Shallow trench isolation (STI) chemical mechanical planarization (CMP) polishing with low abrasive concentration and a combination of chemical additives

10-05-2022 дата публикации

Номер:

US11326076B2

Автор: Hongjun Zhou, Joseph D. ROSE, Krishna P. Murella, Mark Leonard O'Neill, Xiaobo Shi

Принадлежит: Versum Materials US LLC

Контакты:

Номер заявки:

Дата заявки:

CPC - классификация

B B2 B24 B24B B24B3 B24B37 B24B37/B24B37/0 B24B37/04 B24B37/044 C C0 C09 C09G C09G1 C09G1/C09G1/0 C09G1/02 C09K C09K3 C09K3/C09K3/1 C09K3/14 C09K3/143 C09K3/1436 H H0 H01 H01L H01L2 H01L21 H01L21/H01L21/0 H01L21/02 H01L21/021 H01L21/0216 H01L21/02164 H01L21/0217 H01L21/3 H01L21/31 H01L21/310 H01L21/3105 H01L21/31051 H01L21/31053

IPC - классификация

C C2 C23 C23F C23F3 C23F3/C23F3/0 C23F3/00 C23F3/04 H H0 H01 H01L H01L2 H01L21 H01L21/H01L21/3 H01L21/31 H01L21/310 H01L21/3105 H01L21/31053

Получить PDF