라디칼 중합용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
Номер патента: KR20100052948A
Опубликовано: 20-05-2010
Автор(ы): 박종진, 이광섭, 이광희, 자비에 불리아드, 최윤혁
Принадлежит: 삼성전자주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-05-2010
Автор(ы): 박종진, 이광섭, 이광희, 자비에 불리아드, 최윤혁
Принадлежит: 삼성전자주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Material for lithography, production method therefor, composition for lithography, pattern formation method, compound, resin, and method for purifying the compound or the resin
Номер патента: US11852970B2. Автор: Takashi Sato,Hiroto Kudo,Masatoshi Echigo,Takumi TOIDA. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-12-26.