アルコキシド化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法
Номер патента: JP4632765B2
Опубликовано: 16-02-2011
Автор(ы): 淳 桜井, 直樹 山田
Принадлежит: Adeka Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-02-2011
Автор(ы): 淳 桜井, 直樹 山田
Принадлежит: Adeka Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Group 5 metal compound for thin film deposition and method of forming group 5 metal-containing thin film using same
Номер патента: TW202202511A. Автор: 李太榮,池成俊,白善英. Владелец: 南韓商Egtm有限公司. Дата публикации: 2022-01-16.