RADIO FREQUENCY TUNED SUBSTRATE BIASED PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF OPERATION
Номер патента: US20130284589A1
Опубликовано: 31-10-2013
Автор(ы): Jeffrey Birkmeyer, Youming Li
Принадлежит: Fujifilm Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 31-10-2013
Автор(ы): Jeffrey Birkmeyer, Youming Li
Принадлежит: Fujifilm Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Physical vapor deposition system comprising positioning marker and method for adjusting distance between crucible and substrate
Номер патента: EP3717675A1. Автор: BASTIAN SIEPCHEN,MICHAEL HARR,SHOU PENG,Bettina Späth,Xinjian Yin,Ganhua FU,Marcel MISCHKE. Владелец: China Triumph International Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-07.