Negative resist composition and pattern forming method using the same
Номер патента: EP1962139A1
Опубликовано: 27-08-2008
Автор(ы): Kenji Wada, Wataru HOSHINO
Принадлежит: Fujifilm Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-08-2008
Автор(ы): Kenji Wada, Wataru HOSHINO
Принадлежит: Fujifilm Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Crosslinking agent, negative resist composition, and pattern forming method using the negative resist composition
Номер патента: US8841059B2. Автор: Kenichi Okuyama,Yasunori Nagatsuka. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2014-09-23.