Reflektives optisches Element und optisches System für die EUV-Lithographie
Номер патента: DE102013223895A1
Опубликовано: 28-05-2015
Автор(ы): Hans-Jochen Paul, Hartmut Enkisch
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-05-2015
Автор(ы): Hans-Jochen Paul, Hartmut Enkisch
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Reflective optical element, and optical system of a microlithographic projection exposure apparatus
Номер патента: US09915873B2. Автор: Hartmut Enkisch,Sebastian Strobel,Thomas Schicketanz,Hans-Jochen Paul,Oliver Dier,Ralf Winter,Joern Weber,Christian GRASSE. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-13.