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1988-04-12.

RF powered plasma enhanced chemical vapor deposition reactor and methods

Номер патента: US6112697A. Автор: Paul Smith,Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

Method for tungsten chemical vapor deposition on a semiconductor substrate

Номер патента: EP1219725A1. Автор: Joris Baele,Hans Vercammen. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2002-07-03.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US5803974A. Автор: Tadahiro Ohmi,Nobumasa Suzuki,Nobuo Mikoshiba,Kazuo Tsubouchi,Kazuya Masu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-09-08.

Method of forming an electrical contact to a silicon substrate

Номер патента: US6054191A. Автор: Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-04-25.

Photo-chemical vapor deposition of silicon nitride film

Номер патента: US4588610A. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1986-05-13.

Migration and plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA2756994C. Автор: Kenneth Scott Alexander Butcher. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-07.

Method of forming silicon nitride films

Номер патента: US20090087586A1. Автор: Toshiya Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-04-02.

Organometallic antimony compounds useful in chemical vapor deposition processes

Номер патента: US4960916A. Автор: John C. Pazik. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1990-10-02.

Catalyst complex for fuel cell and method of manufacturing same

Номер патента: US11735746B2. Автор: Hyun Joo Lee,Jong Kil Oh,Bo Ki Hong,Jung Han Yu,Chi Woo Roh. Владелец: Kia Motors Corp. Дата публикации: 2023-08-22.

Catalyst complex for fuel cell and method of manufacturing same

Номер патента: US20200411881A1. Автор: Hyun Joo Lee,Jong Kil Oh,Bo Ki Hong,Jung Han Yu,Chi Woo Roh. Владелец: Hyundai Mobis Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Header having high-density conductor arrangement and method of making same

Номер патента: US3636235A. Автор: Neal T Williams. Владелец: Sealtronics Inc. Дата публикации: 1972-01-18.

Method of fabricating active layers in a laser utilizing InP-based active regions

Номер патента: US20040165631A1. Автор: YING-LAN Chang,Ashish Tandon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-26.

Supported transistion metal carbide catalyst and one-step synthesis method thereof

Номер патента: US12083508B2. Автор: Shuang Li,Yuying Li,Xichao FU. Владелец: Northwestern University. Дата публикации: 2024-09-10.

Thermal ink jet with chemical vapor deposited nozzle plate

Номер патента: CA2506728C. Автор: Kia Silverbrook. Владелец: SILVERBROOK RESEARCH PTY LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Saw for cutting silicon into seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: EP2731770A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2014-05-21.

Metal complex derived catalyst and method of forming

Номер патента: US5990039A. Автор: Partha P Paul,Stuart T Schwab. Владелец: Southwest Research Institute SwRI. Дата публикации: 1999-11-23.

Method of producing fluid exhaust head

Номер патента: RU2422289C1. Автор: Масатака КАТО,Казухиро ХАЯКАВА. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2011-06-27.

Controllable synthesis method of nickel-platinum alloy nanoparticles

Номер патента: LU501404B1. Автор: Aixian SHAN. Владелец: Univ Beijing Science & Technology. Дата публикации: 2022-08-10.

Preform and method of producing plastic bottles

Номер патента: RU2404053C1. Автор: Роберт ЗИГЛЬ. Владелец: Альпла Верке Альвин Ленер Гмбх Унд Ко.Кг. Дата публикации: 2010-11-20.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: CA3217114A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-11-03.

Nanoscopic wire-based devices, arrays, and method of their manufacture

Номер патента: CA2372707C. Автор: Thomas Rueckes,Kevin Kim,Charles M. Lieber,Ernesto Joselevich. Владелец: Harvard College. Дата публикации: 2014-12-09.

Optically clear, durable infrared windows, and method of making the same

Номер патента: WO2000022206A1. Автор: Stephen A. Gabelich,William W. Chen,Norman H. Harris. Владелец: Raytheon Company. Дата публикации: 2000-04-20.

Metal silicide nanowires and methods of their production

Номер патента: US20100279115A1. Автор: Song Jin,Andrew L. Schmitt,Yipu Song. Владелец: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2010-11-04.

Organic EL lighting emitting device, method of manufacturing the same, and organic EL light source device

Номер патента: US9196854B2. Автор: Yasuhiko Takamatsu. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2015-11-24.

Low resistivity tungsten film and method of manufacture

Номер патента: WO2022046320A1. Автор: Wei Lei,Joung Joo Lee,Kai Wu,Zhebo CHEN,Xi CEN,Feihu Wang,Chunming Zhou,Zhibo YUAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-03-03.

Methods of forming metal wiring of semiconductor devices

Номер патента: US20040132283A1. Автор: Dong-Ki Jeon,Jae-Won Han. Владелец: Anam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-07-08.

Organic polymeric antireflective coatings deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: CA2400157A1. Автор: Ram W. Sabnis,Terry Brewer,Douglas Guerrero,Mary J. Spencer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-30.

Method of treating CVD titanium nitride with silicon ions

Номер патента: US6080667A. Автор: Koji Urabe. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-06-27.

Method of manufacturing semiconductor device including bonding pad and fuse elements

Номер патента: US7335537B2. Автор: Takashi Yamashita,Noriaki Fujiki,Junko Izumitani. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2008-02-26.

Method of manufacturing a copper metal wiring in a semiconductor device

Номер патента: US20020031911A1. Автор: Sung Pyo. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2002-03-14.

Method of forming metal connections

Номер патента: US5328868A. Автор: James F. White,Richard A. Conti,Kenneth DeVries. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1994-07-12.

Semiconductor interconnection structure and method of fabrication

Номер патента: EP1317772A1. Автор: Stefan Weber,Roy Iggulden. Владелец: Infineon Technologies North America Corp. Дата публикации: 2003-06-11.

Epitaxial wafer and a method of manufacturing thereof

Номер патента: WO2014086742A1. Автор: Norbert Werner,Peter Storck,Martin Vorderwestner,Peter Tolchinsky,Irwin Yablok. Владелец: SILTRONIC AG. Дата публикации: 2014-06-12.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2002062593A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2002-08-15.

Epitaxial wafer and a method of manufacturing thereof

Номер патента: EP2959500A1. Автор: Norbert Werner,Peter Storck,Martin Vorderwestner,Peter Tolchinsky,Irwin Yablok. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2015-12-30.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1397260A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-03-17.

Epitaxial wafer and a method of manufacturing thereof

Номер патента: US9691632B2. Автор: Norbert Werner,Peter Storck,Martin Vorderwestner,Peter Tolchinsky,Irwin Yablok. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Embedded Resistors for ReRAM Cells

Номер патента: US20150179937A1. Автор: Yun Wang,Chien-Lan Hsueh. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2015-06-25.

Epitaxial wafer and a method of manufacturing thereof

Номер патента: US20150303071A1. Автор: Norbert Werner,Peter Storck,Martin Vorderwestner,Peter Tolchinsky,Irwin Yablok. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2015-10-22.

Method of forming nitride capped cu lines with reduced electromigration along the cu/nitride interface

Номер патента: WO2003007368A3. Автор: Minh Van Ngo,Larry Zhao,Paul R Besser. Владелец: Paul R Besser. Дата публикации: 2003-03-27.

Method of making an electron beam window

Номер патента: US4468282A. Автор: Armand P. Neukermans. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 1984-08-28.

Manufacturing method of group of whiskers

Номер патента: US20120094420A1. Автор: Makoto Ishikawa,Toshihiko Takeuchi,Yuki Murakami. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2012-04-19.

Method of making a field effect transistor having an elevated source and an elevated drain

Номер патента: US6057200A. Автор: Sujit Sharan,Kirk Prall,Pai-Hung Pan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-05-02.

Method of fabricating a metal plug of a semiconductor device using a novel tin barrier layer

Номер патента: US20020016063A1. Автор: Ming-Shing Chen,Bill Hsu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-02-07.

Optically clear, durable infrared windows, and method of making the same

Номер патента: EP1040213A1. Автор: Stephen A. Gabelich,William W. Chen,Norman H. Harris. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2000-10-04.

Protected Transition Metal Hexacyanoferrate Battery Electrode Synthesis Method

Номер патента: US20160087260A1. Автор: David Evans,Jong-Jan Lee,Yuhao Lu. Владелец: Sharp Laboratories of America Inc. Дата публикации: 2016-03-24.

High density plasma chemical vapor deposition process

Номер патента: US20020030033A1. Автор: Water Lur,Shih-Wei Sun,Chih-Chien Liu,Ta-Shan Tseng,W.B. Shieh,J.Y. Wu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-14.

Protected transition metal hexacyanoferrate battery electrode synthesis method

Номер патента: US09595706B2. Автор: David Evans,Jong-Jan Lee,Yuhao Lu. Владелец: Sharp Laboratories of America Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Piezoelectric element and method of producing the same

Номер патента: US09444032B2. Автор: Makoto Ishida,Noriyuki Matsushita,Hiroyuki Wado,Daisuke Akai. Владелец: Toyohashi University of Technology NUC. Дата публикации: 2016-09-13.

Method of nonstoichiometric cvd dielectric film surface passivation for film roughness control

Номер патента: WO2010056731A1. Автор: Kwanghoon Kim,Lance Kim. Владелец: MICROCHIP TECHNOLOGY INCORPORATED. Дата публикации: 2010-05-20.

Method of forming an intermetal dielectric layer

Номер патента: US6410106B2. Автор: Ming-Sheng Yang,Chih-Chien Liu,Cheng-Yuan Tsai. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-06-25.

Method of forming an intermetal dielectric layer

Номер патента: US20010001678A1. Автор: Ming-Sheng Yang,Chih-Chien Liu,Cheng-Yuan Tsai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-05-24.

Diffusion barrier layers and methods of forming same

Номер патента: US6323081B1. Автор: Eugene P. Marsh. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-11-27.

Method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device

Номер патента: US5747375A. Автор: Satoru Kaneko,Toshiyuki Ohkoda. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 1998-05-05.

Method of reducing contact resistance of a metal

Номер патента: US20140035143A1. Автор: Hung-Wen Su,Ya-Lien Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-02-06.

Silicon thin film transistors, systems, and methods of making same

Номер патента: WO2009094639A1. Автор: John Snyder,John M. Heitzinger. Владелец: Soligie, Inc.. Дата публикации: 2009-07-30.

Ruthenium silicide diffusion barrier layers and methods of forming same

Номер патента: EP1114449A1. Автор: Brian A. Vaartstra,Eugene P. Marsh. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-07-11.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A3. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A4. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2009-01-07.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2005-01-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2003-10-23.

Method of forming a conformal oxide film

Номер патента: US20020106907A1. Автор: Ching-Yu Chang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-08.

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US09865699B2. Автор: Shintaro Sato,Daiyu Kondo. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Chemical vapor deposition technique for depositing titanium silicide on semiconductor wafers

Номер патента: US5278100A. Автор: Trung T. Doan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1994-01-11.

Method of forming multilayer interconnection structure

Номер патента: US5312773A. Автор: Naoki Nagashima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1994-05-17.

Method of carrying out plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US6432493B1. Автор: Tetsuya Taguwa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-08-13.

Methods of forming rutile titanium dioxide

Номер патента: US20140065301A1. Автор: Chris Carlson,Vishwanath Bhat,Tsai-Yu Huang,Vassil Antonov. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2014-03-06.

Synthesis method of chinese printed character images and device thereof

Номер патента: SG11201907521SA. Автор: Hongyu Li. Владелец: Zhongan Information Technology Service Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-27.

Thin film semiconductor device and method of production

Номер патента: US5389580A. Автор: Mitsutoshi Miyasaka. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 1995-02-14.

Fabricating method of a barrier layer

Номер патента: US6025264A. Автор: Water Lur,Shih-Wei Sun,Yimin Huang,Tri-Rung Yew. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-02-15.

Deposition and etch of silicon-containing layer

Номер патента: WO2024006211A1. Автор: Bo Gong,Ching-Yun Chang,Nuoya YANG,Andrew John McKerrow,Yuxi Wang. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-01-04.

Method of preventing analyte alteration in diagnostic apparatuses involving contact of liquid and electrode

Номер патента: EP1943008A2. Автор: Jie Li,Thomas N. Corso. Владелец: Advion Biosciences Inc. Дата публикации: 2008-07-16.

High-level synthesis method, high-level synthesis apparatus, and high-level synthesis system

Номер патента: US20200311328A1. Автор: Shintaro Imamura. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2020-10-01.

CMOS tapered gate and synthesis method

Номер патента: US20020157079A1. Автор: Lisa Lacey,Ruchir Puri,Leon Stok,Brian Curran,Gregory Northrop. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2002-10-24.

Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US20080272444A1. Автор: Hiroyuki Kitamura. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2008-11-06.

Speech synthesis model training method, speech synthesis method, and related apparatuses

Номер патента: EP4447040A1. Автор: BING Yang,Xiong Zhang,Kun SONG. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Integrated micro/nanogenerator and method of fabricating the same

Номер патента: US09762151B2. Автор: Haixia Zhang,Xiaosheng Zhang,Mengdi Han,Fuyun Zhu. Владелец: PEKING UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-09-12.

Method of manufacturing isolation trenches using silicon nitride liner

Номер патента: US6277706B1. Автор: Hiraku Ishikawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-08-21.

Method of making a highly absorptive dye-containing underlayer for laser recording and data storage

Номер патента: US4383024A. Автор: Eric W. Bouldin. Владелец: Drexler Technology Corp. Дата публикации: 1983-05-10.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US7981790B2. Автор: Teruhiko Kumada,Naoki Yasuda,Masazumi Matsuura,Kinya Goto,Hideharu Nobutoki. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2011-07-19.

Synthesis method for a ybco superconducting material

Номер патента: US20240224818A1. Автор: Yassine SLIMANI,Munirah Abdullah ALMESSIERE,Faten Ben Azzouz. Владелец: Imam Abdulrahman Bin Faisal University. Дата публикации: 2024-07-04.

Solid state imaging device and method of fabricating the same

Номер патента: US20050181528A1. Автор: Hiroaki Takao. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-08-18.

Light field synthesis method and light field synthesis system

Номер патента: US20220377301A1. Автор: Hong-Ming Chen,Kuang-Tsu Shih,Chang-Le Liu. Владелец: National Taiwan University NTU. Дата публикации: 2022-11-24.

Low contact resistance semiconductor structure and method of fabricating the same

Номер патента: US20120241752A1. Автор: Fu-Bang CHEN,Te-Chung Wang,Hsiu-Mu Tang. Владелец: Lextar Electronics Corp. Дата публикации: 2012-09-27.

Solid state imaging device and method of fabricating the same

Номер патента: US7265432B2. Автор: Hiroaki Takao. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-09-04.

Light field synthesis method and light field synthesis system

Номер патента: US12058299B2. Автор: Hong-Ming Chen,Kuang-Tsu Shih,Chang-Le Liu. Владелец: National Taiwan University NTU. Дата публикации: 2024-08-06.

Fabrication method of semiconductor device with capacitor

Номер патента: US20030100156A1. Автор: Kiyoshi Mori. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-05-29.

Magnetic recording medium and method of fabricating the same

Номер патента: US20050048322A1. Автор: Hitoshi Wako. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-03-03.

Method of forming a passivation layer of a semiconductor device

Номер патента: US20070161254A1. Автор: Tae Young Lee. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-12.

Method of manufacturing flash memory

Номер патента: US20020072175A1. Автор: Cheng-Chen Hsueh,Kent Chang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-06-13.

In-situ p-type activation of iii-nitride films grown via metal organic chemical vapor deposition

Номер патента: US20210151329A1. Автор: Manijeh Razeghi. Владелец: Northwestern University. Дата публикации: 2021-05-20.

Growth of carbon nanotube (cnt) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (cvd) process

Номер патента: US20170077370A1. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-03-16.

Fabrication method of semiconductor device with capacitor

Номер патента: US6624020B2. Автор: Kiyoshi Mori. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-09-23.

Growth of carbon nanotube (CNT) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (CVD) process

Номер патента: US09825210B2. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-11-21.

Method of decreasing fin bending

Номер патента: US09552978B1. Автор: Chien-Ting Lin,Jyh-Shyang Jenq,Shih-Hung Tsai,Li-Wei Feng,Tong-Jyun Huang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Growth of carbon nanotube (CNT) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (CVD) process

Номер патента: US09544998B1. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-01-10.

Speech synthesis device, speech synthesis method, and speech synthesis program

Номер патента: US09520125B2. Автор: Masanori Kato,Yasuyuki Mitsui,Reishi Kondo. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Method of making composite substrate from sic

Номер патента: RU2721306C2. Автор: Содзи АКИЯМА,Йосихиро КУБОТА,Хироюки НАГАСАВА. Владелец: Кусик Инк.. Дата публикации: 2020-05-18.

Air gap based low dielectric constant interconnect structure and method of making same

Номер патента: US6057226A. Автор: Lawrence D. Wong. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2000-05-02.

Method of producing LED lens array

Номер патента: US5301063A. Автор: Ryoichi Tohmon. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1994-04-05.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US6137176A. Автор: Michio Asahina,Yukio Morozumi,Eiji Suzuki,Kazuki Matsumoto,Naohiro Moriya. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2000-10-24.

METHOD OF REDUCING EROSION OF A METAL CAP LAYER DURING VIA PATTERNING IN SEMICONDUCTOR DEVICES

Номер патента: US20120003832A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Field emission electrode, method of manufacturing the same, and field emission device comprising the same

Номер патента: US20120003895A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

A kind of one-step synthesis method method of degradable branched polyester

Номер патента: CN103421167B. Автор: 张广照,黄文艳,杨宏军,蒋必彪,钱小磊. Владелец: CHANGZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2016-02-24.

Method of measuring stresses in disk junctions of glass with metal by the polarization-optical method

Номер патента: SU121578A1. Автор: В.Л. Инденбом. Владелец: В.Л. Инденбом. Дата публикации: 1958-11-30.

MEMORY CELL THAT EMPLOYS A SELECTIVELY FABRICATED CARBON NANO-TUBE REVERSIBLE RESISTANCE-SWITCHING ELEMENT AND METHODS OF FORMING THE SAME

Номер патента: US20120001150A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003805A1. Автор: Lee Tae-Jung,PARK MYOUNG-KYU,Bang Kee-In. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELLS USING EPITAXIAL DEPOSITION

Номер патента: US20120000511A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003829A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CANCER BIOMARKERS AND METHODS OF USE THEREOF

Номер патента: US20120003639A1. Автор: KERLIKOWSKE KARLA,TLSTY THEA D.,GAUTHIER MONA L.,BERMAN HAL K.,BREMER TROY,MOLINARO ANNETTE M.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE AND METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001247A1. Автор: Alsmeier Johann. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE & METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001249A1. Автор: Alsmeier Johann,Samachisa George. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE AND METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001250A1. Автор: Alsmeier Johann. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ETCHANTS AND METHODS OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICES USING THE SAME

Номер патента: US20120001264A1. Автор: YANG Jun-Kyu,Kim Hong-Suk,Hwang Ki-Hyun,Ahn Jae-Young,Lim Hun-Hyeong,KIM Jin-Gyun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DISPLAY SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND DISPLAY PANEL HAVING THE SAME

Номер патента: US20120003796A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF FORMING NANOSCALE FLOATING GATE

Номер патента: US20120001248A1. Автор: Sandhu Gurtej S.,Ramaswamy D.V. Nirmal. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

GATE STRUCTURES AND METHOD OF FABRICATING SAME

Номер патента: US20120001266A1. Автор: . Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF ARC DETECTION AND SUPPRESSION DURING RF SPUTTERING OF A THIN FILM ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120000765A1. Автор: Halloran Sean Timothy. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Antireflective Coatings for Via Fill and Photolithography Applications and Methods of Preparation Thereof

Номер патента: US20120001135A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Ammonium Fluoroalkanesulfonates and a Synthesis Method Therefor

Номер патента: US20120004447A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE WHICH A PLURALITY OF TYPES OF TRANSISTORS ARE MOUNTED

Номер патента: US20120001265A1. Автор: . Владелец: FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTOVOLTAIC MODULE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120000506A1. Автор: Kim Dong-Jin,KANG Ku-Hyun,NAM Yuk-Hyun,Lee Jung-Eun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD OF ENERGY STORAGE DEVICE

Номер патента: US20120003383A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF PRODUCING ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE

Номер патента: US20120003764A1. Автор: Koike Atsushi,Kameyama Makoto. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FORMING STRAINED EPITAXIAL CARBON-DOPED SILICON FILMS

Номер патента: US20120003825A1. Автор: Dip Anthony. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

WAFER STACKED PACKAGE WAVING BERTICAL HEAT EMISSION PATH AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001348A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF FORMING THE SAME

Номер патента: US20120003828A1. Автор: Chang Sung-Il,Choe Byeong-In,KANG Changseok. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Package and Method of Forming Similar Structure for Top and Bottom Bonding Pads

Номер патента: US20120001326A1. Автор: . Владелец: STATS CHIPPAC, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MEMORY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THEREOF

Номер патента: US20120001246A1. Автор: . Владелец: Micron Technology Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD OF POWER STORAGE DEVICE

Номер патента: US20120003530A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING AN INTEGRATED CIRCUIT DEVICE

Номер патента: US20120003806A1. Автор: . Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120000518A1. Автор: Tokioka Hidetada,ORITA Tae,YAMARIN Hiroya. Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods of manufacturing semiconductor devices with Si and SiGe epitaxial layers

Номер патента: US20120003799A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE AND FABRICATION SYSTEM OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003761A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods of Forming Nonvolatile Memory Devices Using Nonselective and Selective Etching Techniques to Define Vertically Stacked Word Lines

Номер патента: US20120003831A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING AN ELECTROCHEMICAL DEVICE USING ULTRAFAST PULSED LASER DEPOSITION

Номер патента: US20120003395A1. Автор: CHE Yong,HU Zhendong. Владелец: IMRA AMERICA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003841A1. Автор: . Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

RRAM structure and method of making the same

Номер патента: US20120001141A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

THIN FILM TRANSISTOR AND METHOD OF FABRICATING SAME

Номер патента: US20120001190A1. Автор: Yaneda Takeshi,Aita Tetsuya,Harumoto Yoshiyuki,Inoue Tsuyoshi,OKABE Tohru. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND LAMP

Номер патента: US20120001220A1. Автор: . Владелец: SHOWA DENKO K.K.. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRODE STRUCTURE, METHOD OF FABRICATING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THE ELECTRODE STRUCTURE

Номер патента: US20120001267A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

LONG-ACTING VETERINARY POLYPEPTIDES AND METHODS OF PRODUCING AND ADMINISTERING SAME

Номер патента: US20120004286A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ORGANIC LIGHT-EMITTING DISPLAY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001182A1. Автор: Choi Jong-Hyun,Lee Dae-Woo. Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF DRIVING A LASER DIODE

Номер патента: US20120002690A1. Автор: Watanabe Hideki,Ikeda Masao,Yokoyama Hiroyuki,Miyajima Takao,Oki Tomoyuki,Kono Shunsuke. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF DRIVING A LASER DIODE

Номер патента: US20120002695A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

ARRAY SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING THE ARRAY SUBSTRATE, AND DISPLAY APPARATUS INCLUDING THE ARRAY SUBSTRATE

Номер патента: US20120001191A1. Автор: . Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MAKING A FUEL CELL DEVICE

Номер патента: US20120003570A1. Автор: Devoe Alan,Devoe Lambert. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MAKING A FUEL CELL DEVICE

Номер патента: US20120003571A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VIOLET LASER EXCITABLE DYES AND THEIR METHOD OF USE

Номер патента: US20120004397A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

UZM-7 ALUMINOSILICATE ZEOLITE, METHOD OF PREPARATION AND PROCESSES USING UZM-7

Номер патента: US20120004484A1. Автор: . Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

UZM-45 ALUMINOSILICATE ZEOLITE, METHOD OF PREPARATION AND PROCESSES USING UZM-45

Номер патента: US20120004486A1. Автор: . Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

Drotaverine synthesis method

Номер патента: RU2561489C2. Автор: Вадим Петрович Бахарев. Владелец: Вадим Петрович Бахарев. Дата публикации: 2015-08-27.

METHOD OF FORMING A TERNARY ALLOY CATALYST FOR FUEL CELL

Номер патента: US20120003569A1. Автор: Protsailo Lesia V.,Kawamura Tetsuo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ALIGNMENT METHOD OF SEMICONDUCTOR OPTICAL AMPLIFIER AND LIGHT OUTPUT DEVICE

Номер патента: US20120002696A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL WAVEGUIDE DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF

Номер патента: US20120002931A1. Автор: Watanabe Shinya. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

LIGHT EMITTING DIODE HAVING A THERMAL CONDUCTIVE SUBSTRATE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120003766A1. Автор: . Владелец: Seoul Opto Device Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

STAMPER, METHOD OF MANUFACTURING THE STAMPER, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD USING THE STAMPER

Номер патента: US20120000885A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Method Of Polishing Chalcogenide Alloy

Номер патента: US20120003834A1. Автор: Reddy Kancharla-Arun Kumar,Liu Zhendong,Koo Ja-Ho,Sawant Kaveri. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Synthesis method for sulfentrazone intermediate

Номер патента: CA3227757A1. Автор: Qiang Liu,Zhiqing Li,Yongkang Xie,Haihua Li,Guangli ZHAO,Yanlei Xu. Владелец: Ningxia Rainbow Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-29.

VIRUS LIKE PARTICLE COMPOSITIONS AND METHODS OF USE

Номер патента: US20120003266A1. Автор: . Владелец: The United States of America,as represented by The Secretary, National Institues of Health. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING WAX-CONTAINING POLYMER PARTICLES

Номер патента: US20120003581A1. Автор: Yang Xiqiang,Bennett James R.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SCREENING METHOD OF ANTI-LUNG OR ESOPHAGEAL CANCER COMPOUNDS

Номер патента: US20120004172A1. Автор: Nakamura Yusuke,Tsunoda Takuya,Daigo Yataro. Владелец: Oncotherapy Science, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

LIGHT EMITTING MODULE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001544A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ANTI-COBRA TOXIN ANTIBODY FRAGMENTS AND METHOD OF PRODUCING A VHH LIBRARY

Номер патента: US20120003245A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FORMING FINE PATTERNS USING A BLOCK COPOLYMER

Номер патента: US20120003587A1. Автор: . Владелец: Samsung Electronics Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF PRODUCING C4 DICARBOXYLIC ACIDS

Номер патента: US20120003708A1. Автор: . Владелец: ARCHER DANIELS MIDLAND COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

NUCLEOTIDE SEQUENCES ENCODING GSH1 POLYPEPTIDES AND METHODS OF USE

Номер патента: US20120004114A1. Автор: . Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY AND PIONEER HI-BRED INTERNATIONAL. Дата публикации: 2012-01-05.

3,3,3-trifluoropropanal synthesis method

Номер патента: RU2378246C1. Автор: Сергей Михайлович Игумнов. Владелец: Сергей Михайлович Игумнов. Дата публикации: 2010-01-10.

METHOD OF PRODUCING ALKYLBENZENE AND CATALYST USED THEREFOR

Номер патента: US20120000819A1. Автор: MATSUSHITA Koichi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMMUNO-MOLECULES CONTAINING VIRAL PROTEINS, COMPOSITIONS THEREOF AND METHODS OF USING

Номер патента: US20120003249A1. Автор: Reiter Yoram,Lev Avital. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

POROUS CLUSTERS OF SILVER POWDER COMPRISING ZIRCONIUM OXIDE FOR USE IN GAS DIFFUSION ELECTRODES, AND METHODS OF PRODUCTION THEREOF

Номер патента: US20120003549A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Butyl rubber synthesis method

Номер патента: RU2394844C1. Автор: Владимир Михайлович Бусыгин,Равиль Тагирович Шияпов,Наиль Рахматуллович Гильмутдинов,Валерий Павлович Погребцов,Анас Гаптынурович Сахабутдинов,Хамит Хамисович ГИЛЬМАНОВ,Ольга Владимировна Софронова,Олег Николаевич Нестеров,Рафик Хатмуллаевич Хабибуллин,Валерий Гарафович Шамсутдинов,Нариман Турганович Хасанов,Савия Минизакиевна Челнокова,Владимир Михайлович Бусыгин (RU),Наиль Рахматуллович Гильмутдинов (RU),Хамит Хамисович Гильманов (RU),Ольга Владимировна Софронова (RU),Анас Гаптынурович Сахабутдинов (RU),Олег Николаевич Нестеров (RU),Валерий Павлович Погребцов (RU),Валерий Гарафович Шамсутдинов (RU),Рафик Хатмуллаевич Хабибуллин (RU),Нариман Турганович Хасанов (RU),Равиль Тагирович Шияпов (RU),Савия Минизакиевна Челнокова (RU). Владелец: Открытое акционерное общество "Нижнекамскнефтехим". Дата публикации: 2010-07-20.