포지티브형 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법
Номер патента: KR20100039229A
Опубликовано: 15-04-2010
Автор(ы): 고타로 엔도, 다카히로 다자이, 다케히로 세시모, 도모유키 히라노, 아키야 가와우에, 요시유키 우츠미, 후미타케 가네코
Принадлежит: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
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Опубликовано: 15-04-2010
Автор(ы): 고타로 엔도, 다카히로 다자이, 다케히로 세시모, 도모유키 히라노, 아키야 가와우에, 요시유키 우츠미, 후미타케 가네코
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Resist composition and method of forming resist pattern
Номер патента: US20130244176A1. Автор: Naoto Motoike. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2013-09-19.