Matieres photosensibles a transfert d'image, procede pour les fabriquer, et utilisation pour la realisation d'images
Опубликовано: 21-03-1980
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Принадлежит: Letraset International Ltd
Реферат: Matière photosensible essentiellement constituée de deux feuilles supports entre lesquelles sont déposées une couche photosensible et une couche formatrice d'image. Lorsque cette matière n'a pas encore été exposée et qu'on décolle les deux feuilles, la feuille support C1 adjacente à la couche photosensible PL se sépare totalement de celle-ci tandis que la couche photosensible PL et la couche formatrice d'image IL restent toutes les deux sur l'autre feuille support C2. Si la même opération est effectuée après l'exposition, alors, aux endroits ayant reçu de la lumière, la totalité de la couche photosensible PL et au moins une partie de la couche formatrice d'image IL restent fixés à la feuille support C1 adjacente à la couche photosensible. Application à la fabrication de matières pour transfert à sec, de plaques d'impression et de circuits imprimés.
Photoresist compositions, methods for forming pattern using the same, and methods for fabricating semiconductor device using the same
Номер патента: US20220128905A1. Автор: Jung Min Lee,Jong Hoon Kim,Suk Koo Hong,Eun Shoo Han,Sung An Do,Hong Joon Lee,Seung Chul Kwon,Sin Hae Do. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-28.