Semiconductor device manufacturing method
Номер патента: US20120122289A1
Опубликовано: 17-05-2012
Автор(ы): Hiroshi Sato, Hitoshi Itoh, Kenji Matsumoto
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 17-05-2012
Автор(ы): Hiroshi Sato, Hitoshi Itoh, Kenji Matsumoto
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor device and its manufacturing method
Номер патента: TW515036B. Автор: Shinichiro Kimura,Tomoyuki Hamada,Masahiko Hiratani. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-12-21.