Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Exposure apparatus, movable body apparatus, and device manufacturing method

Exposure apparatus, movable body apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09798252B2
Опубликовано: 24-10-2017
Автор(ы): Tomoki Miyakawa
Принадлежит: Nikon Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: EP4455793A2. Автор: Junichi Motojima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: US20240361707A1. Автор: Junichi Motojima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US9772564B2. Автор: YASUSHI Yoda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20230393486A1. Автор: Keiji Emoto,Mamoru Kaneishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US12072638B2. Автор: Yuki Saito,Kazuki Ota,Masaki Imai,Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Exposure apparatus, exposure method and article manufacturing method

Номер патента: US20240053686A1. Автор: Masaki Imai,Mamoru Kaneishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Exposure apparatus, exposure method and article manufacturing method

Номер патента: EP4321932A1. Автор: Masaki Imai,Mamoru Kaneishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-14.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US11762299B2. Автор: Keiji Emoto,Mamoru Kaneishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US20240061350A1. Автор: Yuki Saito,Kazuki Ota,Masaki Imai,Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-22.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US11835869B2. Автор: Yuki Saito,Kazuki Ota,Masaki Imai,Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Exposure apparatus, method of controlling the same, and manufacturing method

Номер патента: US20080259347A1. Автор: Yasutomo Kurono. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-10-23.

Deformation measuring apparatus, exposure apparatus, jig for deformation measuring apparatus, position measuring method and device manufacturing method

Номер патента: TW201003053A. Автор: Norihiko Fujimaki,Takahide Kamiyama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-01-16.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09910371B2. Автор: Kentaro Kawanami. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090040499A1. Автор: Fumitake Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method

Номер патента: US09442396B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Exposure apparatus, photolithographical reticles and exposure methods thereof

Номер патента: US20150205215A1. Автор: Yang Liu,Qiang Wu,Chang Liu,Huayong Hu,Jing'an HAO. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2015-07-23.

Exposure apparatus, photolithographical reticles and exposure methods thereof

Номер патента: US09606451B2. Автор: Yang Liu,Qiang Wu,Chang Liu,Huayong Hu,Jing'an HAO. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20240231238A9. Автор: Shohei Iwata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US09811004B2. Автор: Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Exposure apparatus, stage apparatus, and device fabrication method for transferring a pattern of a reticle onto a substrate

Номер патента: US09632432B2. Автор: Takashi Hayakawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09557657B2. Автор: Satoru Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Exposure mask manufacturing method, drawing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and mask blanks product

Номер патента: US20090227112A1. Автор: Masamitsu Itoh. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2009-09-10.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US7639344B2. Автор: Fumitake Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-29.

Exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US09829794B2. Автор: Nobuyuki Saito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09720333B2. Автор: Daisuke Kobayashi,Ryo Koizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09329498B2. Автор: Hiroshi Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-05-03.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090303483A1. Автор: Osamu Morimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-10.

Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190271922A1. Автор: Manabu Takakuwa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-09-05.

Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US10921722B2. Автор: Manabu Takakuwa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2021-02-16.

Exposure apparatus

Номер патента: US20240329545A1. Автор: Naoya SOHARA. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-10-03.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09665012B2. Автор: Edo Maria Hulsebos. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-05-30.

Measurement method, exposure method, exposure apparatus, and device fabrication method

Номер патента: US20080170240A1. Автор: Kenji Yamazoe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-07-17.

Production control method for a projection exposure apparatus, projection exposure apparatus, and projection exposure method

Номер патента: WO2024099795A1. Автор: Martin Leuermann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-16.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20240134286A1. Автор: Shohei Iwata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Radiation reduction exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US6014421A. Автор: Yuji Chiba,Masami Tsukamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-01-11.

Projection exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US5539497A. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-07-23.

Scanning exposure apparatus

Номер патента: US6954259B2. Автор: Takehiko Iwanaga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-10-11.

Exposure apparatus, exposure method, and device fabrication method

Номер патента: US20140240687A1. Автор: Takanori Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-08-28.

Exposure apparatus to correct position between reticle and substrate according to propagation time and shifting rate

Номер патента: US8179518B2. Автор: Yukio Takabayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-15.

Vibration isolator and exposure apparatus

Номер патента: US6038013A. Автор: Tatsuya Ohsaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-03-14.

Exposure apparatus

Номер патента: US6049372A. Автор: Kinya Kato,Kei Nara,Yukio Kakizaki,Hiroshi Shirasu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-04-11.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20140340661A1. Автор: Hiroshi Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-11-20.

Substrate transport apparatus and substrate transport method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing apparatus and device manufacturing method

Номер патента: JP4319188B2. Автор: 篤 太田,貴史 堀内. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-08-26.

Substrate conveyance device and substrate conveyance method, exposure apparatus and exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method

Номер патента: US20110261330A1. Автор: Takashi Horiuchi,Atsushi Ohta. Владелец: Zao Nikon Co Ltd. Дата публикации: 2011-10-27.

Substrate conveyance device and substrate conveyance method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method

Номер патента: US7995186B2. Автор: Takashi Horiuchi,Atsushi Ohta. Владелец: Zao Nikon Co Ltd. Дата публикации: 2011-08-09.

Substrate conveyance device and substrate conveyance method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method

Номер патента: US8107055B2. Автор: Takashi Horiuchi,Atsushi Ohta. Владелец: Zao Nikon Co Ltd. Дата публикации: 2012-01-31.

Substrate conveyance device and substrate conveyance method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method

Номер патента: US9110381B2. Автор: Takashi Horiuchi,Atsushi Ohta. Владелец: Miyagi Nikon Precision Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-18.

Substrate conveyance device and substrate conveyance method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method

Номер патента: US9097986B2. Автор: Takashi Horiuchi,Atsushi Ohta. Владелец: Miyagi Nikon Precision Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-04.

Substrate conveyance device and substrate conveyance method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method

Номер патента: US20070296940A1. Автор: Takashi Horiuchi,Atsushi Ohta. Владелец: Zao Nikon Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-27.

Substrate conveyance device and substrate conveyance method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method

Номер патента: US20070110916A1. Автор: Takashi Horiuchi,Atsushi Ohta. Владелец: Zao Nikon Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-17.

Inert gas purge method and apparatus, exposure apparatus, reticle stocker, reticle inspection apparatus, reticle transfer box, and device manufacturing method

Номер патента: US6833903B2. Автор: Takashi Kamono. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-12-21.

Projection optical apparatus, exposure method and apparatus, photomask, and device and photomask manufacturing method

Номер патента: US20080165334A1. Автор: Hitoshi Hatada,Masato Kumazawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-07-10.

Control apparatus and control method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method, data generating method and program

Номер патента: US20200257205A1. Автор: Satoshi Yashiki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: WO2010032877A1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2010-03-25.

Immersion exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090091721A1. Автор: Kaoru Ogino. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-04-09.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09523926B2. Автор: Noriyasu Hasegawa,Atsushi Umemura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-20.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09915878B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09726981B2. Автор: Ryo Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Exposure apparatus, exposing method, device manufacturing method, program, and recording medium

Номер патента: US09494870B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Maskless exposure apparatus and method, and manufacturing method of a semiconductor device including the maskless exposure method

Номер патента: US20210165331A1. Автор: Sang-hyun Park,Jae-Young Jang,Eui-seok Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-06-03.

Exposure apparatus

Номер патента: EP4443242A1. Автор: Yi Lu,Keqiang Li,Xiaosong Liu,Zhiyang Wu. Владелец: Contemporary Amperex Technology Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Mask blank transparent substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, and exposure mask manufacturing method

Номер патента: US20110027701A1. Автор: Masaru Tanabe. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-02-03.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20140104590A1. Автор: Kouji Yoshida,Mitsuo Hirata,Tomohiro Harayama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and device

Номер патента: EP4325294A1. Автор: Yoji Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-02-21.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20160370708A1. Автор: Tetsuya Yamamoto,Hirotaka Sano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-22.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US09946164B2. Автор: Tetsuya Yamamoto,Hirotaka Sano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Position measurement apparatus, imaging apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20080144047A1. Автор: Nozomu Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-06-19.

Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and device

Номер патента: US20240184214A1. Автор: Yoji Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Maskless exposure apparatus and method

Номер патента: US9052599B2. Автор: Sung Min Ahn,Sang Don Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2015-06-09.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20140125960A1. Автор: Bunsuke Takeshita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-05-08.

Exposure apparatus and prevention method and system for image offset thereof

Номер патента: US10359709B2. Автор: Chun-Bin Wen. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-23.

Exposure Apparatus and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20080316450A1. Автор: Yuji Kosugi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-12-25.

Exposure apparatus, exposure method, and exposure mask

Номер патента: EP1782456A4. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-07-30.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US20110026005A1. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-02-03.

Exposure apparatus and metrology measurement system

Номер патента: WO2024223169A1. Автор: Thomas Martinus Petrus GOMMANS,Tim Gerardus Hendrikus TER HUURNE. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-10-31.

Exposure apparatus and metrology measurement system

Номер патента: EP4455782A1. Автор: Thomas Martinus Petrus GOMMANS,Tim Gerardus Hendrikus TER HUURNE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-30.

Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method

Номер патента: US7557900B2. Автор: Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-07-07.

Scanning exposure apparatus, manufacturing method thereof, and device manufacturing method

Номер патента: US20030133087A1. Автор: Shinichi Shima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-07-17.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090237633A1. Автор: Shinichi Shima,Yasuo Takama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-09-24.

Exposure apparatus

Номер патента: US20240264541A1. Автор: Yi Lu,Keqiang Li,Xiaosong Liu,Zhiyang Wu. Владелец: Contemporary Amperex Technology Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09939740B2. Автор: Jeroen Gerard Gosen,Koen Cuypers,Günes NAKIBOGLU,Laurentius Johannes Adrianus Van Bokhoven,Frank Johannes Jacobus Van Boxtel,Martijn Van Baren. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-04-10.

Exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09915882B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

exposure apparatus, device manufacturing method and maintenance method

Номер патента: EP2256790A2. Автор: Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-12-01.

Exposure apparatus

Номер патента: US20240329549A1. Автор: Hiroyuki Suzuki,Naoya SOHARA. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2024-10-03.

Illumination apparatus, projection exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US20060164622A1. Автор: Shinichi Hara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-07-27.

Holographic exposure apparatuses

Номер патента: US20100208226A1. Автор: Sung Jin Lee,Sang Wook Park,Oui Serg Kim,In Bae Jang,Sang Joon Hong,Sung Hwi Cho,Kyen Hee Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-19.

Exposure apparatus

Номер патента: US09703212B2. Автор: Masaru Suzuki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Maskless exposure apparatus and method, and manufacturing method of a semiconductor device including the maskless exposure method

Номер патента: US20200041907A1. Автор: Sang-hyun Park,Jae-Young Jang,Eui-seok Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-06.

Exposure apparatus for manufacturing semiconductors and method for inspecting pellicles

Номер патента: US20070035715A1. Автор: Yong-Hoon Lee,Yo-han Ahn,Ok-sun Lee,Hyung-Seok Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-02-15.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US9829801B2. Автор: KAZUYA Ono. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Exposure apparatus, exposure method, and exposure mask

Номер патента: EP1782456A1. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-05-09.

Exposure apparatus

Номер патента: US20090296063A1. Автор: Hans Opower. Владелец: Kleo Maschinenbau Ag. Дата публикации: 2009-12-03.

Method for manufacturing 3-D horn antenna using exposure apparatus

Номер патента: US6589434B2. Автор: Sung Moon,Jong Yeon Park. Владелец: Korea Institute of Science and Technology KIST. Дата публикации: 2003-07-08.

Exposure apparatus and wiring pattern forming method

Номер патента: US20230400773A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Scanner apparatus with twin substrate stage, semiconductor photo equipment with the apparatus and method of manufacturing a semiconductor device using the equipment

Номер патента: US20060139591A1. Автор: Joo-sung Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-06-29.

Method for distortion correction in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US7605905B2. Автор: Hans-Jürgen Mann,Bernhard Kneer,Andreas Kirchner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-10-20.

Manufacturing method for exposure mask, generating method for mask substrate information, mask substrate, exposure mask, manufacturing method for semiconductor device and server

Номер патента: US20050244726A1. Автор: Masamitsu Itoh. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-11-03.

Projection exposure apparatus and stage unit, and exposure method

Номер патента: US20110019170A1. Автор: Yasunaga Kayama,Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-01-27.

Supporting plate, stage device, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: US20090109419A1. Автор: Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-04-30.

Exposure apparatus, method thereof, and method of manufacturing article

Номер патента: SG10201901269PA. Автор: Endo Masatoshi,Motojima Junichi,Nishimura Mitsuhide. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2019-09-27.

Exposure apparatus, wafer stage and exposure order setting device

Номер патента: US20160266504A1. Автор: Masaru Suzuki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-15.

Projection exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20020039180A1. Автор: Gerd FÜRTER. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2002-04-04.

Exposure apparatus having a vibration suppressing feature and method of manufacturing device using the exposure apparatus

Номер патента: US9104121B2. Автор: Keiji Emoto,Tosiya Asano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-08-11.

Exposure apparatus

Номер патента: US5559584A. Автор: Masatoshi Ikeda,Akira Miyaji. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-09-24.

Film circuit substrate exposure apparatus

Номер патента: US5021821A. Автор: Shigeru Suzuki. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 1991-06-04.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20120170010A1. Автор: Yasuyuki Tamura,Keiji Yamashita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-07-05.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090305176A1. Автор: Tadashi Hattori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-10.

Exposure apparatus

Номер патента: US20240103372A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Exposure apparatus and original

Номер патента: US20080246939A1. Автор: Mitsuru Inoue,Masami Yonekawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-10-09.

Exposure apparatus and control method, and apparatus manufacturing method thereof

Номер патента: TW201102766A. Автор: Tetsuo Ohnuma. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2011-01-16.

CONTROL APPARATUS AND CONTROL METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, DATA GENERATING METHOD AND PROGRAM

Номер патента: US20200257205A1. Автор: YASHIKI Satoshi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2020-08-13.

X-ray exposure apparatus

Номер патента: CA2079562C. Автор: Takayuki Hasegawa,Naoto Abe,Ryuichi Ebinuma,Kazuyuki Kasumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-01-07.

Control apparatus and control method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method, data generating method and program

Номер патента: US11537051B2. Автор: Satoshi Yashiki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2022-12-27.

Exposure apparatus, liquid supply method and recovery method, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: JP5076497B2. Автор: 健一 白石. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-11-21.

SUBSTRATE CONVEYANCE DEVICE AND SUBSTRATE CONVEYANCE METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130094006A1. Автор: OHTA Atsushi,HORIUCHI Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2013-04-18.

Substrate conveyance device and substrate conveyance method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing method

Номер патента: US8345216B2. Автор: Takashi Horiuchi,Atsushi Ohta. Владелец: Zao Nikon Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-01.

Sensor, object positioning system, lithographic apparatus and device device manufacturing method

Номер патента: EP3189377A1. Автор: Ruud Antonius Catharina Maria Beerens,Sander Christiaan Broers,Theodorus Petrus Maria Cadee,Jan Van Eijk,Johannes Antonius Gerardus AKKERMANS,Hendrikus Johannes Schellens,Adrianus Marinus Wouter Heeren,Bo LENSSEN,George Alois Leonie Leenknegt,Jeroen Johannes Theodorus Hendrikus DE BEST,Richard Henricus Adrianus Van Lieshout,Peter Van Der Krieken. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-07-12.

Sensor, object positioning system, lithographic apparatus and device device manufacturing method.

Номер патента: NL2015190A. Автор: Van Eijk Jan,LENSSEN Bo,VAN DER KRIEKEN Peter,Antonius Catharina Maria Beerens Ruud,Christiaan Broers Sander,Antonius Gerardus Akkermans Johannes,Petrus Maria Cadee Theodorus,Johannes Theodorus Hendrikus De Best Jeroen,Marinus Wouter Heeren Adrianus,Alois Leonie Leenknegt George,Johannes Schellens Hendrikus,Henricus Adrianus Van Lieshout Richard. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-07-12.

Exposure apparatus, method for obtaining adjustment amount for adjustment, program, and device manufacturing method

Номер патента: JP5969848B2. Автор: 容三 深川,深川　容三,義巳 高野,諭史 久保. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-08-17.

Lithographic projection apparatus and integrated circuit device manufacturing method

Номер патента: TW573234B. Автор: Josephus Johannes Maria Braat,Florian Bociort,Matthieu Frederic Bal. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2004-01-21.

Lithographic apparatus and integrated circuit device manufacturing method

Номер патента: TWI261149B. Автор: Boeij Wilhelmus Petrus De,De Kerhof Marcus Adrianus Van,Marcel Maurice Hemerik. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-09-01.

Euv mask inspection apparatus and method, and euv mask manufacturing method including euv mask inspection method

Номер патента: US20200003685A1. Автор: Byeong-Hwan Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-01-02.

Optical mask for focus monitor, monitoring method and device, and its manufacturing method

Номер патента: CN1412620A. Автор: 中尾修治,宫本由纪,玉田尚久,前岛伸六. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-04-23.

Projection optical system inspecting method and inspection apparatus, and a projection optical system manufacturing method

Номер патента: US7843550B2. Автор: Yutaka Ichihara,Takashi Gemma,Mikihiko Ishii. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2010-11-30.

Projection optical system inspecting method and inspection apparatus, and a projection optical system manufacturing method

Номер патента: US7868997B2. Автор: Yutaka Ichihara,Takashi Gemma,Mikihiko Ishii. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-01-11.

apparatus and method for photolithography, and manufacturing method for a thin film transistor array panel of a liquid crystal display using the same

Номер патента: KR20010091119A. Автор: 윤종수,박운용. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2001-10-23.

Projection optical system inspecting method and inspection apparatus, and a projection optical system manufacturing method

Номер патента: US20070076181A1. Автор: Yutaka Ichihara,Takashi Gemma,Mikihiko Ishii. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-04-05.

Polarized light irradiation apparatus and photosensitive film-coated substrate manufacturing method

Номер патента: US10571808B2. Автор: Kohshiroh Taniike. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2020-02-25.

Polarized light irradiation apparatus and photosensitive film-coated substrate manufacturing method

Номер патента: US20190171112A1. Автор: Kohshiroh Taniike. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2019-06-06.

POLARIZED LIGHT IRRADIATION APPARATUS AND PHOTOSENSITIVE FILM-COATED SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190171112A1. Автор: TANIIKE Kohshiroh. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-06.

Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09977345B2. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09500963B2. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method

Номер патента: US09568844B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Exposure method and apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20020140915A1. Автор: Yoshinori Miwa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-03.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20100196831A1. Автор: Osamu Tsunoda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-08-05.

Method of controlling a lithographic processing cell, device manufacturing method, lithographic apparatus, track unit, lithographic processing cell, and computer program

Номер патента: US20060197929A1. Автор: Johannes Onvlee,Roel Boumen,Norbertus Van Den Nieuwelaar. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2006-09-07.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09946169B2. Автор: Masatoshi Endo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09885963B2. Автор: Hideki Matsumoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-06.

Carrier method, exposure method, carrier system and exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09835958B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20130293863A1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-11-07.

Electronic device manufacturing method and lithography control processor

Номер патента: US20240219846A1. Автор: Koichi Fujii. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-07-04.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20160091801A1. Автор: Atsushi Takagi,Tomomi Funayoshi,Yoya Muraguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-03-31.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09465303B2. Автор: Atsushi Takagi,Tomomi Funayoshi,Yoya Muraguchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09753378B2. Автор: Junichi Chonan. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7679716B2. Автор: Makoto Nomoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-03-16.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09575413B2. Автор: Atsushi Kawahara,Shinichi Egashira,Issei Funayoshi,Takuro Tsujikawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-21.

Exposure apparatus and device manufacturing method using same

Номер патента: US09568836B2. Автор: Atsushi Suzuki,Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Filter, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: EP1744218A3. Автор: Mitsuaki Amemiya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-08-19.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09612538B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Pattern exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20240255855A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno,Toshiharu Nakashima,Keisuke Hasegawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09857701B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09423299B2. Автор: Kazuki Yamamoto,Tadahiro Asaishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-08-23.

Lithography apparatus, a device manufacturing method, a method of manufacturing an attenuator

Номер патента: US09594304B2. Автор: Arno Jan Bleeker,Martinus Hendricus Henricus Hoeks. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-03-14.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09535339B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display, device manufacturing method, and exposure method

Номер патента: US20200174373A1. Автор: Yasuo Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-06-04.

Exposure apparatus and method for cleaning the same

Номер патента: US20160357117A1. Автор: Jinhong Park,Sungjoo Kim,Yun Kyeong Jang,Dohyun Seo,HyunHoon LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-08.

Exposure apparatus, alignment method, and device manufacturing method

Номер патента: US09594314B2. Автор: Takashi Ogura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Pattern exposure apparatus, device manufacturing method, and exposure apparatus

Номер патента: US20240248409A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno,Toshiharu Nakashima,Satoshi KAWADO. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Control method of movable body, exposure method, device manufacturing method, movable body apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US10520839B2. Автор: Akihiro Ueda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-12-31.

Control method of movable body, exposure method, device manufacturing method, movable body apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US11994811B2. Автор: Akihiro Ueda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-05-28.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: EP3745206A1. Автор: Ryo Koizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-12-02.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US6714281B1. Автор: Osamu Morimoto,Toshitaka Amano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-03-30.

Support plate, exposure apparatus having the support plate, and a device manufacturing method using the exposure apparatus

Номер патента: US8045138B2. Автор: Makoto Ogusu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-10-25.

Alignment system and alignment method in exposure apparatus

Номер патента: US20020024644A1. Автор: Hideki Ina,Seiji Miyata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

Light source apparatus and data processing method

Номер патента: US09841684B2. Автор: Hiroshi Tanaka,Osamu Wakabayashi,Masato Moriya,Hiroyuki Masuda,Akihiko KUROSU,Hideyuki Ochiai. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-12-12.

Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method

Номер патента: US10073359B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-09-11.

Scanning type exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US5872617A. Автор: Yasuyuki Unno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-02-16.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device fabricated with the exposure method

Номер патента: US6717652B2. Автор: Toshifumi Suganaga. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2004-04-06.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US8294875B2. Автор: Yoshinori Ohsaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-10-23.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device fabricated with the exposure method

Номер патента: US20020072000A1. Автор: Toshifumi Suganaga. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2002-06-13.

Projection exposure apparatus and method for controlling a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013185919A1. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-12-19.

Exposure apparatus, exposure method, method of manufacturing device, program, and storage medium

Номер патента: US09494876B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US09454087B2. Автор: Kenichi Kobayashi,Hitoshi Nakano,Takahito Chibana. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-09-27.

Euv exposure apparatus, and overlay correction method and semiconductor device fabricating method using the same

Номер патента: US20210333701A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Doogyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate holding apparatus, exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20190369506A1. Автор: Akihiro Takahashi,Noboru Osaka,Shunya Sakata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-12-05.

Exposure apparatus and a method for exposing a photosensitive element and a method for preparing a printing form from the photosensitive element

Номер патента: US09529263B2. Автор: Rolf Schwan,Helmut Luetke,Volker Struewe. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2016-12-27.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09500955B2. Автор: CAN Wang,Jianwei Yu. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Scanning exposure apparatus, scanning exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20020145713A1. Автор: Hiroshi Kurosawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-10-10.

Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090147231A1. Автор: Takashi Sukegawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-06-11.

Euv exposure apparatus, and overlay correction method and semiconductor device fabricating method using the same

Номер патента: US20210397079A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Doogyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-12-23.

Coating/developing apparatus and substrate transfer method

Номер патента: US20080117390A1. Автор: Akira Miyata,Tomohiro Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-05-22.

Exposure apparatuses and methods to compress exposure data

Номер патента: US20100110214A1. Автор: Sang-Il Hong,Duke Kimm,Ho Seok Choi,Jung Hyeon Kim,Sang Don Jang,Myung Ho Kim,Sang Geun Park,Dong Seok BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-05-06.

Exposure apparatuses and methods to compress exposure data

Номер патента: US8427712B2. Автор: Sang-Il Hong,Duke Kimm,Ho Seok Choi,Jung Hyeon Kim,Sang Don Jang,Myung Ho Kim,Sang Geun Park,Dong Seok BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-04-23.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US7236231B2. Автор: Takashi Nakamura,Eigo Kawakami,Hirohisa Ota,Toshinobu Tokita,Kazuyuki Kasumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-06-26.

Exposure apparatus and device manufacturing method using the same in which a door lock mechanism is controlled on the basis of temperature and an operation sequence

Номер патента: US20010038441A1. Автор: Gen Nakamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-08.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: EP3739390A1. Автор: Masatoshi Shimazaki,Atsushi Shigenobu,Yutoku Yoshioka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-11-18.

Apparatus and method for selectively exposing photosensitive materials using a spatial light modulator

Номер патента: US20040145794A1. Автор: Xiang-Dong Mi. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2004-07-29.

Exposure method, exposure apparatus and cleaning method

Номер патента: US20130201460A1. Автор: Yasuhisa Tani. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-08-08.

X-ray exposure apparatus and method, semiconductor manufacturing apparatus, and microstructure

Номер патента: US20020048341A1. Автор: Shunichi Uzawa,Yutaka Watanabe,Toyoki Kitayama,Kenji Itoga. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Measuring an optical symmetry property on a projection exposure apparatus

Номер патента: US09703205B2. Автор: Frank Schlesener,Jens Timo NEUMANN. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-11.

Control apparatus and method for controlling a manipulator in respect of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20200225587A1. Автор: Christian Wald,Bjoern Butscher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-07-16.

Exposure apparatus, device manufacturing method using same, and gas supply device

Номер патента: US20110261333A1. Автор: Naoki Yamaguchi,Yuuhei Matsumura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-10-27.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: EP4372469A3. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20080218708A1. Автор: Atsushi Kawahara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-09-11.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: US12105428B2. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09823583B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Exposure apparatus and device manufacturing method for projecting light from a secondary light source onto a mask or pattern

Номер патента: US5684567A. Автор: Takahisa Shiozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-11-04.

Exposure apparatus and method using pulsed light and changing means to control both the light intensity and light emission timing

Номер патента: US5914773A. Автор: Keiji Yoshimura,Kunitaka Ozawa,Hiroshi Kurosawa,Noriyasu Hasegawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-06-22.

Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method

Номер патента: WO2009078489A1. Автор: Takahisa Kikuchi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2009-06-25.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20130314682A1. Автор: Hiromi Kemmoku. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-11-28.

Exposure apparatus and device manufacturing method using the same in which a door lock mechanism is controlled on the basis of temperature and an operation sequence

Номер патента: US6337732B2. Автор: Gen Nakamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-01-08.

Method for maintaining a projection exposure apparatus, service module and arrangement for semiconductor lithography

Номер патента: US20230072843A1. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Jens Kugler,Marwene Nefzi,Benjahman Julius Modeste. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-03-09.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09904184B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09651873B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Immersion exposure apparatus and immersion exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US7872730B2. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-01-18.

Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US8854599B2. Автор: Hideaki Hara,Dai Arai,Hiroaki Takaiwa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-10-07.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8294876B2. Автор: Shigeru Hirukawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-10-23.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8797505B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Takeshi Okuyama. Владелец: Nikon Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-05.

Exposure apparatus, structure, method for setting up apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20090168036A1. Автор: Hiromichi Hara,Yasuyo Kawabata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-07-02.

Exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20060114433A1. Автор: Takashi Meguro,Yoshikazu Miyajima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-06-01.

Exposure apparatus, structure, method for setting up apparatus, and device manufacturing method having filling member formed by hardening liquid to support setting leg

Номер патента: US8780329B2. Автор: Hiromichi Hara,Yasuyo Kawabata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-07-15.

Direct exposure apparatus and direct exposure method

Номер патента: US7486383B2. Автор: Takahiro Inoue,Kazunari Sekigawa,Hiroaki Samizu. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2009-02-03.

Projection exposure apparatus and method for designing a component of a projection exposure apparatus

Номер патента: US20240085800A1. Автор: Markus Raab,Matthias Manger,Dieter Bader,Thilo Pollak,Stefan BAUEREGGER,Alexander Ostendorf,Bastian Keller,Joerg Tschischgale,Dietmar Duerr,Irina Schrezenmeier,Andreas Beljakov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-14.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09977337B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Shoji Kojima. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8456609B2. Автор: Makoto Shibuta. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-06-04.

Immersion exposure apparatus and immersion exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US8743341B2. Автор: Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-06-03.

Projection exposure apparatus and device manufacturing method capable of controlling polarization direction

Номер патента: US5933219A. Автор: Yasuyuki Unno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-08-03.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US5846678A. Автор: Naoto Sano,Hidetoshi Nishigori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-12-08.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20190146359A1. Автор: Takanori Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-05-16.

Interference exposure apparatus, interference exposure method, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20130017495A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Katsuyoshi Kodera. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-01-17.

Exposure apparatus and decontamination apparatus

Номер патента: US20240094646A1. Автор: SHINJI Ueyama,Shinsuke Fujioka,Nozomi Tanaka,Ken Ozawa,Katsunobu Nishihara,Atsushi Sunahara,Yubo Wang,Tomoyuki JOHZAKI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Metrology method and apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09535342B2. Автор: Patrick Warnaar,Hendrik Jan Hidde SMILDE. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-01-03.

Exposure apparatus and method, measuring apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20060210911A1. Автор: Akiyoshi Suzuki,Seiji Takeuchi,Kenji Yamazoe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-09-21.

Projection exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP1355194A3. Автор: Toshihiko Tsuji. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-13.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090310112A1. Автор: Tetsuji Kazaana. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-17.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20150036112A1. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-02-05.

Illumination device, exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20030007137A1. Автор: Takehiko Iwanaga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-01-09.

Chromatically corrected imaging illumination optical unit for use in a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024156598A1. Автор: Alexander Epple,Stig Bieling,Markus Schwab,Henning Mehnert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-02.

Prediction apparatus and method for optical source

Номер патента: US20240319612A1. Автор: Russell Allen BURDT,Jung Yoon SHIN. Владелец: Cymer LLC. Дата публикации: 2024-09-26.

Exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US09791783B2. Автор: Baek-Kyun Jeon,Jae-Weon HUR,Hong-Yeon Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Optical element holding system, barrel, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20060082907A1. Автор: Naoki Murasato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-20.

Euv exposure apparatus and cleaning method

Номер патента: US20140063477A1. Автор: Kentaro Matsunaga. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-03-06.

Attenuation filter for projection lens, projection lens having attenuation filter for projection exposure apparatus, and projection exposure apparatus having projection lens

Номер патента: US20190064676A1. Автор: Toralf Gruner,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-28.

Scanning projection exposure apparatus and aligning method therefor

Номер патента: US20010026897A1. Автор: Shinichi Shima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-04.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus and method of reducing image placement errors

Номер патента: US09785052B2. Автор: Dirk Hellweg,Joerg Zimmermann,Johannes Ruoff,Jens Timo NEUMANN,Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-10.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1670043A4. Автор: Osamu Tanitsu,Hisashi Nishinaga,Mitsunori Toyoda,Masahiro Nakagawa,Yasushi Mizuno,Tsuneyuki Hagiwara,Ikuo Hikima,Naonori Kita,Nozomu Emura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-07-30.

Exposure equipment, exposure method and device manufacturing method

Номер патента: EP1768170A1. Автор: Hiroyuki NIKON CORPORATION I.P. Dept. NAGASAKA,Takeshi NIKON CORPORATION I.P. Dept. OKUYAMA. Владелец: Nikon Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-28.

[substrate exposure apparatus and method]

Номер патента: US20040165163A1. Автор: Kuo-Tso Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-26.

Apparatus and method for avoiding a degradation of an optical used surface of a mirror module, projection system, illumination system and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240319621A1. Автор: Moritz Becker,Julian Kaller,Arnoldus Jan Storm. Владелец: NEDERLANDSE ORGANISATIE VOORTOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO. Дата публикации: 2024-09-26.

Apparatus and method of controlling chuck, and exposure apparatus and control method thereof

Номер патента: US09507272B2. Автор: Sang Don Jang,Tae Kyu Son,Ja Yul KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-11-29.

Positioning apparatus, drive unit and exposure apparatus incorporating the positioning apparatus

Номер патента: US6259174B1. Автор: KAZUYA Ono. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-07-10.

Exposure apparatus and device manufacturing method using the same

Номер патента: EP1170634A1. Автор: Mitsuru Inoue,Ryuichi Ebinuma,Kazunori Iwamoto,Eiji Osanai,Hiroaki Takeishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-01-09.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20010026355A1. Автор: Soichi Owa,Takashi Aoki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-10-04.

Exposure apparatus, measurement apparatus, measurement method, and device manufacturing method

Номер патента: EP4202549A1. Автор: Yoji Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-06-28.

Exposure apparatus, measuring device, measuring method, and device manufacturing method

Номер патента: US20240027917A1. Автор: Yoji Watanabe. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090274983A1. Автор: Makiko Ogasawara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-11-05.

Management system and management method of semiconductor exposure apparatuses

Номер патента: US6801825B2. Автор: Norihiko Utsunomiya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-05.

Exposure apparatus, exposure method, and device fabrication method

Номер патента: US20080291421A1. Автор: Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-11-27.

Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US8248580B2. Автор: Makiko Ogasawara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-08-21.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US11762298B2. Автор: Daisuke Kobayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Method for maintaining a projection exposure apparatus, service module and arrangement for semiconductor lithography

Номер патента: EP4154063A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Dirk Ehm,Benjahman Julius Modeste. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-03-29.

Exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09857700B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering

Номер патента: US09846368B2. Автор: Johannes Jacobus Matheus Baselmans,Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-12-19.

Exposure apparatus and exposure method thereof

Номер патента: US09746777B2. Автор: Chien-Li Chen,Wen-Yen Yen,Yen-Chen Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09669984B2. Автор: David Ramirez,Peter C. Kochersperger,Robert Gabriel Maria Lansbergen. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2017-06-06.

Exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09507265B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09457947B2. Автор: David Ramirez,Peter C. Kochersperger,Robert Gabriel Maria Lansbergen,Xugang Xiong,George Hilary Harrold,Arindam Sinharoy. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2016-10-04.

Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09414477B2. Автор: Erik Roelof Loopstra,Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Gerardus Hubertus Petrus Maria Swinkels. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-08-09.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9341960B2. Автор: Arno Jan Bleeker,Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-05-17.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20060209281A1. Автор: Tatsuya Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-09-21.

Exposure apparatus and control method therefor, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US6819398B2. Автор: Osamu Ogawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-11-16.

Exposure apparatus and device manufacturing method using same

Номер патента: US20130229640A1. Автор: Atsushi Suzuki,Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-09-05.

Exposure apparatus and device manufacturing method using same

Номер патента: US20150346607A1. Автор: Atsushi Suzuki,Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-12-03.

Exposure apparatus and device manufacturing method using same

Номер патента: US9134619B2. Автор: Atsushi Suzuki,Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-09-15.

Immersion exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US8164754B2. Автор: Nobuyuki Saito,Haruna Kawashima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-04-24.

Immersion exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20090268176A1. Автор: Nobuyuki Saito,Haruna Kawashima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-10-29.

Semiconductor exposure method and method of controlling semiconductor exposure apparatus

Номер патента: US20070182948A1. Автор: Benjamin Szu-Min Lin,Sho-Shen Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-08-09.

Fluid handling structure, immersion lithographic apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20170176867A1. Автор: Daan Daniel Johannes Antonius Van Sommeren,Bruno Jean François Frackowiak,Arend KOOLMA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-06-22.

Fluid handling structure, immersion lithographic apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: EP3172623A1. Автор: Daan Daniel Johannes Antonius Van Sommeren,Bruno Jean François Frackowiak,Arend KOOLMA. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-05-31.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US9383660B2. Автор: Toshiyuki Yoshihara,Kazuhiro Tadokoro. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-07-05.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20120293781A1. Автор: Toshiyuki Yoshihara,Kazuhiro Tadokoro. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-11-22.

Blocking element for protecting optical elements in projection exposure apparatuses

Номер патента: US09684243B2. Автор: Joachim Hartjes,Guenther Dengel,Bernhard Sitek,Maik-René Piatkowski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-20.

Immersion exposure apparatus, device manufacturing method, cleaning method, and cleaning member to remove foreign substance using liquid

Номер патента: US8570484B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-10-29.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20050168712A1. Автор: Yoshikazu Miyajima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

Exposure apparatus and a device manufacturing method which keep temperature of a diaphragm of a projection optical system substantially constant

Номер патента: US20030043352A1. Автор: Akiyoshi Suzuki,Yuji Sudoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-06.

Scanning exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US7148948B2. Автор: Kazuo Sano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-12.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP1102124A3. Автор: Masayuki c/o Canon Kabushiki Kaisha Tanabe,Yasuaki C/O Canon Kabushiki Kaisha Fukuda,Masami c/o Canon Kabushiki Kaisha Tsukamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-04-17.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20150146177A1. Автор: Yoichi Matsuoka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-05-28.

Projection exposure apparatus and device manufacturing method using the same

Номер патента: US20020097758A1. Автор: Masakatsu Ota,Naoto Sano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Fluid handling structure, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: SG172638A1. Автор: Koen Steffens,Daniel Jozef Maria Direcks,Danny Maria Hubertus Philips,Den Dungen Clemens Johannes Gerardus Van,Putten Arnold Jan Van. Владелец: Asml Netherlands B V Nl. Дата публикации: 2011-07-28.

Projection exposure apparatus comprising a manipulator system

Номер патента: WO2024088904A1. Автор: Sebastian Fuchs,Uwe Schellhorn,Ferdinand DJURIC-RISSNER,Malte Langenhorst,Martin Leuermann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-02.

Edge exposure apparatus, method of making and using the same

Номер патента: WO2024006225A2. Автор: Merritt CONNER. Владелец: Conner Merritt. Дата публикации: 2024-01-04.

Exposure apparatus

Номер патента: EP1901336B1. Автор: Masayuki Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-01-11.

Exposure mask, method of designing and manufacturing the same, exposure method and apparatus, pattern forming method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171A1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-05.

Cleaning method and apparatus, and device fabricating method

Номер патента: WO2012011613A3. Автор: Yutaka Ikeda,Ryo Tanaka. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2012-03-29.

Method of designing an exposure mask, exposure method, pattern forming method and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171B1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-06-15.

Exposure apparatus and measurement system

Номер патента: US20240142877A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Projection exposure apparatus comprising a manipulator, and method for controlling a projection exposure apparatus

Номер патента: US09760019B2. Автор: Boris Bittner,Holger Walter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-12.

Mirror arrangement for an EUV projection exposure apparatus, method for operating the same, and EUV projection exposure apparatus

Номер патента: US09709770B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Hendrik Wagner,Walter Pauls,Rumen ILIEW,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-18.

Exposure apparatus and method thereof

Номер патента: US09594307B2. Автор: Ki-Beom Lee,Hoon Kang,Hi-Kuk Lee,Jae-Hyuk Chang,Chang-Hoon Kim,Cha-Dong KIM,Woo-Yong Sung,Sang-Hyun Yun,Jung-In Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Exposure apparatus and inspection method

Номер патента: US20240110844A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Exposure apparatus, control method, and device manufacturing method

Номер патента: US20240126178A1. Автор: Masaki Kato,Yoshihiko Fujimura,Yasushi Mizuno,Toshiharu Nakashima. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-18.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20210080841A1. Автор: Stefan Xalter,Bernhard Gellrich,Jens Kugler,Stefan Hembacher,Mark Feygin. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-03-18.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20050151096A1. Автор: Gert-Jan Heerens,Hendrik Neerhof. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-07-14.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: WO2021052940A1. Автор: Stefan Xalter,Bernhard Gellrich,Jens Kugler,Stefan Hembacher,Mark Feygin. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-03-25.

Module for a projection exposure apparatus, method, and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024153656A1. Автор: Matthias Manger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-25.

Microlithography projection exposure apparatus having at least two operating states

Номер патента: US09529276B2. Автор: Winfried Kaiser,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-27.

Lithographic apparatus, aberration correction device and device manufacturing method

Номер патента: SG139650A1. Автор: Tammo Uitterdijk,Laurentius Catrinus Jorritsma. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2008-02-29.

Exposure apparatus, exposure method, and blind for exposure apparatus

Номер патента: US8842258B2. Автор: Hong-Suk Yoo,Chang-Hoon Kim,Bo-Kyoung Ahn. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-23.

Exposure apparatus, exposure method, and blind for exposure apparatus

Номер патента: US20120088196A1. Автор: Hong-Suk Yoo,Chang-Hoon Kim,Bo-Kyoung Ahn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-04-12.

X-ray exposure apparatus

Номер патента: US20020141533A1. Автор: Atsushi Kitaoka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-10-03.

Arrangement apparatus and arrangement method

Номер патента: US12112962B2. Автор: Kohei Seyama. Владелец: Shinkawa Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US09915871B2. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-13.

Mirror of a projection exposure apparatus for microlithography with mirror surfaces on different mirror sides, and projection exposure apparatus

Номер патента: US09606339B2. Автор: Wolfgang Singer,Ralf Mueller,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-28.

EUV microlithography projection exposure apparatus with a heat light source

Номер патента: US09588435B2. Автор: Damian Fiolka. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Exposure Apparatus, Exposure Method, Device Manufacturing Method, and System

Номер патента: US20070273852A1. Автор: Masayoshi Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-11-29.

Exposure apparatus, cleaning method, and device fabricating method

Номер патента: EP2271966A1. Автор: Kenichi Shiraishi,Masahiko Okumura,Yosuke Shirata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-01-12.

Exposure apparatus

Номер патента: US20010015798A1. Автор: Kazuhiro Takahashi,Yoshiyuki Nagai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-23.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20180299787A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-10-18.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09927724B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09823582B2. Автор: Shinji Sato,Kenyo Odanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09720331B2. Автор: Shinji Sato,Kenyou Odanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US09665006B2. Автор: Volker Graeschus,Toralf Gruner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Lithographic apparatus and device manufacturing method involving a member and a fluid opening

Номер патента: US9152058B2. Автор: Joeri Lof,Roelof Aeilko Siebrand Ritsema,Klaus Simon,Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Hendricus Johannes Maria Meijer,Erik Roelof Loopstra,Alexander Straaijer,Bob Streefkerk,Christiaan Alexander Hoogendam,Joannes Theodoor De Smit,Helmar Van Santen,Mark Kroon,Hans Butler,Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Arie Jeffrey Maria Den Boef,Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens,Timotheus Franciscus Sengers,Joost Jeroen Ottens,Erik Theodorus Maria Bijlaart,Frank van Schaik,Aleksey Yurievich Kolensnychenko. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2015-10-06.

Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: EP1622191A1. Автор: Hironori Ikezawa,Yasuhiro Omura,Kumiko Ishida. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-02-01.

Polarizing exposure apparatus using a polarizer and method for fabrication of a polarizing mask by using a polarizing exposure apparatus

Номер патента: US5245470A. Автор: Eun S. Keum. Владелец: Goldstar Electron Co Ltd. Дата публикации: 1993-09-14.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for electronic device

Номер патента: US20240111215A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Exposure apparatus, exposure method, and flat panel display manufacturing method

Номер патента: US20240103379A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: US20230333490A1. Автор: Jun Kawashima,Takahiro Takiguchi,Jun Moizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

An exposure apparatus and a method for exposing a photosensitive element and a method for preparing a printing form from the photosensitive element

Номер патента: EP2987031A1. Автор: Helmut Luetke,Volker Struewe. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2016-02-24.

Near-field exposure method and apparatus, near-field exposure mask, and device manufacturing method

Номер патента: WO2005015311A2. Автор: Natsuhiko Mizutani. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2005-02-17.

Projection exposure apparatus which determines the minimum number of shots to optimially expose the substrate surface

Номер патента: US5654792A. Автор: Masami Yonekawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-08-05.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device production method

Номер патента: EP1544895A3. Автор: Shigeru Moriya. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2007-01-17.

Exposure Apparatus

Номер патента: US20090141259A1. Автор: Takashi Shibayama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-06-04.

Overlay measurement method, semiconductor device manufacturing method using the same, and overlay measurement apparatus

Номер патента: US20230074537A1. Автор: Jaeil LEE,Kyoungcho Na. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-09.

Method for generating a control scheme and device manufacturing method

Номер патента: US12085913B2. Автор: Marc Hauptmann,Amir Bin ISMAIL,Rizvi RAHMAN,Jiapeng Li. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-10.

Projection exposure method and projection exposure apparatus

Номер патента: US09933710B2. Автор: Toralf Gruner,Johannes Ruoff,Stephan André,Daniel Golde. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-03.

Projection exposure apparatus including at least one mirror

Номер патента: US09910364B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Stefan Rist,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-06.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09841682B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Sascha Bleidistel,Juergen Fischer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-12.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US09823580B2. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US09817316B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09720329B2. Автор: Stephan Muellender,Hans-Juergen Mann,Rolf Freimann,Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Method for operating a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09665010B2. Автор: Markus Deguenther. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09568837B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Sascha Bleidistel,Juergen Fischer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-14.

Exposure apparatus with irradiation device for irradiating optical element with pulsed light having infrared wavelength, and corresponding exposure method

Номер патента: US09568835B2. Автор: Takahiro Nakayama,Akira Miyake. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Projection exposure apparatus for microlithography for the production of semiconductor components

Номер патента: US09513562B2. Автор: Armin Schoeppach,Juergen Huber,Juergen Fischer,Norbert Muehlberger,Armin Werber,Matthias Orth,Thorsten Rassel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-06.

Imaging optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: US09459539B2. Автор: Hans-Juergen Mann,Susanne Beder,Christoph Menke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-04.

Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility

Номер патента: US09423696B2. Автор: Boris Bittner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-23.

Exposure apparatus and method for producing device

Номер патента: US7242455B2. Автор: Masahiro Nei,Shigeru Hirukawa,Naoyuki Kobayashi,Hiroshi Chiba. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-07-10.

Coupling apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US8228484B2. Автор: KAZUYA Ono,Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-07-24.

Exposure appartus and device manufacturing method

Номер патента: US20090015817A1. Автор: Yoshihiro Morimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-01-15.

Extreme ultraviolet exposure apparatus and method, and method of manufacturing semiconductor device by using the exposure method

Номер патента: US10969691B2. Автор: Seung-Yoon Lee,Doo-gyu LEE,Chan-sam Chang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-06.

Exposure apparatus

Номер патента: US20230367230A1. Автор: TETSUYA Abe,Koichi Murakami,Koutarou TAKIGAMI. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US20120013876A1. Автор: Hong-Suk Yoo,Chang-Hoon Kim,Bo-Kyoung Ahn,Gug-Rae Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-01-19.

Processing schedule creaitng method, coating and developing apparatus, pattern forming apparatus and processing system

Номер патента: US20070004052A1. Автор: Akira Miyata,Shigeki Wada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-04.

Exposure apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20190265600A1. Автор: Chan Sam CHANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-08-29.

Exposure apparatus

Номер патента: EP4286947A1. Автор: TETSUYA Abe,Koichi Murakami,Koutarou TAKIGAMI. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-12-06.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: WO2008047818A1. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2008-04-24.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: WO2013100205A3. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Shinji Sato,Minoru Onda,Yasufumi Nishii. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2013-12-19.

Exposure apparatus and method for exposure of transparent substrate

Номер патента: US20190094696A1. Автор: Lei DING. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: US7871744B2. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-01-18.

An exposure apparatus and a method for controlling radiation from a lamp for exposing a photosensitive element

Номер патента: EP2987033A1. Автор: Helmut Luetke. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2016-02-24.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: US20090311631A1. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-17.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: WO2008047818A8. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Yasuhisa Inao. Дата публикации: 2008-06-19.

Light exposure apparatus with cooling means

Номер патента: US4535234A. Автор: Takashi Fujimura,Masahiro Nishizawa,Katsuyu Takahashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-08-13.

Exposure apparatus

Номер патента: US09791780B2. Автор: Akiyoshi Suzuki,Osamu Wakabayashi,Takashi Onose,Kouji Kakizaki. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2017-10-17.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09594030B2. Автор: Yuli Vladimirsky,Robert Tharaldsen. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2017-03-14.

Projection exposure apparatus and method involving variation and correction of light intensity distributions, detection and control of imaging characteristics, and control of exposure

Номер патента: US6078380A. Автор: Nobutaka Magome,Naomasa Shiraishi,Tetsuo Taniguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-06-20.

Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus

Номер патента: US7023527B2. Автор: Masaki Kato,Masashi Tanaka,Kinya Kato,Hiroshi Chiba,Hiroshi Shirasu,Masato Kumazawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-04-04.

Exposure apparatus and method, optical disc drive, and recording and/or reproducing method

Номер патента: EP1067536A3. Автор: Shingo c/o Sony Corporation Imanishi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-10-05.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20040207826A1. Автор: Yoshikazu Miyajima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-10-21.

Exposure apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230236495A1. Автор: Yoshio Mizuta. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: EP4361728A1. Автор: Shohei Iwata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-01.

Exposure apparatus and a method for exposing a photosensitive element and a method for preparing a printing form from the photosensitive element

Номер патента: US20140315132A1. Автор: Rolf Schwan,Helmut Luetke,Volker Struewe. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2014-10-23.

Exposure apparatus and a method for controlling radiation from a lamp for exposing a photosensitive element

Номер патента: US20140313497A1. Автор: Helmut Luetke. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2014-10-23.

Exposure apparatus and a method for exposing a photosensitive element and a method for preparing a printing form from the photosensitive element

Номер патента: US20160041468A1. Автор: Rolf Schwan,Helmut Luetke,Volker Struewe. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2016-02-11.

Exposure apparatus

Номер патента: WO2008072641A9. Автор: Masami Yonekawa. Владелец: Masami Yonekawa. Дата публикации: 2009-06-25.

Scanning exposure apparatus using microlens arrays

Номер патента: US20130135602A1. Автор: Michinobu Mizumura. Владелец: V Technology Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-30.

Projection exposure apparatus for euv microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041720A2. Автор: Aksel GÖHNERMEIER,Heiko Feldmann,Johannes Ruoff,Oliver Natt,Marc Bienert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US09766548B2. Автор: Bunsuke Takeshita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Optical system for a microlithographic projection exposure apparatus and microlithographic exposure method

Номер патента: US20110063597A1. Автор: Markus Mengel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-17.

Maskless exposure apparatus and control method thereof

Номер патента: US20110157569A1. Автор: Ho Seok Choi,Sang Don Jang,Hi Kuk Lee,Oui Serg Kim,Dong Seok BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-06-30.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: EP4391042A1. Автор: Yoshio Mizuta. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-26.

Extreme ultraviolet light generation apparatus and electronic device manufacturing method

Номер патента: NL2032043B1. Автор: Miyashita Koutaro. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-05-17.

Exposure apparatus

Номер патента: US20080133042A1. Автор: Yuichiro Samejima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-06-05.

Euv illumination device and method for operating a microlithographic projection exposure apparatus designed for operation in the euv

Номер патента: EP4405751A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-31.

Euv illumination device and method for operating a microlithographic projection exposure apparatus designed for operation in the euv

Номер патента: US20240248410A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-25.

Exposure apparatus including a mask holding device which holds a periphery area of a pattern area of the mask from above

Номер патента: US09575417B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-02-21.

Lithographic apparatus, device manufacturing method and computer program

Номер патента: US9696636B2. Автор: Arno Jan Bleeker,Erik Roelof Loopstra,Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-07-04.

Coupling apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US8120751B2. Автор: KAZUYA Ono,Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-02-21.

Advanced exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US5691803A. Автор: Jae-Kwan Song,Jeong-Kon Kim,Kyoung-Shin Park,Kyung-sung Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1997-11-25.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20080062391A1. Автор: Yoshiyuki Okada,Yoshinori Uchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-03-13.

Off-axis illumination apparatus, exposure apparatus and off-axis illumination method

Номер патента: US7646472B2. Автор: Myoung-Soo Lee,Suk-Jong Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-01-12.

Exposure apparatus and an exposure method

Номер патента: US7256869B2. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-08-14.

Projection exposure apparatus, and method for reducing deformations, resulting from dynamic accelerations, of components of the projection exposure apparatus

Номер патента: US20190219926A1. Автор: Erik Loopstra,Bernhard Geuppert,Jens Kugler,Stefan Hembacher. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-07-18.

Exposure method and exposure apparatus

Номер патента: US20040141164A1. Автор: Toshihiko Tsuji,Takaaki Kimura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-07-22.

Reflective optical element, illumination optical unit, projection exposure apparatus, and method for producing a protective layer

Номер патента: US20230205090A1. Автор: Sandro Hoffmann,Valentin Jonatan Bolsinger,Sandra Haschke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-06-29.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20130141705A1. Автор: Jingfeng Xue,Minghung Shih,Jehao Hsu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2013-06-06.

Exposure apparatus and optical member for exposure apparatus

Номер патента: EP1596424A9. Автор: Norio Komine,Masafumi Mizuguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-10-25.

Exposure method, exposure apparatus, and method for producing device

Номер патента: US9354525B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20060209283A1. Автор: Ryo Nawata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-09-21.

Exposure apparatus

Номер патента: US5978072A. Автор: Yawara Nojima. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1999-11-02.

Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US9140993B2. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-09-22.

Optical system in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013060561A1. Автор: Ingo Sänger,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-02.

Projection optical system, method for producing the same, and projection exposure apparatus using the same

Номер патента: AU1891200A. Автор: Hiroyuki Hiraiwa,Issey Tanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-07-24.

Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices

Номер патента: US7301605B2. Автор: Yasuhiro Omura,Soichi Owa,Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-11-27.

Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: EP2927935A3. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-01-27.

Exposure apparatus for controlling intensity of exposure radiation

Номер патента: US5157700A. Автор: Shigeru Terashima,Mitsuaki Amemiya,Isamu Shimoda,Shunichi Uzawa,Shinichi Hara,Koji Uda,Kunitaka Ozawa,Hiroshi Kurosawa,Eigo Kawakami,Ryuichi Ebinuma,Nobutoshi Mizusawa,Makiko Mori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1992-10-20.

Exposure apparatus, exposure method, method for producing the device and optical part

Номер патента: IL176057A. Автор: Shigeru Hirukawa,Hiroyuki Nagasaka,Hitoshi Ishizawa,Hiroaki Takaiwa,Ryuichi Hoshika. Владелец: Ryuichi Hoshika. Дата публикации: 2013-01-31.

Determination method, exposure apparatus, exposure system, method of manufacturing article, and storage medium

Номер патента: US20150248067A1. Автор: Yoshihito Tada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-09-03.

Blocking element for protecting optical elements in projection exposure apparatuses

Номер патента: US20150177626A1. Автор: Joachim Hartjes,Guenther Dengel,Bernhard Sitek,Maik-René Piatkowski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-06-25.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20120320360A1. Автор: Shinichi Hirano,Kohei Yamada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-12-20.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20140218712A1. Автор: Toshiki Iwai,Ryo Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-08-07.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20120008122A1. Автор: Toshiki Iwai,Ryo Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-01-12.

Exposure apparatus and device fabrication method

Номер патента: US20090207400A1. Автор: Shinichiro Hirai,Naoto Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-08-20.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20200371443A1. Автор: Akio Akamatsu,Akihito Hashimoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-11-26.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2021078421A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-04-29.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4049088A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-08-31.

Mirror for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3117257A1. Автор: Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-18.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: EP4388371A1. Автор: Boaz Pnini. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-26.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2020254147A1. Автор: Toralf Gruner,Hans Michael Stiepan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-12-24.

Optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3482257A1. Автор: Hartmut Enkisch,Thomas Schicketanz,Oliver Dier,Matus Kalisky. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-05-15.

Image exposure apparatus

Номер патента: WO2006129864A1. Автор: Katsuto Sumi,Shuichi Ishii. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2006-12-07.

Optical device and exposure apparatus

Номер патента: US20090323175A1. Автор: Atsushi Mukai,Shinichiro Sonoda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-12-31.

Optical element, projection optical unit and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240176249A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Matthias Fetzer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-30.

Optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2017102599A1. Автор: Ulrich SCHÖNHOFF. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-22.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024133262A1. Автор: Christian Werner,Tobias Hegele,Dietmar Duerr,Johannes Kruis,Sebastian Henseler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-27.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP2126636A2. Автор: Manfred Maul,Nils Dieckmann,Oliver Natt,Christian Hettich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-12-02.

Optical component group, in particular for use in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240255856A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-01.

Optical assembly, optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024179896A1. Автор: Roman Orlik. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-09-06.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP2198344A1. Автор: Arif Kazi,Sascha Bleidistel,Aurelian Dodoc,Olaf Conradi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-06-23.

Maskless exposure apparatus using optical modulator, and method for monitoring pattern generating performance by the optical modulator

Номер патента: US20060066829A1. Автор: Yoshiyuki Sekine. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-03-30.

Assembly, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US12105434B2. Автор: Stefan Troeger,Thomas Gorius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-10-01.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09983483B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Stig Bieling,Markus Schwab,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-29.

Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus

Номер патента: US09977333B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Michael Layh,Erich Schubert,Alexander Kohl,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09933706B2. Автор: Damian Fiolka,Markus Deguenther,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-03.

Projection exposure apparatus with at least one manipulator

Номер патента: US09927714B2. Автор: Boris Bittner,Stefan Rist. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-27.

Facet mirror for a projection exposure apparatus

Номер патента: US09823577B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-21.

EUV light source for a lighting device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09823571B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-21.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09817317B2. Автор: Frank Schlesener,Ingo Saenger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Exposure apparatus

Номер патента: US09799489B2. Автор: Shinichi Kojima,Hitoshi Tanaka,Akio Yamada,Shinichi Hamaguchi,Atsushi Tokuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Arrangement for the thermal actuation of a mirror, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09798254B2. Автор: Markus Hauf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-24.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09720327B2. Автор: Manfred Maul. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09703206B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-11.

Optical element with an antireflection coating, projection objective, and exposure apparatus comprising such an element

Номер патента: US09684252B2. Автор: Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-20.

Exposure apparatus

Номер патента: US09684245B2. Автор: Akio Yamada,Shinji Sugatani. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09678438B2. Автор: Michael Patra,Markus Schwab. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-13.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09671699B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-06.

Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus

Номер патента: US09599904B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Michael Layh,Erich Schubert,Alexander Kohl,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-21.

Damping arrangement for dissipating oscillating energy of an element in a system, more particularly in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09593733B2. Автор: Markus Hauf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-14.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09575414B2. Автор: Johannes Wangler,Markus Deguenther,Manfred Maul,Axel Scholz,Michael Layh,Ralf Scharnweber,Heiko Siekmann,Reinhard Voelkel,Kenneth Weible,Uwe Spengler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-21.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09523923B2. Автор: Markus Deguenther. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-20.

Arrangement for thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09500957B2. Автор: Joachim Hartjes. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-22.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09477157B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Stig Bieling,Markus Schwab,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-25.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09454085B2. Автор: Damian Fiolka,Markus Deguenther,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-09-27.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09348232B2. Автор: Jan Horn,Christian Kempter,Wolfgang Fallot-Burghardt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-05-24.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09341957B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-05-17.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09304404B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Bernhard Geuppert,Hans Butler,Juergen Fischer,Robertus Johannes Marinus De Jongh. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-04-05.

Exposure apparatus, exposure method, and device fabrication method

Номер патента: US7932996B2. Автор: Susumu Makinouchi,Motokatsu Imai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-04-26.

Exposure apparatus, exposure method, and device fabrication method

Номер патента: US8272544B2. Автор: Susumu Makinouchi,Motokatsu Imai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-09-25.

Exposure apparatus, exposure method and method for producing a device

Номер патента: EP3462241A1. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Kenichi Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-04-03.

Projection exposure apparatus having an alignment sensor for aligning a mask image with a substrate

Номер патента: US5654553A. Автор: Masahiko Okumura,Masaharu Kawakubo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-08-05.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: US10866522B2. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-12-15.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: US11467501B2. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2022-10-11.

Exposure apparatus and photo mask

Номер патента: US5541026A. Автор: Koichi Matsumoto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-07-30.

Exposure apparatus, exposure method using the same, and method of manufacture of circuit device

Номер патента: US20010043321A1. Автор: Kenji Nishi,Toru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-11-22.

Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus

Номер патента: US5729331A. Автор: Masaki Kato,Masashi Tanaka,Kinya Kato,Hiroshi Chiba,Hiroshi Shirasu,Masato Kumazawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-03-17.

Exposure apparatus

Номер патента: US5150391A. Автор: Shunichi Uzawa,Takao Kariya,Shigeyuki Suda,Ryuichi Ebinuma,Nobutoshi Mizusawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1992-09-22.

Exposure apparatus and method

Номер патента: US4707609A. Автор: Yoshinori Shimamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1987-11-17.

Projection exposure apparatus and method for measuring a projection lens

Номер патента: EP3423902A1. Автор: Frank Schadt,Eugen Foca,Uwe Hempelmann,Frank Schleicher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-01-09.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: EP2506061A1. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-10-03.

Exposure apparatus, method for manufacturing device, method for manufacturing flat panel display, and exposure method

Номер патента: US20240027898A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Yasushi Mizuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Stop apparatus for delimiting a beam path between a light source and an illumination optical unit of a projection exposure apparatus for projection lithography

Номер патента: NL2029213B1. Автор: Patra Michael. Владелец: Zeiss Carl Smt Gmbh. Дата публикации: 2023-09-15.

Method for heating an optical element in a microlitho-graphic projection exposure apparatus and optical system

Номер патента: US20230350312A1. Автор: Dirk Hellweg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-11-02.

Scanning exposure apparatus, scanning exposure method and mask

Номер патента: US20020159041A1. Автор: Makoto Tsuchiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-10-31.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20180074414A1. Автор: Takanori Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing article

Номер патента: US20200409276A1. Автор: Koji Mikami,Ryo Koizumi,Jun Moizumi,Kouki Miyano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-12-31.

Optical assembly, projection exposure apparatus and method

Номер патента: US20220382165A1. Автор: Johannes Lippert,Markus Raab,Andreas Raba. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-12-01.

Measuring an optical symmetry property on a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014139651A1. Автор: Frank Schlesener,Jens Timo NEUMANN. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-09-18.

Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method

Номер патента: EP4372469A2. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-05-22.

Edge exposure apparatus, method of making and using the same

Номер патента: US20230418164A1. Автор: Merritt CONNER. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-28.

Edge exposure apparatus, method of making and using the same

Номер патента: WO2024006225A3. Автор: Merritt CONNER. Владелец: Conner Merritt. Дата публикации: 2024-03-21.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240210839A1. Автор: Yoshio Mizuta. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20190302630A1. Автор: Yutaka Matsuda,Kimitoshi Tamaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-10-03.

Optical system with improved durability for projection exposure apparatus and method for manufacturing optical system for projection exposure apparatus

Номер патента: US20020135746A1. Автор: Seishi Fujiwara,Hiroki Jinbo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-09-26.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20200019066A1. Автор: Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-01-16.

Methods and devices for driving micromirrors

Номер патента: EP2340456A1. Автор: Jan Horn,Christian Kempter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-07-06.

Methods and devices for driving micromirrors

Номер патента: US20130088698A1. Автор: Jan Horn,Christian Kempter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-04-11.

Method and device for controlling fluid flow in an optical assembly

Номер патента: US20040179174A1. Автор: Bernard Fay,Derek Coon. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-09-16.

Exposure apparatus and measuring device for a projection lens

Номер патента: US8330935B2. Автор: Karl-Heinz Schuster,Toralf Gruner,Ulrich Wegmann,Albrecht Ehrmann,Bernhard Geuppert,Norbert Wabra,Jens Kugler,Ulrich Loering,Joerg Mallmann,Rainer Hoch,Bernhard Kneer,Franz Sorg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-12-11.

Exposure apparatus and method

Номер патента: US20070046921A1. Автор: Kazuhiro Takahashi,Michio Kono,Koji Mikami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-01.

Exposure apparatus with thickness and defect detection

Номер патента: US5726756A. Автор: Minoru Inagaki,Yuichi Aki,Kanji Yokomizo. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1998-03-10.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: EP3067749A3. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Minoru Onda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-16.

Exposure apparatus

Номер патента: US5317615A. Автор: Takayuki Hasegawa,Shunichi Uzawa,Takao Kariya,Shigeyuki Suda,Ryuichi Ebinuma,Nobutoshi Mizusawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1994-05-31.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4780747A. Автор: Hideo Mizutani,Kazuaki Suzuki,Hidemi Kawai. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-10-25.

Exposure method and exposure apparatus

Номер патента: US5025284A. Автор: Susumu Komoriya,Hiroshi Nishizuka,Shinya Nakagawa,Hisashi Maejima. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1991-06-18.

Substrate exposure apparatus and method

Номер патента: US20030108806A1. Автор: Kuo-Tso Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-06-12.

Exposure apparatus and wiring pattern forming method

Номер патента: US20240118622A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mezuno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Exposure apparatus and method of confining a liquid

Номер патента: EP2748679A1. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-07-02.

Projection exposure apparatus, method for operating the projection exposure apparatus

Номер патента: WO2023072745A1. Автор: Matthias Hillenbrand,Dirk Ehm,Tobias Härter,Heiner Zwickel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-05-04.

Wafer edge exposure apparatus, wafer edge exposure method and photolithography device

Номер патента: US11822261B2. Автор: Xueyu LIANG. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, and method of processing a mirror

Номер патента: WO2024074306A1. Автор: Eric Eva,Matthias KAES. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-04-11.

Component for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2023237452A1. Автор: Michael Groiss. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-14.

Assembly for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024099636A1. Автор: Thomas Monz,Julian Zips. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-16.

Method for producing or setting a projection exposure apparatus

Номер патента: US20220043358A1. Автор: Rolf Freimann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-02-10.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20210366702A1. Автор: Kohei Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-25.

Projection exposure apparatus with manipulators

Номер патента: WO2024110341A1. Автор: Stratis Tzoumas,Malte Langenhorst,Jonas Umlauft,Christian LUTZWEILER. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-30.

Semiconductor device manufacturing method and extreme ultraviolet mask manufacturing method

Номер патента: US12092961B2. Автор: Dongwon Kang,Sang Chul YEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-17.

Lithographic apparatus and method

Номер патента: US09778575B2. Автор: Heine Melle Mulder,Markus Franciscus Antonius Eurlings,Johannes Jacobus Matheus Baselmans,Adrianus Franciscus Petrus Engelen,Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek,Paul van der Veen,Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans,Wilfred Edward Endendijk. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-10-03.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US7453550B2. Автор: Soichi Owa,Hiroyuki Nagasaka,Yasugumi Nishii. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-11-18.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US9182684B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Yasufumi Nishii. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-11-10.

Measuring apparatus and exposure apparatus having the same

Номер патента: US20060238736A1. Автор: Takahisa Shiozawa,Takafumi Miyaharu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-10-26.

Exposure apparatus with interferometer

Номер патента: US7023561B2. Автор: Eiichi Murakami,Osamu Kakuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-04.

Illuminating method and illuminating apparatus for carrying out the same, and projection exposure method and projection exposure apparatus for carrying out the same

Номер патента: US5016149A. Автор: Minoru Tanaka,Yoshitada Oshida,Tetsuzo Tanimoto,Yasuhiro Yoshitake. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1991-05-14.

X-ray exposure apparatus

Номер патента: US20020106050A1. Автор: Shigeru Terashima,Yutaka Watanabe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-08.

Method for determining a focus actuation profile for one or more actuators of a lithographic exposure apparatus

Номер патента: US20240061353A1. Автор: Simon Hendrik Celine Van Gorp,Stephan VAN REENEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-22.

Light exposure method, and light exposure apparatus

Номер патента: US9291919B2. Автор: Hiroaki Oizumi. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2016-03-22.

Exposure apparatus, exposure method and storage medium

Номер патента: US10274843B2. Автор: Masaru Tomono,Seiji Nagahara,Gousuke Shiraishi,Nobutaka Fukunaga,Yukie MINEKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-30.

Exposure Apparatus And Exposure Method Thereof

Номер патента: US20150192857A1. Автор: Chien-Li Chen,Wen-Yen Yen,Yen-Chen Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-07-09.

Exposure apparatus, exposure method and storage medium

Номер патента: US20180143540A1. Автор: Masaru Tomono,Seiji Nagahara,Gousuke Shiraishi,Nobutaka Fukunaga,Yukie MINEKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-24.

Method for determining a focus actuation profile for one or more actuators of a lithographic exposure apparatus

Номер патента: EP4285188A1. Автор: Simon Hendrik Celine Van Gorp,Stephan VAN REENEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-06.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9013680B2. Автор: Damian Fiolka,András G. MAJOR,Ralf Mueller. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-04-21.

Projection exposure apparatus and method

Номер патента: US5751403A. Автор: Hideo Mizutani,Tohru Kawaguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-05-12.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5677757A. Автор: Naomasa Shiraishi,Tetsuo Taniguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-10-14.

Exposure apparatus

Номер патента: US5523574A. Автор: Tomohide Hamada,Hiroshi Shirasu. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-06-04.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4891663A. Автор: Ryusho Hirose. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1990-01-02.

Exposure apparatus

Номер патента: EP1681595A2. Автор: Seiji Nagahara. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2006-07-19.

Scanning exposure apparatus with surface position detecting system

Номер патента: US6023320A. Автор: Haruna Kawashima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-02-08.

Projection optical system and projection and light exposure apparatus using it

Номер патента: US20050002007A1. Автор: Ryoko Otomo. Владелец: Fujinon Corp. Дата публикации: 2005-01-06.

Exposure apparatus and exposing method

Номер патента: US6754303B2. Автор: Kazuyuki Kasumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-06-22.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5317450A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-05-31.

Projection exposure methods and apparatus, and projection optical system

Номер патента: EP1936420A3. Автор: Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-09-10.

Mirror arrangement for lithography exposure apparatus and optical system comprising mirror arrangement

Номер патента: EP3323130A1. Автор: Toralf Gruner,Wouter Bernardus Johannes Hakvoort,Richard Petrus Hogervorst,Petrus Theodorus Rutgers,Kerstin Hild. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-23.

Projection exposure apparatus having a filter arranged in its projection optical system and method for protecting circuit patterns

Номер патента: US6118516A. Автор: Nobutaka Magome,Shigeru Hirukawa,Naomasa Shiraishi,Yasuaki Tanaka,Nobuyuki Irie. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-09-12.

Exposure apparatus

Номер патента: US6295121B1. Автор: Gen Nakamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2001-09-25.

Maskless exposure apparatus and maskless exposure method

Номер патента: KR20120038800A. Автор: 신영훈,김건수,박명주. Владелец: 엘지전자 주식회사. Дата публикации: 2012-04-24.

Scanning exposure apparatus and method including controlling irradiation timing of an irradiation beam with respect to relative movement between the beam and a substrate

Номер патента: US5567928A. Автор: Naoto Sano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1996-10-22.

Modular exposure apparatus with removable optical device and improved isolation of the optical device

Номер патента: WO2002021207A1. Автор: Alton H. Phillips,Douglas C. Watson. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2002-03-14.

Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium

Номер патента: US10133189B2. Автор: Shinji Sato,Kenyo Odanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-11-20.

Residual gas analyser, projection exposure apparatus comprising a residual gas analyser and method of residual gas analysis

Номер патента: WO2024017606A1. Автор: Kai Kroll,Thorsten Benter,Hendrik Kersten,Achim SCHOELL,Marco Thinius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-25.

Euv collector for an euv projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024002672A1. Автор: Daniel Brown,Yezheng Tao,Haining Wang,Markus Karl,Evan DAVIS,Michael Purvis,Silvi Haendel,Alexander Schafgans. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-04.

Laser device, laser control method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240072510A1. Автор: Takashi Shiga. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-02-29.

Laser device, evaluation method for laser light spectrum, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240003743A1. Автор: Takamitsu Komaki,Toshihiro OGA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-01-04.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US10845708B2. Автор: Hikaru Sugita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-11-24.

Exposure apparatus for liquid crystal panel and exposure apparatus

Номер патента: US20060176454A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Kiwamu Takehisa,Makoto Sakamaki,Shirou Moriyama. Владелец: Nihon Ceratec Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-10.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20180136565A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-17.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: WO2015049319A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-04-09.

Spatial light modulation unit and exposure apparatus

Номер патента: US20240126176A1. Автор: Masaki Kato,Hitoshi Mizuno,Masaki Nishimura,Yasushi Mizuno,Yasuhito Kubota. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-18.

Illumination system for a microlithography projection exposure apparatus and projection exposure

Номер патента: WO2007137763A3. Автор: Alexander Kohl. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-05-02.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20140009764A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-01-09.

Liquid immersion member, immersion exposure apparatus, exposing method, device fabricating method, program, and storage medium

Номер патента: EP2659308A1. Автор: Shinji Sato. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-11-06.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography having a connecting element

Номер патента: US20240168396A1. Автор: Rodolfo Guglielmi Rabe,Timo Speidel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Euv optics module for an euv projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024104849A1. Автор: Udo Dinger,Moritz Becker,Stephanus Fengler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Exposure apparatus for liquid crystal panel and exposure apparatus

Номер патента: EP1602978A4. Автор: Tadahiro Ohmi,Kiwamu Takehisa,Makoto Sakamaki,Shirou Moriyama. Владелец: Nihon Ceratec Co Ltd. Дата публикации: 2009-08-19.

Method of forming photoresist pattern and projection exposure apparatus

Номер патента: US20230185201A1. Автор: Kanyu Cao. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20160011520A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-01-14.

Exposure apparatus, exposure and developing system, and method of manufacturing a device

Номер патента: US20080137043A1. Автор: Shinichi Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-06-12.

Exposure apparatus and method for manufacturing device

Номер патента: US7480029B2. Автор: Hideaki Hara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-01-20.

Exposure apparatus and method for manufacturing device

Номер патента: US7580114B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-08-25.

Method for adjusting an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013135500A1. Автор: Ingo Saenger,Bastian Trauter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Exposure apparatus and method

Номер патента: US5673103A. Автор: SATOSHI Tanaka,Soichi Inoue,Tadahito Fujisawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1997-09-30.

Exposure apparatus and method

Номер патента: US5329333A. Автор: Yukio Kenbo,Yoshitada Oshida,Masataka Shiba,Makoto Murayama,Minori Noguchi,Yasuhiro Yoshitaka. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-07-12.

Projection optical system and exposure apparatus using the same

Номер патента: US5835285A. Автор: Misako Kobayashi,Yutaka Suenaga,Kazumasa Endo,Hitoshi Matsuzawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-11-10.

Illumination system and exposure apparatus and method

Номер патента: US20040085645A1. Автор: Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-05-06.

Projection lens unit with focus and level control, related exposure apparatus and method

Номер патента: US7535551B2. Автор: Jang-hyun Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-05-19.

Exposure apparatus

Номер патента: US20050162633A1. Автор: Ryo Kasai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-07-28.

Projection lens unit with focus and level control, related exposure apparatus and method

Номер патента: US20060044540A1. Автор: Jang-hyun Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-03-02.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US11841624B2. Автор: Masato Homma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Exposure apparatus and method of manufacturing device

Номер патента: US20090257038A1. Автор: Tetsuya Yamamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-10-15.

Projection lens unit with focus and level control, related exposure apparatus and method

Номер патента: US20090195765A1. Автор: Jang-hyun Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-08-06.

Extreme ultraviolet radiation exposure apparatus and method of lithography thereby

Номер патента: US20150227054A1. Автор: Kazuo Tawarayama,Yukinobu Miyamoto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20210405546A1. Автор: Masato Homma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-12-30.

Exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: EP3933508A1. Автор: Masato Homma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-01-05.

Exposure apparatus and method of decreasing fluctuations in optical characteristics of projection system

Номер патента: US8564758B2. Автор: Takashi Sukegawa,Yasuo Hasegawa,Atsushi Shigenobu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-10-22.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US9513558B2. Автор: Osamu Tanitsu,Hisashi Nishinaga,Mitsunori Toyoda,Masahiro Nakagawa,Yasushi Mizuno,Tsuneyuki Hagiwara,Ikuo Hikima,Naonori Kita,Nozomu Emura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

Illumination optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013135532A1. Автор: Ingo Sänger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Electrophotographic photosensitive member, manufacturing method of electrophotographic photosensitive member, process cartridge and electrophotographic apparatus, and a solid solution and manufacturing method of a solid solution

Номер патента: US09459545B2. Автор: Masato Tanaka,Tsutomu Nishida,Masataka Kawahara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Photomask, exposure apparatus, and liquid crystal display panel manufacturing method

Номер патента: JPWO2011111479A1. Автор: 貴浩 平子. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2013-06-27.

Movable body system, movable body drive method, pattern formation apparatus, pattern formation method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09436102B2. Автор: Yuho Kanaya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09594313B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20060279717A1. Автор: Tomohiko Hirano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-14.

Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US09507267B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Exposure apparatus, surface position control method, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US10488761B2. Автор: Yoshimitsu Kato. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-11-26.

Memory medium storing original data generation program, memory medium storing illumination condition determination program, original data generation method, illumination condition determination method, and device manufacturing method

Номер патента: US20090258305A1. Автор: Manabu Hakko. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-10-15.

Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US09804506B2. Автор: Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus

Номер патента: US09372410B2. Автор: Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20190033721A1. Автор: Asahiko Nogami. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

Article manufacturing method, film forming method, mold manufacturing method, exposure apparatus, information processing method, and non-transitory computer-readable medium storing a program

Номер патента: US20210035808A1. Автор: Hiroshi Kurosawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-02-04.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20080291414A1. Автор: Norihiko Kobayashi,Ryosuke Tsutsumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-11-27.

Exposure apparatus and article manufacturing method

Номер патента: US20190137895A1. Автор: Hikaru Sugita,Masato Homma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-05-09.

Exposure mask, exposure apparatus, and method for manufacturing display substrate

Номер патента: US09429836B2. Автор: Wei Guo,Xuan HE. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Surface position detection apparatus and method, and exposure apparatus and device manufacturing method using the exposure apparatus

Номер патента: US20060033055A1. Автор: Yuji Kosugi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-02-16.

Exposure apparatus and method for manufacturing device

Номер патента: EP1571694A4. Автор: Nobutaka Magome,Dai Arai,Hiroaki Takaiwa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-10-15.

Reticle manufacturing method, surface shape measuring apparatus and signal processor

Номер патента: US8338805B2. Автор: Koichi Sentoku. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-12-25.

Apparatus and method for structure exposure of a photoreactive layer

Номер патента: US20050244725A1. Автор: Ralph STÖMMER. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-11-03.

Exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US10191388B2. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-01-29.

Substrate processing system and substrate processing method, and device manufacturing method

Номер патента: US11977339B2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-05-07.

Spectrum waveform control method, laser apparatus, exposure apparatus, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20240001486A1. Автор: Takamitsu Komaki,Toshihiro OGA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing system and substrate processing method, and device manufacturing method

Номер патента: US20240134295A1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Exposure apparatus and exposing method and method of manufacturing a printed wiring board

Номер патента: US7760328B2. Автор: Hiroshi Oyama,Yoshihide Yamaguchi. Владелец: Hitachi Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2010-07-20.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9001307B2. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-04-07.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US9274437B2. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-03-01.

Exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: EP2275869B1. Автор: Akimitsu Ebihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-01-15.

Exposure device, exposure method, lithography method and device manufacturing method

Номер патента: EP3432342A1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-01-23.

Projection exposure apparatus with at least one manipulator

Номер патента: US09846367B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-19.

A maskless exposure apparatus with alignment

Номер патента: WO2016107798A1. Автор: Endre Kirkhorn,Trond Jørgensen,Øyvind Tafjord. Владелец: Visitech AS. Дата публикации: 2016-07-07.

Exposure apparatus, method of controlling the same, and alignment method for exposure

Номер патента: US09437818B2. Автор: Seok-Joo Lee,Jin-Hong Jeun,Jung-Hun Yeon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Edge exposure apparatus, edge exposure method and non-transitory computer storage medium

Номер патента: US09810989B2. Автор: Hiroshi Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Exposure apparatus, surface position control method, exposure method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190079402A1. Автор: Yoshimitsu Kato. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-14.

X-ray mask and device manufacturing method using the same

Номер патента: US20020197545A1. Автор: Hideki Ina,Kenji Itoga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-12-26.

Method of forming multiple patterned layers on wafer and exposure apparatus thereof

Номер патента: US20210159071A1. Автор: Kihyung LEE,Byung-In Kwon,Siwon YANG,Soo-Hyoung Kim,Bum-Hwan Jeon. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Method and device for application of nano-pattern on large area

Номер патента: RU2488188C2. Автор: Борис КОБРИН,Игорь ЛАНДАУ,Борис ВОЛЬФ. Владелец: Ролит, Инк.. Дата публикации: 2013-07-20.

Method and device for mask inspection

Номер патента: WO2024132443A1. Автор: Ulrich Matejka,Lutz Brekerbohm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-27.

Exposure apparatus

Номер патента: EP1930777A3. Автор: Shinichi Egashira. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-08-01.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09786493B2. Автор: Junichi Tanabe,Naofumi Ohashi,Katsuhiko Yamamoto,Tatsushi Ueda,Yuki Taira,Hideharu Itatani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-10-10.

Exposure apparatus and method for producing device

Номер патента: US8780327B2. Автор: Katsushi Nakano,Soichi Owa,Naoyuki Kobayashi,Kenichi Shiraishi,Yasushi Mizuno,Akikazu Tanimoto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-07-15.

Illumination method, illumination apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US5302999A. Автор: Yoshitada Oshida,Yukihiro Shibata,Tsuneo Terasawa,Makoto Murayama,Minori Noguchi,Shigemi Ishii,Tutomu Tawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-04-12.

Exposure apparatus and method

Номер патента: US6151120A. Автор: Takahiro Matsumoto,Hideki Ina. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-11-21.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20170358426A1. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-12-14.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US9734988B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Exposure apparatus and positioning method

Номер патента: US6097473A. Автор: Shigeru Nakayama,Kazuya Ota. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-08-01.

Coating material composition for liquid immersion exposure apparatus, laminate, method for forming laminate, and liquid immersion exposure apparatus

Номер патента: US20120156504A1. Автор: Osamu Yokokoji,Yoko Takebe. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2012-06-21.

Method for controlling radiation emitting from one or more tubular lamps in an exposure apparatus

Номер патента: EP3320548A1. Автор: Joachim Spies. Владелец: Glunz and Jensen AS. Дата публикации: 2018-05-16.

Exposure apparatus, mask, and optical film

Номер патента: US9760013B2. Автор: Kazuhiro Ura,Tatsuya Sato,Kenichi Watabe,Yuichi Kakubari,Yasuaki UMEZAWA. Владелец: Arisawa Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Exposure apparatus, mask, and optical film

Номер патента: US20150227057A1. Автор: Kazuhiro Ura,Tatsuya Sato,Kenichi Watabe,Yuichi Kakubari,Yasuaki UMEZAWA. Владелец: Arisawa Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-13.

Inner drum exposure apparatus

Номер патента: US7215455B2. Автор: Hiroshi Matsuoka. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-05-08.

Inner drum exposure apparatus

Номер патента: US20060181754A1. Автор: Hiroshi Matsuoka. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-17.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US12117731B2. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-10-15.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09977338B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09910359B2. Автор: Markus Deguenther,Frank Schlesener,Thomas Korb,Vladimir Davydenko,Stefanie Hilt,Wolfgang Hoegele. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-06.

Illumination system for an EUV projection lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09851641B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-26.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09810993B2. Автор: Peter Huber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-07.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09588445B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09535336B2. Автор: Severin Waldis,Florian Bach,Yim-Bun Patrick Kwan,Sascha Bleidistel,Armin Werber,Daniel Benz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-03.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus having a temperature control device

Номер патента: US09523922B2. Автор: Severin Waldis,Florian Bach,Armin Werber,Berndt Warm,Daniel Benz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-20.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09500954B2. Автор: Markus Deguenther,Frank Schlesener,Thomas Korb,Vladimir Davydenko,Stefanie Hilt,Wolfgang Hoegele. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-22.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4739373A. Автор: Kenji Nishi,Nobutaka Magome. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-04-19.

Projection exposure apparatus with multiple sets of piezoelectric elements moveable in different directions and related method

Номер патента: US9110388B2. Автор: Sascha Bleidistel,Bernhard Geuppert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-08-18.

Exposure apparatus with detecting means insertable into an exposure path

Номер патента: US4617469A. Автор: Hiroshi Sato,Kazuo Takahashi,Masao Kosugi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1986-10-14.

Manufacturing method of mask for electron beam proximity exposure and mask

Номер патента: US20020071994A1. Автор: Nobuo Shimazu,Takao Utsumi. Владелец: LEEPL Corp. Дата публикации: 2002-06-13.

Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method

Номер патента: US11841614B2. Автор: Kanji Suzuki,Manabu Hakko. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Exposure apparatus and aligning method

Номер патента: US20050219533A1. Автор: Kiyohito Yamamoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-10-06.

Exposure apparatus having blind and method of driving

Номер патента: US9223195B2. Автор: Hong-Suk Yoo,Chang-Hoon Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-29.

Exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US20200301287A1. Автор: Michio Kono. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-09-24.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the same, pattern forming method, manufacturing method of electronic device, electronic device and resin

Номер патента: WO2013081184A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Hiroo Takizawa,Natsumi YOKOKAWA. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-06-06.

Illumination optical system, alignment apparatus, and projection exposure apparatus using the same

Номер патента: US5797674A. Автор: Tadashi Nagayama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-08-25.

Electron beam exposure apparatus and electron beam exposure method

Номер патента: GB2379082A. Автор: Hitoshi Tanaka. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2003-02-26.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5272501A. Автор: Kenji Nishi,Naomasa Shiraishi,Saburo Kamiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1993-12-21.

Scanning exposure apparatus and method

Номер патента: US7218379B2. Автор: Yoshinori Ohsaki,Yuichi Osakabe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-05-15.

Optical element and exposure apparatus

Номер патента: US7993008B2. Автор: Hitoshi Ishizawa,Takeshi Shirai,Takao Kokubun,Atsunobu Murakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-08-09.

Optical element and exposure apparatus

Номер патента: US10175584B2. Автор: Hitoshi Ishizawa,Takeshi Shirai,Takao Kokubun,Atsunobu Murakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2019-01-08.

Exposure apparatus and exposure method, and component manufacturing method

Номер патента: TWI638386B. Автор: 柴崎祐一. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2018-10-11.

Variable power optical system, optical apparatus, and variable power optical system manufacturing method

Номер патента: US20180217363A1. Автор: Hiroshi Yamamoto,Kensuke Uchida,Akihiko Obama,Norikazu Yokoi,Taku Matsuo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE MEMBER, MANUFACTURING METHOD OF ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE MEMBER, PROCESS CARTRIDGE AND ELECTROPHOTOGRAPHIC APPARATUS, AND A SOLID SOLUTION AND MANUFACTURING METHOD OF A SOLID SOLUTION

Номер патента: US20150370181A1. Автор: Tanaka Masato,Nishida Tsutomu,Kawahara Masataka. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-24.

VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM, OPTICAL APPARATUS, AND VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180136444A1. Автор: Harada Hiroki. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2018-05-17.

VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM, OPTICAL APPARATUS, AND VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180157015A1. Автор: SHIBAYAMA Atsushi. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-07.

VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM, OPTICAL APPARATUS, AND VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180217363A1. Автор: Yamamoto Hiroshi,MATSUO Taku,YOKOI Norikazu,OBAMA Akihiko,UCHIDA Kensuke. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-02.

Movable body spectrum measuring apparatus and movable body spectrum measuring method

Номер патента: US9121818B2. Автор: Jun Sato,Kenji Sasaki,Ryuji Funayama. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2015-09-01.

Image forming apparatus, exposure apparatus and image forming method

Номер патента: US20080232844A1. Автор: Yukihiro Matsushita,Youji Houki,Yoshihiko Taira. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-25.

Exposure apparatus, image forming apparatus, exposure apparatus manufacturing method and image forming method

Номер патента: US20080232855A1. Автор: Yoshihiro Yamamoto. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-25.

Exposure apparatus, image forming apparatus, exposure apparatus manufacturing method and image forming method

Номер патента: US7932918B2. Автор: Yoshihiro Yamamoto. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-26.

Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method

Номер патента: EP2801864A2. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-11-12.

Exposure apparatus and image-forming apparatus

Номер патента: US20240345501A1. Автор: Yasutomo FURUTA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Inspection method and apparatus, substrates for use therein and device manufacturing method

Номер патента: US09835954B2. Автор: Arie Jeffrey Den Boef,Franciscus Godefridus Casper Bijnen,Simon Gijsbert Josephus MATHIJSSEN,Erik Willem BOGAART. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-12-05.

Method for producing a reflective optical component for an EUV projection exposure apparatus and component of this type

Номер патента: US09541685B2. Автор: Holger Kierey,Heiko Siekmann,Andre Bresan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-10.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: US12105430B2. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Exposure apparatus and image-forming apparatus

Номер патента: US20240337964A1. Автор: Yasutomo FURUTA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Exposure apparatus and method thereof

Номер патента: US20060158637A1. Автор: Ying-Jyh Liao. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2006-07-20.

Exposure apparatus

Номер патента: US20010017691A1. Автор: Masaru Nikaido,Tetsuya Tadokoro,Tomoaki Ishino. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-30.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US11747737B2. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: EP3964894A3. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-07-27.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: US20220066326A1. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-03-03.

Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing semiconductor apparatus

Номер патента: EP3964894A2. Автор: Kazuhiro Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-03-09.

Optical element and manufacturing method thereof

Номер патента: US20030000453A1. Автор: Seiji Takeuchi,Yasuyuki Unno. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-02.

Laser system, spectrum waveform calculation method, and electronic device manufacturing method

Номер патента: US20230349762A1. Автор: Masato Moriya,Natsuhiko KOUNO,Shunya OIWA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2023-11-02.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for semiconductor device

Номер патента: US20230101647A1. Автор: Kazuhiro Takahashi,Rika Hoshino. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-03-30.

Projection exposure apparatus for microlithography comprising an optical distance measurement system

Номер патента: US09759550B2. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-12.

Cured product production method, laminate production method, semiconductor device manufacturing method, and processing liquid

Номер патента: EP4398289A1. Автор: Atsushi Nakamura,Naoki Sato,Atsuyasu Nozaki,Misaki TAKASHIMA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-10.

Image forming apparatus and exposure apparatus for forming image using rod lens array

Номер патента: US20230273544A1. Автор: Koichiro Nakanishi,Hirotaka Seki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-08-31.

Vacuum contact printing device and exposure apparatus and original contact device

Номер патента: US5083156A. Автор: Kazuo Watanabe,Hiroyuki Hashimoto,Toshiyuki Sato. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1992-01-21.

Exposure apparatus, image forming apparatus and method of manufacturing exposure apparatus

Номер патента: US20150370193A1. Автор: Sachiya Okazaki. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-24.

Exposure apparatus, image forming apparatus and method of manufacturing exposure apparatus

Номер патента: US9217946B1. Автор: Sachiya Okazaki. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-22.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20130215211A1. Автор: Katsuhide Koga. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-08-22.

Laser exposure apparatus

Номер патента: US6700642B2. Автор: Masaki Mori,Hiroyuki Nakagawa. Владелец: Toray Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2004-03-02.

Optical axis adjustment device and exposure apparatus using the same

Номер патента: US20060072092A1. Автор: Takeshi Kawakami,Tsuyoshi Yamauchi,Toshihide Ito,Yoshinori Tabata,Tsuyoshi Kashiwagi. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2006-04-06.

Optical axis adjustment device and exposure apparatus using the same

Номер патента: US20080297750A1. Автор: Takeshi Kawakami,Tsuyoshi Yamauchi,Toshihide Ito,Yoshinori Tabata,Tsuyoshi Kashiwagi. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2008-12-04.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09767068B2. Автор: Christian Kempter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-19.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: US11835863B2. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: US20240077806A1. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Номер патента: EP4109179A2. Автор: Yuhei Sumiyoshi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-12-28.

Wavelength conversion device and manufacturing method thereof

Номер патента: US12044868B2. Автор: Chi-Tang Hsieh,I-Hua Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Номер патента: US20230273483A1. Автор: Jun Tanaka,Tomio Yaguchi,Toshiki Kaneko,Yuko Matsumoto,Hidehiro Sonoda,Shoichi Uchino,Noboru Kunimatsu,Chikae Matsui. Владелец: Panasonic Intellectual Property Corp of America. Дата публикации: 2023-08-31.

Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Номер патента: US12072581B2. Автор: Jun Tanaka,Tomio Yaguchi,Toshiki Kaneko,Yuko Matsumoto,Hidehiro Sonoda,Shoichi Uchino,Noboru Kunimatsu,Chikae Matsui. Владелец: Panasonic Intellectual Property Corp of America. Дата публикации: 2024-08-27.

Exposure apparatus having a PLZT shutter, a multi-colored filter disc and a shielding member to block exposure light

Номер патента: US5719660A. Автор: Masazumi Ishikawa,Tohru Tanibata. Владелец: Noritsu Koki Co Ltd. Дата публикации: 1998-02-17.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20110115869A1. Автор: Katsuhiko Nakaie. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2011-05-19.

Automatic exposure apparatus for cameras

Номер патента: US3855604A. Автор: G Krause. Владелец: Individual. Дата публикации: 1974-12-17.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20200133156A1. Автор: Takahiro Matsuo,Hajime Taniguchi,Ryo Hasegawa,Atsushi Nagaoka. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-04-30.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20140098172A1. Автор: Junichi Tanigawa. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-10.

Post-processing apparatus and image forming apparatus including the same

Номер патента: US20210261378A1. Автор: Terumitsu Noso. Владелец: Kyocera Document Solutions Inc. Дата публикации: 2021-08-26.

Photographic exposure apparatus

Номер патента: CA2169794C. Автор: Masahiro Yamamoto,Hiroshi Oku. Владелец: Noritsu Koki Co Ltd. Дата публикации: 2000-04-18.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US8279403B2. Автор: Ryo Mikami. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-10-02.

Exposure apparatus, image forming apparatus and heating method

Номер патента: US20080218710A1. Автор: Yukihiro Matsushita,Youji Houki,Yoshihiko Taira. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-09-11.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20080240785A1. Автор: Masao Ito,Masahiko Fujii. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2008-10-02.

Strip exposure apparatus for nucleation medium

Номер патента: US3903359A. Автор: Paul A Sullivan,Jr George G Vitt. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 1975-09-02.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20100073659A1. Автор: Ryo Mikami. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-03-25.

Exposure apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20200272090A1. Автор: Satoshi Hashimoto,Junichi Moroka. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Projection exposure apparatus for microlithography comprising an optical distance measurement system

Номер патента: WO2014012641A2. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-01-23.

Container for powder, device for powder supply and device for image formation

Номер патента: RU2643227C2. Автор: Дзунити МАЦУМОТО,Тадаси ХАЯКАВА,Хироси ХОСОКАВА,Цукуру КАИ,Макото КОМАЦУ,Юдзуру ОЗАВА. Владелец: РИКОХ КОМПАНИ, ЛТД.. Дата публикации: 2018-01-31.

Stretchable display panel and device and manufacturing method of the same

Номер патента: US12033544B2. Автор: Hyunju Jung,Eunah Kim. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Position recognition apparatus for printed circuit board, position recognition and processing apparatus, and printed circuit board manufacturing method

Номер патента: US10667445B2. Автор: Kenichi Mishima. Владелец: Nippon Mektron KK. Дата публикации: 2020-05-26.

Variable power optical system, optical apparatus, and variable power optical system manufacturing method

Номер патента: US20180143413A1. Автор: Hiroshi Yamamoto,Kensuke Uchida,Akihiko Obama,Taku Matsuo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-05-24.

Liquid crystal device manufacturing apparatus and liquid crystal device manufacturing method

Номер патента: JP4329738B2. Автор: 武 宮下,英男 中田. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-09-09.

ELECTRONIC APPARATUS AND PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190163137A1. Автор: Furusawa Masahiro,NAGANO DAISUKE,TERASHIMA Maho. Владелец: SEIKO EPSON CORPORATION. Дата публикации: 2019-05-30.

Heat transport device, electronic apparatus, and heat transport device manufacturing method

Номер патента: US20100254088A1. Автор: Mitsuo Hashimoto,Yuichi Ishida,Kazuaki Yazawa,Hiroyuki Ryoson,Tatsuhiko Shigemoto. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2010-10-07.

Liquid crystal device, electronic apparatus, and liquid crystal device manufacturing method

Номер патента: JP6169482B2. Автор: 裕紀 杉山,健夫 小糸. Владелец: Japan Display Inc. Дата публикации: 2017-07-26.

Vapor deposition apparatus and thin film device manufacturing method

Номер патента: JP4503701B2. Автор: 一郎 塩野,友松 姜,博光 本多,尊則 村田. Владелец: Shincron Co Ltd. Дата публикации: 2010-07-14.

Control Circuit, Drive Circuit, Electro-Optical Device, Electronic Apparatus Including Electro-Optical Device, Movable Body Including Electronic Apparatus, And Error Detection Method

Номер патента: US20200342796A1. Автор: Hironori Kobayashi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2020-10-29.

Control Circuit, Drive Circuit, Electro-Optical Device, Electronic Apparatus Including Electro-Optical Device, Movable Body Including Electronic Apparatus, And Error Detection Method

Номер патента: US20200342796A1. Автор: Kobayashi Hironori. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-29.

Stretchable display panel and device and manufacturing method of the same

Номер патента: US20200111390A1. Автор: Hyunju Jung,Eunah Kim. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-09.

Image data processing apparatus and method for defect inspection, defect inspecting apparatus and method using the image data processing apparatus and method, board-like body manufacturing method using the defect inspecting apparatus and method, and recording medium

Номер патента: KR101609007B1. Автор: 마꼬또 구루미사와. Владелец: 아사히 가라스 가부시키가이샤. Дата публикации: 2016-04-04.

Image data processing apparatus and method for defect inspection, defect inspecting apparatus and method using the image data processing apparatus and method, board-like body manufacturing method using the defect inspecting apparatus and method, and storage medium

Номер патента: CN102099672A. Автор: 楜泽信. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2011-06-15.

EUV MASK INSPECTION APPARATUS AND METHOD, AND EUV MASK MANUFACTURING METHOD INCLUDING EUV MASK INSPECTION METHOD

Номер патента: US20200003685A1. Автор: JEON Byeong-Hwan. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2020-01-02.

Measuring apparatus and measuring method, and element manufacturing method provided with the measuring method

Номер патента: JP5991094B2. Автор: 光彦 酒井,増田　健良,健良 増田,健二 平塚. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2016-09-14.

Measuring apparatus and measuring method, and element manufacturing method including measuring method

Номер патента: JP2014053454A. Автор: Takeyoshi Masuda,Kenji Hiratsuka,光彦 酒井,健良 増田,健二 平塚,Mitsuhiko Sakai. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Double curvature X ray collective optics, double curvature X ray beam splitter and device and the manufacture method of the element with it

Номер патента: CN107408417A. Автор: 河原直树. Владелец: Rigaku Denki Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Manufacturing apparatus and method of fuel cell, manufacturing method of fuel cell using the fuel cell manufacturing apparatus, electronic machine and vehicle having fuel cell manufactured by the manufacturing method

Номер патента: TW200425571A. Автор: Shuhei Yamada,Hirotsuna Miura,Mitsuru Kuribayashi,Yoshiharu Ajiki. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2004-11-16.

Impact dot measurement method, impact dot measurement apparatus, and liquid drop discharge apparatus, manufacturing method of electro-optical apparatus, the electro-optical apparatus and electronic device

Номер патента: JP2008209218A. Автор: 寛文 酒井,Hirobumi Sakai. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM, OPTICAL APPARATUS, AND VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180052311A1. Автор: MACHIDA Kosuke. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-22.

VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM, OPTICAL APPARATUS, AND VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180129026A1. Автор: Yamamoto Hiroshi,MATSUO Taku,OBAMA Akihiko,UCHIDA Kensuke. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-10.

VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM, OPTICAL APPARATUS, AND VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180143413A1. Автор: Yamamoto Hiroshi,MATSUO Taku,OBAMA Akihiko,UCHIDA Kensuke. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-24.

VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM, OPTICAL APPARATUS, AND VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180180858A1. Автор: Harada Hiroki. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-28.

VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM, OPTICAL APPARATUS, AND VARIABLE POWER OPTICAL SYSTEM MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180196241A1. Автор: SHIBAYAMA Atsushi. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-12.

VARIABLE MAGNIFICATION OPTICAL SYSTEM, OPTICAL APPARATUS, AND VARIABLE MAGNIFICATION OPTICAL SYSTEM MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20200363615A1. Автор: MACHIDA Kosuke. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-19.

Gradient magnetic field coil, magnetic resonance imaging apparatus, and gradient magnetic field coil manufacturing method

Номер патента: JP5295799B2. Автор: 良知 坂倉. Владелец: Toshiba Medical Systems Corp. Дата публикации: 2013-09-18.

Optical transmitting/reception module using a ferrule, optical transmission/reception module connection apparatus, and optical transmission/reception module manufacturing method

Номер патента: US20050036740A1. Автор: Masaki Kobayashi,Nobutaka Itabashi,Nobuyuki Akiya,Hitomaro Tougou. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2005-02-17.

Variable magnification optical system, optical apparatus, and variable magnification optical system manufacturing method

Номер патента: JPWO2017094665A1. Автор: 幸介 町田. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-09-20.

Variable magnification optical system, optical apparatus, and variable magnification optical system manufacturing method

Номер патента: JPWO2016017724A1. Автор: 幸介 町田. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-04-27.

X-ray CT apparatus and X-ray CT apparatus manufacturing method

Номер патента: JP4718949B2. Автор: 茂 佐久田. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2011-07-06.

Amorphous motor, manufacturing method thereof and device for implementing manufacturing method

Номер патента: LU504355B1. Автор: Yunzhang Fang. Владелец: Univ Zhejiang Normal. Дата публикации: 2023-12-04.

Electrode sheet manufacturing apparatus and power storage device manufacturing method

Номер патента: US20240189948A1. Автор: Takahiro Sakurai. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

All-solid-state battery manufacturing apparatus and all-solid-state battery manufacturing method

Номер патента: US20220013805A1. Автор: Kazumasa Inata,Masato Ono,Takuya Sakamoto,Tomoya Hioki,Yuki NISHIBU,Yosuke KOIDE. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2022-01-13.

Electron beam exposure apparatus, electron lens, and device manufacturing method

Номер патента: US20020047096A1. Автор: Susumu Goto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Charged particle beam exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09824860B2. Автор: Akio Yamada. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Polarizing mask and manufacturing method utilizing the polarizing mask

Номер патента: US09846312B2. Автор: Hyuk Yoon,Moon Soo Park,Bu Gon Shin,Sin Young Kim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Inner drum exposure apparatus

Номер патента: US20050285930A1. Автор: Hiroshi Matsuoka,Ichirou Miyagawa. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-12-29.

Control apparatus, display apparatus, movable body, and image display method

Номер патента: EP3775780A1. Автор: Hiroshi Yamaguchi,Yuuki Suzuki,Kenichiroh Saisho,Masato Kusanagi,Keita KATAGIRI. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-17.

Light-emitting device, manufacturing method thereof and display apparatus

Номер патента: US20240347678A1. Автор: Wei Li,Qian Sun,Qingyu Huang,Mingxing Wang,Zhiqiang Jiao,Huajie YAN,Mengna Sun. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Method for determining a beamlet position and method for determining a distance between two beamlets in a multi-beamlet exposure apparatus

Номер патента: US09653259B2. Автор: Paul IJmert SCHEFFERS. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-05-16.

Display device manufacturing apparatus and display device manufacturing method

Номер патента: US20240053806A1. Автор: Suk Won Jung,Junyoung Lee,Junwoo YOU,Youngdo Kim,Junehyoung Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Exposure apparatus of an optical disk master, method of exposing an optical disk master and pinhole mechanism

Номер патента: US20050058054A1. Автор: Eiichi Ito,Shinya Abe,Shuji Sato,Morio Tomiyama,Masahiko Tsukuda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-03-17.

Measurement apparatus, movable apparatus, and vehicle

Номер патента: US11856304B2. Автор: Shoh Tsuritani. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Optical article, exposure apparatus or optical system using it, and process for producing it

Номер патента: US20020006713A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Nobuyoshi Tanaka,Kazuyuki Harada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-17.

Method and device for displaying route

Номер патента: US09541403B2. Автор: Takashi Ohmori,Masato Okuda. Владелец: Furuno Electric Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Method of forming a vertical alignment layer, a method of manufacturing a display apparatus using the same, and a display apparatus made with the manufacturing method

Номер патента: US8730440B2. Автор: Kyoungju Shin. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-20.

Image control apparatus, display apparatus, movable body, and image control method

Номер патента: EP3776152A1. Автор: Hiroshi Yamaguchi,Yuuki Suzuki,Kenichiroh Saisho,Masato Kusanagi,Keita KATAGIRI. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-17.

Exposure apparatus for optical disc

Номер патента: US20020041549A1. Автор: Takashi Obara. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2002-04-11.

Diffraction grating device manufacturing method, diffraction grating device manufacturing apparatus, and diffraction grating device

Номер патента: US20030165294A1. Автор: Akira Inoue,Kiyotaka Murashima,Ken Hashimoto,Toshikazu Shibata,Masakazu Shigehara,Masaki Ohmura. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2003-09-04.

Physical quantity detection element, physical quantity detection device, electronic apparatus, and moving object

Номер патента: US10527644B2. Автор: Shota KIGURE. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2020-01-07.

Physical quantity detection element, physical quantity detection device, electronic apparatus, and moving object

Номер патента: US9939457B2. Автор: Shota KIGURE. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Physical quantity detection element, physical quantity detection device, electronic apparatus, and moving object

Номер патента: US20180180641A1. Автор: Shota KIGURE. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-06-28.

Physical quantity detection element, physical quantity detection device, electronic apparatus, and moving object

Номер патента: US09939457B2. Автор: Shota KIGURE. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Method and device for monitoring ophthalmic lens manufacturing conditions

Номер патента: US09897824B2. Автор: Randall B. Pugh. Владелец: Johnson and Johnson Vision Care Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Exposure apparatus

Номер патента: US20040145546A1. Автор: Hiroaki Hyuga. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-07-29.

Scanning exposure apparatus having a modulation signal adjusting unit

Номер патента: US5134512A. Автор: Shuhei Hiwada. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 1992-07-28.

Manufacturing method and repairing method for display device as well as liquid crystal display panel

Номер патента: US09529239B2. Автор: Yang Ling Cheng. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Apparatus and method for focusing light beam and exposure apparatus

Номер патента: EP1276102A2. Автор: Nobuo Kimura,Hidekazu Nakamoto,Tetsuo Andou,Masahi Yanagi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2003-01-15.

Micromechanical component, optical device, manufacturing method for a micromechanical component, and manufacturing method for an optical device

Номер патента: US8630050B2. Автор: Reinhold Fiess,Ulrich Kallmann,Ingo Ramsteiner. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2014-01-14.

Color filter substrate manufacturing method, display device manufacturing method, color filter substrate, and display device

Номер патента: US20140091343A1. Автор: Takayuki Nakano,Hirokazu Yoshioka,Yutaka Miyajima,Keita Katayose. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2014-04-03.

Micromechanical component, optical device, manufacturing method for a micromechanical component, and manufacturing method for an optical device

Номер патента: US20110188140A1. Автор: Reinhold Fiess,Ulrich Kallmann,Ingo Ramsteiner. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-04.

Imaging device, manufacturing device, and manufacturing method

Номер патента: US20180367716A1. Автор: Eiichiro Dobashi,Shuichi Mochinaga. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2018-12-20.

Imaging device, manufacturing device, and manufacturing method

Номер патента: US10356295B2. Автор: Eiichiro Dobashi,Shuichi Mochinaga. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2019-07-16.

Manufacturing method of inertial sensor and inertial sensor

Номер патента: US20160138921A1. Автор: Teruo Takizawa,Shigekazu Takagi,Atsuki NARUSE. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2016-05-19.

Manufacturing method of inertial sensor and inertial sensor

Номер патента: US09880000B2. Автор: Teruo Takizawa,Shigekazu Takagi,Atsuki NARUSE. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Display device substrate, display device substrate manufacturing method, display device, liquid crystal display device, liquid crystal display device manufacturing method and organic electroluminescent display device

Номер патента: US09461265B2. Автор: Hiroyuki Moriwaki. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Exposure apparatus adopting organic light-emitting diode array as light source

Номер патента: US20070040888A1. Автор: Woon-ho Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-02-22.

Exposure apparatus, adjustment method therefor, and image forming apparatus

Номер патента: US20120327169A1. Автор: Hiroki Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-12-27.

Manufacturing method of optical device, optical device, manufacturing method of faraday rotator, and optical communication system

Номер патента: US20030174397A1. Автор: Tamotsu Sugawara,Atsushi Ohido. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2003-09-18.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240054276A1. Автор: Joongwon Jeon,Subin KIM,Jaehyun KANG,Junsu Jeon,Byungmoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-15.

Mems device, electronic apparatus, and vehicle

Номер патента: US20210255214A1. Автор: Fumiya Ito. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2021-08-19.

MEMS Device, Electronic Apparatus, And Vehicle

Номер патента: US20240094239A1. Автор: Fumiya Ito. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Navigation route planning apparatus and navigation route planning method

Номер патента: US20230406461A1. Автор: Seiichi Uoshita. Владелец: Furuno Electric Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Movable body apparatus and optical deflector using the movable body apparatus

Номер патента: US20090251756A1. Автор: Hideta Nishizawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-10-08.

Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Номер патента: US09874780B2. Автор: Yanan Wang,Hongquan Wei. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Method and device for banknote loading management and banknote storage device

Номер патента: RU2665221C1. Автор: Тао Чжан,Чжицян СУНЬ,Ханьфэн СЯО,Вэньцин У. Владелец: ДжиАрДжи БЭНКИНГ ЭКВИПМЕНТ КО., ЛТД.. Дата публикации: 2018-08-28.

Exposure apparatus for irradiating a sensitized substrate

Номер патента: US20030206337A1. Автор: David Kessler,Rongguang Liang. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2003-11-06.

Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing apparatus

Номер патента: US8101507B2. Автор: Shigeru Tahara,Ryuichi Asako,Gousuke Shiraishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-01-24.

Adhesive film for use in semiconductor device manufacture, manufacturing method of said adhesive film, semiconductor device, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: SG11202002552PA. Автор: Keisuke Ohkubo,Masanori Natsukawa. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-29.

Spinning pack for manufacturing high strength yarn, and yarn manufacturing apparatus and method

Номер патента: EP3741884A1. Автор: Sung Ho Park,Il Chung,Ki Sub Lim. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2020-11-25.

Multi-beam exposure apparatus using multi-axle electron lens, electron lens collecting plural electron beams, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: TW495814B. Автор: HIROSHI Yasuda,Takeshi Haraguchi,Shinichi Hamaguchi. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2002-07-21.

Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing apparatus

Номер патента: US20100099256A1. Автор: Shigeru Tahara,Ryuichi Asako,Gousuke Shiraishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-04-22.

Film formation apparatus and film-formed workpiece manufacturing method

Номер патента: US10422032B2. Автор: Yotaro FUKUOKA,Sosuke YAGI. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2019-09-24.

Electrode sheet manufacturing apparatus and power storage device manufacturing method

Номер патента: US11945050B2. Автор: Takahiro Sakurai. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

High frequency communication apparatus and waterproof structure thereof and manufacturing method for waterproof structure

Номер патента: US20090168389A1. Автор: Tung Yi Ko,Hsiang Hao Sung. Владелец: Microelectronics Technology Inc. Дата публикации: 2009-07-02.

MOVABLE PLATEN SUPPORT APPARATUS, MOVABLE PLATEN, MOLD OPENING/CLOSING APPARATUS AND MOLDING APPARATUS

Номер патента: US20170274569A1. Автор: SASAKI Noriyuki,Kinoshita Masato,Kitta Hideaki. Владелец: TOSHIBA KIKAI KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2017-09-28.

Movable platen support apparatus, movable platen, mold opening/closing apparatus and molding apparatus

Номер патента: US10384383B2. Автор: Noriyuki Sasaki,Masato Kinoshita,Hideaki Kitta. Владелец: Toshiba Machine Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-20.

Solid state imaging apparatus, imaging apparatus and solid state imaging apparatus manufacturing method

Номер патента: US20080173902A1. Автор: Jiro Matsuda,Shu Takahashi,Masanori Nagase. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-07-24.

Electro-mechanical transducer element, liquid droplet ejecting head, image forming apparatus, and electro-mechanical transducer element manufacturing method

Номер патента: US09533502B2. Автор: Atsushi Takeuchi,Osamu Machida,Akira Shimofuku,Ryo Tashiro. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

ELECTRODE SHEET MANUFACTURING APPARATUS AND POWER STORAGE DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20190160596A1. Автор: Sakurai Takahiro. Владелец: TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2019-05-30.

Power storage device manufacturing apparatus and power storage device manufacturing method

Номер патента: JP6183245B2. Автор: 晃嵩 山田. Владелец: Toyota Industries Corp. Дата публикации: 2017-08-23.

Droplet ejection apparatus control method, droplet ejection apparatus, and electro-optic device manufacturing method

Номер патента: JP4434032B2. Автор: 和巳 有賀,秀範 臼田. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2010-03-17.

Plasma processing apparatus, data analysis apparatus, and semiconductor device manufacturing system

Номер патента: US20240203712A1. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Shunta NOSAKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Light-emitting device, electronic apparatus, and light-emitting device manufacturing method

Номер патента: US20090218583A1. Автор: Norikazu Nakayama,Yuichi Ishida,Kazuaki Yazawa. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2009-09-03.

Electric drive apparatus, electric power steering apparatus, and electronic control device manufacturing method

Номер патента: EP4096073A4. Автор: Masakazu Morimoto. Владелец: NSK LTD. Дата публикации: 2023-11-15.

Method for judging wafer thinning, device structure and device and its manufacture method

Номер патента: CN101339893B. Автор: 邱文智,余振华,吴文进,张宏宾,杨固峰. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2010-11-17.

A wire electric discharge machining apparatus and a wire electric discharge machining method, a semiconductor wafer manufacturing apparatus and a semiconductor wafer manufacturing method, and a solar cell wafer manufacturing apparatus and a solar cell wafer manufacturing method

Номер патента: DE112009001483T5. Автор: Tatsushi Sato,Hidetaka Miyake. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

IMPRINT APPARATUS AND IMPRINT METHOD, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20150042012A1. Автор: EMOTO Keiji,Nakagawa Kazuki. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-12.

Tactile sensor for position and forse sensing of tooth, apparatus and system having the same, manufacturing method, obtaining method and recording medium thereof

Номер патента: KR101221415B1. Автор: 김영운,김종호. Владелец: 한국표준과학연구원. Дата публикации: 2013-01-11.

It is integrated with enhanced and device and its manufacturing method of depletion type VDMOS

Номер патента: CN108550623A. Автор: 田甜,康剑,魏国栋,张曌. Владелец: SHENZHEN SI SEMICONDUCTORS CO Ltd. Дата публикации: 2018-09-18.

Film forming apparatus and film forming method and manufacturing method of solar cell

Номер патента: KR101992074B1. Автор: 히로히사 다카하시,준스케 마츠자키. Владелец: 가부시키가이샤 알박. Дата публикации: 2019-06-21.

Thin film active element group, thin film active element array, organic light emitting device, display apparatus, and thin film active element manufacturing method

Номер патента: US20100258803A1. Автор: Tomonori Matsumuro. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-14.

Liquid droplet ejection apparatus and inspection apparatus for its inspecting drawing accuracy, workpiece and inspection apparatus for inspecting processing accuracy of its processing apparatus, and electro-optic device, and manufacturing method thereof

Номер патента: TWI256344B. Автор: Yuji Iwata. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-06-11.

Multi-stage helical gear manufacturing apparatus and multi-stage helical gear manufacturing method

Номер патента: US20240149512A1. Автор: Yuta Sakaguchi,Yuki Wakimoto,Rikiya SUENAGA. Владелец: Toyota Boshoku Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

PRINTING LIQUID CONTAINER, PRINTING LIQUID FILLED CONTAINER, IMAGE FORMING APPARATUS AND PRINTING LIQUID FILLED CONTAINER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20130271536A1. Автор: Kondou Masahiko,YOSHIDA Tomohisa. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-17.

ELECTRO-MECHANICAL TRANSDUCER ELEMENT, LIQUID DROPLET EJECTING HEAD, IMAGE FORMING APPARATUS, AND ELECTRO-MECHANICAL TRANSDUCER ELEMENT MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20140049582A1. Автор: Shimofuku Akira,Machida Osamu,TAKEUCHI Atsushi,Tashiro Ryo. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2014-02-20.

ALL-SOLID-STATE BATTERY MANUFACTURING APPARATUS AND ALL-SOLID-STATE BATTERY MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20220013805A1. Автор: Sakamoto Takuya,Inata Kazumasa,ONO Masato,NISHIBU Yuki,HIOKI Tomoya,KOIDE Yosuke. Владелец: . Дата публикации: 2022-01-13.

Mold press apparatus and mold press molded product manufacturing method

Номер патента: JP4667931B2. Автор: 忠幸 藤本,賢治 山中. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2011-04-13.

Dye-sensitized solar cell manufacturing apparatus and dye-sensitized solar cell manufacturing method

Номер патента: JP5469741B2. Автор: 修二 早瀬,博昭 林,竜一 白土,末廣 大久保,泰一 牟禮,康裕 宍田. Владелец: Kyushu Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2014-04-16.

Silicon carbide epitaxial growth apparatus and silicon carbide epitaxial wafer manufacturing method

Номер патента: JP7176489B2. Автор: 和雄 小林,泰成 日野,雅 酒井,真一郎 香月. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2022-11-22.

Ring-type magnet molded body manufacturing apparatus and ring-type sintered magnet manufacturing method

Номер патента: JP4279757B2. Автор: 裕治 中原,泰造 石見,義一 鵜飼. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2009-06-17.

Three-dimensional layered product manufacturing apparatus and three-dimensional layered product manufacturing method

Номер патента: JPWO2019088101A1. Автор: 雅人 山田,山田　雅人,雅志 毛利,祐輝 小末. Владелец: IHI Corp. Дата публикации: 2020-07-27.

METAL OXIDE SINGLE CRYSTAL MANUFACTURING APPARATUS AND METAL OXIDE SINGLE CRYSTAL MANUFACTURING METHOD

Номер патента: DE102023101328A1. Автор: Takumi Kobayashi,Keigo Hoshikawa,Toshinori Taishi. Владелец: Shinshu University NUC. Дата публикации: 2023-07-27.

Cooling device, hot-rolled steel plate manufacturing apparatus, and hot-rolled steel plate manufacturing method

Номер патента: JPWO2013012060A1. Автор: 健治 堀井,堀井　健治,洋一 原口,知史 寶諸,原口　洋一,裕二 池本,桂輔 松田,一暁 小林. Владелец: Mitsubishi Hitachi Metals Machinery Inc. Дата публикации: 2015-02-23.

Camera system, control method thereof, device manufacturing apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US7154537B2. Автор: Hiroshi Tanaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-12-26.

Mini-environment pod device, an exposure apparatus and a device manufacturing method using the same

Номер патента: US20070175838A1. Автор: Mitsuji Marumo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-08-02.

Exposure apparatus, coating/developing system, device manufacturing system, device manufacturing method, semiconductor manufacturing factory, and exposure apparatus maintenance method

Номер патента: US20020011207A1. Автор: Shigeyuki Uzawa,Izumi Tsukamoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-31.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20120126136A1. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-05-24.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09859099B2. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Stocker, exposure apparatus, device manufacturing method, semiconductor manufacturing factory, and exposure apparatus maintenance method

Номер патента: US20010027351A1. Автор: Seiji Takeuchi,Eiichi Murakami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-04.

Manufacturing method of semiconductor device, exposure data preparing method, preparing method of aperture mask data, and charge beam exposure apparatus

Номер патента: US20020142238A1. Автор: Ryoichi Inanami. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-10-03.

Exposure apparatus and method of manufacturing display device using the same

Номер патента: US20230326784A1. Автор: Dongwon HAN,Seung-Wan Kim,Eunho JUNG,Jaecheol LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09892884B2. Автор: Dong-gun Lee,Su-Young Lee,Rae-Won Yi,Byoung-Sup Ahn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-13.

Image exposure apparatus

Номер патента: US20030234853A1. Автор: Yusuke Kimura. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2003-12-25.

Device manufacturing apparatus and manufacturing method of magnetic device using structure to pass ion beam

Номер патента: US9799482B2. Автор: Junichi Ito,Yuichi Ohsawa,Akio Ui,Chikayoshi Kamata,Saori Kashiwada,Megumi Yakabe. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Display device manufacturing apparatus and method

Номер патента: US20190341277A1. Автор: Juhee Lee,Myungsoo Huh,TaeJong Kim,Haeyoung YOO,Jaekyu Park,Hyunwoo Joo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-07.

Demagnification measurement method for charged particle beam exposure apparatus, stage phase measurement method for charged particle beam exposure apparatus, control method for charged particle beam exposure apparatus, and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20040183036A1. Автор: Shinsuke Nishimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-23.

Exposure apparatus for image formation and image formation method

Номер патента: EP1148709A3. Автор: Yoshinori Nakajima,Tetsuro Toyoshima,Nobuyuki Azuma,Tadashi Iwamatsu,Yoshinori Mutou. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2004-04-14.

Backside illumination type solid-state imaging device, manufacturing method for backside illumination type solid-state imaging device, imaging apparatus and electronic equipment

Номер патента: US20220310680A1. Автор: Naoki Komai,Tadashi Iijima,Yuichi Yamamoto,Taizo Takachi,Masaya Nagata,Suguru Saito,Yoichi Ootsuka,Masaki HANEDA,Satoru Wakiyama,Kaori Takimoto. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2022-09-29.

Patterned structure of a semiconductor device and a manufacturing method thereof

Номер патента: US09755048B2. Автор: I-Ming Tseng,Rai-Min Huang,Tong-Jyun Huang,Kuan-Hsien Li. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Device manufacturing method and device

Номер патента: US09627259B2. Автор: Masamune TAKANO. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Semiconductor device, electronic apparatus, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: EP4391046A1. Автор: XIAOFENG Xu,Ming Wu,Eckart HOENE,Zhengyan HE,Luise PAWLAK. Владелец: Huawei Digital Power Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Semiconductor device manufacturing method, semiconductor device, semiconductor device manufacturing apparatus and storage medium

Номер патента: US20140103529A1. Автор: Kenji Matsumoto,Atsushi Gomi,Tatsuo Hatano,Tatsufumi Hamada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-04-17.

Charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US09478396B2. Автор: Akio Yamada,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa,Shinji Sugatani. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: US20200194214A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Derk Ferdinand WALVOORT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-06-18.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: EP3665716A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Derk Ferdinand WALVOORT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-06-17.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: NL2021299A. Автор: Hendrik Vincent Van Veen Alexander,Ferdinand Walvoort Derk. Владелец: Mapper Lithography Ip Bv. Дата публикации: 2019-02-18.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: US20230335366A1. Автор: Alexander Hendrik Vincent van Veen,Derk Ferdinand WALVOORT. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-10-19.

Charged particle blocking element, exposure apparatus comprising such an element, and method for using such an exposure apparatus

Номер патента: NL2021299B1. Автор: Hendrik Vincent Van Veen Alexander,Ferdinand Walvoort Derk. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-05-29.

Loop mold for wearable device manufacturing

Номер патента: US20240227260A1. Автор: Antti Kalevi Lämsä. Владелец: OURA HEALTH OY. Дата публикации: 2024-07-11.

Array device manufacturing method, manufacturing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20220115833A1. Автор: Ryosuke Kubota. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2022-04-14.

Device manufacturing apparatus and manufacturing method of magnetic device

Номер патента: US20160196951A1. Автор: Junichi Ito,Yuichi Ohsawa,Akio Ui,Chikayoshi Kamata,Saori Kashiwada,Megumi Yakabe. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-07-07.

Display device manufacturing apparatus and display device manufacturing method using the same

Номер патента: US20210291507A1. Автор: Sang Won Lee,Young Su Kim,Jae Suk Yoo,Kyu Ho JUNG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Magnetic shunt assembly for an exposure apparatus

Номер патента: US20030102438A1. Автор: Michael Sogard. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-06-05.

Liquid ejecting apparatus and manufacturing method of liquid ejecting apparatus

Номер патента: US20240316962A1. Автор: Takeshi Aoki,Yusaku Amano. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Array device manufacturing method, manufacturing apparatus, and storage medium

Номер патента: US12107382B2. Автор: Ryosuke Kubota. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09449838B2. Автор: Takanori Sato,Kazuto Ogawa,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Exposure apparatus for posterior spinal minimally invasive screw placement surgery

Номер патента: US09439641B2. Автор: Jian Tang,Xiaojian Cao,Haijun Li,Hao XIE. Владелец: Jiangsu Province Hospital First Affiliated Hospital With Nanjing Medical University. Дата публикации: 2016-09-13.

Exposure apparatus for paraspinal muscle clearance approach with posteriorspinal small incision

Номер патента: US09439638B2. Автор: Jian Tang,Xiaojian Cao,Haijun Li,Hao XIE. Владелец: Jiangsu Province Hospital First Affiliated Hospital With Nanjing Medical University. Дата публикации: 2016-09-13.

Sealing device manufacturing method (versions)

Номер патента: RU2256114C2. Автор: Джон В. КОСТИ,Джон М. ЛЕНЕР,Майкл А. МАКИСААК. Владелец: Сен Гобен Перформанс Плэстикс Корпорейшн. Дата публикации: 2005-07-10.

Charged particle beam exposure apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US5401974A. Автор: HIROSHI Yasuda,Yasushi Takahashi,Moritaka Nakamura,Soichiro Arai,Kiichi Sakamoto,Takamasa Satoh,Yoshihisa Oae. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1995-03-28.

Substrate transfer method, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20240006205A1. Автор: Kenichirou Matsuyama,Sho Kano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate transfer method, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20240006214A1. Автор: Kenichirou Matsuyama,Shingo Katsuki,Sho Kano,Saori Kosaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: RU2680989C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Асламбек Идрисович Хасанов,Руслан Азаевич Кутуев,Арслан Гасанович Мустафаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Чеченский государственный университет". Дата публикации: 2019-03-01.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20160314934A1. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-27.

Exposure apparatus

Номер патента: US7633515B2. Автор: Yasuhiro Tomioka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-15.

Exposure apparatus

Номер патента: US20070188590A1. Автор: Yasuhiro Tomioka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-08-16.

Manufacturing method of dielectric waveguide radio-frequency device

Номер патента: US20240304977A1. Автор: Bin Lin,Hetian Hou,Haoji Wang,Tianyi Sui. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-09-12.

Light-exposure apparatus

Номер патента: RU2491106C2. Автор: Тосеи ХАМАДА,Масако ЯМАСАКИ,Такаси МАЦУДЗАКИ. Владелец: ПАНАСОНИК КОРПОРЭЙШН. Дата публикации: 2013-08-27.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: RU2688866C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев,Наталья Васильевна Черкесова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ). Дата публикации: 2019-05-22.

Method and device for electromagnetic dynamic cast moulding of polymer

Номер патента: RU2145543C1. Автор: Ку Йинпинг. Владелец: Саут Чайна Юниверсити оф Текнолоджи. Дата публикации: 2000-02-20.

Phosphor screen exposure apparatus

Номер патента: US4187013A. Автор: Takasi Fujimura,Syokichi Endo. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1980-02-05.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US20160133438A1. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-05-12.

Charged particle beam exposure apparatus suitable for drawing on line patterns, and exposure method using the same

Номер патента: US9607807B2. Автор: Akio Yamada,Tatsuro Okawa,Masahiro Seyama,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Battery, electrical apparatus, and method and device for manufacturing battery

Номер патента: EP4425676A1. Автор: PENG Wang,Feng Qin,Runyong HE. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Battery, electrical apparatus, and method and device for manufacturing battery

Номер патента: EP4451456A1. Автор: PENG Wang,Feng Qin,Runyong HE. Владелец: Contemporary Amperex Technology Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Image sensor devices, methods of manufacture thereof, and semiconductor device manufacturing methods

Номер патента: US09748304B2. Автор: Szu-Ying Chen,Dun-Nian Yaung,Jen-Cheng Liu,Jeng-Shyan Lin,Shu-Ting Tsai,U-Ting CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: RU2688864C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев,Наталья Васильевна Черкесова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ). Дата публикации: 2019-05-22.

Small-sized nuclear cells with alkali metals atoms vapors manufacturing method

Номер патента: RU2677154C1. Автор: Владимир Леонидович Величанский,Алексей Борисович Егоров,Рафаил Ионович Фишман,Дмитрий Сергеевич Чучелов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Атомикс". Дата публикации: 2019-01-15.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: RU2688851C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев,Наталья Васильевна Черкесова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ). Дата публикации: 2019-05-22.

Adaptive automatic exposure apparatus and method for digital images

Номер патента: WO2011056994A3. Автор: Nasser Kehtarnavaz,Mohammad T. Rahman. Владелец: BOARD OF REGENTS, THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM. Дата публикации: 2011-09-22.

Electrode assembly, battery cell, battery, electrical apparatus, and manufacturing method and device

Номер патента: US12021269B2. Автор: Chengdu Liang,Qingrui Xue,Zige Zhang,Xiaona Wang,Wenwei Chen. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Tungsten-including diamond-like carbon film and manufacturing method thereof, and dental device manufactured by the method

Номер патента: US20060280947A1. Автор: Kwang-Ryeol Lee,Ai-Ying Wang. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2006-12-14.

Battery cell, battery, power consumption apparatus, and manufacturing method and device of battery cell

Номер патента: US20230118321A1. Автор: Zhijun Guo,Kun FANG. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Liquid jet head, method for integrally manufacturing a liquid jet apparatus, and device

Номер патента: US20160200105A1. Автор: Yue Li,Helin Zou,Xiaokun CHEN,Jingzhi He. Владелец: Zhuhai Seine Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-14.

Liquid jet head, method for integrally manufacturing a liquid jet apparatus, and device

Номер патента: US20170210134A1. Автор: Yue Li,Helin Zou,Xiaokun CHEN,Jingzhi He. Владелец: Zhuhai Seine Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-27.

Different-voltage device manufactured by a cmos compatible process and high-voltage device used in the different-voltage device

Номер патента: US20070178648A1. Автор: Jenn-Yu Lin,Ta-Yung Yang,Chih-Feng Huang,Tuo-Hsin Chien. Владелец: System General Corp Taiwan. Дата публикации: 2007-08-02.

Electron emitting device manufacture method and image display apparatus manufacture method

Номер патента: US20070059439A1. Автор: Yasuko Tomida,Taku Shimoda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-03-15.

Electron emitting device manufacture method and image display apparatus manufacture method

Номер патента: US20040022933A1. Автор: Yasuko Tomida,Taku Shimoda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

Patterned substrate manufacturing method, and electric-optical device manufacturing method

Номер патента: US20100124620A1. Автор: Naoyuki Toyoda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2010-05-20.

Method for processing three-dimensional (3d) silicon-based transfer structure based on photosensitive composite, and device manufactured thereby

Номер патента: US20240321588A1. Автор: Liang Zhou,Ziqi Zhang,Chengrui Zhang,Junfa MAO. Владелец: Shanghai Jiaotong University. Дата публикации: 2024-09-26.

Semiconductor device and manufacturing method therefor, and electronic device

Номер патента: EP4398307A1. Автор: Xiaogen YIN,Guangxing Wan,Waisum Wong. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Liquid jet head, method for integrally manufacturing a liquid jet apparatus, and device

Номер патента: US09919527B2. Автор: Yue Li,Helin Zou,Xiaokun CHEN,Jingzhi He. Владелец: Zhuhai Seine Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Liquid jet head, method for integrally manufacturing a liquid jet apparatus, and device

Номер патента: US09731508B2. Автор: Yue Li,Helin Zou,Xiaokun CHEN,Jingzhi He. Владелец: Zhuhai Seine Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: RU2688863C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев,Наталья Васильевна Черкесова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ). Дата публикации: 2019-05-22.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: RU2726904C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Асламбек Идрисович Хасанов,Руслан Азаевич Кутуев,Арслан Гасанович Мустафаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Чеченский государственный университет". Дата публикации: 2020-07-16.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: RU2745589C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев,Наталья Васильевна Черкесова. Владелец: федеральное государственное бюджетно образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ). Дата публикации: 2021-03-29.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8618516B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-12-31.

Charged-particle beam exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US8981321B2. Автор: Hirohito Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-03-17.

Silicon epitaxial wafer and manufacturing method thereof

Номер патента: US20100327415A1. Автор: Takeshi Arai. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2010-12-30.

Sputtering target and method of manufacturing the same, and memory device manufacturing method

Номер патента: US20220162742A1. Автор: Kazuhiro Ohba,Katsuhisa Aratani,Shuichiro Yasuda,Hiroaki Sei. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2022-05-26.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20170301541A1. Автор: Jaehong Park,Jeoungwoo KIM,Wangyu LEE,Hoseung JEON,Junghwan HYUNG. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2017-10-19.

Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing by the same method

Номер патента: US20010018254A1. Автор: Ichiro Yamamoto. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-08-30.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09899216B2. Автор: Jaehong Park,Jeoungwoo KIM,Wangyu LEE,Hoseung JEON,Junghwan HYUNG. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2018-02-20.

Semiconductor device and manufacturing method thereof

Номер патента: US09472676B2. Автор: Tetsunori Maruyama,Yuki Imoto,Yuta Endo. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-18.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: RU2709603C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Асламбек Идрисович Хасанов,Руслан Азаевич Кутуев,Арслан Гасанович Мустафаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Чеченский государственный университет". Дата публикации: 2019-12-18.

Exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20170053773A1. Автор: Dong-gun Lee,Su-Young Lee,Rae-Won Yi,Byoung-Sup Ahn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-02-23.

Light exposure apparatus

Номер патента: US20190030360A1. Автор: Tomoya Iwahashi. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-31.

Narrow-band laser device for exposure apparatus

Номер патента: US7792176B2. Автор: Osamu Wakabayashi. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2010-09-07.

Manufacturing method for semiconductor device having a T-type gate electrode

Номер патента: US20060009032A1. Автор: So Suzuki. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Manufacturing method of electronic device using imprinting and electronic device made therefrom

Номер патента: US20140077193A1. Автор: Jung-Hun Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Cmut device and manufacturing method

Номер патента: EP3119533A1. Автор: Bout Marcelis,Ruediger Mauczok. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2017-01-25.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190221430A1. Автор: Fu Hai Liu. Владелец: Semconductor Manufacturing International (shanghai) Corp. Дата публикации: 2019-07-18.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20040097074A1. Автор: So Suzuki. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-20.

Semiconductor device and manufacturing method therefor, and electronic device

Номер патента: US20240250148A1. Автор: Xiaogen YIN,Guangxing Wan,Waisum Wong. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Pressure relief mechanism, battery, apparatus, and manufacturing method and device for battery

Номер патента: EP4407772A1. Автор: Zhijie Huang,Huimin MIAO,Xiaoyin YU. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Low-cost semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09691893B2. Автор: Francois Hebert,Ju Ho Kim,Seong Min Cho,Yu Shin RYU,Yon Sup PANG. Владелец: MagnaChip Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Image reading apparatus and image forming apparatus having a guide member

Номер патента: US09609162B2. Автор: Kaoru Takahashi. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Method and device for forming a continuous fibrous tape from a transportable band

Номер патента: RU2653052C2. Автор: Владимир Семенович Николаев,Иван Александрович Прошин,Игорь Александрович Булаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Пензенский государственный технологический университет". Дата публикации: 2018-05-04.

Screw apparatus and manual screw system

Номер патента: RU2743181C1. Автор: Томас ЛАНГХОРСТ. Владелец: Йоханнес Любберинг Гмбх. Дата публикации: 2021-02-15.

Paper pallet of deep extract, method and device (versions) for manufacture of such pallet and product packaging with such pallet

Номер патента: RU2631038C2. Автор: Яри РЯСЯНЕН,Оути КЮЛЛИЯЙНЕН,Ниило ПЕЙХЕНЕН,Мари ХИЛЬТУНЕН. Владелец: СТОРА ЭНСО ОЙЙ. Дата публикации: 2017-09-15.

Light amount adjustment method for use in image exposure apparatus

Номер патента: US20050057681A1. Автор: Kenji Yokota,Katsuto Sumi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-03-17.

Manufacturing method for semiconductor device

Номер патента: US20210193523A1. Автор: Tomoaki Ichikawa,Ryota Mita. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2021-06-24.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US8124492B2. Автор: Hitoshi Itoh,Hiroshi Sato,Kenji Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-02-28.

Anti-vibration device manufacturing method

Номер патента: US20180178334A1. Автор: Kei Oyaizu. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-28.

Nor flash device manufacturing method

Номер патента: US20140154878A1. Автор: Yawei Chen,Zhihon Jian. Владелец: CSMC Technologies Fab2 Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-05.

Semiconductor package and manufacturing method thereof

Номер патента: US20030234445A1. Автор: Wu-Chang Wang. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2003-12-25.

Manufacturing method for display device, manufacturing method for light emitting element, and display device

Номер патента: US20240113151A1. Автор: Seul Ki Kim,Ji Eun Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Semiconductor device manufacturing method with reduced gate electrode height loss and related devices

Номер патента: US10535750B2. Автор: Yang Liu,Yongmeng Lee,Shaofeng Yu,Jianhua Ju,Zhaoxu Shen. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2020-01-14.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20180082893A1. Автор: Masayuki Kitamura,Hisashi Okuchi,Yasuhito Yoshimizu,Fuyuma ITO,Yuya Akeboshi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-03-22.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20120122289A1. Автор: Hitoshi Itoh,Hiroshi Sato,Kenji Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-05-17.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20100233865A1. Автор: Hitoshi Itoh,Hiroshi Sato,Kenji Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-09-16.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20150333070A1. Автор: Takeshi Nagai,Kanta Saino. Владелец: PS4 Luxco SARL. Дата публикации: 2015-11-19.

Semiconductor device manufacturing method and manufacturing apparatus, semiconductor device and electronic device

Номер патента: US20240313151A1. Автор: Takeshi Kamikawa,Kentaro Murakawa. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Semiconductor device manufacture method

Номер патента: US09991159B2. Автор: Masayuki Kitamura,Hisashi Okuchi,Yasuhito Yoshimizu,Fuyuma ITO,Yuya Akeboshi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

CMUT device and manufacturing method

Номер патента: US09889472B2. Автор: Bout Marcelis,Ruediger Mauczok. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2018-02-13.

Semiconductor device manufacturing methods

Номер патента: US09768031B2. Автор: Cheng-Hsiung Tsai,Chung-Ju Lee,Tsung-Min Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Semiconductor device and manufacturing method therefor

Номер патента: US09431290B2. Автор: Yasushi Niimura. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Eco-black soil and concentrated soil solution, apparatus and preparation method thereof

Номер патента: RU2433109C2. Автор: Валерий Абрамович Шапиро. Владелец: Валерий Абрамович Шапиро. Дата публикации: 2011-11-10.

Solar battery mechanical device structure manufacturing method

Номер патента: RU2716513C1. Автор: Станислав Игоревич Немчанинов,Валентин Иванович Парафейник. Владелец: Акционерное общество "Информационные спутниковые системы" имени академика М.Ф. Решетнёва". Дата публикации: 2020-03-12.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: RU2719622C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Асламбек Идрисович Хасанов,Руслан Азаевич Кутуев,Арслан Гасанович Мустафаев,Зелимхан Лечиевич Хазбулатов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Чеченский государственный университет". Дата публикации: 2020-04-21.

Method and device for acquiring access authority

Номер патента: RU2674328C2. Автор: Эньсин ХОУ,Яньлу ЧЖАН,Дэго МЭН. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2018-12-06.

Methods and device for large-scale propagation of electronic access clients

Номер патента: RU2595904C2. Автор: Ли ЛИ,Сянин ЯН,Кевин МАКЛАФЛИН,Дэвид ХАГГЕРТИ,Джерролд ХОК,Бен ДЗУАНГ,Арун МАТИАС,Авинаш НАРАСИМХАН,Крис ШАРП,Юсуф ВАИД. Владелец: ЭППЛ ИНК.. Дата публикации: 2016-08-27.

Substrate holding method and holding apparatus, and electro-optical device manufacturing method and manufacturing apparatus

Номер патента: JP4066694B2. Автор: 武士 柿澤,要次郎 岡倉. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2008-03-26.

Group III nitride semiconductor device manufacturing apparatus and method, and semiconductor wafer manufacturing method

Номер патента: JP6562350B2. Автор: 勝 堀,修 小田,小田　　修. Владелец: Tokai National Higher Education and Research System NUC. Дата публикации: 2019-08-21.

Piezoelectric vibration device manufacturing apparatus and piezoelectric vibration device manufacturing method

Номер патента: JP3436233B2. Автор: 有村　　博之,一郎 奥田. Владелец: Daishinku Corp. Дата публикации: 2003-08-11.

Evaporation mask device manufacturing apparatus and deposition mask device manufacturing method

Номер патента: JP7240623B2. Автор: 大吾 青木,英介 岡本,吾郎 石川. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-03-16.

Electro-optical device manufacturing apparatus and electro-optical device manufacturing method

Номер патента: JP3804385B2. Автор: 幸久 小林. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-08-02.

Thin film device manufacturing apparatus and thin film device manufacturing method

Номер патента: JP4054234B2. Автор: 弘志 林,哲哉 川上. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2008-02-27.

MOVABLE BODY SPECTRUM MEASURING APPARATUS AND MOVABLE BODY SPECTRUM MEASURING METHOD

Номер патента: US20120194817A1. Автор: Funayama Ryuji,Sato Jun,SASAKI Kenji. Владелец: TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-08-02.

Drawing method using liquid droplet ejection apparatus, liquid droplet ejection apparatus, and electro-optical device manufacturing method

Номер патента: JP4293043B2. Автор: 剛 加藤,善昭 山田. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-07-08.

Drawing control method for liquid droplet ejection apparatus, liquid droplet ejection apparatus, and electro-optical device manufacturing method

Номер патента: JP4631355B2. Автор: 賢治 坂本. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-02-16.

Drawing method for liquid droplet ejection apparatus, liquid droplet ejection apparatus, and electro-optical device manufacturing method

Номер патента: JP4631448B2. Автор: 剛 加藤. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-02-16.

Movable body information notification apparatus and movable body information notification system

Номер патента: JP2020035397A. Автор: Masashi Yoshikawa,賢史 吉川. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-05.

Image pickup device, image pickup apparatus, and image pickup device manufacturing method

Номер патента: JP4798270B2. Автор: 智 鈴木. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-10-19.

Gap material spraying apparatus and liquid crystal device manufacturing method

Номер патента: JP3108780B2. Автор: 文雄 小幡,幸三 行田,徹 遠峰. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2000-11-13.

Droplet ejection apparatus and electro-optic device manufacturing method

Номер патента: JP4320635B2. Автор: 俊正 森. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2009-08-26.

Device mounting apparatus and device mounting substrate manufacturing method

Номер патента: JP7154074B2. Автор: 洋介 清水. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp . Дата публикации: 2022-10-17.

Induction heating method and apparatus, and high pressure gas tank manufacturing method

Номер патента: JP5796508B2. Автор: 作馬 江森. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2015-10-21.

Electrophotographic photoreceptor and manufacturing method thereof, process cartridge and electrophotographic apparatus, and hydroxygallium phthalocyanine crystal and manufacturing method thereof

Номер патента: JP6465694B2. Автор: 正人 田中,純平 久野,田中　正人,正隆 川原,孟 西田,川原　正隆,要 渡口. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-02-06.

Plasma CVD film forming apparatus and gas barrier plastic container manufacturing method

Номер патента: JP4722674B2. Автор: 雄一 坂本,鹿毛　　剛,正樹 中谷,圭秀 竹本,晶久 老川,重和 多田,丈晴 川邉. Владелец: Kirin Brewery Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-13.

Silicon carbide single crystal manufacturing apparatus and silicon carbide single crystal manufacturing method

Номер патента: JP5087489B2. Автор: 大輔 近藤,由則 小林. Владелец: Bridgestone Corp. Дата публикации: 2012-12-05.

Silicon carbide single crystal manufacturing apparatus and silicon carbide single crystal manufacturing method using the same

Номер патента: JP5206694B2. Автор: 英美 牧野. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2013-06-12.

Electro-optical device substrate, electro-optical device, electronic apparatus, and electro-optical device substrate manufacturing method

Номер патента: JP4114412B2. Автор: 俊裕 大竹,睦 松尾. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2008-07-09.

Silicon carbide single crystal manufacturing apparatus and silicon carbide single crystal manufacturing method using the same

Номер патента: JP5263145B2. Автор: 英美 牧野. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2013-08-14.

Lithographic printing plate stacking apparatus and planographic printing plate bundle manufacturing method

Номер патента: JP4171187B2. Автор: 智之 篠塚. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-22.

Silicon carbide single crystal manufacturing apparatus and silicon carbide single crystal manufacturing method

Номер патента: JP4089073B2. Автор: 英美 小栗,富佐雄 廣瀬. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2008-05-21.

Oxide superconducting thin film manufacturing apparatus and oxide superconducting thin film manufacturing method

Номер патента: JP3856995B2. Автор: 康裕 飯島,隆 斉藤,伸行 定方,真理子 木村. Владелец: Fujikura Ltd. Дата публикации: 2006-12-13.

Variable magnification optical system, optical apparatus, and variable magnification optical system manufacturing method

Номер патента: JP6171358B2. Автор: 智希 伊藤. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-08-02.

Heat-resistant polymer film manufacturing apparatus and heat-resistant polymer film manufacturing method

Номер патента: JP5114668B2. Автор: 郷司 前田,伸二 藤田,彰一 上村,聰 岩月,明紀 恵島. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-09.

Variable magnification optical system, optical apparatus, and variable magnification optical system manufacturing method

Номер патента: JP6265022B2. Автор: 健介 内田,昭彦 小濱. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-01-24.

Lithographic printing plate stacking apparatus and planographic printing plate bundle manufacturing method

Номер патента: JP3980255B2. Автор: 哲生 西川. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-09-26.

A hot rolled steel sheet manufacturing apparatus and hot rolled steel sheet manufacturing method

Номер патента: CN101045239A. Автор: 佐藤一幸,本城恒,成岛茂树,井出贤一,百百泰,升田贞和,村田早登史,山科修一,石井肇,簑手彻,藤井保弘,本屋敷洋一,樋口均一,田添信广,山本雅明,寺内琢雅,冈崎慎二. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 2007-10-03.

Substrate, touch control display apparatus and touch control display apparatus manufacturing method

Номер патента: CN109917955A. Автор: 张倩倩,杨莉,李菁,邱峰青,谢颖颖,夏鹏程,李甘霖. Владелец: InfoVision Optoelectronics Kunshan Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-21.

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20120002186A1. Автор: Omura Yasuhiro,Okada Takaya,Nagasaka Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

LOCAL EXPOSURE APPARATUS, LOCAL EXPOSURE METHOD AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002183A1. Автор: Tanaka Shigeki,Matsumura Yuki,Ota Yoshiharu,MORIYAMA Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120002185A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120002184A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

INK FOR ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, ORGANIC DISPLAY PANEL, ORGANIC DISPLAY APPARATUS, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT APPARATUS, INK , FORMING METHOD OF FUNCTIONAL LAYER, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE

Номер патента: US20120001124A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHOD FOR OPTIMIZING MAINTENANCE AND OTHER OPERATIONS OF FIELD DEVICES IN A PROCESS CONTROL SYSTEM USING USER-DEFINED DEVICE CONFIGURATIONS

Номер патента: US20120004743A1. Автор: . Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD OF ENERGY STORAGE DEVICE

Номер патента: US20120003383A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD FOR SOLID-STATE IMAGING DEVICE

Номер патента: US20120003778A1. Автор: OOTAKE Hajime. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Manufacturing Method Thereof

Номер патента: US20120001332A1. Автор: TANAKA Tetsuhiro. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURE METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001344A1. Автор: IDANI Naoki,TAKESAKO Satoshi. Владелец: FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma electrosurgical exposure apparatus

Номер патента: RU2389444C1. Автор: Вячеслав Васильевич Осико,Юрий Константинович Данилейко,Виктор Афанасьевич Салюк,Александр Дмитриевич Иванов,Сергей Михайлович Нефедов,Татьяна Петровна Лебедева,Виктор Александрович Чиков,Николай Владимирович Бабурин. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Новые Энергетические Технологии". Дата публикации: 2010-05-20.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120001304A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Prostate exposure apparatus

Номер патента: RU2509580C2. Автор: Лилия Ивановна Лисицына,Светлана Витальевна Белавская,Зоя Николаевна Педонова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Новосибирский государственный технический университет". Дата публикации: 2014-03-20.

SOLID-STATE IMAGING DEVICE MANUFACTURING METHOD, SOLID-STATE IMAGING DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS

Номер патента: US20120001290A1. Автор: Sawada Ken. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: RU2581418C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова". Дата публикации: 2016-04-20.

MANUFACTURING METHOD OF POWER STORAGE DEVICE

Номер патента: US20120003530A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: RU2303316C1. Автор: Александр Васильевич Градобоев,Павел Владимирович Рубанов,Александр Васильевич Ащеулов,Валерий Семенович Матвеев. Владелец: Томский политехнический университет - государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования. Дата публикации: 2007-07-20.

Semiconductor device manufacturing method

Номер патента: RU2734094C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев,Наталья Васильевна Черкесова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ). Дата публикации: 2020-10-12.

APPARATUS AND METHOD FOR ISOLATING A VIEWPORT

Номер патента: US20120000301A1. Автор: LITTLE Edwin Jackson,PAVOL Mark J.. Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus and Method for Biogas Purification

Номер патента: US20120000357A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

STRUCTURE PROVIDED WITH ZEOLITE SEPARATION MEMBRANE, METHOD FOR PRODUCING SAME, METHOD FOR SEPARATING MIXED FLUIDS AND DEVICE FOR SEPARATING MIXED FLUIDS

Номер патента: US20120000358A1. Автор: MORI Nobuhiko,KAWAI Masaaki,SATOH Aya,TOMITA Toshihiro. Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTROPORATION APPARATUS AND METHODS

Номер патента: US20120003740A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR MONITORING A PHOTOVOLTAIC UNIT

Номер патента: US20120004870A1. Автор: Ney Jörg-Werner. Владелец: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Дата публикации: 2012-01-05.

PAPER MACHINE BELT CONDITIONING SYSTEM, APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120000622A1. Автор: WEINSTEIN David I.,Perry Peter E.,Rivard James P.,Cirocki Pawel. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of controlling vehicles and device for implenting said method

Номер патента: RU2427924C1. Автор: Виктор Иванович Дикарев,Валерий Антонович Шубарев,Владимир Анатольевич Калинин,Владимир Николаевич Петрушин. Владелец: Открытое акционерное общество "Авангард". Дата публикации: 2011-08-27.

Method for depth compaction of soil and device for its realisation

Номер патента: RU2368731C2. Автор: Петр Степанович Пинчук,Вячеслав Платонович Казаков,Александр Викторович Сухих,Юрий Сергеевич Трундуков. Владелец: ЗАО "Сибирский научно-исследовательский институт транспортного строительства" (ЗАО "СИБЦНИИТС"). Дата публикации: 2009-09-27.

STAMPER, METHOD OF MANUFACTURING THE STAMPER, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD USING THE STAMPER

Номер патента: US20120000885A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Gas mixing device, synthetic gas manufacturing apparatus, gas mixing method, and synthetic gas manufacturing method

Номер патента: US20120001125A1. Автор: Oguro Shuichi,Yamada Nobuhiro. Владелец: JDC CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

RADIATION IMAGE DETECTION APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF RADIATION IMAGE DETECTOR

Номер патента: US20120001201A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD FOR SPARK PLUGS

Номер патента: US20120001532A1. Автор: Kyuno Jiro,Kure Keisuke. Владелец: NGK SPARK PLUG CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

COORDINATE INPUT APPARATUS, LIGHT RECEIVING APPARATUS OF THE COORDINATE INPUT APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120002217A1. Автор: Kobayashi Katsuyuki,Yoshimura Yuichiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

HOLOGRAM RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, HOLOGRAM REPRODUCTION APPARATUS, AND HOLOGRAM REPRODUCTION METHOD

Номер патента: US20120002257A1. Автор: Shirakura Akira,Baba Shigeyuki,Arai Toshiyuki,Higashihara Teruaki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HOLLOW MEMBER AND AN APPARATUS AND METHOD FOR ITS MANUFACTURE

Номер патента: US20120003496A1. Автор: Tomizawa Atsushi,Kubota Hiroaki. Владелец: Sumitomo Metal Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Manufacturing Method of Semiconductor Film, Manufacturing Method of Semiconductor Device, and Manufacturing Method of Photoelectric Conversion Device

Номер патента: US20120003787A1. Автор: TANAKA Tetsuhiro,KATO Erika. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of determining strength parameters of material medium by method of its rotary cutting and device for its implementation

Номер патента: RU2562710C1. Автор: Евгений Николаевич Хрусталев. Владелец: Евгений Николаевич Хрусталев. Дата публикации: 2015-09-10.

Method of production of packings and device for its realization

Номер патента: RU2011625C1. Автор: С.Е. Никулин,Г.А. Энгельс,К.Э. Бурков. Владелец: Московский машиностроительный завод "Вымпел". Дата публикации: 1994-04-30.

Method and device for evaluating functional state of the human central nervous system

Номер патента: RU2195869C2. Автор: С.П. Романов,В.В. Манойлов. Владелец: Институт аналитического приборостроения РАН. Дата публикации: 2003-01-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.