ORGANIC COMPOSITIONS FOR REMOVING POLYMERIC ORGANIC SUBSTANCES FROM MINERAL SUBSTRATES AND METHOD OF USING THESE COMPOSITIONS
Номер патента: FR2366350A1
Опубликовано: 28-04-1978
Автор(ы):
Принадлежит: Allied Chemical and Dye Corp
Опубликовано: 28-04-1978
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Принадлежит: Allied Chemical and Dye Corp
Реферат: Compositions organiques d'enlèvement de substances organiques polymères. Des compositions organiques d'enlèvement renferment un ou plusieurs acides sulfoniques organiques, tels que l'acide dodécyl linéaire) benzènesulfonique, l'acide para-toluènesulfonique et l'acide phénolsulfonique, un ou plusieurs solvants organiques et, éventuellement du phénol; dans ces compositions, on incorpore l'ion fluorure en quantité d'environ 5 à 250 ppm en poids, de préférence environ 10 à 200 ppm en poids. La présente invention est particulierement utile pour fournir des compositions organiques d'enlèvement utiles pour retirer des substances organiques polymères, telles que des produits photo-résistants, à partir de substrats minéraux métallisés. Organic compositions for removing polymeric organic substances. Organic removal compositions contain one or more organic sulfonic acids, such as linear dodecyl) benzenesulfonic acid, para-toluenesulfonic acid and phenolsulfonic acid, one or more organic solvents and optionally phenol; in these compositions, the fluoride ion is incorporated in an amount of about 5 to 250 ppm by weight, preferably about 10 to 200 ppm by weight. The present invention is particularly useful for providing organic removal compositions useful for removing organic polymeric substances, such as photoresist, from metallized mineral substrates.
Colored composition for light-shielding film, light-shielding pattern, method for forming the same, solid-state image sensing device, and method for producing the same
Номер патента: US20120104529A1. Автор: Tatsuya Tanaka. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-05-03.