PROCESS FOR CLEANING A COMPOUND SEMICONDUCTOR WAFER
Номер патента: US20130276824A1
Опубликовано: 24-10-2013
Автор(ы): Liu Qinghui, Ren Diansheng
Принадлежит: BEIJING TONGMEI XTAL TECHNOLOGY CO., LTD.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 24-10-2013
Автор(ы): Liu Qinghui, Ren Diansheng
Принадлежит: BEIJING TONGMEI XTAL TECHNOLOGY CO., LTD.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Process for removing particulate contaminants from the surface of a semiconductor wafer
Номер патента: DE69632553T2. Автор: Manoj Kumar Jain. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2004-09-30.