METHOD OF FORMING A FIELD EFFECT TRANSISTOR HAVING A GATE STRUCTURE WITH A FIRST SECTION HAVING A FIRST EFFECTIVE WORK FUNCTION ABOVE A CENTER PORTION OF THE CHANNEL REGION AND WITH SECOND SECTIONS HAVING A SECOND EFFECTIVE WORK FUNCTION ABOVE OPPOSING SIDEWALLS OF THE CHANNEL REGION
Номер патента: US20140070330A1
Опубликовано: 13-03-2014
Автор(ы): ANDERSON Brent A., Nowak Edward J.
Принадлежит: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 13-03-2014
Автор(ы): ANDERSON Brent A., Nowak Edward J.
Принадлежит: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Field effect transistor and method for fabricating field effect transistor
Номер патента: US20160013272A1. Автор: Yi Chuen Eng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-01-14.