EUV exposure apparatus with reflective elements having reduced influence of temperature variation
11-06-2019 дата публикации
Номер:
US10317802B2
Автор: Franz-Josef Stickel, Gero Wittich, Guido Limbach, Holger Walter, Jan Van Schoot, Markus Hauf, Norman Baer, Oliver Natt, Peter Kuerz, Stefan Hembacher, Timo Laufer, Ulrich Loering, Yim-Bun-Patrick Kwan
Принадлежит: ASML Netherlands BV, CARL ZEISS SMT GMBH
Контакты:
Номер заявки:
Дата заявки: