Inner drum exposure apparatus.

Inner drum exposure apparatus

Номер патента: US7215455B2
Опубликовано: 08-05-2007
Автор(ы): Hiroshi Matsuoka
Принадлежит: Fujifilm Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Inner drum exposure apparatus

Номер патента: US20060181754A1. Автор: Hiroshi Matsuoka. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-17.

Inner drum exposure apparatus

Номер патента: US20050285930A1. Автор: Hiroshi Matsuoka,Ichirou Miyagawa. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-12-29.

Device for scanning an inner drum surface and associated scanning method

Номер патента: DE69123937T2. Автор: Masahide Okazaki. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1997-07-31.

Inner drum exposure apparatus

Номер патента: US7202985B2. Автор: Ichirou Miyagawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-04-10.

Projection exposure apparatus with at least one manipulator

Номер патента: US09846367B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-19.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20190137895A1. Автор: Hikaru Sugita,Masato Homma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-05-09.

Exposure apparatus and measurement system

Номер патента: US20240142877A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Projection exposure apparatus for euv microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041720A2. Автор: Aksel GÖHNERMEIER,Heiko Feldmann,Johannes Ruoff,Oliver Natt,Marc Bienert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09977338B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09910359B2. Автор: Markus Deguenther,Frank Schlesener,Thomas Korb,Vladimir Davydenko,Stefanie Hilt,Wolfgang Hoegele. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-06.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09588445B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09535336B2. Автор: Severin Waldis,Florian Bach,Yim-Bun Patrick Kwan,Sascha Bleidistel,Armin Werber,Daniel Benz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-03.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09500954B2. Автор: Markus Deguenther,Frank Schlesener,Thomas Korb,Vladimir Davydenko,Stefanie Hilt,Wolfgang Hoegele. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-22.

Projection exposure apparatus with multiple sets of piezoelectric elements moveable in different directions and related method

Номер патента: US9110388B2. Автор: Sascha Bleidistel,Bernhard Geuppert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-08-18.

Optical assembly, projection exposure apparatus and method

Номер патента: US20220382165A1. Автор: Johannes Lippert,Markus Raab,Andreas Raba. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-12-01.

Optical element and exposure apparatus

Номер патента: US7993008B2. Автор: Hitoshi Ishizawa,Takeshi Shirai,Takao Kokubun,Atsunobu Murakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-08-09.

Optical element and exposure apparatus

Номер патента: US10175584B2. Автор: Hitoshi Ishizawa,Takeshi Shirai,Takao Kokubun,Atsunobu Murakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-01-08.

Exposure apparatus

Номер патента: US20090296063A1. Автор: Hans Opower. Владелец: Kleo Maschinenbau Ag. Дата публикации: 2009-12-03.

Optical system, in particular an illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2008074673A3. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-09-12.

Projection Objective For a Microlithographic Projection Exposure Apparatus

Номер патента: US20080123069A1. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-05-29.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: US11841614B2. Автор: Kanji Suzuki,Manabu Hakko. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Exposure apparatus and wiring pattern forming method

Номер патента: US20240118622A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mezuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4168857A1. Автор: Toralf Gruner,Daniel Golde,Kerstin Hild,Vitaliy Shklover,Hans Michael Stiepan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-04-26.

Exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20200301287A1. Автор: Michio Kono. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-09-24.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US11747737B2. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: EP3964894A3. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-07-27.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US20220066326A1. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-03-03.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: EP3964894A2. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-03-09.

Laser exposure apparatus

Номер патента: US6700642B2. Автор: Masaki Mori,Hiroyuki Nakagawa. Владелец: Toray Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2004-03-02.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: US12105430B2. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09767068B2. Автор: Christian Kempter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-19.

Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure apparatus for euv microlithography

Номер патента: WO2010037453A1. Автор: Martin Endres,Adrian Staicu. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-04-08.

Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure apparatus for euv microlithography

Номер патента: WO2010037453A8. Автор: Martin Endres,Adrian Staicu. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-09-16.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: US11835863B2. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: EP4109179A2. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-12-28.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: US20240077806A1. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for semiconductor device

Номер патента: US20230101647A1. Автор: Kazuhiro Takahashi,Rika Hoshino. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-03-30.

Projection exposure apparatus and method for designing a component of a projection exposure apparatus

Номер патента: US20240085800A1. Автор: Markus Raab,Matthias Manger,Dieter Bader,Thilo Pollak,Stefan BAUEREGGER,Alexander Ostendorf,Bastian Keller,Joerg Tschischgale,Dietmar Duerr,Irina Schrezenmeier,Andreas Beljakov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-14.

Pattern exposure apparatus, device manufacturing method, and exposure apparatus

Номер патента: US20240248409A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno,Toshiharu Nakashima,Satoshi KAWADO. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Pattern exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20240255855A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno,Toshiharu Nakashima,Keisuke Hasegawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09841682B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Sascha Bleidistel,Juergen Fischer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-12.

Method for operating a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09665010B2. Автор: Markus Deguenther. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09568837B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Sascha Bleidistel,Juergen Fischer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-14.

Image exposure apparatus

Номер патента: WO2006129864A1. Автор: Katsuto Sumi,Shuichi Ishii. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2006-12-07.

Facet mirror for a projection exposure apparatus

Номер патента: US09823577B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-21.

Arrangement for the thermal actuation of a mirror, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09798254B2. Автор: Markus Hauf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-24.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09671699B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-06.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09523923B2. Автор: Markus Deguenther. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-20.

Arrangement for thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09500957B2. Автор: Joachim Hartjes. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-22.

Method for adjusting an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013135500A1. Автор: Ingo Saenger,Bastian Trauter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Exposure apparatus and inspection method

Номер патента: US20240110844A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Exposure apparatus, exposure method, and flat panel display manufacturing method

Номер патента: US20240103379A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Method for assigning a pupil facet of a pupil facet mirror of an illumination optical unit of a projection exposure apparatus to a field facet of a field facet mirror of the illumination optical unit

Номер патента: US9791785B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-17.

Illumination optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013135532A1. Автор: Ingo Sänger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Shutter pixel, shutter structure including the shutter pixel, and exposure apparatus including the shutter structure

Номер патента: US8233141B2. Автор: Won-Ki Hong,Guk Hyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-07-31.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20240012334A1. Автор: Markus Raab,Matthias Manger,Andreas Raba,Mirko Buechsenschuetz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-11.

Facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus

Номер патента: US20220206398A1. Автор: Willi Anderl,Hubert Holderer,Markus Holz,Stefan Seitz,Christian Körner,Manuel Stompe. Владелец: Bertrandt Ingenieurbuero GmbH. Дата публикации: 2022-06-30.

Mirror element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180101002A1. Автор: Martin Hermann,Hartmut Enkisch,Christoph Nottbohm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-12.

Mirror element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20170176741A1. Автор: Martin Hermann,Hartmut Enkisch,Christoph Nottbohm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-22.

Facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus

Номер патента: US11789367B2. Автор: Willi Anderl,Hubert Holderer,Markus Holz,Stefan Seitz,Christian Körner,Manuel Stompe. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-10-17.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for electronic device

Номер патента: US20240111215A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Spatial light modulation unit and exposure apparatus

Номер патента: US20240126176A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Masaki Nishimura,Yasushi Mizuno,Yasuhito Kubota. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-18.

Exposure apparatus, control method, and device manufacturing method

Номер патента: US20240126178A1. Автор: Masaki Kato,Yoshihiko Fujimura,Yasushi Mizuno,Toshiharu Nakashima. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-18.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, and method of processing a mirror

Номер патента: WO2024074306A1. Автор: Eric Eva,Matthias KAES. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-04-11.

System and projection exposure apparatus

Номер патента: US20230408934A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-21.

Optical axis adjustment device and exposure apparatus using the same

Номер патента: US20060072092A1. Автор: Takeshi Kawakami,Tsuyoshi Yamauchi,Toshihide Ito,Yoshinori Tabata,Tsuyoshi Kashiwagi. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2006-04-06.

Optical axis adjustment device and exposure apparatus using the same

Номер патента: US20080297750A1. Автор: Takeshi Kawakami,Tsuyoshi Yamauchi,Toshihide Ito,Yoshinori Tabata,Tsuyoshi Kashiwagi. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2008-12-04.

Exposure apparatus, adjustment method therefor, and image forming apparatus

Номер патента: US20120327169A1. Автор: Hiroki Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-12-27.

Calcium flouride crystal, optical article and exposure apparatus for photo-lithography using the same

Номер патента: US20010008540A1. Автор: Toshio Ichizaki,Tomoru Oba. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-19.

Apparatus and method for avoiding a degradation of an optical used surface of a mirror module, projection system, illumination system and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240319621A1. Автор: Moritz Becker,Julian Kaller,Arnoldus Jan Storm. Владелец: NEDERLANDSE ORGANISATIE VOORTOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO. Дата публикации: 2024-09-26.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20210080841A1. Автор: Stefan Xalter,Bernhard Gellrich,Jens Kugler,Stefan Hembacher,Mark Feygin. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-03-18.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: WO2021052940A1. Автор: Stefan Xalter,Bernhard Gellrich,Jens Kugler,Stefan Hembacher,Mark Feygin. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-03-25.

Mirror arrangement for an EUV projection exposure apparatus, method for operating the same, and EUV projection exposure apparatus

Номер патента: US09709770B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Hendrik Wagner,Walter Pauls,Rumen ILIEW,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-18.

Chromatically corrected imaging illumination optical unit for use in a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024156598A1. Автор: Alexander Epple,Stig Bieling,Markus Schwab,Henning Mehnert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-02.

Euv illumination device and method for operating a microlithographic projection exposure apparatus designed for operation in the euv

Номер патента: EP4405751A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-31.

Euv illumination device and method for operating a microlithographic projection exposure apparatus designed for operation in the euv

Номер патента: US20240248410A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-25.

Attenuation filter for projection lens, projection lens having attenuation filter for projection exposure apparatus, and projection exposure apparatus having projection lens

Номер патента: US20190064676A1. Автор: Toralf Gruner,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-28.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09720329B2. Автор: Stephan Muellender,Hans-Juergen Mann,Rolf Freimann,Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Mirror of a projection exposure apparatus for microlithography with mirror surfaces on different mirror sides, and projection exposure apparatus

Номер патента: US09606339B2. Автор: Wolfgang Singer,Ralf Mueller,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-28.

Imaging optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: US09459539B2. Автор: Hans-Juergen Mann,Susanne Beder,Christoph Menke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-04.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2021078421A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-04-29.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4049088A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-08-31.

Mirror for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3117257A1. Автор: Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-18.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: EP4388371A1. Автор: Boaz Pnini. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-26.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2020254147A1. Автор: Toralf Gruner,Hans Michael Stiepan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-12-24.

Optical device and exposure apparatus

Номер патента: US20090323175A1. Автор: Atsushi Mukai,Shinichiro Sonoda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-12-31.

Optical element, projection optical unit and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240176249A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Matthias Fetzer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-30.

Exposure apparatus, mask, and optical film

Номер патента: US9760013B2. Автор: Kazuhiro Ura,Tatsuya Sato,Kenichi Watabe,Yuichi Kakubari,Yasuaki UMEZAWA. Владелец: Arisawa Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2017102599A1. Автор: Ulrich SCHÖNHOFF. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-22.

Scanning exposure apparatus using microlens arrays

Номер патента: US20130135602A1. Автор: Michinobu Mizumura. Владелец: V Technology Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-30.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024133262A1. Автор: Christian Werner,Tobias Hegele,Dietmar Duerr,Johannes Kruis,Sebastian Henseler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-27.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP2126636A2. Автор: Manfred Maul,Nils Dieckmann,Oliver Natt,Christian Hettich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-12-02.

Exposure apparatus, mask, and optical film

Номер патента: US20150227057A1. Автор: Kazuhiro Ura,Tatsuya Sato,Kenichi Watabe,Yuichi Kakubari,Yasuaki UMEZAWA. Владелец: Arisawa Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-13.

Filter, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: EP1744218A3. Автор: Mitsuaki Amemiya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-08-19.

Optical assembly, optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024179896A1. Автор: Roman Orlik. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-09-06.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: EP4372469A3. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US12117731B2. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-10-15.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: US12105428B2. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Assembly, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US12105434B2. Автор: Stefan Troeger,Thomas Gorius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-10-01.

Projection exposure method and projection exposure apparatus

Номер патента: US09933710B2. Автор: Toralf Gruner,Johannes Ruoff,Stephan André,Daniel Golde. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-03.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09933706B2. Автор: Damian Fiolka,Markus Deguenther,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-03.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09817317B2. Автор: Frank Schlesener,Ingo Saenger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09810993B2. Автор: Peter Huber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-07.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09720327B2. Автор: Manfred Maul. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Optical element with an antireflection coating, projection objective, and exposure apparatus comprising such an element

Номер патента: US09684252B2. Автор: Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-20.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09575414B2. Автор: Johannes Wangler,Markus Deguenther,Manfred Maul,Axel Scholz,Michael Layh,Ralf Scharnweber,Heiko Siekmann,Reinhard Voelkel,Kenneth Weible,Uwe Spengler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-21.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09454085B2. Автор: Damian Fiolka,Markus Deguenther,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-09-27.

Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus

Номер патента: US7023527B2. Автор: Masaki Kato,Masashi Tanaka,Kinya Kato,Hiroshi Chiba,Hiroshi Shirasu,Masato Kumazawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-04-04.

Illuminating method and illuminating apparatus for carrying out the same, and projection exposure method and projection exposure apparatus for carrying out the same

Номер патента: US5016149A. Автор: Minoru Tanaka,Yoshitada Oshida,Tetsuzo Tanimoto,Yasuhiro Yoshitake. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1991-05-14.

Spectrum waveform control method, laser apparatus, exposure apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240001486A1. Автор: Takamitsu Komaki,Toshihiro OGA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-01-04.

Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US9140993B2. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-09-22.

Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: EP2927935A3. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-01-27.

Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus

Номер патента: US5729331A. Автор: Masaki Kato,Masashi Tanaka,Kinya Kato,Hiroshi Chiba,Hiroshi Shirasu,Masato Kumazawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-03-17.

Projection exposure apparatus, and method for reducing deformations, resulting from dynamic accelerations, of components of the projection exposure apparatus

Номер патента: US20190219926A1. Автор: Erik Loopstra,Bernhard Geuppert,Jens Kugler,Stefan Hembacher. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-07-18.

Reflective optical element, illumination optical unit, projection exposure apparatus, and method for producing a protective layer

Номер патента: US20230205090A1. Автор: Sandro Hoffmann,Valentin Jonatan Bolsinger,Sandra Haschke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-06-29.

Component for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2023237452A1. Автор: Michael Groiss. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-14.

Projection optical system, method for producing the same, and projection exposure apparatus using the same

Номер патента: AU1891200A. Автор: Hiroyuki Hiraiwa,Issey Tanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-07-24.

Illumination method, illumination apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US5302999A. Автор: Yoshitada Oshida,Yukihiro Shibata,Tsuneo Terasawa,Makoto Murayama,Minori Noguchi,Shigemi Ishii,Tutomu Tawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-04-12.

Projection optical system and projection and light exposure apparatus using it

Номер патента: US20050002007A1. Автор: Ryoko Otomo. Владелец: Fujinon Corp. Дата публикации: 2005-01-06.

Euv collector for an euv projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024002672A1. Автор: Daniel Brown,Yezheng Tao,Haining Wang,Markus Karl,Evan DAVIS,Michael Purvis,Silvi Haendel,Alexander Schafgans. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-04.

Projection exposure apparatus with near-field manipulator

Номер патента: US20170052453A1. Автор: Johannes Lippert,Yim-Bun Patrick Kwan,Jasper Wesselingh,Peter Deufel,Pascal Marsollek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-23.

Control apparatus and control method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method, data generating method and program

Номер патента: US20200257205A1. Автор: Satoshi Yashiki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Illumination apparatus, projection exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US20060164622A1. Автор: Shinichi Hara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-07-27.

Method for heating an optical element in a microlitho-graphic projection exposure apparatus and optical system

Номер патента: US20230350312A1. Автор: Dirk Hellweg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-11-02.

Optical system with improved durability for projection exposure apparatus and method for manufacturing optical system for projection exposure apparatus

Номер патента: US20020135746A1. Автор: Seishi Fujiwara,Hiroki Jinbo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-09-26.

Reflective optical element for the euv wavelength range, method for producing and for correcting such an element, projection lens for microlithography comprising such an element, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection lens

Номер патента: WO2013050199A1. Автор: Markus Weiss,Boris Bittner,Norbert Wabra,Norbert Kerwien,Martin Weiser,Christoph SCHLICHENMAIER,Wilfried Clauss. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-04-11.

Imaging optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014019617A1. Автор: Hans-Jürgen Mann,Christoph Menke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-02-06.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: US10866522B2. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-12-15.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: US11467501B2. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2022-10-11.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP1586946A3. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Olaf Dittmann,Michael Totzeck. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-01-17.

Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices

Номер патента: US7301605B2. Автор: Yasuhiro Omura,Soichi Owa,Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-11-27.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprising a depolarizing element

Номер патента: US9170499B2. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Olaf Dittmann,Markus Schwab,Wolfgang Seitz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-10-27.

Exposure apparatus and method

Номер патента: US20070046921A1. Автор: Kazuhiro Takahashi,Michio Kono,Koji Mikami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-01.

Exposure apparatus and device manufacturing method for projecting light from a secondary light source onto a mask or pattern

Номер патента: US5684567A. Автор: Takahisa Shiozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-11-04.

Method of determining lens materials for a projection exposure apparatus

Номер патента: US20070195423A1. Автор: Toralf Gruner,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov,Rudolf Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-08-23.

Exposure apparatus

Номер патента: US5949844A. Автор: Yutaka Watanabe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-09-07.

Exposure apparatus having blind and method of driving

Номер патента: US9223195B2. Автор: Hong-Suk Yoo,Chang-Hoon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-29.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5365371A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-11-15.

Optical element formed with optical thin film and ultraviolet exposure apparatus

Номер патента: EP1172670A3. Автор: Shunji Nikon Corp. Intell. Prop. Dep. Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-07-16.

Mirror arrangement for lithography exposure apparatus and optical system comprising mirror arrangement

Номер патента: EP3323130A1. Автор: Toralf Gruner,Wouter Bernardus Johannes Hakvoort,Richard Petrus Hogervorst,Petrus Theodorus Rutgers,Kerstin Hild. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-23.

Projection optical system and exposure apparatus using the same

Номер патента: US5835285A. Автор: Misako Kobayashi,Yutaka Suenaga,Kazumasa Endo,Hitoshi Matsuzawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-11-10.

Method of determining lens materials for a projection exposure apparatus

Номер патента: US20060109560A1. Автор: Toralf Gruner,Aurelian Dodoc,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-05-25.

Optical unit for an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20050237623A1. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-10-27.

Assembly, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20230034958A1. Автор: Stefan Troeger,Thomas Gorius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-02-02.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: EP2506061A1. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-10-03.

Bipod, optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024061869A1. Автор: Tobias Hegele,Sonia Anaelle Bissie,Dietmar Duerr. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-28.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20240111223A1. Автор: Klaus Rief. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-04-04.

Mirror for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024012978A1. Автор: Sandro Hoffmann,Valentin Jonatan Bolsinger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20200026195A1. Автор: Johannes Lippert,Toralf Gruner,Kerstin Hild. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-01-23.

Optical Element With An Antireflection Coating, Projection Objective, And Exposure Apparatus Comprising Such An Element

Номер патента: US20120038897A1. Автор: Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-02-16.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4320467A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-14.

Optical element holding system, barrel, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20060082907A1. Автор: Naoki Murasato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-20.

Euv collector for use in an euv projection exposure apparatus

Номер патента: EP3440490A1. Автор: Johannes Zellner,Holger Kierey. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-13.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240019613A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Method for aligning a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20170023865A1. Автор: Rolf Freimann,Jochen Hetzler,Bernd Doerband. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-26.

Euv collector for use in an euv projection exposure apparatus

Номер патента: US20190033723A1. Автор: Johannes Zellner,Holger Kierey. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-01-31.

Mirror, more particularly for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180039001A1. Автор: Anastasia Gonchar. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-02-08.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20220214627A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-07-07.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240184212A1. Автор: Boaz Pnini. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-06.

Optical element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3559749A1. Автор: Holger Kierey,Georgo Metalidis,Florian Herold,Ralf Moser,Wolfgang Merkel,Arno Schmittner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-10-30.

Exposure apparatus and method for exposure of transparent substrate

Номер патента: US20190094696A1. Автор: Lei DING. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240192605A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-13.

Light irradiation device, and exposure apparatus provided therewith

Номер патента: EP4130862A1. Автор: Kenichi Yamashita,Tomohiko Inoue,Tomihiko Ikeda,Hiromu Matsumoto. Владелец: Phoenix Electric Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-08.

Light irradiation device, and exposure apparatus provided therewith

Номер патента: US20230124785A1. Автор: Kenichi Yamashita,Tomohiko Inoue,Tomihiko Ikeda,Hiromu Matsumoto. Владелец: Phoenix Electric Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: EP4372469A2. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-05-22.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024125829A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-20.

Method for aligning a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20190049853A1. Автор: Rolf Freimann,Jochen Hetzler,Bernd Doerband. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-14.

Optical system, microlithographic projection exposure apparatus, method for heating an optical element and method for producing an optical fibre arrangement

Номер патента: WO2023083568A1. Автор: Markus Hauf,Stefan Bleil,Carsten Marzok,Torsten Steinbrueck. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-05-19.

Optical element, projection optical unit and projection exposure apparatus

Номер патента: EP4384874A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Matthias Fetzer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-19.

Image forming apparatus, exposure apparatus and image forming method

Номер патента: US20080232844A1. Автор: Yukihiro Matsushita,Youji Houki,Yoshihiko Taira. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-25.

Method for producing a reflective optical component for an EUV projection exposure apparatus and component of this type

Номер патента: US09541685B2. Автор: Holger Kierey,Heiko Siekmann,Andre Bresan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-10.

Exposure apparatus and exposing method and method of manufacturing a printed wiring board

Номер патента: US7760328B2. Автор: Hiroshi Oyama,Yoshihide Yamaguchi. Владелец: Hitachi Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2010-07-20.

Image forming apparatus and exposure apparatus for forming image using rod lens array

Номер патента: US20230273544A1. Автор: Koichiro Nakanishi,Hirotaka Seki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-08-31.

Exposure apparatus having a PLZT shutter, a multi-colored filter disc and a shielding member to block exposure light

Номер патента: US5719660A. Автор: Masazumi Ishikawa,Tohru Tanibata. Владелец: Noritsu Koki Co Ltd. Дата публикации: 1998-02-17.

Strip exposure apparatus for nucleation medium

Номер патента: US3903359A. Автор: Paul A Sullivan,Jr George G Vitt. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 1975-09-02.

Light source apparatus, optical apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, illuminating method, exposure method, and method for manufacturing optical apparatus

Номер патента: US09703204B2. Автор: Hideki Komatsuda,Yoshio KAWABE. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Deformation apparatus, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US20210382099A1. Автор: Arata Myoga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-12-09.

Deformation apparatus, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US11333692B2. Автор: Arata Myoga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-05-17.

Light source apparatus, optical apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, illuminating method, exposure method, and method for manufacturing optical apparatus

Номер патента: US10831106B2. Автор: Hideki Komatsuda,Yoshio KAWABE. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-11-10.

Light source apparatus, optical apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, illuminating method, exposure method, and method for manufacturing optical apparatus

Номер патента: US11934104B2. Автор: Hideki Komatsuda,Yoshio KAWABE. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-03-19.

Light source apparatus, optical apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, illuminating method, exposure method, and method for manufacturing optical apparatus

Номер патента: EP4328647A2. Автор: Hideki Komatsuda,Yoshio KAWABE. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-02-28.

Light source apparatus, optical apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, illuminating method, exposure method, and method for manufacturing optical apparatus

Номер патента: US20240176248A1. Автор: Hideki Komatsuda,Yoshio KAWABE. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US09791783B2. Автор: Baek-Kyun Jeon,Jae-Weon HUR,Hong-Yeon Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Individual mirror of a pupil facet mirror and pupil facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024052170A1. Автор: Markus Hauf,Martin Endres,Stefan Lippoldt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-14.

Image-wise exposure apparatus

Номер патента: US5912757A. Автор: Takashi Suzuki,Kenji Suzuki,Hiroshi Sunagawa. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1999-06-15.

Light source apparatus, exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US12066759B2. Автор: Hiroyuki Tomita,Hiroshi Fukazawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Exposure apparatus, exposure method, method of manufacturing device, program, and storage medium

Номер патента: US09494876B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Substrate holding apparatus, exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20190369506A1. Автор: Akihiro Takahashi,Noboru Osaka,Shunya Sakata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-05.

Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US09804506B2. Автор: Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US09372410B2. Автор: Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Euv exposure apparatus, and overlay correction method and semiconductor device fabricating method using the same

Номер патента: US20210397079A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Doogyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-12-23.

Euv exposure apparatus, and overlay correction method and semiconductor device fabricating method using the same

Номер патента: US20210333701A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Doogyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-10-28.

Exposure apparatus for manufacturing semiconductors and method for inspecting pellicles

Номер патента: US20070035715A1. Автор: Yong-Hoon Lee,Yo-han Ahn,Ok-sun Lee,Hyung-Seok Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-02-15.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20190033721A1. Автор: Asahiko Nogami. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

Method of forming multiple patterned layers on wafer and exposure apparatus thereof

Номер патента: US20210159071A1. Автор: Kihyung LEE,Byung-In Kwon,Siwon YANG,Soo-Hyoung Kim,Bum-Hwan Jeon. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Exposure apparatus and decontamination apparatus

Номер патента: US20240094646A1. Автор: SHINJI Ueyama,Shinsuke Fujioka,Nozomi Tanaka,Ken Ozawa,Katsunobu Nishihara,Atsushi Sunahara,Yubo Wang,Tomoyuki JOHZAKI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: EP3739390A1. Автор: Masatoshi Shimazaki,Atsushi Shigenobu,Yutoku Yoshioka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-11-18.

Article manufacturing method, film forming method, mold manufacturing method, exposure apparatus, information processing method, and non-transitory computer-readable medium storing a program

Номер патента: US20210035808A1. Автор: Hiroshi Kurosawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-02-04.

Exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display, device manufacturing method, and exposure method

Номер патента: US20200174373A1. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-06-04.

Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09977345B2. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09977337B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Shoji Kojima. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus and method of reducing image placement errors

Номер патента: US09785052B2. Автор: Dirk Hellweg,Joerg Zimmermann,Johannes Ruoff,Jens Timo NEUMANN,Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-10.

Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09594313B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

EUV microlithography projection exposure apparatus with a heat light source

Номер патента: US09588435B2. Автор: Damian Fiolka. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Exposure apparatus including a mask holding device which holds a periphery area of a pattern area of the mask from above

Номер патента: US09575417B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-02-21.

Apparatus and method of controlling chuck, and exposure apparatus and control method thereof

Номер патента: US09507272B2. Автор: Sang Don Jang,Tae Kyu Son,Ja Yul KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-11-29.

Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09500963B2. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Exposure apparatus, method of controlling the same, and alignment method for exposure

Номер патента: US09437818B2. Автор: Seok-Joo Lee,Jin-Hong Jeun,Jung-Hun Yeon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Movable body system, movable body drive method, pattern formation apparatus, pattern formation method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09436102B2. Автор: Yuho Kanaya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09423299B2. Автор: Kazuki Yamamoto,Tadahiro Asaishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-08-23.

Interference exposure apparatus, interference exposure method, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20130017495A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Katsuyoshi Kodera. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-01-17.

Method for controlling radiation emitting from one or more tubular lamps in an exposure apparatus

Номер патента: EP3320548A1. Автор: Joachim Spies. Владелец: Glunz and Jensen AS. Дата публикации: 2018-05-16.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20140104590A1. Автор: Kouji Yoshida,Mitsuo Hirata,Tomohiro Harayama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device production method

Номер патента: EP1544895A3. Автор: Shigeru Moriya. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2007-01-17.

Light exposure apparatus with cooling means

Номер патента: US4535234A. Автор: Takashi Fujimura,Masahiro Nishizawa,Katsuyu Takahashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-08-13.

Exposure method, exposure apparatus and cleaning method

Номер патента: US20130201460A1. Автор: Yasuhisa Tani. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-08-08.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP2198344A1. Автор: Arif Kazi,Sascha Bleidistel,Aurelian Dodoc,Olaf Conradi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-06-23.

Optical article, exposure apparatus or optical system using it, and process for producing it

Номер патента: US20020006713A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Nobuyoshi Tanaka,Kazuyuki Harada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-17.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09983483B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Stig Bieling,Markus Schwab,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-29.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09946169B2. Автор: Masatoshi Endo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09885963B2. Автор: Hideki Matsumoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-06.

Illumination system for an EUV projection lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09851641B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-26.

Carrier method, exposure method, carrier system and exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09835958B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

EUV light source for a lighting device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09823571B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-21.

Exposure apparatus

Номер патента: US09799489B2. Автор: Shinichi Kojima,Hitoshi Tanaka,Akio Yamada,Shinichi Hamaguchi,Atsushi Tokuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Exposure apparatus

Номер патента: US09684245B2. Автор: Akio Yamada,Shinji Sugatani. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Exposure apparatus and method thereof

Номер патента: US09594307B2. Автор: Ki-Beom Lee,Hoon Kang,Hi-Kuk Lee,Jae-Hyuk Chang,Chang-Hoon Kim,Cha-Dong KIM,Woo-Yong Sung,Sang-Hyun Yun,Jung-In Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Exposure apparatus and device manufacturing method using same

Номер патента: US09568836B2. Автор: Atsushi Suzuki,Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus having a temperature control device

Номер патента: US09523922B2. Автор: Severin Waldis,Florian Bach,Armin Werber,Berndt Warm,Daniel Benz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-20.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09507267B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09477157B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Stig Bieling,Markus Schwab,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-25.

Position measurement apparatus, imaging apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20080144047A1. Автор: Nozomu Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-06-19.

Exposure apparatus and method for manufacturing device

Номер патента: EP1571694A4. Автор: Nobutaka Magome,Dai Arai,Hiroaki Takaiwa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-10-15.

Positioning apparatus, drive unit and exposure apparatus incorporating the positioning apparatus

Номер патента: US6259174B1. Автор: KAZUYA Ono. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-07-10.

Polarizing exposure apparatus using a polarizer and method for fabrication of a polarizing mask by using a polarizing exposure apparatus

Номер патента: US5245470A. Автор: Eun S. Keum. Владелец: Goldstar Electron Co Ltd. Дата публикации: 1993-09-14.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170213689A1. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-07-27.

Surface position detection apparatus and method, and exposure apparatus and device manufacturing method using the exposure apparatus

Номер патента: US20060033055A1. Автор: Yuji Kosugi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-02-16.

Charged particle beam lens apparatus, charged particle beam column, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10049854B2. Автор: Shinichi Kojima,Tomohiko Abe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-08-14.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8294876B2. Автор: Shigeru Hirukawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-10-23.

Exposure apparatus and method for producing device

Номер патента: US8780327B2. Автор: Katsushi Nakano,Soichi Owa,Naoyuki Kobayashi,Kenichi Shiraishi,Yasushi Mizuno,Akikazu Tanimoto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-07-15.

Exposure apparatus, exposure method, method for producing the device and optical part

Номер патента: IL176057A. Автор: Shigeru Hirukawa,Hiroyuki Nagasaka,Hitoshi Ishizawa,Hiroaki Takaiwa,Ryuichi Hoshika. Владелец: Ryuichi Hoshika. Дата публикации: 2013-01-31.

Illumination optical system, alignment apparatus, and projection exposure apparatus using the same

Номер патента: US5797674A. Автор: Tadashi Nagayama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-08-25.

Scanning exposure apparatus, scanning exposure method and mask

Номер патента: US20020159041A1. Автор: Makoto Tsuchiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-10-31.

Coating material composition for liquid immersion exposure apparatus, laminate, method for forming laminate, and liquid immersion exposure apparatus

Номер патента: US20120156504A1. Автор: Osamu Yokokoji,Yoko Takebe. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2012-06-21.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US7453550B2. Автор: Soichi Owa,Hiroyuki Nagasaka,Yasugumi Nishii. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-11-18.

Exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US10191388B2. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-01-29.

Exposure apparatus, exposure method and method for producing a device

Номер патента: EP3462241A1. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-04-03.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8456609B2. Автор: Makoto Shibuta. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-06-04.

Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method

Номер патента: US10073359B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-09-11.

Exposure apparatus and measuring device for a projection lens

Номер патента: US8330935B2. Автор: Karl-Heinz Schuster,Toralf Gruner,Ulrich Wegmann,Albrecht Ehrmann,Bernhard Geuppert,Norbert Wabra,Jens Kugler,Ulrich Loering,Joerg Mallmann,Rainer Hoch,Bernhard Kneer,Franz Sorg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-12-11.

Optical system for a microlithographic projection exposure apparatus and microlithographic exposure method

Номер патента: US20110063597A1. Автор: Markus Mengel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-17.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP2275869B1. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-01-15.

Exposure apparatus

Номер патента: US5075718A. Автор: Shigeru Suzuki,Kazuya Tanaka,Manabu Gotoh. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 1991-12-24.

Advanced exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US5691803A. Автор: Jae-Kwan Song,Jeong-Kon Kim,Kyoung-Shin Park,Kyung-sung Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1997-11-25.

Scanning exposure apparatus with surface position detecting system

Номер патента: US6023320A. Автор: Haruna Kawashima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-02-08.

Exposure apparatus having a vibration suppressing feature and method of manufacturing device using the exposure apparatus

Номер патента: US9104121B2. Автор: Keiji Emoto,Tosiya Asano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-08-11.

Exposure apparatus with detecting means insertable into an exposure path

Номер патента: US4617469A. Автор: Hiroshi Sato,Kazuo Takahashi,Masao Kosugi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1986-10-14.

Exposure apparatus

Номер патента: US5877843A. Автор: Naohiko Iwata,Shin-ichi Takagi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1999-03-02.

Extreme ultraviolet exposure apparatus and method, and method of manufacturing semiconductor device by using the exposure method

Номер патента: US10969691B2. Автор: Seung-Yoon Lee,Doo-gyu LEE,Chan-sam Chang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-06.

Film circuit substrate exposure apparatus

Номер патента: US5021821A. Автор: Shigeru Suzuki. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 1991-06-04.

Exposure Apparatus and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20080316450A1. Автор: Yuji Kosugi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-12-25.

Exposure apparatus and device manufacturing method using the same

Номер патента: EP1170634A1. Автор: Mitsuru Inoue,Ryuichi Ebinuma,Kazunori Iwamoto,Eiji Osanai,Hiroaki Takeishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-01-09.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20010026355A1. Автор: Soichi Owa,Takashi Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-10-04.

Exposure apparatus, method for manufacturing device, method for manufacturing flat panel display, and exposure method

Номер патента: US20240027898A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Residual gas analyser, projection exposure apparatus comprising a residual gas analyser and method of residual gas analysis

Номер патента: WO2024017606A1. Автор: Kai Kroll,Thorsten Benter,Hendrik Kersten,Achim SCHOELL,Marco Thinius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-25.

Exposure apparatus, exposure method and storage medium

Номер патента: US10274843B2. Автор: Masaru Tomono,Seiji Nagahara,Gousuke Shiraishi,Nobutaka Fukunaga,Yukie MINEKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-30.

Exposure apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20190265600A1. Автор: Chan Sam CHANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-08-29.

Exposure apparatus, exposure method and storage medium

Номер патента: US20180143540A1. Автор: Masaru Tomono,Seiji Nagahara,Gousuke Shiraishi,Nobutaka Fukunaga,Yukie MINEKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-24.

Exposure apparatus, exposure and developing system, and method of manufacturing a device

Номер патента: US20080137043A1. Автор: Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-06-12.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240210839A1. Автор: Yoshio Mizuta. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: EP4391042A1. Автор: Yoshio Mizuta. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-26.

Immersion exposure apparatus and immersion exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US7872730B2. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-01-18.

Exposure method, exposure apparatus, and method for producing device

Номер патента: US9354525B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

Immersion exposure apparatus and immersion exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US8743341B2. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-06-03.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US9182684B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Yasufumi Nishii. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-11-10.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9001307B2. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-04-07.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9274437B2. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-03-01.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US9513558B2. Автор: Osamu Tanitsu,Hisashi Nishinaga,Mitsunori Toyoda,Masahiro Nakagawa,Yasushi Mizuno,Tsuneyuki Hagiwara,Ikuo Hikima,Naonori Kita,Nozomu Emura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

Projection exposure apparatus and method

Номер патента: US5751403A. Автор: Hideo Mizutani,Tohru Kawaguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-05-12.

Exposure apparatus and method

Номер патента: US5673103A. Автор: SATOSHI Tanaka,Soichi Inoue,Tadahito Fujisawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1997-09-30.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1670043A4. Автор: Osamu Tanitsu,Hisashi Nishinaga,Mitsunori Toyoda,Masahiro Nakagawa,Yasushi Mizuno,Tsuneyuki Hagiwara,Ikuo Hikima,Naonori Kita,Nozomu Emura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-07-30.

Laser unit, exposure apparatus for micro-lithiographie and associated method

Номер патента: EP1548501A2. Автор: Kazuhiro Takahashi,Takashi Sukegawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-06-29.

Electron beam exposure apparatus and electron beam exposure method

Номер патента: GB2379082A. Автор: Hitoshi Tanaka. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2003-02-26.

Exposure Apparatus, Exposure Method, Device Manufacturing Method, and System

Номер патента: US20070273852A1. Автор: Masayoshi Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-11-29.

Alignment and exposure apparatus

Номер патента: US5231471A. Автор: Makoto Torigoe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1993-07-27.

Drive method of moving body, stage unit, and exposure apparatus

Номер патента: US7852034B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-12-14.

Maskless exposure apparatus and maskless exposure method

Номер патента: KR20120038800A. Автор: 신영훈,김건수,박명주. Владелец: 엘지전자 주식회사. Дата публикации: 2012-04-24.

Scanning exposure apparatus and method including controlling irradiation timing of an irradiation beam with respect to relative movement between the beam and a substrate

Номер патента: US5567928A. Автор: Naoto Sano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1996-10-22.

Exposure apparatus and an exposure method

Номер патента: US7256869B2. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-08-14.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090305176A1. Автор: Tadashi Hattori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-10.

Scanning exposure apparatus having a modulation signal adjusting unit

Номер патента: US5134512A. Автор: Shuhei Hiwada. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 1992-07-28.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20170358426A1. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-12-14.

Exposure apparatus

Номер патента: US20240103372A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Exposure apparatus and device manufacturing method using same

Номер патента: US20130229640A1. Автор: Atsushi Suzuki,Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-09-05.

Exposure apparatus and device manufacturing method using same

Номер патента: US20150346607A1. Автор: Atsushi Suzuki,Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-12-03.

Exposure apparatus and device manufacturing method using same

Номер патента: US9134619B2. Автор: Atsushi Suzuki,Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-09-15.

Pellicle for photomask, reticle including the same, and exposure apparatus for lithography

Номер патента: US20200117078A1. Автор: Hyeonjin Shin,Seongjun Park,Keunwook SHIN,Changseok Lee,Hyunjae SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-04-16.

Projection exposure apparatus

Номер патента: WO2012028569A9. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Oliver Dier,Stefan-Wolfgang Schmidt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-06-07.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20120320360A1. Автор: Shinichi Hirano,Kohei Yamada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-12-20.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US11841624B2. Автор: Masato Homma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20140218712A1. Автор: Toshiki Iwai,Ryo Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-08-07.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20120008122A1. Автор: Toshiki Iwai,Ryo Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-01-12.

Exposure apparatus

Номер патента: US20160062249A1. Автор: Akio Yamada,Shinji Sugatani. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

E-Beam Exposure Apparatus

Номер патента: US20090166552A1. Автор: Dong Sik Jang. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2009-07-02.

Multicolumn charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170323760A1. Автор: Shinichi Kojima,Akio Yamada,Takamasa Sato,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-09.

Stage assembly for exposure apparatus

Номер патента: SG165141A1. Автор: Alex Ka Tim Poon,Douglas Watson. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-10-28.

Wafer edge exposure apparatus, wafer edge exposure method and photolithography device

Номер патента: US11822261B2. Автор: Xueyu LIANG. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and device

Номер патента: EP4325294A1. Автор: Yoji Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-02-21.

Exposure apparatus

Номер патента: US20100245789A1. Автор: Yuichi Iwasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-09-30.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US9734988B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Exposure apparatus and wiring pattern forming method

Номер патента: US20230400773A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20210366702A1. Автор: Kohei Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-25.

Stage device, exposure apparatus incorporating the stage device, and method of using the same

Номер патента: US20010027595A1. Автор: Kazuaki Saiki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-10-11.

Method for manufacturing semiconductor integrated circuit, method for manufacturing semiconductor device, and exposure apparatus

Номер патента: US20240152053A1. Автор: Soichi Owa,Yuho Kanaya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Work stage and exposure apparatus

Номер патента: US20230253234A1. Автор: Yohei NAWAKI,Shunta Sugisaki. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-08-10.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20210405546A1. Автор: Masato Homma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-12-30.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: EP3933508A1. Автор: Masato Homma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-01-05.

Linear motor and exposure apparatus using the same

Номер патента: EP1215805A3. Автор: Keiji Emoto,Yoshikazu Miyajima,Kazuhito Outuka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-03-17.

Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and device

Номер патента: US20240184214A1. Автор: Yoji Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20200371443A1. Автор: Akio Akamatsu,Akihito Hashimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-11-26.

Liquid immersion member and immersion exposure apparatus

Номер патента: EP2593836A1. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-05-22.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20190302630A1. Автор: Yutaka Matsuda,Kimitoshi Tamaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-10-03.

Exposure apparatus

Номер патента: US20010017691A1. Автор: Masaru Nikaido,Tetsuya Tadokoro,Tomoaki Ishino. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-30.

Projection exposure apparatus for microlithography comprising an optical distance measurement system

Номер патента: US09759550B2. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-12.

Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method

Номер патента: EP2801864A2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-11-12.

Projection exposure apparatus for microlithography comprising an optical distance measurement system

Номер патента: WO2014012641A2. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-01-23.

Optical apparatus, projection optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US20150177481A1. Автор: Choshoku Sai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-06-25.

Optical apparatus, projection optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US09678444B2. Автор: Katsumi Asada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Optical apparatus, projection optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US09568729B2. Автор: Choshoku Sai,Kohei Imoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Pulsed light generation device, pulsed light generation method, exposure apparatus having pulsed light generation device and inspection apparatus having pulsed light generation device

Номер патента: US20200153193A1. Автор: Akira Tokuhisa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-05-14.

Spatial light modulation element module, photolithographing apparatus, exposure apparatus, method of manufacturing spatial light modulation element module and method of manufacturing device

Номер патента: US09927712B2. Автор: Junji Suzuki,Yoshihiko Suzuki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Spatial light modulator, photolithographing apparatus, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US09910268B2. Автор: Junji Suzuki,Yoshihiko Suzuki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Exposure apparatus for irradiating a sensitized substrate

Номер патента: US20030206337A1. Автор: David Kessler,Rongguang Liang. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2003-11-06.

Abnormality detection apparatus, abnormality detection method, storage medium, shutter apparatus, exposure apparatus, and method for manufacturing article

Номер патента: US20230072488A1. Автор: Shunsuke Miyazaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-03-09.

Optical apparatus, exposure apparatus, method of manufacturing optical apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US20190332016A1. Автор: Takeshi Nakajima,Mitsuru Seki,Masato Hagiri,Satoshi Tomura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-10-31.

Illumination apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US20020067550A1. Автор: Satoru Mizouchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-06.

Light source apparatus, illumination device, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09772560B2. Автор: Haruna Kawashima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Attenuation filter for projection lens, projection lens having attenuation filter for projection exposure apparatus, and projection exposure apparatus having projection lens

Номер патента: EP3440512B1. Автор: Toralf Gruner,Ricarda Schömer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-04-29.

Multilayer-film reflective mirror and euv optical exposure apparatus comprising same

Номер патента: EP2153253A1. Автор: Katsuhiko Murakami,Takaharu Komiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-02-17.

Multilayer-film reflective mirror and euv optical exposure apparatus comprising same

Номер патента: EP2153254A1. Автор: Katsuhiko Murakami,Takaharu Komiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-02-17.

Optical element holding apparatus and exposure apparatus

Номер патента: TW200827803A. Автор: Kenichi Kobayashi,Kenji Yoshida,Ichiro Onuki,Jun Ota. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2008-07-01.

Wavelength shift measuring apparatus, optical source apparatus, interference measuring apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: EP2180301A3. Автор: Ko Ishizuka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-08-22.

Method for determining a beamlet position and method for determining a distance between two beamlets in a multi-beamlet exposure apparatus

Номер патента: US09653259B2. Автор: Paul IJmert SCHEFFERS. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-05-16.

Charged particle beam exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09824860B2. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Method for determining a beamlet position and method for determining a distance between two beamlets in a multi-beamlet exposure apparatus

Номер патента: WO2013171177A9. Автор: Paul IJmert SCHEFFERS. Владелец: MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.. Дата публикации: 2014-01-30.

Electron beam exposure apparatus, electron lens, and device manufacturing method

Номер патента: US20020047096A1. Автор: Susumu Goto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Control apparatus and method for controlling a manipulator in respect of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20200225587A1. Автор: Christian Wald,Bjoern Butscher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-07-16.

Alignment system and alignment method in exposure apparatus

Номер патента: US20020024644A1. Автор: Hideki Ina,Seiji Miyata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

Exposure apparatus, photolithographical reticles and exposure methods thereof

Номер патента: US20150205215A1. Автор: Yang Liu,Qiang Wu,Chang Liu,Huayong Hu,Jing'an HAO. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2015-07-23.

Projection exposure apparatus and method for controlling a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013185919A1. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-12-19.

Exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09915882B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Blocking element for protecting optical elements in projection exposure apparatuses

Номер патента: US09684243B2. Автор: Joachim Hartjes,Guenther Dengel,Bernhard Sitek,Maik-René Piatkowski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-20.

Exposure apparatus, photolithographical reticles and exposure methods thereof

Номер патента: US09606451B2. Автор: Yang Liu,Qiang Wu,Chang Liu,Huayong Hu,Jing'an HAO. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Method for maintaining a projection exposure apparatus, service module and arrangement for semiconductor lithography

Номер патента: EP4154063A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Dirk Ehm,Benjahman Julius Modeste. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-03-29.

Exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09857700B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Measuring an optical symmetry property on a projection exposure apparatus

Номер патента: US09703205B2. Автор: Frank Schlesener,Jens Timo NEUMANN. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-11.

Exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09507265B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Exposure apparatus and method for cleaning the same

Номер патента: US20160357117A1. Автор: Jinhong Park,Sungjoo Kim,Yun Kyeong Jang,Dohyun Seo,HyunHoon LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-08.

Exposure apparatus, exposure method, and exposure mask

Номер патента: EP1782456A4. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-07-30.

Exposure apparatus

Номер патента: WO2008072641A9. Автор: Masami Yonekawa. Владелец: Masami Yonekawa. Дата публикации: 2009-06-25.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090040499A1. Автор: Fumitake Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Projection exposure apparatus comprising a manipulator system

Номер патента: WO2024088904A1. Автор: Sebastian Fuchs,Uwe Schellhorn,Ferdinand DJURIC-RISSNER,Malte Langenhorst,Martin Leuermann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-02.

Edge exposure apparatus, method of making and using the same

Номер патента: WO2024006225A2. Автор: Merritt CONNER. Владелец: Conner Merritt. Дата публикации: 2024-01-04.

Management system and management method of semiconductor exposure apparatuses

Номер патента: US6801825B2. Автор: Norihiko Utsunomiya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-05.

Holographic exposure apparatuses

Номер патента: US20100208226A1. Автор: Sung Jin Lee,Sang Wook Park,Oui Serg Kim,In Bae Jang,Sang Joon Hong,Sung Hwi Cho,Kyen Hee Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-19.

Module for a projection exposure apparatus, method, and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024153656A1. Автор: Matthias Manger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-25.

Support plate, exposure apparatus having the support plate, and a device manufacturing method using the exposure apparatus

Номер патента: US8045138B2. Автор: Makoto Ogusu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-10-25.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20180299787A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-10-18.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20100196831A1. Автор: Osamu Tsunoda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-08-05.

Method for maintaining a projection exposure apparatus, service module and arrangement for semiconductor lithography

Номер патента: US20230072843A1. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Jens Kugler,Marwene Nefzi,Benjahman Julius Modeste. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-03-09.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US09915871B2. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-13.

Projection exposure apparatus comprising a manipulator, and method for controlling a projection exposure apparatus

Номер патента: US09760019B2. Автор: Boris Bittner,Holger Walter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-12.

Microlithography projection exposure apparatus having at least two operating states

Номер патента: US09529276B2. Автор: Winfried Kaiser,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-27.

Exposure apparatus and a method for exposing a photosensitive element and a method for preparing a printing form from the photosensitive element

Номер патента: US09529263B2. Автор: Rolf Schwan,Helmut Luetke,Volker Struewe. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2016-12-27.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09500955B2. Автор: CAN Wang,Jianwei Yu. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20190146359A1. Автор: Takanori Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-05-16.

Semiconductor exposure method and method of controlling semiconductor exposure apparatus

Номер патента: US20070182948A1. Автор: Benjamin Szu-Min Lin,Sho-Shen Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-08-09.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device fabricated with the exposure method

Номер патента: US6717652B2. Автор: Toshifumi Suganaga. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2004-04-06.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: EP3745206A1. Автор: Ryo Koizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-12-02.

Exposure apparatus

Номер патента: US20080133042A1. Автор: Yuichiro Samejima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-06-05.

Exposure apparatus

Номер патента: EP1901336B1. Автор: Masayuki Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-01-11.

Maskless exposure apparatus and method

Номер патента: US9052599B2. Автор: Sung Min Ahn,Sang Don Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2015-06-09.

Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090147231A1. Автор: Takashi Sukegawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-06-11.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20060279717A1. Автор: Tomohiko Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-14.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device fabricated with the exposure method

Номер патента: US20020072000A1. Автор: Toshifumi Suganaga. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2002-06-13.

Exposure apparatus, exposure method, and blind for exposure apparatus

Номер патента: US8842258B2. Автор: Hong-Suk Yoo,Chang-Hoon Kim,Bo-Kyoung Ahn. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-23.

Exposure apparatus, exposure method, and blind for exposure apparatus

Номер патента: US20120088196A1. Автор: Hong-Suk Yoo,Chang-Hoon Kim,Bo-Kyoung Ahn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-04-12.

Exposure apparatus

Номер патента: EP1930777A3. Автор: Shinichi Egashira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-08-01.

X-ray exposure apparatus and method, semiconductor manufacturing apparatus, and microstructure

Номер патента: US20020048341A1. Автор: Shunichi Uzawa,Yutaka Watanabe,Toyoki Kitayama,Kenji Itoga. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20080218708A1. Автор: Atsushi Kawahara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-09-11.

Exposure apparatus

Номер патента: EP4443242A1. Автор: Yi Lu,Keqiang Li,Xiaosong Liu,Zhiyang Wu. Владелец: Contemporary Amperex Technology Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: EP4455793A2. Автор: Junichi Motojima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: US20240361707A1. Автор: Junichi Motojima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Exposure apparatus and prevention method and system for image offset thereof

Номер патента: US10359709B2. Автор: Chun-Bin Wen. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-23.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09915878B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09857701B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US09811004B2. Автор: Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09753378B2. Автор: Junichi Chonan. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Exposure apparatus, stage apparatus, and device fabrication method for transferring a pattern of a reticle onto a substrate

Номер патента: US09632432B2. Автор: Takashi Hayakawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Exposure apparatus with irradiation device for irradiating optical element with pulsed light having infrared wavelength, and corresponding exposure method

Номер патента: US09568835B2. Автор: Takahiro Nakayama,Akira Miyake. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09535339B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Projection exposure apparatus for microlithography for the production of semiconductor components

Номер патента: US09513562B2. Автор: Armin Schoeppach,Juergen Huber,Juergen Fischer,Norbert Muehlberger,Armin Werber,Matthias Orth,Thorsten Rassel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-06.

Exposure apparatus, exposing method, device manufacturing method, program, and recording medium

Номер патента: US09494870B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US09454087B2. Автор: Kenichi Kobayashi,Hitoshi Nakano,Takahito Chibana. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-09-27.

Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method

Номер патента: US09442396B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility

Номер патента: US09423696B2. Автор: Boris Bittner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-23.

Direct exposure apparatus and direct exposure method

Номер патента: US7486383B2. Автор: Takahiro Inoue,Kazunari Sekigawa,Hiroaki Samizu. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2009-02-03.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20240231238A9. Автор: Shohei Iwata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Exposure apparatus, surface position control method, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US10488761B2. Автор: Yoshimitsu Kato. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-11-26.

Immersion exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090091721A1. Автор: Kaoru Ogino. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-04-09.

Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090274983A1. Автор: Makiko Ogasawara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-11-05.

Optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3482257A1. Автор: Hartmut Enkisch,Thomas Schicketanz,Oliver Dier,Matus Kalisky. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-05-15.

A maskless exposure apparatus with alignment

Номер патента: WO2016107798A1. Автор: Endre Kirkhorn,Trond Jørgensen,Øyvind Tafjord. Владелец: Visitech AS. Дата публикации: 2016-07-07.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20160091801A1. Автор: Atsushi Takagi,Tomomi Funayoshi,Yoya Muraguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-03-31.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20230393486A1. Автор: Keiji Emoto,Mamoru Kaneishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20160370708A1. Автор: Tetsuya Yamamoto,Hirotaka Sano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-22.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7679716B2. Автор: Makoto Nomoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-03-16.

Exposure apparatus

Номер патента: US20010015798A1. Автор: Kazuhiro Takahashi,Yoshiyuki Nagai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-23.

Euv exposure apparatus and cleaning method

Номер патента: US20140063477A1. Автор: Kentaro Matsunaga. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-03-06.

Illumination device, exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20030007137A1. Автор: Takehiko Iwanaga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-01-09.

Scanning exposure apparatus

Номер патента: US6954259B2. Автор: Takehiko Iwanaga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-10-11.

Exposure apparatus, exposure method, and device fabrication method

Номер патента: US20080291421A1. Автор: Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-11-27.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20140125960A1. Автор: Bunsuke Takeshita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-05-08.

Projection exposure apparatus which determines the minimum number of shots to optimially expose the substrate surface

Номер патента: US5654792A. Автор: Masami Yonekawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-08-05.

Maskless exposure apparatus and method, and manufacturing method of a semiconductor device including the maskless exposure method

Номер патента: US20210165331A1. Автор: Sang-hyun Park,Jae-Young Jang,Eui-seok Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-06-03.

[substrate exposure apparatus and method]

Номер патента: US20040165163A1. Автор: Kuo-Tso Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-26.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US8294875B2. Автор: Yoshinori Ohsaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-10-23.

Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US8248580B2. Автор: Makiko Ogasawara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-08-21.

Exposure apparatus

Номер патента: US20240264541A1. Автор: Yi Lu,Keqiang Li,Xiaosong Liu,Zhiyang Wu. Владелец: Contemporary Amperex Technology Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Method for distortion correction in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US7605905B2. Автор: Hans-Jürgen Mann,Bernhard Kneer,Andreas Kirchner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-10-20.

Optical component group, in particular for use in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240255856A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-01.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US9383660B2. Автор: Toshiyuki Yoshihara,Kazuhiro Tadokoro. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-07-05.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20120293781A1. Автор: Toshiyuki Yoshihara,Kazuhiro Tadokoro. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-11-22.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US11762298B2. Автор: Daisuke Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Exposure apparatus, device manufacturing method using same, and gas supply device

Номер патента: US20110261333A1. Автор: Naoki Yamaguchi,Yuuhei Matsumura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-10-27.

Scanning projection exposure apparatus and aligning method therefor

Номер патента: US20010026897A1. Автор: Shinichi Shima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-04.

X-ray exposure apparatus

Номер патента: US20020141533A1. Автор: Atsushi Kitaoka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-10-03.

Maskless exposure apparatus using optical modulator, and method for monitoring pattern generating performance by the optical modulator

Номер патента: US20060066829A1. Автор: Yoshiyuki Sekine. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-03-30.

Exposure Apparatus

Номер патента: US20090141259A1. Автор: Takashi Shibayama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-06-04.

Exposure apparatuses and methods to compress exposure data

Номер патента: US20100110214A1. Автор: Sang-Il Hong,Duke Kimm,Ho Seok Choi,Jung Hyeon Kim,Sang Don Jang,Myung Ho Kim,Sang Geun Park,Dong Seok BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-05-06.

Exposure apparatuses and methods to compress exposure data

Номер патента: US8427712B2. Автор: Sang-Il Hong,Duke Kimm,Ho Seok Choi,Jung Hyeon Kim,Sang Don Jang,Myung Ho Kim,Sang Geun Park,Dong Seok BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-04-23.

Exposure apparatus

Номер патента: US20240329549A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Naoya SOHARA. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-10-03.

Exposure apparatus

Номер патента: US20240329545A1. Автор: Naoya SOHARA. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-10-03.

Exposure apparatus and metrology measurement system

Номер патента: WO2024223169A1. Автор: Thomas Martinus Petrus GOMMANS,Tim Gerardus Hendrikus TER HUURNE. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-10-31.

Exposure apparatus and metrology measurement system

Номер патента: EP4455782A1. Автор: Thomas Martinus Petrus GOMMANS,Tim Gerardus Hendrikus TER HUURNE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-30.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US12072638B2. Автор: Yuki Saito,Kazuki Ota,Masaki Imai,Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus

Номер патента: US09977333B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Michael Layh,Erich Schubert,Alexander Kohl,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09946164B2. Автор: Tetsuya Yamamoto,Hirotaka Sano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09927724B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Projection exposure apparatus with at least one manipulator

Номер патента: US09927714B2. Автор: Boris Bittner,Stefan Rist. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-27.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09910371B2. Автор: Kentaro Kawanami. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Projection exposure apparatus including at least one mirror

Номер патента: US09910364B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Stefan Rist,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-06.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09904184B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US09829794B2. Автор: Nobuyuki Saito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09823583B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09823582B2. Автор: Shinji Sato,Kenyo Odanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09823580B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US09817316B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Edge exposure apparatus, edge exposure method and non-transitory computer storage medium

Номер патента: US09810989B2. Автор: Hiroshi Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Exposure apparatus

Номер патента: US09791780B2. Автор: Akiyoshi Suzuki,Osamu Wakabayashi,Takashi Onose,Kouji Kakizaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-10-17.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US09766548B2. Автор: Bunsuke Takeshita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Exposure apparatus and exposure method thereof

Номер патента: US09746777B2. Автор: Chien-Li Chen,Wen-Yen Yen,Yen-Chen Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09726981B2. Автор: Ryo Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09720333B2. Автор: Daisuke Kobayashi,Ryo Koizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09720331B2. Автор: Shinji Sato,Kenyou Odanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Exposure apparatus

Номер патента: US09703212B2. Автор: Masaru Suzuki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09703206B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-11.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09678438B2. Автор: Michael Patra,Markus Schwab. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-13.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US09665006B2. Автор: Volker Graeschus,Toralf Gruner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09651873B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09612538B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus

Номер патента: US09599904B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Michael Layh,Erich Schubert,Alexander Kohl,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-21.

Exposure apparatus, alignment method, and device manufacturing method

Номер патента: US09594314B2. Автор: Takashi Ogura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Damping arrangement for dissipating oscillating energy of an element in a system, more particularly in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09593733B2. Автор: Markus Hauf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-14.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09575413B2. Автор: Atsushi Kawahara,Shinichi Egashira,Issei Funayoshi,Takuro Tsujikawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-21.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09557657B2. Автор: Satoru Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09523926B2. Автор: Noriyasu Hasegawa,Atsushi Umemura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-20.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09465303B2. Автор: Atsushi Takagi,Tomomi Funayoshi,Yoya Muraguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Exposure mask, exposure apparatus, and method for manufacturing display substrate

Номер патента: US09429836B2. Автор: Wei Guo,Xuan HE. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09348232B2. Автор: Jan Horn,Christian Kempter,Wolfgang Fallot-Burghardt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-05-24.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09341957B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-05-17.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09329498B2. Автор: Hiroshi Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-05-03.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09304404B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Bernhard Geuppert,Hans Butler,Juergen Fischer,Robertus Johannes Marinus De Jongh. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-04-05.

Off-axis illumination apparatus, exposure apparatus and off-axis illumination method

Номер патента: US7646472B2. Автор: Myoung-Soo Lee,Suk-Jong Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-01-12.

Stop apparatus for delimiting a beam path between a light source and an illumination optical unit of a projection exposure apparatus for projection lithography

Номер патента: NL2029213B1. Автор: Patra Michael. Владелец: Zeiss Carl Smt Gmbh. Дата публикации: 2023-09-15.

Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US8854599B2. Автор: Hideaki Hara,Dai Arai,Hiroaki Takaiwa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-10-07.

Optical system in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013060561A1. Автор: Ingo Sänger,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-02.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20080062391A1. Автор: Yoshiyuki Okada,Yoshinori Uchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-03-13.

Vibration isolator and exposure apparatus

Номер патента: US6038013A. Автор: Tatsuya Ohsaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-03-14.

Exposure apparatus

Номер патента: US20230367230A1. Автор: TETSUYA Abe,Koichi Murakami,Koutarou TAKIGAMI. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Blocking element for protecting optical elements in projection exposure apparatuses

Номер патента: US20150177626A1. Автор: Joachim Hartjes,Guenther Dengel,Bernhard Sitek,Maik-René Piatkowski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-06-25.

Exposure apparatus, structure, method for setting up apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20090168036A1. Автор: Hiromichi Hara,Yasuyo Kawabata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-07-02.

Production control method for a projection exposure apparatus, projection exposure apparatus, and projection exposure method

Номер патента: WO2024099795A1. Автор: Martin Leuermann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-16.

Exposure apparatus

Номер патента: EP4286947A1. Автор: TETSUYA Abe,Koichi Murakami,Koutarou TAKIGAMI. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-12-06.

Exposure apparatus, structure, method for setting up apparatus, and device manufacturing method having filling member formed by hardening liquid to support setting leg

Номер патента: US8780329B2. Автор: Hiromichi Hara,Yasuyo Kawabata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-07-15.

Exposure apparatus and method for producing device

Номер патента: US7242455B2. Автор: Masahiro Nei,Shigeru Hirukawa,Naoyuki Kobayashi,Hiroshi Chiba. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-07-10.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US9829801B2. Автор: KAZUYA Ono. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Projection exposure apparatus having an alignment sensor for aligning a mask image with a substrate

Номер патента: US5654553A. Автор: Masahiko Okumura,Masaharu Kawakubo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-08-05.

Coupling apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US8120751B2. Автор: KAZUYA Ono,Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-02-21.

Coupling apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US8228484B2. Автор: KAZUYA Ono,Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-07-24.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5677757A. Автор: Naomasa Shiraishi,Tetsuo Taniguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-10-14.

Exposure apparatus for controlling intensity of exposure radiation

Номер патента: US5157700A. Автор: Shigeru Terashima,Mitsuaki Amemiya,Isamu Shimoda,Shunichi Uzawa,Shinichi Hara,Koji Uda,Kunitaka Ozawa,Hiroshi Kurosawa,Eigo Kawakami,Ryuichi Ebinuma,Nobutoshi Mizusawa,Makiko Mori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1992-10-20.

Measuring apparatus and exposure apparatus having the same

Номер патента: US20060238736A1. Автор: Takahisa Shiozawa,Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-10-26.

Projection exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP1355194A3. Автор: Toshihiko Tsuji. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-13.

Radiation reduction exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US6014421A. Автор: Yuji Chiba,Masami Tsukamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-01-11.

Exposure apparatus and control method therefor, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US6819398B2. Автор: Osamu Ogawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-11-16.

Exposure method and exposure apparatus

Номер патента: US5025284A. Автор: Susumu Komoriya,Hiroshi Nishizuka,Shinya Nakagawa,Hisashi Maejima. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1991-06-18.

X-ray exposure apparatus

Номер патента: CA2079562C. Автор: Takayuki Hasegawa,Naoto Abe,Ryuichi Ebinuma,Kazuyuki Kasumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-01-07.

Method for manufacturing 3-D horn antenna using exposure apparatus

Номер патента: US6589434B2. Автор: Sung Moon,Jong Yeon Park. Владелец: Korea Institute of Science and Technology KIST. Дата публикации: 2003-07-08.

Projection exposure apparatus, method for operating the projection exposure apparatus

Номер патента: WO2023072745A1. Автор: Matthias Hillenbrand,Dirk Ehm,Tobias Härter,Heiner Zwickel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-05-04.

Exposure method and exposure apparatus

Номер патента: US20040141164A1. Автор: Toshihiko Tsuji,Takaaki Kimura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-07-22.

Exposure apparatus, exposure method, and exposure mask

Номер патента: EP1782456A1. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-05-09.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20140009764A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-01-09.

Exposure apparatus and a method for exposing a photosensitive element and a method for preparing a printing form from the photosensitive element

Номер патента: US20140315132A1. Автор: Rolf Schwan,Helmut Luetke,Volker Struewe. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2014-10-23.

Exposure apparatus and a method for controlling radiation from a lamp for exposing a photosensitive element

Номер патента: US20140313497A1. Автор: Helmut Luetke. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2014-10-23.

Method for producing or setting a projection exposure apparatus

Номер патента: US20220043358A1. Автор: Rolf Freimann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-02-10.

Exposure apparatus, method thereof, and method of manufacturing article

Номер патента: SG10201901269PA. Автор: Endo Masatoshi,Motojima Junichi,Nishimura Mitsuhide. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2019-09-27.

Projection exposure apparatus with manipulators

Номер патента: WO2024110341A1. Автор: Stratis Tzoumas,Malte Langenhorst,Jonas Umlauft,Christian LUTZWEILER. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-30.

Measuring an optical symmetry property on a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014139651A1. Автор: Frank Schlesener,Jens Timo NEUMANN. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-09-18.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US7639344B2. Автор: Fumitake Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-29.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090310112A1. Автор: Tetsuji Kazaana. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-17.

Exposure apparatus, cleaning method, and device fabricating method

Номер патента: EP2271966A1. Автор: Kenichi Shiraishi,Masahiko Okumura,Yosuke Shirata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-01-12.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20160011520A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-01-14.

Edge exposure apparatus, method of making and using the same

Номер патента: US20230418164A1. Автор: Merritt CONNER. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-28.

Edge exposure apparatus, method of making and using the same

Номер патента: WO2024006225A3. Автор: Merritt CONNER. Владелец: Conner Merritt. Дата публикации: 2024-03-21.

Exposure apparatus and device manufacturing method using the same in which a door lock mechanism is controlled on the basis of temperature and an operation sequence

Номер патента: US20010038441A1. Автор: Gen Nakamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-08.

Exposure apparatus and device manufacturing method using the same in which a door lock mechanism is controlled on the basis of temperature and an operation sequence

Номер патента: US6337732B2. Автор: Gen Nakamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-01-08.

An exposure apparatus and a method for controlling radiation from a lamp for exposing a photosensitive element

Номер патента: EP2987033A1. Автор: Helmut Luetke. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2016-02-24.

Exposure apparatus and a method for exposing a photosensitive element and a method for preparing a printing form from the photosensitive element

Номер патента: US20160041468A1. Автор: Rolf Schwan,Helmut Luetke,Volker Struewe. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2016-02-11.

An exposure apparatus and a method for exposing a photosensitive element and a method for preparing a printing form from the photosensitive element

Номер патента: EP2987031A1. Автор: Helmut Luetke,Volker Struewe. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2016-02-24.

Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method

Номер патента: US7557900B2. Автор: Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-07-07.

Immersion exposure apparatus, device manufacturing method, cleaning method, and cleaning member to remove foreign substance using liquid

Номер патента: US8570484B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-10-29.

Exposure apparatus

Номер патента: US5978072A. Автор: Yawara Nojima. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1999-11-02.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8797505B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Takeshi Okuyama. Владелец: Nikon Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-05.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5272501A. Автор: Kenji Nishi,Naomasa Shiraishi,Saburo Kamiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1993-12-21.

Exposure apparatus and method, measuring apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20060210911A1. Автор: Akiyoshi Suzuki,Seiji Takeuchi,Kenji Yamazoe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-09-21.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4814829A. Автор: Akiyoshi Suzuki,Masao Kosugi,Masao Totsuka,Kazuhito Outsuka,Hideki Ina,Fumio Sakai,Shigeki Ogawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1989-03-21.

Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: EP1622191A1. Автор: Hironori Ikezawa,Yasuhiro Omura,Kumiko Ishida. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-02-01.

Exposure apparatus

Номер патента: US5523574A. Автор: Tomohide Hamada,Hiroshi Shirasu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-06-04.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4891663A. Автор: Ryusho Hirose. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1990-01-02.

Exposure apparatus with thickness and defect detection

Номер патента: US5726756A. Автор: Minoru Inagaki,Yuichi Aki,Kanji Yokomizo. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1998-03-10.

Scanning type exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US5872617A. Автор: Yasuyuki Unno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-02-16.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US20110026005A1. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-02-03.

Exposure apparatus

Номер патента: EP1681595A2. Автор: Seiji Nagahara. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2006-07-19.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4739373A. Автор: Kenji Nishi,Nobutaka Magome. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-04-19.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US6714281B1. Автор: Osamu Morimoto,Toshitaka Amano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-03-30.

Exposure apparatus, exposure method using the same, and method of manufacture of circuit device

Номер патента: US20010043321A1. Автор: Kenji Nishi,Toru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-11-22.

Exposure apparatus and exposing method

Номер патента: US6754303B2. Автор: Kazuyuki Kasumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-06-22.

Microlithographic Projection Exposure Apparatus

Номер патента: US20080192224A1. Автор: Markus DEGÜNTHER,Toralf Gruner,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-08-14.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5317450A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-05-31.

Exposure apparatus to correct position between reticle and substrate according to propagation time and shifting rate

Номер патента: US8179518B2. Автор: Yukio Takabayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-15.

Projection exposure apparatus having a filter arranged in its projection optical system and method for protecting circuit patterns

Номер патента: US6118516A. Автор: Nobutaka Magome,Shigeru Hirukawa,Naomasa Shiraishi,Yasuaki Tanaka,Nobuyuki Irie. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-09-12.

exposure apparatus, device manufacturing method and maintenance method

Номер патента: EP2256790A2. Автор: Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-12-01.

Exposure apparatus and method, optical disc drive, and recording and/or reproducing method

Номер патента: EP1067536A3. Автор: Shingo c/o Sony Corporation Imanishi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-10-05.

Exposure apparatus and method

Номер патента: US4707609A. Автор: Yoshinori Shimamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1987-11-17.

Exposure apparatus

Номер патента: US5559584A. Автор: Masatoshi Ikeda,Akira Miyaji. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-09-24.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20040207826A1. Автор: Yoshikazu Miyajima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-10-21.

Exposure apparatus and method

Номер патента: US6151120A. Автор: Takahiro Matsumoto,Hideki Ina. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-11-21.

Exposure apparatus and positioning method

Номер патента: US6097473A. Автор: Shigeru Nakayama,Kazuya Ota. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-08-01.

Projection exposure apparatus and method for measuring a projection lens

Номер патента: EP3423902A1. Автор: Frank Schadt,Eugen Foca,Uwe Hempelmann,Frank Schleicher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-01-09.

Modular exposure apparatus with removable optical device and improved isolation of the optical device

Номер патента: WO2002021207A1. Автор: Alton H. Phillips,Douglas C. Watson. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2002-03-14.

Exposure apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230236495A1. Автор: Yoshio Mizuta. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190271922A1. Автор: Manabu Takakuwa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-09-05.

Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US10921722B2. Автор: Manabu Takakuwa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2021-02-16.

Exposure apparatus, calibration method, and method of manufacturing article

Номер патента: US20140016111A1. Автор: Yuichi Ozawa,Kouji Yoshida,Tomohiro Harayama,Dai Nagatani. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-01-16.

Light exposure method, and light exposure apparatus

Номер патента: US9291919B2. Автор: Hiroaki Oizumi. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2016-03-22.

Exposure apparatus for liquid crystal panel and exposure apparatus

Номер патента: US20060176454A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Kiwamu Takehisa,Makoto Sakamaki,Shirou Moriyama. Владелец: Nihon Ceratec Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-10.

Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method

Номер патента: WO2009078489A1. Автор: Takahisa Kikuchi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2009-06-25.

Exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US20120013876A1. Автор: Hong-Suk Yoo,Chang-Hoon Kim,Bo-Kyoung Ahn,Gug-Rae Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-01-19.

Exposure apparatus and aligning method

Номер патента: US20050219533A1. Автор: Kiyohito Yamamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-10-06.

Exposure apparatus

Номер патента: US20080129972A1. Автор: Shinichi Egashira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-06-05.

Exposure apparatus, measurement apparatus, measurement method, and device manufacturing method

Номер патента: EP4202549A1. Автор: Yoji Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-06-28.

Exposure apparatus and optical member for exposure apparatus

Номер патента: EP1596424A9. Автор: Norio Komine,Masafumi Mizuguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-10-25.

Exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20060114433A1. Автор: Takashi Meguro,Yoshikazu Miyajima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-06-01.

Scanning exposure apparatus, scanning exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20020145713A1. Автор: Hiroshi Kurosawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-10-10.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography having a connecting element

Номер патента: US20240168396A1. Автор: Rodolfo Guglielmi Rabe,Timo Speidel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Assembly for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024099636A1. Автор: Thomas Monz,Julian Zips. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-16.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20180074414A1. Автор: Takanori Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: US20230333490A1. Автор: Jun Kawashima,Takahiro Takiguchi,Jun Moizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: WO2013100205A3. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Shinji Sato,Minoru Onda,Yasufumi Nishii. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2013-12-19.

Euv optics module for an euv projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024104849A1. Автор: Udo Dinger,Moritz Becker,Stephanus Fengler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Exposure apparatus for liquid crystal panel and exposure apparatus

Номер патента: EP1602978A4. Автор: Tadahiro Ohmi,Kiwamu Takehisa,Makoto Sakamaki,Shirou Moriyama. Владелец: Nihon Ceratec Co Ltd. Дата публикации: 2009-08-19.

Maskless exposure apparatus and control method thereof

Номер патента: US20110157569A1. Автор: Ho Seok Choi,Sang Don Jang,Hi Kuk Lee,Oui Serg Kim,Dong Seok BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-06-30.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5719704A. Автор: Yuji Kudo,Naomasa Shiraishi,Saburo Kamiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-02-17.

Projection exposure apparatus and method involving variation and correction of light intensity distributions, detection and control of imaging characteristics, and control of exposure

Номер патента: US6078380A. Автор: Nobutaka Magome,Naomasa Shiraishi,Tetsuo Taniguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-06-20.

Exposure apparatus and method for manufacturing device

Номер патента: US7480029B2. Автор: Hideaki Hara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-01-20.

Exposure apparatus, exposure method, and device fabrication method

Номер патента: US7932996B2. Автор: Susumu Makinouchi,Motokatsu Imai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-04-26.

Exposure apparatus and method for manufacturing device

Номер патента: US7580114B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-08-25.

Exposure apparatus, exposure method, and device fabrication method

Номер патента: US8272544B2. Автор: Susumu Makinouchi,Motokatsu Imai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-09-25.

Immersion type projection exposure apparatus

Номер патента: US5610683A. Автор: Kazuo Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20060209283A1. Автор: Ryo Nawata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-09-21.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9013680B2. Автор: Damian Fiolka,András G. MAJOR,Ralf Mueller. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-04-21.

Exposure apparatus

Номер патента: US5475491A. Автор: Takahisa Shiozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1995-12-12.

Exposure apparatus and photo mask

Номер патента: US5541026A. Автор: Koichi Matsumoto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-07-30.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014114494A1. Автор: Ingo Sänger,Christoph Hennerkes. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-07-31.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9405202B2. Автор: Christoph Hennerkes,Ingo Saenger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-02.

Focusing device for projection exposure apparatus

Номер патента: US4952815A. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1990-08-28.

Illumination system and polarizer for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US7408622B2. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Axel Scholz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-08-05.

Illumination system and polarizer for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20080239273A1. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Axel Scholz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-10-02.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2005103826A1. Автор: Wolfgang Singer,Johannes Wangler. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-11-03.

Exposure apparatus having mount means to suppress vibrations

Номер патента: US5187519A. Автор: Yukio Takabayashi,Yukio Tokuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1993-02-16.

Alignment device in an IC projection exposure apparatus

Номер патента: US4390279A. Автор: Kyoichi Suwa. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1983-06-28.

Scanning exposure apparatus and method

Номер патента: US7218379B2. Автор: Yoshinori Ohsaki,Yuichi Osakabe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-05-15.

X-ray exposure apparatus

Номер патента: US5172403A. Автор: Mitsuaki Amemiya,Shunichi Uzawa,Takao Kariya,Yutaka Tanaka,Nobutoshi Mizusawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1992-12-15.

Exposure apparatus

Номер патента: US5835560A. Автор: Mitsuaki Amemiya,Yutaka Watanabe,Kazuyuki Kasumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-11-10.

Semiconductor light exposure apparatus

Номер патента: US5706076A. Автор: Minoru Takeda. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1998-01-06.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20050168712A1. Автор: Yoshikazu Miyajima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20060209281A1. Автор: Tatsuya Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-09-21.

Exposure apparatus and a device manufacturing method which keep temperature of a diaphragm of a projection optical system substantially constant

Номер патента: US20030043352A1. Автор: Akiyoshi Suzuki,Yuji Sudoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-06.

Exposure apparatus and method

Номер патента: US5329333A. Автор: Yukio Kenbo,Yoshitada Oshida,Masataka Shiba,Makoto Murayama,Minori Noguchi,Yasuhiro Yoshitaka. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-07-12.

Supporting plate, stage device, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: US20090109419A1. Автор: Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-04-30.

Exposure apparatus

Номер патента: US5138643A. Автор: Mitsuaki Amemiya,Shunichi Uzawa,Koji Uda,Ryuichi Ebinuma,Eiji Sakamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1992-08-11.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5323207A. Автор: Hideki Ina. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1994-06-21.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: EP3067749A3. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Minoru Onda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-16.

Optical arrangement, in particular projection exposure apparatus for EUV lithography, as well as reflective optical element with reduced contamination

Номер патента: US8585224B2. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Stephan Muellender,Thomas Stein,Johannes Hubertus Josephina Moors,Bastiaan Theodoor Wolschrijn,Dieter Kraus,Richard Versluis,Marcus Gerhardus Hendrikus Meijerink. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2013-11-19.

Projection exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US5539497A. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-07-23.

Stage mechanism in exposure apparatus

Номер патента: US5574556A. Автор: Hidehiko Fujioka,Tetsuzo Mori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1996-11-12.

Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US9772564B2. Автор: YASUSHI Yoda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090303483A1. Автор: Osamu Morimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-10.

Exposure apparatus with interferometer

Номер патента: US7023561B2. Автор: Eiichi Murakami,Osamu Kakuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-04.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4965630A. Автор: Koichi Matsumoto,Kazuo Ushida,Kyoichi Suwa,Kinya Kato,Toshiyuki Namikawa,Koichi Ohno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1990-10-23.

Transport system for an automatic repetitive registration and imagewise exposure apparatus

Номер патента: CA1204793A. Автор: Victor K. Wang. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1986-05-20.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5300967A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-04-05.

Exposure apparatus

Номер патента: US5150391A. Автор: Shunichi Uzawa,Takao Kariya,Shigeyuki Suda,Ryuichi Ebinuma,Nobutoshi Mizusawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1992-09-22.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US9557654B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Scanning exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US7148948B2. Автор: Kazuo Sano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-12.

Measurement method, exposure method, exposure apparatus, and device fabrication method

Номер патента: US20080170240A1. Автор: Kenji Yamazoe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-07-17.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5365051A. Автор: Hiroyuki Suzuki,Osamu Furukawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1994-11-15.

Illumination optical system and exposure apparatus

Номер патента: EP2259138A2. Автор: Yoshio Goto,Takahisa Shiozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-12-08.

Method of obtaining hologram and an exposure apparatus

Номер патента: US5291315A. Автор: Shigeru Hosoe. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1994-03-01.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5576801A. Автор: Kazuo Ushida,Masaomi Kameyama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-11-19.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP1102124A3. Автор: Masayuki c/o Canon Kabushiki Kaisha Tanabe,Yasuaki C/O Canon Kabushiki Kaisha Fukuda,Masami c/o Canon Kabushiki Kaisha Tsukamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-04-17.

Exposure apparatus

Номер патента: US6295121B1. Автор: Gen Nakamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2001-09-25.

Exposure apparatus

Номер патента: US4828392A. Автор: Noboru Nomura,Kazuhiro Yamashita,Midori Yamaguchi,Takayoshi Matsumura. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1989-05-09.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4758864A. Автор: Kazumasa Endo,Yasuhisa Matsumoto. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-07-19.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20090015845A1. Автор: Toralf Gruner,Joerge Tschischgale. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-01-15.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US5846678A. Автор: Naoto Sano,Hidetoshi Nishigori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-12-08.

Exposure apparatus

Номер патента: US5317615A. Автор: Takayuki Hasegawa,Shunichi Uzawa,Takao Kariya,Shigeyuki Suda,Ryuichi Ebinuma,Nobutoshi Mizusawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1994-05-31.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4780747A. Автор: Hideo Mizutani,Kazuaki Suzuki,Hidemi Kawai. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-10-25.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4370054A. Автор: Hironori Yamamoto,Junji Isohata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1983-01-25.

Substrate exposure apparatus and method

Номер патента: US20030108806A1. Автор: Kuo-Tso Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-06-12.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2005081067A1. Автор: Wolfgang Singer,Toralf Gruner,Alexander Epple,Norbert Wabra,Susanne Beder,Bernhard Kneer. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-09-01.

Projection exposure apparatus and stage unit, and exposure method

Номер патента: US20110019170A1. Автор: Yasunaga Kayama,Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-01-27.

Exposure apparatus

Номер патента: US4629313A. Автор: Akikazu Tanimoto. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1986-12-16.

Method for detecting work alignment mark and exposure apparatus using the same

Номер патента: US20110075123A1. Автор: Shinichi Nagamori. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2011-03-31.

Illumination system and exposure apparatus and method

Номер патента: US20040085645A1. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-05-06.

Exposure apparatus

Номер патента: US5559582A. Автор: Kenji Nishi,Masaaki Aoyama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-09-24.

Exposure apparatus and method using pulsed light and changing means to control both the light intensity and light emission timing

Номер патента: US5914773A. Автор: Keiji Yoshimura,Kunitaka Ozawa,Hiroshi Kurosawa,Noriyasu Hasegawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-06-22.

Projection exposure apparatus having an off-axis alignment system and method of alignment therefor

Номер патента: USRE36730E. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-06-13.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US10133189B2. Автор: Shinji Sato,Kenyo Odanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-11-20.

Scanning exposure apparatus, manufacturing method thereof, and device manufacturing method

Номер патента: US20030133087A1. Автор: Shinichi Shima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-07-17.

Exposure apparatus

Номер патента: US20070053033A1. Автор: Takahisa Shiozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-03-08.

X-ray exposure apparatus

Номер патента: US20020106050A1. Автор: Shigeru Terashima,Yutaka Watanabe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-08.

Exposure apparatus, exposure method and article manufacturing method

Номер патента: US20240053686A1. Автор: Masaki Imai,Mamoru Kaneishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US11762299B2. Автор: Keiji Emoto,Mamoru Kaneishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Exposure apparatus

Номер патента: US20080218719A1. Автор: Takahisa Shiozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-09-11.

Exposure apparatus

Номер патента: US20130162965A1. Автор: Hi-Kuk Lee,Tsunemitsu Torigoe,Chang-Hoon Kim,Kab-Jong SEO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2013-06-27.

Method for determining a focus actuation profile for one or more actuators of a lithographic exposure apparatus

Номер патента: US20240061353A1. Автор: Simon Hendrik Celine Van Gorp,Stephan VAN REENEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-22.

Projection lens unit with focus and level control, related exposure apparatus and method

Номер патента: US7535551B2. Автор: Jang-hyun Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-05-19.

Exposure apparatus

Номер патента: US20050162633A1. Автор: Ryo Kasai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-07-28.

Determination method, exposure apparatus, exposure system, method of manufacturing article, and storage medium

Номер патента: US20150248067A1. Автор: Yoshihito Tada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-09-03.

Exposure apparatus, wafer stage and exposure order setting device

Номер патента: US20160266504A1. Автор: Masaru Suzuki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-15.

Projection lens unit with focus and level control, related exposure apparatus and method

Номер патента: US20060044540A1. Автор: Jang-hyun Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-03-02.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US11835869B2. Автор: Yuki Saito,Kazuki Ota,Masaki Imai,Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20150146177A1. Автор: Yoichi Matsuoka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-05-28.

Exposure apparatus and method of confining a liquid

Номер патента: EP2748679A1. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-07-02.

Vibration control of structural elements of exposure apparatus

Номер патента: WO2024026320A1. Автор: Bausan Yuan,Pai-Hsueh Yang,Koichi Sakata,Hwan Lee,Hiroyoshi Asaumi,Christopher Sean MARGESON,Kensuke TOKUMI,Shigeki KITABATAKE. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2024-02-01.

Maskless exposure apparatus and method, and manufacturing method of a semiconductor device including the maskless exposure method

Номер патента: US20200041907A1. Автор: Sang-hyun Park,Jae-Young Jang,Eui-seok Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-06.

Optical system for a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240012333A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-11.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US10845708B2. Автор: Hikaru Sugita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-11-24.

Optical system for a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4314949A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-07.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: EP4361728A1. Автор: Shohei Iwata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-01.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090257038A1. Автор: Tetsuya Yamamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-10-15.

Exposure apparatus, exposure method and article manufacturing method

Номер патента: EP4321932A1. Автор: Masaki Imai,Mamoru Kaneishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-14.

Facet mirror, illumination optical unit, arrangement of a facet mirror, projection exposure apparatus and method for producing a nanostructured component

Номер патента: WO2024061733A1. Автор: Martin Endres. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-28.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20180136565A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-17.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: WO2015049319A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-04-09.

Temperature adjusting system in exposure apparatus

Номер патента: US20030111458A1. Автор: Shinji Wakui,Yoshinori Makita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-06-19.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20130141705A1. Автор: Jingfeng Xue,Minghung Shih,Jehao Hsu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2013-06-06.

Illumination system for a microlithography projection exposure apparatus and projection exposure

Номер патента: WO2007137763A3. Автор: Alexander Kohl. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-05-02.

Projection exposure apparatus and device manufacturing method using the same

Номер патента: US20020097758A1. Автор: Masakatsu Ota,Naoto Sano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Exposure apparatus, exposure method, and device fabrication method

Номер патента: US20140240687A1. Автор: Takanori Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-08-28.

Exposure Apparatus And Exposure Method Thereof

Номер патента: US20150192857A1. Автор: Chien-Li Chen,Wen-Yen Yen,Yen-Chen Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-07-09.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20130258303A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-10-03.

Immersion exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8164754B2. Автор: Nobuyuki Saito,Haruna Kawashima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-04-24.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20240134286A1. Автор: Shohei Iwata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Liquid immersion member, immersion exposure apparatus, exposing method, device fabricating method, program, and storage medium

Номер патента: EP2659308A1. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-11-06.

Exposure apparatus

Номер патента: US20040246456A1. Автор: Takahisa Shiozawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-09.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: WO2024013177A1. Автор: Carlos Alberto Jansen,Alexander Fritzkowski,Eric van Rijen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Method for measuring orthogonality in a stage of an exposure apparatus

Номер патента: US5995225A. Автор: Shuji Kawamura,Tsuyoshi Naraki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1999-11-30.

Exposure apparatus and original

Номер патента: US20080246939A1. Автор: Mitsuru Inoue,Masami Yonekawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-10-09.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: WO2008047818A1. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2008-04-24.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20140340661A1. Автор: Hiroshi Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-11-20.

Method for determining a focus actuation profile for one or more actuators of a lithographic exposure apparatus

Номер патента: EP4285188A1. Автор: Simon Hendrik Celine Van Gorp,Stephan VAN REENEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-06.

Projection lens unit with focus and level control, related exposure apparatus and method

Номер патента: US20090195765A1. Автор: Jang-hyun Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-08-06.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090237633A1. Автор: Shinichi Shima,Yasuo Takama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-09-24.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US20240061350A1. Автор: Yuki Saito,Kazuki Ota,Masaki Imai,Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-22.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180217507A1. Автор: Hartmut Enkisch,Oliver Dier,Kerstin Hild,Matus Kalisky. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-08-02.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20130314682A1. Автор: Hiromi Kemmoku. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-11-28.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US20200409276A1. Автор: Koji Mikami,Ryo Koizumi,Jun Moizumi,Kouki Miyano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-12-31.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20080291414A1. Автор: Norihiko Kobayashi,Ryosuke Tsutsumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-11-27.

Extreme ultraviolet radiation exposure apparatus and method of lithography thereby

Номер патента: US20150227054A1. Автор: Kazuo Tawarayama,Yukinobu Miyamoto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Exposure apparatus, surface position control method, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190079402A1. Автор: Yoshimitsu Kato. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-14.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20090207400A1. Автор: Shinichiro Hirai,Naoto Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-08-20.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: US7871744B2. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-01-18.

Exposure apparatus and method of decreasing fluctuations in optical characteristics of projection system

Номер патента: US8564758B2. Автор: Takashi Sukegawa,Yasuo Hasegawa,Atsushi Shigenobu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-10-22.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20150036112A1. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-02-05.

Method of forming photoresist pattern and projection exposure apparatus

Номер патента: US20230185201A1. Автор: Kanyu Cao. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7236231B2. Автор: Takashi Nakamura,Eigo Kawakami,Hirohisa Ota,Toshinobu Tokita,Kazuyuki Kasumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-06-26.

Exposure apparatus, measuring device, measuring method, and device manufacturing method

Номер патента: US20240027917A1. Автор: Yoji Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Projection objective and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20100085644A1. Автор: Hans-Juergen Rostalski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-04-08.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20160077444A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-03-17.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20100321661A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-12-23.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180024439A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-01-25.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2009106217A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2009-09-03.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US8467033B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-06-18.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20120170010A1. Автор: Yasuyuki Tamura,Keiji Yamashita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-07-05.

Exposure apparatus for printing plates

Номер патента: EP1130471A3. Автор: Yoshinori C/O Fuji Photo Film Co. Ltd. Kawamura,Takashi C/O Fuji Photo Film Co. Ltd. Koizumi,Yoshihiro c/o Fuji Photo Film Co. Ltd. Koyanagi,Kazuhisa c/o Fuji Photo Film Co. Ltd. Okamoto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-11-12.

Immersion exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090268176A1. Автор: Nobuyuki Saito,Haruna Kawashima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-10-29.

Exposure Apparatus Having An Element To Be Cooled

Номер патента: US20100073649A1. Автор: Makoto Nomoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-03-25.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: US20090311631A1. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-17.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: WO2008047818A8. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Yasuhisa Inao. Дата публикации: 2008-06-19.

Exposure apparatus, method of controlling the same, and manufacturing method

Номер патента: US20080259347A1. Автор: Yasutomo Kurono. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-10-23.

Projection exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20020039180A1. Автор: Gerd FÜRTER. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2002-04-04.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20200019066A1. Автор: Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-01-16.

Exposure apparatus, image forming apparatus, exposure apparatus manufacturing method and image forming method

Номер патента: US20080232855A1. Автор: Yoshihiro Yamamoto. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-25.

Exposure apparatus, image forming apparatus, exposure apparatus manufacturing method and image forming method

Номер патента: US7932918B2. Автор: Yoshihiro Yamamoto. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-26.

Exposure apparatus and image-forming apparatus

Номер патента: US20240345501A1. Автор: Yasutomo FURUTA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Exposure apparatus and image-forming apparatus

Номер патента: US20240337964A1. Автор: Yasutomo FURUTA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Exposure apparatus and method thereof

Номер патента: US20060158637A1. Автор: Ying-Jyh Liao. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2006-07-20.

Exposure apparatus, image forming apparatus and method of manufacturing exposure apparatus

Номер патента: US20150370193A1. Автор: Sachiya Okazaki. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-24.

Exposure apparatus, image forming apparatus and method of manufacturing exposure apparatus

Номер патента: US9217946B1. Автор: Sachiya Okazaki. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-22.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20130215211A1. Автор: Katsuhide Koga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-08-22.

Photographic exposure apparatus

Номер патента: CA2169794C. Автор: Masahiro Yamamoto,Hiroshi Oku. Владелец: Noritsu Koki Co Ltd. Дата публикации: 2000-04-18.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US8279403B2. Автор: Ryo Mikami. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-10-02.

Exposure apparatus, image forming apparatus and heating method

Номер патента: US20080218710A1. Автор: Yukihiro Matsushita,Youji Houki,Yoshihiko Taira. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-11.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20110115869A1. Автор: Katsuhiko Nakaie. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2011-05-19.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20080240785A1. Автор: Masao Ito,Masahiko Fujii. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-02.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20100073659A1. Автор: Ryo Mikami. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-03-25.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20200272090A1. Автор: Satoshi Hashimoto,Junichi Moroka. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20200133156A1. Автор: Takahiro Matsuo,Hajime Taniguchi,Ryo Hasegawa,Atsushi Nagaoka. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-04-30.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20140098172A1. Автор: Junichi Tanigawa. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-10.

Exposure apparatus for copying machines

Номер патента: US4360261A. Автор: Mitsuaki Kohyama. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1982-11-23.

Scanning exposure apparatus

Номер патента: US5933214A. Автор: Akira Kida,Taku Saito,Nobu Nakane,Yasuaki Satoh,Katsutoshi Iwai. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1999-08-03.

Exposure apparatus for use in photographic copiers

Номер патента: US3923394A. Автор: Gerhard Frankiewicz. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1975-12-02.

Vacuum contact printing device and exposure apparatus and original contact device

Номер патента: US5083156A. Автор: Kazuo Watanabe,Hiroyuki Hashimoto,Toshiyuki Sato. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1992-01-21.

Exposure apparatus

Номер патента: GB2211313A. Автор: Shigeyuki Hayashi,Takashi Tomizawa,Yoichi Horaguchi,Motoshi Ohno,Takashi Nakata. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 1989-06-28.

Automatic exposure apparatus for cameras

Номер патента: US3855604A. Автор: G Krause. Владелец: Individual. Дата публикации: 1974-12-17.

Laser apparatus, phototherapy apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, and object inspection apparatus

Номер патента: TW201020669A. Автор: Yasutoshi Takada,Akira Tokuhisa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-06-01.

Laser apparatus, light therapy apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, and object inspection apparatus

Номер патента: US20110245898A1. Автор: Yasutoshi Takada,Akira Tokuhisa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-10-06.

Solid-state laser system and laser apparatus used for exposure apparatus

Номер патента: US09929529B2. Автор: Osamu Wakabayashi,Takashi Onose. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2018-03-27.

Exposure apparatus of an optical disk master, method of exposing an optical disk master and pinhole mechanism

Номер патента: US20050058054A1. Автор: Eiichi Ito,Shinya Abe,Shuji Sato,Morio Tomiyama,Masahiko Tsukuda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-03-17.

Exposure apparatus

Номер патента: US20040145546A1. Автор: Hiroaki Hyuga. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-07-29.

Optical information recording medium capable of recording in lands and grooves without a track-jumping operation; optical information recording/reproducing apparatus using, and master disk exposure apparatus for producing the same

Номер патента: US5896365A. Автор: Tomoyuki Hiroki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-04-20.

Apparatus and method for focusing light beam and exposure apparatus

Номер патента: EP1276102A2. Автор: Nobuo Kimura,Hidekazu Nakamoto,Tetsuo Andou,Masahi Yanagi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2003-01-15.

Exposure apparatus adopting organic light-emitting diode array as light source

Номер патента: US20070040888A1. Автор: Woon-ho Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-02-22.

Exposure apparatus for optical disc

Номер патента: US20020041549A1. Автор: Takashi Obara. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2002-04-11.

Light source apparatus, illumination apparatus, exposure apparatus, and method for manufacturing object

Номер патента: US20200174377A1. Автор: Noboru Osaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-06-04.

Surface position detection apparatus, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: US09927713B2. Автор: YASUHIRO Hidaka,Tadashi Nagayama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Surface position detection apparatus, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: US09519223B2. Автор: YASUHIRO Hidaka,Tadashi Nagayama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Imprint apparatus, method for manufacturing article, and exposure apparatus

Номер патента: US20170246792A1. Автор: Masami Yonekawa,Yoichi Matsuoka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-08-31.

Exposure apparatus, control method of exposure apparatus, information processing apparatus, information processing method, and article manufacturing method

Номер патента: US20240126182A1. Автор: Jun Moizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Method and apparatus of position detection as well as method of exposure, apparatus of exposure and method of manufacturing the exposure apparatus recording medium and method of manufacturing a recording device using such method and apparatus of position

Номер патента: TW497146B. Автор: Kouji Yoshida. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-08-01.

Driving apparatus, industrial instrument, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US8115425B2. Автор: Yasuhiro Motegi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-02-14.

Exposure apparatus, light source apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20100166030A1. Автор: Hiroshi Tanaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-07-01.

Cooling apparatus, illumination optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US09966245B2. Автор: Noboru Osaka,Manato Furusawa,Kentaro Hiruma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Holding apparatus, exposure apparatus, exposure metod, and device manufacturing method

Номер патента: US20130077080A1. Автор: Hajime Yamamoto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-03-28.

Positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20080136078A1. Автор: Zenichi Hamaya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-06-12.

Gas laser amplifier, gas laser apparatus, euv light generation apparatus, and euv exposure apparatus

Номер патента: US20240128705A1. Автор: Tatsuya Yamamoto,Junichi Nishimae,Takuya Kawashima,Masashi Naruse,Yuzuru TADOKORO. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-04-18.

Coating and developing apparatus, resist pattern forming method, exposure apparatus and washing apparatus

Номер патента: TW200632988A. Автор: Masahiro Fukuda,Taro Yamamoto,Seiki Ishida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-09-16.

Position detection apparatus, position detection method, exposure apparatus, device manufacturing method, and substrate

Номер патента: US20050242285A1. Автор: Hiroshi Tanaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-11-03.

Driving apparatus, industrial instrument, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20090218964A1. Автор: Yasuhiro Motegi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-09-03.

Position measurement apparatus, imaging apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: TW200839842A. Автор: Nozomu Hayashi. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2008-10-01.

Holding apparatus, exposure apparatus and manufacturing method of device

Номер патента: US20140049763A1. Автор: Tomoki Miyakawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-02-20.

Stage apparatus, exposure apparatus, inspection apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: EP4317722A4. Автор: Tatsuya Yoshida. Владелец: Sumitomo Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Apparatus for heat treating an optical ceramic material, method for heat treating an optical ceramic material, method for heat treating synthetic silica glass, method for producing an optical system, and method for producing an exposure apparatus

Номер патента: US09896370B2. Автор: Yuta Hara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate holding method, substrate holding apparatus, exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09865494B2. Автор: Go Ichinose. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Holding apparatus, exposure apparatus and manufacturing method of device

Номер патента: US09746787B2. Автор: Tomoki Miyakawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Object exchange method, exposure method, carrier system, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09588443B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-03-07.

Positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: TW200839841A. Автор: Zenichi Hamaya. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2008-10-01.

Projection exposure apparatus, projection exposure method and method of manufacturing the projection exposure apparatus

Номер патента: US20020180942A1. Автор: Kenji Suzuki,Takashi Mori. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-12-05.

Driving apparatus, industrial instrument, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: TW200948259A. Автор: Yasuhiro Motegi. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2009-11-16.

Top plate, positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: TW200805554A. Автор: Atsushi Kimura. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2008-01-16.

Holding apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: TW200905406A. Автор: Hajime Yamamoto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-02-01.

Movable body system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: TW201109615A. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-03-16.

Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: WO2010032877A1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2010-03-25.

Inspection apparatus, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: TW201009511A. Автор: Atsushi Kawahara. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2010-03-01.

Exposure apparatus and the manufacturing method of semiconductors using said exposure apparatus

Номер патента: TW379363B. Автор: Osamu Tanitsu,Kayo Sugiyama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-01-11.

Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20170139328A1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-05-18.

Stage apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: TW200845118A. Автор: KAZUYA Ono. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-11-16.

Planar motor, positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: TW200903957A. Автор: Mitsuya Sato. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2009-01-16.

Stage apparatus and exposure apparatus

Номер патента: TW200811611A. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-03-01.

Exposure apparatus and control method, and apparatus manufacturing method thereof

Номер патента: TW201102766A. Автор: Tetsuo Ohnuma. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2011-01-16.

A moving body device, an exposure apparatus, a pattern forming apparatus, and an element manufacturing method

Номер патента: TWI451212B. Автор: 牧野內進. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2014-09-01.

Illuminance measurement apparatus and illuminance measurement method, device manufacturing method and exposure apparatus

Номер патента: TW516094B. Автор: Tsuyoshi Fujinaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-01-01.

Laser interferometer displacement measuring system, exposure apparatus, and electron beam lithography apparatus

Номер патента: US20040057055A1. Автор: Sumio Hosaka,Fumio Isshiki,Masakazu Sugaya,Tatsundo Suzuki,Masahiro Yamaoka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-03-25.

Exposure apparatus, method of manufacturing device, method applied to exposure apparatus and computerreadable medium

Номер патента: TW200900870A. Автор: Osamu Morimoto. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2009-01-01.

Method of obtaining array of plurality of regions on substrate, exposure apparatus, method of manufacturing article, non-transitory storage medium, and information processing apparatus

Номер патента: US12130562B2. Автор: Atsushi Shigenobu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-29.

Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09690209B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method

Номер патента: US09568844B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Pattern inspection apparatus, pattern position measurement apparatus, aerial image measurement system, method for measuring aerial image,pattern position repairing apparatus, method for repairing pattern position, aerial image data processing apparatus, method for processing aerial image data, pattern exposure apparatus, method for exposing pattern, method for manufacturing mask, and mask manufacturing system

Номер патента: US20180293720A1. Автор: Dirk Beyer,Thomas Scheruebl,Manabu Isobe,Shusuke Yoshitake,Sven Heisig. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-10-11.

PULSED LIGHT GENERATING METHOD, PULSE LASER APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS HAVING PULSE LASER APPARATUS, AND INSPECTION APPARATUS HAVING PULSE LASER APPARATUS

Номер патента: US20160359290A1. Автор: Tokuhisa Akira,Inaba Naoto. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2016-12-08.

Optical fiber for amplification, optical amplifying apparatus, light source apparatus, photo-therapy apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: CA2507479A1. Автор: Soichi Owa,Masahiro Takagi,Motoki Kakui,Akira Tokuhisa. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2006-11-16.

Processing condition determining method and apparatus, display method and apparatus, processing apparatus, measurement apparatus and exposure apparatus, substrate processing system, and program and information recording medium

Номер патента: US20080294280A1. Автор: Shinichi Okita. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-11-27.

Processing condition determining method and apparatus, display method and apparatus, processing apparatus, measurement apparatus and exposure apparatus, substrate processing system, and program and information recording medium

Номер патента: US8566756B2. Автор: Shinichi Okita. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-10-22.

The image processing method and apparatus, the measurement apparatus and apparatus, the processing apparatus, the measuring apparatus and the exposure apparatus, the substrate processing system, and the computer-readable information recording medium

Номер патента: TWI461853B. Автор: 沖田晉一. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2014-11-21.

Pattern inspection apparatus, pattern position measurement apparatus, aerial image measurement system, method for measuring aerial image, pattern position repairing apparatus, method for repairing pattern position, aerial image data processing apparatus, method for processing aerial image data, pattern exposure apparatus, method for exposing pattern, method for manufacturing mask, and mask manufacturing system

Номер патента: US10572990B2. Автор: Dirk Beyer,Thomas Scheruebl,Manabu Isobe,Shusuke Yoshitake,Sven Heisig. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2020-02-25.

Pattern inspection apparatus, pattern position measurement apparatus, aerial image measurement system, method for measuring aerial image, pattern position repairing apparatus, method for repairing pattern position, aerial image data processing apparatus, method for processing aerial image data, pattern exposure apparatus, method for exposing pattern, method for manufacturing mask, and mask manufacturing system

Номер патента: KR102068649B1. Автор: 슈스케 요시타케,마나부 이소베,쉐르블 토마스,바이어 듀크,헤이식 스붼,헤이식 스?. Владелец: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지. Дата публикации: 2020-01-21.

Alignment and exposure apparatus and method for manufacture of integrated circuits

Номер патента: US5365342A. Автор: Kazuo Takahashi,Naoki Ayata,Masao Kosugi,Mitsuaki Seki,Mitsugu Yamamura,Bunei Hamasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1994-11-15.

Charged particle beam optical apparatus, exposure apparatus, exposure method, control apparatus, control method, information generation apparatus, information generation method and device manufacturing method

Номер патента: US20200051780A1. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Charged particle beam optical apparatus, exposure apparatus, exposure method, control apparatus, control method, information generation apparatus, information generation method and device manufacturing method

Номер патента: US20210225611A1. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2021-07-22.

Damping apparatus and exposure apparatus

Номер патента: US20100001168A1. Автор: Ping-Wei Chang,Kazuaki Saiki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-01-07.

Exposure apparatus, coating/developing apparatus, method of transferring a substrate, method of producing a device, semiconductor production factory, and method of maintaining an exposure apparatus

Номер патента: EP1160839A3. Автор: Nobuyoshi c/o Canon Kabushiki Kaisha Deguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-07-14.

Pulsed light generating method, pulse laser apparatus, exposure apparatus having pulse laser apparatus, and inspection apparatus having pulse laser apparatus

Номер патента: US20160359290A1. Автор: Naoto Inaba,Akira Tokuhisa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-12-08.

Pulsed light generating method, pulse laser apparatus, exposure apparatus having pulse laser apparatus, and inspection apparatus having pulse laser apparatus

Номер патента: US10044160B2. Автор: Naoto Inaba,Akira Tokuhisa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-08-07.

Organic light-emitting device, display apparatus, image display apparatus, lighting apparatus, image formation apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US09991451B2. Автор: Jun Kamatani,Naoki Yamada,Takayuki Ito,Itaru Takaya,Minako Nakasu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-06-05.

Stage apparatus and its driving method, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20040201834A1. Автор: Shinji Uchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-14.

Stage apparatus and its driving method, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US6903807B2. Автор: Shinji Uchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-06-07.

Temperature regulating apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: TW200931187A. Автор: Yoshiyuki Okada. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2009-07-16.

Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method

Номер патента: US20160109815A1. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-04-21.

Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method

Номер патента: US20180157182A1. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-06-07.

Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method

Номер патента: US20150153660A1. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-06-04.

Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method

Номер патента: TW201216014A. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-04-16.

Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method

Номер патента: US20200356015A1. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method

Номер патента: US09921496B2. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE, DISPLAY APPARATUS, IMAGE DISPLAY APPARATUS, LIGHTING APPARATUS, IMAGE FORMATION APPARATUS, AND EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20150303385A1. Автор: Kamatani Jun,Yamada Naoki,Ito Takayuki,Nakasu Minako,Takaya Itaru. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-22.

Camera system, control method thereof, device manufacturing apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US7154537B2. Автор: Hiroshi Tanaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-26.

Image exposure apparatus

Номер патента: US20030234853A1. Автор: Yusuke Kimura. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2003-12-25.

Exposure apparatus for image formation and image formation method

Номер патента: EP1148709A3. Автор: Yoshinori Nakajima,Tetsuro Toyoshima,Nobuyuki Azuma,Tadashi Iwamatsu,Yoshinori Mutou. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2004-04-14.

Exposure apparatus

Номер патента: US7633515B2. Автор: Yasuhiro Tomioka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-15.

Exposure apparatus

Номер патента: US20070188590A1. Автор: Yasuhiro Tomioka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-08-16.

Image exposure apparatus

Номер патента: US20010052972A1. Автор: Takao Ozaki. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2001-12-20.

Light amount adjustment method for use in image exposure apparatus

Номер патента: US20050057681A1. Автор: Kenji Yokota,Katsuto Sumi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-03-17.

Electron beam irradiation apparatus, electron beam exposure apparatus, and defect detection method

Номер патента: US6784426B2. Автор: Takayuki Sugiura,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2004-08-31.

Charged beam exposure apparatus having blanking aperture and basic figure aperture

Номер патента: US20020011574A1. Автор: Tetsuro Nakasugi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-01-31.

ORGANIC COMPOUND, FIELD ELEMENT, ORGANIC LIGHT-EMITTING ELEMENT, DISPLAY APPARATUS, IMAGE INFORMATION-PROCESSING APPARATUS, LIGHTING APPARATUS, IMAGE-FORMING APPARATUS, AND EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20170155059A1. Автор: Kamatani Jun,Yamada Naoki,Nishide Yosuke,Miyashita Hirokazu,TAKAHASHI Tetsuo,Kosuge Tetsuya,Itabashi Masumi,Shiobara Satoru. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2017-06-01.

Organic compound, field element, organic light-emitting element, display apparatus, image information-processing apparatus, lighting apparatus, image-forming apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US9882148B2. Автор: Jun Kamatani,Naoki Yamada,Tetsuya Kosuge,Yosuke Nishide,Hirokazu Miyashita,Tetsuo Takahashi,Satoru Shiobara,Masumi Itabashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Organic compound, field element, organic light-emitting element, display apparatus, image information-processing apparatus, lighting apparatus, image-forming apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: EP3160944A1. Автор: Jun Kamatani,Naoki Yamada,Tetsuya Kosuge,Yosuke Nishide,Hirokazu Miyashita,Tetsuo Takahashi,Satoru Shiobara,Masumi Itabashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-05-03.

Organic compound, field element, organic light-emitting element, display apparatus, image information-processing apparatus, lighting apparatus, image-forming apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: EP3160944B1. Автор: Jun Kamatani,Naoki Yamada,Tetsuya Kosuge,Yosuke Nishide,Hirokazu Miyashita,Tetsuo Takahashi,Satoru Shiobara,Masumi Itabashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-12-12.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20120126136A1. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-24.

Magnetic shunt assembly for an exposure apparatus

Номер патента: US20030102438A1. Автор: Michael Sogard. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-06-05.

Exposure apparatus and method of manufacturing display device using the same

Номер патента: US20230326784A1. Автор: Dongwon HAN,Seung-Wan Kim,Eunho JUNG,Jaecheol LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09892884B2. Автор: Dong-gun Lee,Su-Young Lee,Rae-Won Yi,Byoung-Sup Ahn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-13.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09859099B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US09478396B2. Автор: Akio Yamada,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle beam exposure apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US5401974A. Автор: HIROSHI Yasuda,Yasushi Takahashi,Moritaka Nakamura,Soichiro Arai,Kiichi Sakamoto,Takamasa Satoh,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1995-03-28.

Demagnification measurement method for charged particle beam exposure apparatus, stage phase measurement method for charged particle beam exposure apparatus, control method for charged particle beam exposure apparatus, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20040183036A1. Автор: Shinsuke Nishimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-23.

Magnetic object lens for an electron beam exposure apparatus which processes a wafer carried on a continuously moving stage

Номер патента: US4929838A. Автор: HIROSHI Yasuda,Masahiko Suzuki, deceased. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1990-05-29.

Exposure apparatus, coating/developing system, device manufacturing system, device manufacturing method, semiconductor manufacturing factory, and exposure apparatus maintenance method

Номер патента: US20020011207A1. Автор: Shigeyuki Uzawa,Izumi Tsukamoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-31.

Stocker, exposure apparatus, device manufacturing method, semiconductor manufacturing factory, and exposure apparatus maintenance method

Номер патента: US20010027351A1. Автор: Seiji Takeuchi,Eiichi Murakami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-04.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: US20200194214A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Derk Ferdinand WALVOORT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-06-18.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: EP3665716A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Derk Ferdinand WALVOORT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-06-17.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: NL2021299A. Автор: Hendrik Vincent Van Veen Alexander,Ferdinand Walvoort Derk. Владелец: Mapper Lithography Ip Bv. Дата публикации: 2019-02-18.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: US20230335366A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Derk Ferdinand WALVOORT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-19.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: NL2021299B1. Автор: Hendrik Vincent Van Veen Alexander,Ferdinand Walvoort Derk. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-05-29.

X-ray exposure apparatus

Номер патента: US5729587A. Автор: Roland Betz. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1998-03-17.

Electron-beam exposure apparatus

Номер патента: US4879473A. Автор: Masahiko Sakamoto,Susumu Hoshinouchi,Nobuyuki Zumoto. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1989-11-07.

Phosphor screen exposure apparatus

Номер патента: US4187013A. Автор: Takasi Fujimura,Syokichi Endo. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1980-02-05.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8618516B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-12-31.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8981321B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-03-17.

Narrow-band laser device for exposure apparatus

Номер патента: US7792176B2. Автор: Osamu Wakabayashi. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2010-09-07.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US20160133438A1. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-05-12.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US9607807B2. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Automatic exposure apparatus for panoramic x-ray equipment

Номер патента: US5425065A. Автор: Erkki Jarvenin. Владелец: Instrumentarium Oyj. Дата публикации: 1995-06-13.

Substrate storage container and exposure apparatus

Номер патента: US9472430B2. Автор: Osamu Tanaka,Kohei SHIBANO,Keigo Toriumi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Particle-beam exposure apparatus with overall-modulation of a patterned beam

Номер патента: WO2007112465A1. Автор: Elmar Platzgummer. Владелец: IMS Nanofabrication AG. Дата публикации: 2007-10-11.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20160314934A1. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-27.

Exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20170053773A1. Автор: Dong-gun Lee,Su-Young Lee,Rae-Won Yi,Byoung-Sup Ahn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-02-23.

Pellicle, mask, mask forming apparatus, mask forming method, exposure apparatus, device fabricating method, and foreign matter detecting apparatus

Номер патента: WO2010126166A1. Автор: Noritsugu Hanazaki. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2010-11-04.

Detection apparatus, measurement apparatus, exposure apparatus, method of manufacturing article, and measurement method

Номер патента: US09534888B2. Автор: Akio Akamatsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Measurement apparatus, measurement method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20090274963A1. Автор: Akinori Ohkubo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-11-05.

Light intensity distribution measurement apparatus and measurement method, and exposure apparatus

Номер патента: US20090180094A1. Автор: Akinori Ohkubo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-07-16.

Surface positioning detecting apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09594316B2. Автор: YASUHIRO Hidaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Information processing apparatus, inspection method, storage medium, exposure apparatus, determination method, and article manufacturing method

Номер патента: US20220100081A1. Автор: Mitsuru Inose. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-03-31.

Information processing apparatus, information processing method, storage medium, exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: EP4332679A2. Автор: Yoshihiro Omameuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Method of aligning an exposure apparatus, method of exposing a photoresist film using the same and exposure apparatus for performing the method of exposing a photoresist film

Номер патента: US20130077075A1. Автор: Sang-hyun Park,Dong-Min Kim,Sang-min Lee,Ki-Hyun Kim,Dong-seok Baek,Sang-Don Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-03-28.

Measurement apparatus and exposure apparatus

Номер патента: US8184263B2. Автор: Yasunori Furukawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-22.

Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: WO2009020222A1. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2009-02-12.

Position detection apparatus, exposure apparatus, and device fabrication method

Номер патента: US20110051111A1. Автор: Tadaki MIYAZAKI. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-03-03.

Analyzing apparatus, processing apparatus, measuring instrument, exposure apparatus, substrate processing system, analysis method, and program

Номер патента: TW200719397A. Автор: Shinichi Okita. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-05-16.

Substrate holding apparatus and exposure apparatus

Номер патента: EP1280188A3. Автор: Toshinobu Canon Kabushiki Kaisha Tokita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-02-18.

Particle inspection apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20090207406A1. Автор: Atsushi Kawahara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-08-20.

Particle inspection apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20100273115A1. Автор: Atsushi Kawahara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-10-28.

Detection apparatus, alignment microscope, and exposure apparatus

Номер патента: US20240241457A1. Автор: Naoya SOHARA. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-07-18.

Particle inspection apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: EP2093611A3. Автор: Atsushi Kawahara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-06-27.

Exposure apparatus, exposing method, device manufacturing method, program, and recording medium

Номер патента: US09910365B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Measurement apparatus, exposure apparatus, measurement method, and recording medium

Номер патента: US09910363B2. Автор: Takaki Hashimoto,Ai Furubayashi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Stage apparatus and exposure apparatus

Номер патента: US09557656B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Exposure apparatus with detection apparatus for detection of upper and lower surface marks, and device manufacturing method

Номер патента: US09523927B2. Автор: Hironori Maeda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-20.

Stage apparatus, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: TW200915011A. Автор: Yoshihisa Hiyama. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2009-04-01.

Determination method, exposure method, method of manufacturing article, information processing apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US20240176250A1. Автор: Atsushi Takagi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Optical stop apparatus and exposure apparatus having the same

Номер патента: US7126766B2. Автор: Hiroyuki Tomita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-10-24.

Exposure apparatus and apparatus manufacturing method

Номер патента: TWI408510B. Автор: Kyoichi Miyazaki,Fumiyasu Ohno. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2013-09-11.

Measurement apparatus, measurement method, exposure apparatus, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: TW201007370A. Автор: Takeshi Suzuki,Yoshiyuki Kuramoto. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2010-02-16.

Measurement apparatus and exposure apparatus

Номер патента: TW200951417A. Автор: Yasunori Furukawa. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2009-12-16.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8253931B2. Автор: Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-08-28.

Driving apparatus and exposure apparatus using the same and device manufacturing method

Номер патента: TW200923588A. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2009-06-01.

Stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: TW200903578A. Автор: Shinji Ohishi. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2009-01-16.

Measurement apparatus, exposure apparatus, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: TW200842518A. Автор: Kazuhiro Takahashi,Masaki Tokurakawa. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2008-11-01.

Wavefront aberration measuring apparatus, wavefront aberration measuring method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: TW200947161A. Автор: Kazuki Yamamoto. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2009-11-16.

Method of obtaining array of plurality of regions on substrate, exposure method, exposure apparatus, method of manufacturing article, non-transitory computer-readable storage medium, and information processing apparatus

Номер патента: US20240288781A1. Автор: Ryota Makino,Mitsuru Inose. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20100060872A1. Автор: Hideki Matsumoto,Shin Takano,Yoshihiro Omameuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-03-11.

Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09946171B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Encoder device, method for measuring moving amount, optical apparatus, exposure apparatus, exposure method and method for producing device

Номер патента: US09939293B2. Автор: Zhigiang Liu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Exposure apparatus, movable body apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09798252B2. Автор: Tomoki Miyakawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Exposure apparatus, movable body drive system, pattern formation apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09690205B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Illumination apparatus, projection exposure apparatus including the illumination apparatus, projection exposure method using the illumination apparatus, and adjustment method of the projection exposure apparatus

Номер патента: JP4065923B2. Автор: 秀基小松田. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-03-26.

Position detecting apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US5684569A. Автор: Masahiro Nakagawa,Ayako Sugaya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-11-04.

Positioning apparatus and exposure apparatus, method of operating a positioning apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP1947512A3. Автор: Keiji Emoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-08-31.

Optical apparatus, photomask inspecting apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US20090244531A1. Автор: Akira Takada. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 2009-10-01.

Image forming apparatus and exposure apparatus

Номер патента: EP4339706A3. Автор: Daisuke Akagi,Hirotaka Seki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-17.

Method and apparatus for individual holographic drum exposure

Номер патента: DE102007042385A1. Автор: André Dr. Leopold,Christian Kunath,Jens Ehreke,Gerhard Dr. Hochenbleicher,Michael Langgassner,Christian Klepzig. Владелец: BUNDESDRUCKEREI GMBH. Дата публикации: 2009-03-05.

Method and Device for Individual Holographic Drum Exposure

Номер патента: US20100253987A1. Автор: Christian Kunath,Jens Ehreke,Michael Langgassner,Christian Klepzig,Gerhard Hochenbleicher,André Leopold. Владелец: BUNDESDRUCKEREI GMBH. Дата публикации: 2010-10-07.

Photoconductive drum exposure prevention structure

Номер патента: GB9107601D0. Автор: . Владелец: Asahi Optical Industries Co Ltd. Дата публикации: 1991-05-29.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: TWI306811B. Автор: Hidekazu Kobayashi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-03-01.

Controlling exposure apparatus used in image forming apparatus

Номер патента: US20240111248A1. Автор: Izuru Horiuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Inner drum tripod and drum washing machine

Номер патента: US20190276970A1. Автор: FEI Yang,Sheng Xu,Yanfen LV,Huacheng SONG. Владелец: Qingdao Haier Drum Washing Machine Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-12.

Inner drum assembly and laundry treatment apparatus

Номер патента: EP4202107A1. Автор: Jia Wang,Weiguo Yang,Fei KANG. Владелец: Wuxi Little Swan Electric Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-28.

Actuating cover with inner drum

Номер патента: EP4177183A1. Автор: Vicente Blasco Feo. Владелец: Zenit Estudio de Diseno e Innovacion SL. Дата публикации: 2023-05-10.

Washing machine inner drum and washing machine having same

Номер патента: US20160215431A1. Автор: Jun Wu,Peishi Lv,Wenwei Li,Jinkai Wang. Владелец: Qingdao Haier Drum Washing Machine Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-28.

Inner drum type image recording device

Номер патента: US20010017648A1. Автор: Yuji Tanaka,Hajime Morita. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-30.

Inner drum

Номер патента: US11965561B2. Автор: Frank C. Kuperman. Владелец: Revmax Performance LLC. Дата публикации: 2024-04-23.

Exposure apparatus for posterior spinal minimally invasive screw placement surgery

Номер патента: US09439641B2. Автор: Jian Tang,Xiaojian Cao,Haijun Li,Hao XIE. Владелец: Jiangsu Province Hospital First Affiliated Hospital With Nanjing Medical University. Дата публикации: 2016-09-13.

Exposure apparatus for paraspinal muscle clearance approach with posteriorspinal small incision

Номер патента: US09439638B2. Автор: Jian Tang,Xiaojian Cao,Haijun Li,Hao XIE. Владелец: Jiangsu Province Hospital First Affiliated Hospital With Nanjing Medical University. Дата публикации: 2016-09-13.

Light-exposure apparatus

Номер патента: RU2491106C2. Автор: Тосеи ХАМАДА,Масако ЯМАСАКИ,Такаси МАЦУДЗАКИ. Владелец: ПАНАСОНИК КОРПОРЭЙШН. Дата публикации: 2013-08-27.

Light exposure apparatus

Номер патента: US20190030360A1. Автор: Tomoya Iwahashi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-31.

Inner drum-type image forming apparatus

Номер патента: EP1694050B1. Автор: Yoshinori Kato,Hiroshi Matsuoka. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-04-18.

Exposure apparatus having image display function, and electronic camera, data terminal, and portable communication apparatus having exposure function

Номер патента: WO2001010114A1. Автор: Toru Nakazawa. Владелец: Nippon Polaroid Kabushiki Kaisha. Дата публикации: 2001-02-08.

Camera system, control method thereof, device manufacturing apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20030128277A1. Автор: Hiroshi Tanaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-07-10.

Electric cable winding gear - has outer drum to take cable and transfer it to coaxial inner drum rotating in same direction

Номер патента: FR2385632A1. Автор: Pierre Lajus. Владелец: RADIOLOGIA SP COMP GEN. Дата публикации: 1978-10-27.

Mini-environment pod device, an exposure apparatus and a device manufacturing method using the same

Номер патента: US20070175838A1. Автор: Mitsuji Marumo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-08-02.

Laser oscillating apparatus, exposure apparatus, and device fabrication method

Номер патента: US6801554B1. Автор: Tadahiro Ohmi,Hiroshi Ohsawa,Nobumasa Suzuki,Nobuyoshi Tanaka,Masaki Hirayama,Toshikuni Shinohara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-05.

Electrostatic deflector for electron beam exposure apparatus

Номер патента: US20010045528A1. Автор: Hitoshi Tanaka,Takeshi Haraguchi,Tomohiko Abe,Ryoji Kato,Yoshihisa Ooae,Kazuto Ashiwara. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2001-11-29.

Electrostatic deflector for electron beam exposure apparatus

Номер патента: US20020020354A1. Автор: Hitoshi Tanaka,Takeshi Haraguchi,Tomohiko Abe,Ryoji Kato,Yoshihisa Ooae,Kazuto Ashiwara. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2002-02-21.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: IL272370B2. Автор: . Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-01.

Image pickup apparatus, method of manufacturing the same, exposure apparatus using image pickup apparatus, measuring apparatus, alignment apparatus, and astigmatism measuring apparatus

Номер патента: KR20010090448A. Автор: 나루이타다시,아카가와게이이치. Владелец: 시마무라 테루오. Дата публикации: 2001-10-18.

method for manufacturing a inner drum under drive clutch and cold forging device for manufacturing the inner drum under drive clutch

Номер патента: KR101649957B1. Автор: 김정규,손일호,손정대. Владелец: 경창산업주식회사. Дата публикации: 2016-08-22.

Drum washing machine with improved washing or rinsing liquid feed into inner drum, has motor rotor and drum held in water input position by activating motor winding strand after loading

Номер патента: DE10064549A1. Автор: Harald Moschuetz,Gundula Czyzewski,Joerg Skrippek,Guenter Steffens,Martina Woebkemeier. Владелец: BSH BOSCH UND SIEMENS HAUSGERAETE GMBH. Дата публикации: 2002-06-27.

INNER DRUM TRIPOD AND DRUM WASHING MACHINE

Номер патента: US20190276970A1. Автор: Yang Fei,Xu Sheng,LV Yanfen,SONG HUACHENG. Владелец: Qingdao Haier Drum Washing Machine Co., Ltd.. Дата публикации: 2019-09-12.

Discharging blades provided on an inner drum and springing against the centrifugal drum

Номер патента: DE548955C. Автор: . Владелец: WILHELM GENSECKE DR ING. Дата публикации: 1932-04-21.

Top-opening drum washing machine and inner drum thereof

Номер патента: CN109554893B. Автор: 陈涛,王开明,翟清明. Владелец: 合肥海尔滚筒洗衣机有限公司. Дата публикации: 2022-04-12.

Washing machine inner drum and outer drum coordinating anti-overflow structure

Номер патента: CN106676845A. Автор: 陈树新. Владелец: Suzhou Samsung Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-17.

Eddy current seperator unit having a magnetic rotor positioned eccentrically inside an outer drum and coaxially inside an inner drum.

Номер патента: NL2011525C2. Автор: Jorrit Tuip. Владелец: Recco B V. Дата публикации: 2015-04-01.

Inner drum type image recording device

Номер патента: EP1112842B1. Автор: Hajime c/o Fuji Photo Film Co. Ltd. Morita,Yuji c/o Fuji Photo Film Co. Ltd. Tanaka. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-08-15.

Inner drum assembly and laundry treatment apparatus

Номер патента: EP4202107A4. Автор: Jia Wang,Weiguo Yang,Fei KANG. Владелец: Wuxi Little Swan Electric Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

WASHING MACHINE INNER DRUM AND WASHING MACHINE HAVING SAME

Номер патента: US20160215431A1. Автор: Wu Jun,Lv Peishi,LI Wenwei,WANG Jinkai. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-28.

INNER DRUM FOR WASHING MACHINE AND WASHING MACHINE

Номер патента: US20170226681A1. Автор: LI Quande,CHEN Zhi,Xiao Lei,Lv Peishi,Ito Michiaki,CHI ZONGRUI,LUAN HOULI. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-10.

INNER DRUM AND NO-CLEAN WASHING MACHINE

Номер патента: US20200407906A1. Автор: Wu Di,Li Yimin,Lv Peishi,LAO Chunfeng,HAO Xinghui. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

Security document shredding machine - has rotating inner drum with two retractable bolts working together with milling cutter

Номер патента: FR2365373A1. Автор: Maurice Goin. Владелец: DESTRUCTEURS INDLS EXPLOIT. Дата публикации: 1978-04-21.

Safety device on machines with moving inner drums, in particular on washing machines

Номер патента: DE813548C. Автор: Erich Kapp. Владелец: Individual. Дата публикации: 1951-09-13.

Inner drum of clothes treatment device and clothes treatment device

Номер патента: CN114717816A. Автор: 王嘉,林光芳,苗雨来,薛二鹏,高弘锡,李事成. Владелец: Wuxi Little Swan Electric Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-08.

Washing machine inner drum and washing machine

Номер патента: EP3199687B1. Автор: Michiaki Ito,LEI XIAO,Zhi Chen,Peishi Lv,Quande LI,Zongrui Chi,Houli LUAN. Владелец: Qingdao Haier Drum Washing Machine Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-22.

Compost appts. - has ring zone between outer housing and inner drum with grinding and carrier bars

Номер патента: DE4205125A1. Автор: Christoph Henzler,Klaus Pfaff. Владелец: Klaus Pfaff. Дата публикации: 1993-08-26.

Solid-phase fermenter, useful for contamination-free culturing of microorganisms on a solid substrate, comprises rotationally symmetric reactor, outer and inner drums in heating chamber, septum integrated in nozzle and viewing glasses

Номер патента: DE102010010293A1. Автор: Matthias Müller,Katrin Frankenfeld. Владелец: fzmb Forschungszentrum fur Medizintechnik und Biotechnologie GmbH. Дата публикации: 2011-09-08.

Washing machine inner drum and washing machine

Номер патента: WO2019007435A1. Автор: 李洋,许升,吕艳芬. Владелец: 青岛海尔洗衣机有限公司. Дата публикации: 2019-01-10.

Washing machine and washing machine inner drum limiting method

Номер патента: CN103911807A. Автор: 尹翔,劳春峰. Владелец: Haier Group Technology Research and Development Center. Дата публикации: 2014-07-09.

Water drainage control mechanism for an inner drum, and washing machine

Номер патента: EP3346044A1. Автор: Lin Yang,Jie Xu,Dafeng FANG,Lingchen Wang,Baozhen Cheng,Hai SHU. Владелец: Qingdao Haier Washing Machine Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-11.

Inner drum brake for rail vehicles

Номер патента: DE626064C. Автор: . Владелец: Bergische Stahl Industrie. Дата публикации: 1936-02-20.

Abrasion adjusting device of inner drum brake

Номер патента: JPS5635827A. Автор: Piusu Baake Jiyon,Jiyon Yangu Arasuteaa. Владелец: Automotive Products PLC. Дата публикации: 1981-04-08.

Tool cabinet on castors, comprises rotating inner drum and cylindrical outer cover

Номер патента: DE202006011597U1. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-05.

Laundry machine and dual-floating-valve drainage method for pore-free inner drum of impeller (stirred) laundry machine

Номер патента: CN106609443A. Автор: 黄世福. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-05-03.

Washing machine with a locking mechanism for an inner drum

Номер патента: EP3346039C0. Автор: Lin Yang,Jie Xu,Peishi Lv,Dafeng FANG,Lingchen Wang. Владелец: Qingdao Jiaonan Haier Washing Machine Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-10.

Washing machine with a locking mechanism for an inner drum

Номер патента: EP3346039B1. Автор: Lin Yang,Jie Xu,Peishi Lv,Dafeng FANG,Lingchen Wang. Владелец: Qingdao Jiaonan Haier Washing Machine Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-10.

Locking mechanism for inner drum and washing machine

Номер патента: EP3346042A4. Автор: Lin Yang,Jie Xu,Peishi Lv,Dafeng FANG,Lingchen Wang. Владелец: Qingdao Haier Washing Machine Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-29.

Exposure apparatus

Номер патента: WO2009106349A1. Автор: OCHEL Wolfgang,Peter Schnell,Falk Radtke,Jan VERBEECK,Ben Van Thielen,Guy Vandenberghen. Владелец: PHILIP MORRIS PRODUCTS S.A.. Дата публикации: 2009-09-03.

Exposure apparatus

Номер патента: EP2259747A1. Автор: OCHEL Wolfgang,Peter Schnell,Falk Radtke,Jan VERBEECK,Ben Van Thielen,Guy Vandenberghen. Владелец: PHILIP MORRIS PRODUCTS SA. Дата публикации: 2010-12-15.

Substance exposure apparatus

Номер патента: US09931629B2. Автор: Justin John Cooper-White,Drew Murray TITMARSH. Владелец: University of Queensland UQ. Дата публикации: 2018-04-03.

COOLING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS INCLUDING COOLING APPARATUS, AND INDUSTRIAL APPARATUS INCLUDING COOLING APPARATUS

Номер патента: US20210080164A1. Автор: Suzuki Yuusuke,ISHIHAMA Hitoshi,NAGATA Masakazu. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-18.

LOCAL EXPOSURE APPARATUS, LOCAL EXPOSURE METHOD AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002183A1. Автор: Tanaka Shigeki,Matsumura Yuki,Ota Yoshiharu,MORIYAMA Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.