Semiconductor device and method for manufacturing the same
Номер патента: US20200176571A1
Опубликовано: 04-06-2020
Автор(ы): Johji Nishio, Takashi Shinohe, Tatsuo Shimizu
Принадлежит: Toshiba Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-06-2020
Автор(ы): Johji Nishio, Takashi Shinohe, Tatsuo Shimizu
Принадлежит: Toshiba Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor structure, semiconductor device, and method and apparatus for manufacturing the same
Номер патента: US20060124971A1. Автор: Hiroyuki Ogawa,Yoshitaka Yamamoto,Yoshinobu Kimura,Masato Hiramatsu,Masakiyo Matsumura,Masayuki Jyumonji. Владелец: Advanced LCD Technologies Development Center Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-15.