Reticle for focus evaluation and focus evaluation method using the same
Номер патента: JP3299758B2
Опубликовано: 08-07-2002
Автор(ы): 明 渡辺
Принадлежит: Oki Electric Industry Co Ltd
Опубликовано: 08-07-2002
Автор(ы): 明 渡辺
Принадлежит: Oki Electric Industry Co Ltd
System and method for focus control in extreme ultraviolet lithography systems using a focus-sensitive metrology target
Номер патента: US20220214625A1. Автор: Xuemei Chen,Roel Gronheid. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-07-07.