Methods for performing model-based lithography guided layout design
Номер патента: US09779186B2
Опубликовано: 03-10-2017
Автор(ы): Hanying Feng, Jun Ye, Yu Cao
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-10-2017
Автор(ы): Hanying Feng, Jun Ye, Yu Cao
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods for performing model-based lithography guided layout design
Номер патента: KR101096145B1. Автор: 준 예,유 차오,한윙 펭. Владелец: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.. Дата публикации: 2011-12-19.