Microwave plasma processing device, plasma processing method, and microwave radiating member
Номер патента: KR100485235B1
Опубликовано: 27-04-2005
Автор(ы): 고토데츠야, 다다히로 오미, 히라야마마사키
Принадлежит: 다다히로 오미, 동경 엘렉트론 주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-04-2005
Автор(ы): 고토데츠야, 다다히로 오미, 히라야마마사키
Принадлежит: 다다히로 오미, 동경 엘렉트론 주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Plasma processing apparatus and method, and storage medium
Номер патента: US8440050B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Masanobu Honda,Manabu Iwata,Kenji Masuzawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-05-14.