局所露光装置及び局所露光方法
Номер патента: JP5165731B2
Опубликовано: 21-03-2013
Автор(ы): 義治 太田, 茂 森山, 雄宣 松村
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-03-2013
Автор(ы): 義治 太田, 茂 森山, 雄宣 松村
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Exposure apparatus and method of manufacturing device
Номер патента: US20140104590A1. Автор: Kouji Yoshida,Mitsuo Hirata,Tomohiro Harayama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-04-17.