Illuminating device for microlithography projection illumination system that manufactures micro-structured component, has lens aperture with surface bulged in light propagation direction, where aperture masks base light distribution areas
Номер патента: DE102009029103A1
Опубликовано: 27-05-2010
Автор(ы): Anton Cersowsky, Dieter Bader, Ralf Dr. Scharnweber, Wolfgang Dr. Singer
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-05-2010
Автор(ы): Anton Cersowsky, Dieter Bader, Ralf Dr. Scharnweber, Wolfgang Dr. Singer
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Illumination system for microlithography
Номер патента: US09606441B2. Автор: Markus Deguenther,Manfred Maul,Axel Scholz,Thomas Stammler,Michael Gerhard,Nils Haverkamp,Frank Schlesener,Thomas Bischoff,Gerhard-Wilhelm Ziegler,Vladimir Davydenko,Mirco Kern,Stephan Kellner,Daniel Walldorf,Igor Hurevich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-28.