Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Edge cover apparatus of plasma process apparatus to eliminate tri-layer particles formed on substrate

Edge cover apparatus of plasma process apparatus to eliminate tri-layer particles formed on substrate

Номер патента: KR100457497B1
Опубликовано: 05-02-2005
Автор(ы): 황진호
Принадлежит: 삼성전자주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Stackable plasma source for plasma processing

Номер патента: US20230411121A1. Автор: Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

Device for measuring density of plasma, plasma processing system, and semiconductor device manufacturing method using the same

Номер патента: US20230102201A1. Автор: Sejin Oh,Youngdo Kim,Sangki NAM,Hoonseop KIM,Changsoon LIM,Chansoo KANG,Vladimir Vsevolodovich PROTOPOPOV,Vasily Grigorievich PASHKOVSKIY. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-30.

Lower electrode assembly of plasma processing chamber

Номер патента: US09412555B2. Автор: Brett C. Richardson,Harmeet Singh,Jason Augustino,Quan Chau,Keith William Gaff,Hanh Tuong Ha. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09966233B2. Автор: Hidetoshi Hanaoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Digital control of plasma processing

Номер патента: US12068134B2. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing system with direct outlet toroidal plasma source

Номер патента: WO2016094047A1. Автор: Dmitry Lubomirsky. Владелец: APPLIED MATERIALS, INC. Дата публикации: 2016-06-16.

Stackable plasma source for plasma processing

Номер патента: WO2023244676A1. Автор: Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-21.

In-situ diagnosis of plasma system

Номер патента: US20240203713A1. Автор: Merritt Funk,Yohei Yamazawa,Barton Lane,Jun Shinagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5647912A. Автор: Takeshi Akimoto,Takahiro Kaminishizono. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1997-07-15.

Digital control of plasma processing

Номер патента: EP4285400A1. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-06.

Digital control of plasma processing

Номер патента: WO2022164729A1. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-04.

Plasma processing apparatus and abnormal discharge control method

Номер патента: US20230060329A1. Автор: Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Electrode for plasma processing apparatus, plasma processing apparatus, plasma processing method and storage medium

Номер патента: US10290468B2. Автор: Masanobu Honda,Shinji Himori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-14.

Antenna, dielectric window, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09595425B2. Автор: Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi,Kazuki Moyama,Wataru Yoshikawa,Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Equipment and Method for Improved Edge Uniformity of Plasma Processing of Wafers

Номер патента: US20230402255A1. Автор: Barton Lane,Peter Lowell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Equipment and method for improved edge uniformity of plasma processing of wafers

Номер патента: WO2023239863A1. Автор: Peter Ventzek,Barton Lane. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230178340A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing apparatus, information processing apparatus, plasma processing method, and correction method

Номер патента: US20240194451A1. Автор: Taro Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200161090A1. Автор: Jun Yoshikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20080216865A1. Автор: Masamichi Sakaguchi,Yasuhiro Nishimori,Satoshi Une,Yutaka Kudou,Masunori Ishihara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Plasma process apparatus

Номер патента: US09887068B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220367154A1. Автор: Hirofumi Ohta,Toshifumi Ishida,Masakatsu KASHIWAZAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230207277A1. Автор: Takayuki Sato,Tetsuaki Inada. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Plasma processing apparatus and assembly method of resonator array structure

Номер патента: US20240186114A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Shin Oowada,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234113A1. Автор: Jun Tamura,Takari YAMAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240087849A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160155613A1. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242936A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing systems and methods for chemical processing a substrate

Номер патента: WO2022046461A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180294137A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Naoki Matsumoto,Toru Ito,Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384146A1. Автор: Hiroyuki Hayashi,Hiroki EHARA,Jun NAKAGOMI,Syouji YAMAGISHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087552B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing apparatus of substrate and plasma processing method thereof

Номер патента: US20080057222A1. Автор: Akio Ui. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-03-06.

Plasma processing apparatus of substrate and plasma processing method thereof

Номер патента: CN101277580B. Автор: 小岛章弘,宇井明生,林久贵,玉置直树,市川尚志. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-01-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20040040507A1. Автор: Muneo Furuse,Masanori Kadotani,Motohiko Yoshigai,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-03-04.

Synchronization of plasma processing components

Номер патента: US20230268162A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20060021700A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-02.

Plasma processing device and method of monitoring plasma discharge state in plasma processing device

Номер патента: US20100176085A1. Автор: Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-07-15.

Spatial monitoring and control of plasma processing environments

Номер патента: US20210241996A1. Автор: Kevin Fairbairn,Victor Brouk,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-08-05.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090275209A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09659754B2. Автор: Yoshio SUSA,Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: US20120328771A1. Автор: George Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2012-12-27.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: WO2012178175A1. Автор: George D. Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2012-12-27.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US20230290623A1. Автор: Kenta Doi,Toshiyuki Nakamura. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20040159639A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Tetsuo Ono,Katsumi Setoguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-19.

Symmetric plasma process chamber

Номер патента: US09741546B2. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Douglas A. Buchberger, Jr.,James D. Carducci,Zhigang Chen,Hamid Tavassoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing method

Номер патента: US20060249481A1. Автор: Takashi Fuse. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-11-09.

Two stage ion current measurement in a device for analysis of plasma processes

Номер патента: US20230143487A1. Автор: James Doyle,Paul Scullin,David Gahan,Jj Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Systems and Methods for Extracting Process Control Information from Radiofrequency Supply System of Plasma Processing System

Номер патента: US20230298857A1. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Systems and methods for extracting process control information from radiofrequency supply system of plasma processing system

Номер патента: US12131886B2. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus and high-frequency power application method of plasma processing apparatus

Номер патента: US12027347B2. Автор: Naoki Matsumoto,Masaru Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Plasma processing device capable of plasma shaping through magnetic field control

Номер патента: US9728377B2. Автор: Ki Woong Whang,Hee Woon Cheong. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2017-08-08.

Plasma Processing Device Capable of Plasma Shaping through Magnetic Field Control

Номер патента: US20160300697A1. Автор: Ki Woong Whang,Hee Woon Cheong. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2016-10-13.

Plasma Processing Apparatus And Method For Controlling The Same

Номер патента: US20070210032A1. Автор: Ryoji Nishio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-13.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US09991100B2. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing member, deposition apparatus including the same, and depositing method using the same

Номер патента: US09963783B2. Автор: Se Yong Kim,Hyun Kyu Cho,Jin Su Lee,Ki Jong Kim. Владелец: Genitech Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230352273A1. Автор: Hitoshi Tamura,Chen Pin Hsu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US11948776B2. Автор: Hitoshi Tamura,Chen Pin Hsu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Nondestructive determination of plasma processing treatment

Номер патента: CA2130167C. Автор: John J. Vajo,Jesse N. Matossian. Владелец: Hughes Electronics Corp. Дата публикации: 1999-07-20.

Plasma processing apparatus comprising a compensating-process-gas supply means in synchronism with a rotating magnetic field

Номер патента: US5980687A. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-11-09.

System and method for detecting endpoint in plasma processing

Номер патента: US20230352283A1. Автор: Terry R. Turner,Jerome R. Cannon. Владелец: Forth Rite Technologies LLC. Дата публикации: 2023-11-02.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120273136A1. Автор: Ken Yoshioka,Manabu Edamura,Go Miya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-11-01.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220230848A1. Автор: Yoshiyuki Kondo,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

Monitor of plasma processes with multivariate statistical analysis of plasma emission spectra

Номер патента: WO1999021210A1. Автор: Herbert H. Sawin,Minh Le,Taber H. Smith,Duane S. Boning,Kuang Han Chen. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 1999-04-29.

Methods and arrangement for the reduction of byproduct deposition in a plasma processing system

Номер патента: WO2006081004B1. Автор: Andrew D Bailey Iii,Shrikant P Lohokare. Владелец: Shrikant P Lohokare. Дата публикации: 2008-10-30.

Shunt door for magnets in plasma process chamber

Номер патента: US20240271284A1. Автор: Timothy Joseph Franklin,Bhaskar Kumar,Kallol Bera,Akshay Dhanakshirur,Kaushik ALAYAVALLI,Stephen C. GARNER,Sathya Swaroop GANTA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Control of plasma sheath with bias supplies

Номер патента: US20230395354A1. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006154A1. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Autonomous operation of plasma processing tool

Номер патента: US20230352282A1. Автор: Alok Ranjan,Jun Shinagawa,Chungjong Lee,Masaki Kitsunezuka,Toshihiro KITAO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Spatial monitoring and control of plasma processing environments

Номер патента: US11842884B2. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Synchronization of plasma processing components

Номер патента: US20240079213A9. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Fast neutral generation for plasma processing

Номер патента: US11915910B2. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11764034B2. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Components of plasma processing chambers having textured plasma resistant coatings

Номер патента: SG189627A1. Автор: Shih Hong,Fang Yan,Stevenson Tom,Casaes Raphael,G O'neill Robert,Won Kim Tae. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2013-05-31.

Plasma process monitoring apparatus and plasma processing apparatus comprising the same

Номер патента: US20200013596A1. Автор: Il Gu Yun. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Yonsei University. Дата публикации: 2020-01-09.

Plasma processing method

Номер патента: US20240194461A1. Автор: Tatsuya Hayashi,Takanori Nakatsuka,Yuta Takagi,Kenta TAMARU. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Method for impedance matching of plasma processing apparatus

Номер патента: US09736921B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Naoyuki Umehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Inductively coupled plasma processing apparatus for very large area using dual frequency

Номер патента: US20070012250A1. Автор: Kyong-Nam Kim,Geun-Young Yeom. Владелец: Sungkyunkwan University Foundation For Corporate Collaboration. Дата публикации: 2007-01-18.

Confinement ring assembly of plasma processing apparatus

Номер патента: US20060283551A1. Автор: Sung-Ku Son. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-12-21.

View port device for plasma process and process observation device of plasma apparatus

Номер патента: US20120111269A1. Автор: Guan-Yu Lin,Chen-Chung Du,Muh-Wang Liang,Ta-Chin Wei. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2012-05-10.

Method of operating electrostatic chuck of plasma processing apparatus

Номер патента: US20180350568A1. Автор: Shin Yamaguchi,Akiyoshi MITSUMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-12-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240030008A1. Автор: Taro Hayakawa,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing system and method and electrode plate of plasma processing system

Номер патента: EP1569268A1. Автор: Akira c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED KOSHIISHI,Jun c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED HIROSE,M. c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED OGASAWARA,Taichi c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED HIRANO,Hiromitsu c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED SASAKI,Tetsuo c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED YOSHIDA,Michishige c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED SAITO,Hiroyuki c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED ISHIHARA,Jun c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED OOYABU,Kohji c/o TOKYO ELECTRON AT LIMITED NUMATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-08-31.

Plasma processing machine

Номер патента: US11904401B2. Автор: Takahiro Jindo,Toshiyuki Ikedo. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2024-02-20.

Plasma processing apparatus and lower stage

Номер патента: US11929234B2. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda,Sumi Tanaka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-03-12.

Three-phase pulsing systems and methods for plasma processing

Номер патента: US11817295B2. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Plasma processing member, deposition apparatus including the same, and depositing method using the same

Номер патента: US9371583B2. Автор: Se Yong Kim,Hyun Kyu Cho,Jin Su Lee,Ki Jong Kim. Владелец: Genitech Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-21.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5243259A. Автор: Junji Sato,Kazuo Suzuki,Takuya Fukuda,Satoru Todoroki,Shunichi Hirose. Владелец: Hitachi Engineering and Services Co Ltd. Дата публикации: 1993-09-07.

System and Method for Plasma Process Uniformity Control

Номер патента: US20240120181A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

System and method for plasma process uniformity control

Номер патента: WO2024076410A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-04-11.

Plasma processing member, deposition apparatus including the same, and depositing method using the same

Номер патента: US20160258062A1. Автор: Se Yong Kim,Hyun Kyu Cho,Jin Su Lee,Ki Jong Kim. Владелец: Genitech Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186113A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing device

Номер патента: US7338576B2. Автор: Masanobu Honda,Daisuke Hayashi,Hiroo Ono,Kazuya Nagaseki,Koichi Tateshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-03-04.

Large-area high-density plasma processing chamber for flat panel displays

Номер патента: WO2020223252A1. Автор: Suhail Anwar,Jozef Kudela,Carl A. Sorensen,Jeevan Prakash SEQUEIRA,Yui Lun WU. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-05.

Htcc antenna for generation of plasma

Номер патента: EP4260049A1. Автор: Shawn Briglin,Michael VOLLERO,Mario Weder,John Gordon Wiley. Владелец: Inficon Inc. Дата публикации: 2023-10-18.

Plasma processing apparatus, electrostatic chuck, and plasma processing method

Номер патента: US20240258078A1. Автор: Takahiko Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Radio frequency (RF) power coupling system utilizing multiple RF power coupling elements for control of plasma properties

Номер патента: US9396900B2. Автор: Lee Chen,Merritt Funk,Jianping Zhao,Radha Sundararajan,Barton Lane,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Shunt door for magnets in plasma process chamber

Номер патента: US11959174B2. Автор: Timothy Joseph Franklin,Bhaskar Kumar,Kallol Bera,Akshay Dhanakshirur,Kaushik ALAYAVALLI,Stephen C. GARNER,Sathya Swaroop GANTA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-16.

Multi-zone cooling of plasma heated window

Номер патента: WO2019099313A1. Автор: Yiting Zhang,Saravanapriyan Sriraman,Richard Marsh,Alexander Paterson. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-05-23.

Shielded apparatus for ion energy analysis of plasma processes

Номер патента: EP4376050A1. Автор: Paul Scullin,David Gahan. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2024-05-29.

Shielded apparatus for ion energy analysis of plasma processes

Номер патента: US20240177965A1. Автор: Paul Scullin,David Gahan. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249922A1. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Systems and methods for using multiple inductive and capacitive fixtures for applying a variety of plasma conditions to determine a match network model

Номер патента: US20160240356A1. Автор: John C. Valcore, JR.,Arthur M. Howald. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-18.

Continuous processing apparatus by plasma polymerization with vertical chamber

Номер патента: EP1404722A1. Автор: Young-Man Jeong,Sam-Chul Ha,Dong-Sik Youn,Seak-Je Jo. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2004-04-07.

Systems and methods for using multiple inductive and capacitive fixtures for applying a variety of plasma conditions to determine a match network model

Номер патента: US09831071B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Arthur M. Howald. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Method for expanding sheath and bulk of plasma by using double radio frequency

Номер патента: US11330698B2. Автор: Won Seok Kim,Woo Jin Nam,Ji Mo LEE,Gun Su YUN,Jae Koo Lee,Seung Taek LEE. Владелец: Academy Industry Foundation of POSTECH. Дата публикации: 2022-05-10.

Plasma reactor with inductie excitation of plasma and efficient removal of heat from the excitation coil

Номер патента: US20080050292A1. Автор: Valery Godyak. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-02-28.

Device for application of functional layers of thin-film solar cells on substrate by deposition in plasma of low-frequency induction discharge of low-pressure transformer

Номер патента: RU2582077C2. Автор: Игорь Максимович Уланов,Артем Юрьевич Литвинцев,Михаил Витальевич Исупов,Павел Александрович Мищенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН). Дата публикации: 2016-04-20.

Magnetically enhanced plasma process and apparatus

Номер патента: CA1196599A. Автор: Steven D. Hurwitt,Walter H. Class,Michael L. Hill,Marvin K. Hutt. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1985-11-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068604A1. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Method to process surface of at least one structural element by means of elementary sources of plasma by electronic cyclotron resonance

Номер патента: RU2504042C2. Автор: Беат ШМИДТ,Филипп МОРЭН-ПЕРРЬЕ,Кристоф О. Владелец: Х.Е.Ф.. Дата публикации: 2014-01-10.

Power-delivery mechanism and apparatus of plasma-enhanced chemical vapor deposition using the same

Номер патента: US20080295771A1. Автор: Kuan-Chou Chen,Fu-Ching Tung,Yuan-Yuan Chiang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2008-12-04.

Surface processing apparatus

Номер патента: US20080035608A1. Автор: Michael Cooke,Andrew Griffiths,Owain THOMAS. Владелец: Oxford Instruments Plasma Technology Ltd. Дата публикации: 2008-02-14.

Table for use in plasma processing system and plasma processing system

Номер патента: US20080038162A1. Автор: Akira Koshiishi,Shinji Himori,Shoichiro Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-14.

A method of allowing a stable power transmission into a plasma processing chamber

Номер патента: WO2000007215A2. Автор: Kang-Lie Chiang,Jeng H. Hwang,Steve S. Y. Mak. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2000-02-10.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: EP1060501A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-12-20.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: EP1060501B1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-04-20.

Biasing system for a plasma processing apparatus

Номер патента: US20140106571A1. Автор: Richard M. White,Bon-Woong Koo. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US9299540B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20090001052A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-01.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US8864934B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060027324A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-02-09.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09660182B2. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Masato Kushibiki,Daisuke Urayama,Nao Koizumi,Wataru Kume. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

System, method and apparatus for RF power compensation in a plasma processing system

Номер патента: US09508529B2. Автор: Henry Povolny,John C. Valcore, JR.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09484180B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Manabu Iwata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US10062547B2. Автор: Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Kazuo Murakami,Naoki Mihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5444259A. Автор: Tadahiro Ohmi. Владелец: Ohmi; Tadahiro. Дата публикации: 1995-08-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: SG189129A1. Автор: Bai Yang,Peng Chen,Liang Zhang,Peijun Ding,Gang Wei,Mengxin Zhao,Guilong Wu. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-31.

Etching process apparatus and member for etching process chamber

Номер патента: US20090183835A1. Автор: Shingo Kimura,Muneo Furuse,Masanori Kadotani. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-07-23.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033832B2. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200279719A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190088452A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Improved methods and apparatus for controlled partial ashing in a variable-gap plasma processing chamber

Номер патента: WO1998042014A1. Автор: David M. Bullock. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-09-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240222096A1. Автор: Takashi Uemura,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20090151638A1. Автор: Masaki Sugiyama,Toshiki Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-18.

Method of controlling plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240055229A1. Автор: Jung Hwan Lee,Min Keun Bae,Aixian Zhang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: US20120291954A1. Автор: James E. Tappan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-11-22.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: WO2009100288A2. Автор: James E. Tappan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-08-13.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020025686A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-02-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US10699884B2. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-06-30.

Plasma-processing apparatus

Номер патента: US20040245935A1. Автор: Tadahiro Ogawa,Masaaki Takayama. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: WO1999045567A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1999-09-10.

Temperature controlling method and apparatus for a plasma processing chamber

Номер патента: AU3079597A. Автор: Neil Benjamin,William S. Kennedy,Joel M. Cook,Thomas E. Wicker,Robert A. Maraschin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1998-01-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11990316B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-05-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method using the same

Номер патента: US20230124857A1. Автор: Jong Won Park,Yoon Seok Choi,Sang Jeong Lee,Soon Cheon Cho,Hyun Woo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Methods and apparatus for gas delivery into plasma processing chambers

Номер патента: WO2012087919A2. Автор: Robert P. Chebi,Alan Cheshire,Stanley Detmar,Alfredo Granados,Gabriel Roupillard. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-06-28.

Improved application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: EP3711082A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186115A1. Автор: Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus and microwave radiation source

Номер патента: US20230178339A1. Автор: Kenta Kato,Taro Ikeda,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110240599A1. Автор: Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-06.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020023716A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

Spatial and temporal control of ion bias voltage for plasma processing

Номер патента: EP4376061A3. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242937A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing apparatus and plasma control method

Номер патента: US20240203692A1. Автор: Osamu Sakai,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Taro Ikeda,Shin Oowada,Kazushi Kaneko,Masaaki Matsukuma. Владелец: University of Shiga Prefecture. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240266201A1. Автор: Shogo Okita,Minghui Zhao,Toshiyuki TAKASAKI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060081559A1. Автор: Tetsuji Sato,Koji Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220028665A1. Автор: Koji Maruyama,Kazunobu Fujiwara,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami,Takashi Dokan,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-01-27.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US12009220B2. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: US20210074513A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-03-11.

Plasma processing apparatus and liner assembly for tuning electrical skews

Номер патента: WO2012012200A1. Автор: Shahid Rauf,Kenneth S. Collins,James D. Carducci,Zhigang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088453A1. Автор: Koichi Yamamoto,Motohiro Tanaka,Naoki Yasui,Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20010008122A1. Автор: Makoto Ando,Naohisa Goto,Nobuo Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-19.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US20060005927A1. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Plasma processing method of semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20110250758A1. Автор: Ki-sang Kim,Jong-Bum Kim,In-Joong Kim,Hyun-Su JUN,Seung-Heong Lee,Min-Woung Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-10-13.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321562A1. Автор: Yoshihide Kihara,Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

High density plasma processing apparatus

Номер патента: WO2020039185A1. Автор: Michael Thwaites,Peter HOCKLEY. Владелец: Dyson Technology Limited. Дата публикации: 2020-02-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094697B2. Автор: Kazuki Takahashi,Toshimasa Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US7585385B2. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-08.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US20240304422A1. Автор: WEI Liu,Lily Huang,Sandip Niyogi,Dileep Venkata Sai VADLADI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Acoustic energy utilization in plasma processing

Номер патента: WO2013151898A1. Автор: Ian J. Kenworthy,Daniel A. Brown,Cliff E. LA CROIX,Josh A. CORMIER. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-10-10.

Apparatus to deposit multilayer films

Номер патента: US5240583A. Автор: Robert G. Ahonen. Владелец: Honeywell Inc. Дата публикации: 1993-08-31.

Method and apparatus for producing low-particle layers on substrates

Номер патента: US09803276B2. Автор: Gunter Brauer,Michael Vergöhl,Daniel Rademacher,Hans-Ulrich Kricheldorf. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2017-10-31.

Method of measuring parameters of plasma, apparatus for measuring parameters of plasma, plasma processing system, and method of processing wafer

Номер патента: US20230060400A1. Автор: Naohiko Okunishi,SeungBo SHIM,Byeongsang KIM,Donghyeon NA,Kuihyun YOON,Namkyun Kim,Dongseok Han,Minyoung HUR,Yoonbum Nam. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Method of plasma diagnostics by langmuir probes with leads protected by non-insulated screens and device therefor

Номер патента: RU2671948C1. Автор: Валентин Анатольевич Рябый,Павел Евгеньевич Машеров,Владимир Павлович Савинов,Валерий Георгиевич Якунин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова" (МГУ). Дата публикации: 2018-11-08.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: WO2017095908A1. Автор: Chen Zhongwei,Liu Xuedong,REN Weiming,Hu Xuerang. Владелец: HERMES MICROVISION INC.. Дата публикации: 2017-06-08.

Upper electrode structure and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249907A1. Автор: Tetsuji Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Apparatus of plural charged-particle beams

Номер патента: EP3384279A1. Автор: Chen Zhongwei,Liu Xuedong,REN Weiming,Hu Xuerang. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2018-10-10.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US9583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US09583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US20240047239A1. Автор: Miyako Matsui,Tatehito Usui,Kenichi Kuwahara. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Plasma processing apparatus of substrate and plasma processing method thereof

Номер патента: US20080053818A1. Автор: Akio Ui. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2008-03-06.

Plasma processing apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200286737A1. Автор: Toshifumi Nagaiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: WO2022164661A1. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-04.

Synchronized pulsing of plasma processing source and substrate bias

Номер патента: EP4231328A1. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US12080529B2. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Structure and method for solving parasitic plasma in plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321554A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Systems and methods for detection of plasma instability by electrical measurement

Номер патента: US09824941B2. Автор: Adrien Lavoie,Ishtak Karim,Ramesh Chandrasekharan,Douglas Keil,Edward Augustyniak,Yukinori Sakiyama,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Method for producing plasma flow, method for plasma processing, apparatus for producing plasma, and apparatus for plasma processing

Номер патента: US09426875B2. Автор: Yoshifumi Noguchi,Keisuke Sagisaka. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Plasma processing method

Номер патента: US09349603B2. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-24.

Method of producing processing condition of plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870901B2. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Plasma processing method

Номер патента: US09972776B2. Автор: Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Hidenori TOYOOKA,Norihiro HOSAKA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Plasma processing apparatus and operating method of plasma processing apparatus

Номер патента: US09934946B2. Автор: Yohei Kawaguchi,Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Data analysis method for plasma processing apparatus, plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09443704B2. Автор: Kenji Tamaki,Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Ryoji ASAKURA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Data analysis method for plasma processing apparatus, plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09324588B2. Автор: Kenji Tamaki,Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Ryoji ASAKURA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-04-26.

Shower plate, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12051564B2. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-07-30.

Systems and Methods for UV-Based Suppression of Plasma Instability

Номер патента: US20190057864A1. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-02-21.

Systems and Methods for UV-Based Suppression of Plasma Instability

Номер патента: US20200111666A1. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-04-09.

Systems and Methods for UV-Based Suppression of Plasma Instability

Номер патента: US20180076028A1. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-15.

Systems and methods for UV-based suppression of plasma instability

Номер патента: US11120989B2. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2021-09-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12112925B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Apparatus for ion energy analysis of plasma processes

Номер патента: US12136542B2. Автор: James Doyle,Tigran Poghosyan,Paul Scullin,David Gahan,J J Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2024-11-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230420228A1. Автор: Akihiro Yokota,Ryo Terashima,Takaharu SAINO,Tomo MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240347325A1. Автор: Yuki Onodera,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing apparatus and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240234096A1. Автор: Sang Ki Nam,Jun Ho Lee,Sang Chul Han,Hyun Jae Lee,Yi Hwan Kim,Nam Jin CHO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing apparatus and substrate support of plasma processing apparatus

Номер патента: US11972933B2. Автор: Masahiro DOGOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Plasma processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US12063717B2. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Methods of plasma processing using a pulsed electron beam

Номер патента: WO2021141651A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-07-15.

Plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: US09620336B2. Автор: Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220122847A1. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11817321B2. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Method for cleaning components of plasma processing apparatus

Номер патента: US20190218663A1. Автор: Ryuichi Asako,Takao FUNAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-18.

Plasma processing methods and apparatus

Номер патента: WO1999026796A1. Автор: Oleg Siniaguine. Владелец: Trusi Technologies, Llc. Дата публикации: 1999-06-03.

Method for Producing Plasma Flow, Method for Plasma Processing, Apparatus for Producing Plasma, and Apparatus for Plasma Processing

Номер патента: US20130034668A1. Автор: Yoshifumi Noguchi,Keisuke Sagisaka. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-02-07.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US11854770B2. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: WO2022154968A1. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-07-21.

Plasma processing apparatus and plasma state estimation method

Номер патента: US20240030015A1. Автор: Eiki Kamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160225587A1. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130029492A1. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-31.

Structure and method for dealing with parasitic plasma in plasma processing device

Номер патента: EP4353865A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088455A1. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US20210082673A1. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-03-18.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US20240170263A1. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: EP4278373A1. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-22.

Manufacturing method of plasma display panel and plasma display panel

Номер патента: US20090026953A1. Автор: Hideki Harada. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2009-01-29.

Restoring method for inner wall member of plasma processing apparatus

Номер патента: US20240240300A1. Автор: Taku Watanabe,Tadayoshi Kawaguchi,Shoichiro Mizunashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing method

Номер патента: US5858258A. Автор: Hiroshi Kojima,Izumi Arai,Yoshifumi Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-01-12.

High-density plasma-processing tool with toroidal magnetic field

Номер патента: US5505780A. Автор: Satoshi Hamaguchi,Manoj Dalvie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1996-04-09.

Methods and apparatus for contamination control in plasma processing

Номер патента: US5387777A. Автор: Jyothi Singh,Albert R. Ellingboe,Kurt L. Haller,Gary S. Selwyn,John S. McKillop,Reid S. Bennett,George G. Gifford. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1995-02-07.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210375588A1. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-12-02.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20070283887A1. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-12-13.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150371832A1. Автор: Yukinori Aburatani,Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toshiya Shimada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-12-24.

Plasma process monitoring device and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US11862442B2. Автор: Il Gu Yun. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Yonsei University. Дата публикации: 2024-01-02.

Control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11887825B2. Автор: Mikio Sato,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210125814A1. Автор: Mikio Sato,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Sensing of plasma process parameters

Номер патента: US20130056155A1. Автор: Donal O'Sullivan,Paul Scullin,David Gahan. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2013-03-07.

Toroidal Plasma Processing Apparatus with a Shaped Workpiece Holder

Номер патента: US20160340798A1. Автор: William Holber,Robert J. BASNETT. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2016-11-24.

Method of plasma discharge ignition to reduce surface particles

Номер патента: US20180144946A1. Автор: Takashi Enomoto,Yusuke Yoshida,Yoshio Ishikawa,Alok Ranjan,Sergey Voronin,Jason MARION. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160079043A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220262631A1. Автор: Satoshi Itoh,Norifumi Kohama,Nathan Ip,Soudai EMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240170267A1. Автор: Yoshiki Nakano,Kenichi KOTE,Takafumi Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US7895971B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-01.

Sensing of plasma process parameters

Номер патента: EP2561543A1. Автор: Donal O'Sullivan,Paul Scullin,David Gahan. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2013-02-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US9607874B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Inspection method of plasma processing apparatus

Номер патента: US12046456B2. Автор: Masahiro Nagatani,Yusuke TAKEGAWA,Kota Kakimoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Multi-Zone Cooling Of Plasma Heated Window

Номер патента: US20190148118A1. Автор: Yiting Zhang,Saravanapriyan Sriraman,Richard Marsh,Alexander Paterson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-05-16.

Production of plasma display panel and method for making the same

Номер патента: US20060103306A1. Автор: Yu-Sheng Chen,Chung-Wang Chou,Chih-Hsiung Leu. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2006-05-18.

Dual mode plasma etching system and method of plasma endpoint detection

Номер патента: US5242532A. Автор: John L. Cain. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1993-09-07.

Systems and methods for UV-based suppression of plasma instability

Номер патента: US10529557B2. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-01-07.

Plasma processing method

Номер патента: US9824864B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Apparatus for ion energy analysis of plasma processes

Номер патента: US11908668B2. Автор: James Doyle,Tigran Poghosyan,Paul Scullin,David Gahan,Jj Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2024-02-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200378005A1. Автор: Hiroyuki Matsuura,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-03.

Plasma processing method

Номер патента: US20170278677A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Plasma processing apparatus and member of plasma processing chamber

Номер патента: US20190326101A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Tomoyuki Tamura,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-24.

Arrangements for manipulating plasma confinement within a plasma processing system and methods thereof

Номер патента: US9275838B2. Автор: Yunsang Kim,Andrew Bailey,Neungho Shin,Eller Y. Juco. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-03-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190287770A1. Автор: Kenetsu Yokogawa,Tsutomu Tetsuka,Taku Iwase. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Manufacturing method and inspection method of interior member of plasma processing apparatus

Номер патента: US11987880B2. Автор: Masaru Kurihara,Kazuhiro Ueda,Tomoyuki Tamura,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Barrier rib structure of plasma display panel and lower plate structure using the same

Номер патента: US7567033B2. Автор: Joon Kyu Park,Hye Jin Lee,Sang Jin Oh,Soon Kook Hong,Kang Ug Lee,Dug Hwan Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2009-07-28.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282460A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282461A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Heat transfer film and method of manufacturing partition walls of plasma display panel using the same

Номер патента: US20080124659A1. Автор: Jin Woo Park,Yoon Kwan Lee. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2008-05-29.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US12094696B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20170345617A1. Автор: Tsuyoshi Takeda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-30.

Plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: US20150126038A1. Автор: Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-07.

Plasma processing apparatus and method for detecting end point

Номер патента: US20240063002A1. Автор: Masakazu Hayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Cleaning method of film layer in the plasma processing apparatus

Номер патента: US20240203708A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Wafer processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12051574B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Atsushi Sekiguchi,Soichiro Eto,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Manufacturing method of barrier ribs of plasma display panel

Номер патента: US20100112888A1. Автор: Chung-Lin Fu,Chun-Chieh Chiu,Yu-Ting Chien. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2010-05-06.

Gliding arc plasma reactor, and method for converting methane by means of plasma

Номер патента: EP4446003A1. Автор: Wei Xu,Feng Sun,Jing Zhang,Zhe Yang,Jie Jiang,Bing Sun,Tie Zhang,Mingchuan ZHOU,Junpeng REN. Владелец: Sinopec Research Institute of Safety Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953862B2. Автор: Shigeru Yoneda,Yen-Ting Lin,Akitoshi Harada,Chih-Hsuan CHEN,Ju-Chia Hsieh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741629B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus and shower plate

Номер патента: US09663856B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yutaka Fujino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583355B2. Автор: Tetsuhiro Iwai,Nobuhiro Nishizaki,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Dense oxide coated component of a plasma processing chamber and method of manufacture thereof

Номер патента: US09546432B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,Sivakami Ramanathan,John Daugherty,Robert G. O'Neill,John Michael Kerns,William Charles,Russell Ormond. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Apparatus for analyzing the energy spectrum of plasma ions

Номер патента: RU2726954C1. Автор: Юрий Алексеевич Сатов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт". Дата публикации: 2020-07-17.

Method of Detecting Plasma Discharge in a Plasma Processing System

Номер патента: US20160372933A1. Автор: Alok Ranjan,Sergey Voronin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-22.

Plasma density control on substrate edge

Номер патента: US20180294146A1. Автор: Ganesh Balasubramanian,Prashanth Kothnur,Sidharth Bhatia,Anup Kumar Singh,Bhaskar Kumar,Vivek Bharat SHAH,Changgong WANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-11.

Method of plasma etching

Номер патента: EP4391023A1. Автор: Samira Binte KAZEMI. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230065586A1. Автор: Nobuhiko Hori. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: US20240266156A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12068139B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290625A1. Автор: Masanori Hosoya,Mitsuhiro Iwano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: EP4411785A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-07.

Method and apparatus to minimize seam effect during TEOS oxide film deposition

Номер патента: US09570289B2. Автор: Arul N. Dhas. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Pressure control valve assembly of plasma processing chamber and rapid alternating process

Номер патента: WO2013070416A1. Автор: Brian McMillin,Camelia Rusu,Mirzafer Abatchev. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-05-16.

MgO pellet for protective layer of plasma display panel, and plasma display panel using the same

Номер патента: US7405518B2. Автор: Ki-Dong Kim. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-29.

Maintenance method of plasma processing apparatus

Номер патента: US10541142B2. Автор: Takashi Yamamoto,Kazuya Matsumoto,Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-21.

Maintenance method of plasma processing apparatus

Номер патента: US20190131137A1. Автор: Takashi Yamamoto,Kazuya Matsumoto,Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Lower electrode and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150206722A1. Автор: Takashi Yamamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Driving apparatus of plasma display panel and fabrication method thereof

Номер патента: US20040036685A1. Автор: Jin Ryu,Sam Cho,Bong Baik,Woo Jang. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2004-02-26.

Driving apparatus of plasma display panel and fabrication method thereof

Номер патента: US20070236487A1. Автор: Jin Ryu,Sam Cho,Bong Baik,Woo Jang. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2007-10-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087556B2. Автор: Akio Ui,Yosuke Sato,Hisataka Hayashi. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Cooling with closed-loop of plasma gun to increase service life of hardware

Номер патента: RU2615974C2. Автор: Рональд Дж. МОЛЗ. Владелец: ЗУЛЬЦЕР МЕТКО (ЮЭс), ИНК.. Дата публикации: 2017-04-12.

Cylindrical resonator device of plasma chemical deposition of glass material from vapor phase on inner surface of substrate in form of tube

Номер патента: RU2613252C2. Автор: Игорь Милисевик,Йоханнес Антон Хартсёйкер,Матхёс Якобус Николас Ван Стрален. Владелец: Драка Комтек Б.В.. Дата публикации: 2017-03-15.

Procedure for fabrication and device for fabrication of plasma indicator panel

Номер патента: RU2425174C2. Автор: Эйити ИИДЗИМА,Мунето ХАКОМОРИ. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2011-07-27.

Protective film of plasma display panel and method of fabricating the same

Номер патента: EP1408529A2. Автор: Eung Chul Park. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2004-04-14.

Simultaneous address and sustain of plasma-shell display

Номер патента: US7595774B1. Автор: Carol Ann Wedding,Jeffrey W. Guy. Владелец: Imaging Systems Technology Inc. Дата публикации: 2009-09-29.

Plasma generation device, method of controlling characteristic of plasma, and substrate processing device using same

Номер патента: US20160020073A1. Автор: Jong Sik LEE,Han Saem Lee,Hyun Jun Kim,Jeong Hee CHO,Hee Sun Chae. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2016-01-21.

Plasma density control on substrate edge

Номер патента: US20200381222A1. Автор: Ganesh Balasubramanian,Prashanth Kothnur,Sidharth Bhatia,Anup Kumar Singh,Bhaskar Kumar,Vivek Bharat SHAH,Changgong WANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140363587A1. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Method for Producing Microlens and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20200192004A1. Автор: Yoshinari Hatazaki,Takashi Shinyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-06-18.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150303069A1. Автор: Manabu Sato,Takanori Sato,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Method and apparatus for forming a plasma resistant coating, component, and plasma processing apparatus

Номер патента: US12123089B2. Автор: Xiang Sun,Sheng Guo,Xingjian CHEN,Jiao DUAN. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09960073B2. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09412617B2. Автор: Manabu Sato,Takanori Sato,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Method of plasma chemical deposition from gaseous phase on inner surface of hollow item

Номер патента: RU2446230C2. Автор: Оливер НЁЛЬ,Оливер НЁЛЬ (DE). Владелец: ШТАЙН Ральф. Дата публикации: 2012-03-27.

Inorganic coating of plasma chamber component

Номер патента: WO2021072040A1. Автор: Slobodan Mitrovic,Jeremy George SMITH,David Joseph WETZEL,Robin Koshy,Ann Erickson. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-04-15.

Method of plasma etching

Номер патента: US9040427B2. Автор: Huma Ashraf,Anthony Barker. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11875978B2. Автор: Atsushi Sekiguchi,Miyako Matsui,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Tsubasa Okamoto,Naohiro Kawamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Control method of substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153748A1. Автор: Morihito Inagaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Plasma processing method

Номер патента: US20240304456A1. Автор: Makoto Miura,Koichi Takasaki,Makoto Satake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Method and device for manufacturing of sealed panel and method and device for manufacturing of plasma display panel

Номер патента: RU2435246C2. Автор: Эйити ИИДЗИМА,Мунето ХАКОМОРИ,Тосихару КУРАУТИ,Таканобу ЯНО,Юити ОРИИ. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2011-11-27.

Black paste composite, upper plate of plasma display panel, and manufacturing method by using the same

Номер патента: US7615581B2. Автор: Jong Hyung Choi,Keun Soo Lee. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2009-11-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170298514A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takaaki Kato,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-19.

Method for etching silicon layer and plasma processing apparatus

Номер патента: US9779954B2. Автор: Eiji Suzuki,Akinori Kitamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200035501A1. Автор: Masahiro Tabata,Sho Kumakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Method for etching silicon layer and plasma processing apparatus

Номер патента: US20170323796A1. Автор: Eiji Suzuki,Akinori Kitamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-09.

Plasma-resistant laminate, manufacturing method therefor, and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4398684A1. Автор: Kazuhiro Ishikawa,Wataru Fujita,Motohiro Umehara. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-07-10.

Conductive composition for black bus electrode, and front panel of plasma display panel

Номер патента: WO2009020791A1. Автор: Hisashi Matsuno,Michael F. Barker. Владелец: Dupont Kabushiki Kaisha. Дата публикации: 2009-02-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160126067A1. Автор: Naohiko Okunishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-05.

Barrier Rib Structure of Plasma Display Panel

Номер патента: US20070052360A1. Автор: Chun-Hsu Lin,Chao-Hung Hsu. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2007-03-08.

Method of performing maintenance on substrate processing apparatus, and the substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339307A1. Автор: Takahiro Murakami,Takayuki Suzuki,Yuya MINOURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Vacuum-processing apparatus, vacuum-processing method, and storage medium

Номер патента: US09790590B2. Автор: Atsushi Gomi,Tetsuya Miyashita,Shinji Furukawa,Kanto Nakamura,Toru Kitada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09754766B2. Автор: Naohiko Okunishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Method of surface plasma processing

Номер патента: RU2426608C2. Автор: МИХЕЛЬ Томас,Ойген ШЛИТТЕНХАРДТ. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фёрдерунг Дер Ангевандтен Форшунг Э.Ф.. Дата публикации: 2011-08-20.

Detecting method and detecting device of gas components and processing apparatus using detecting device of gas components

Номер патента: US11835465B2. Автор: Masaru Izawa,Yoshifumi Ogawa,Yutaka Kouzuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Method and apparatus for realtime wafer potential measurement in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2023096730A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130267094A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Hironobu Ichikawa,Jin KUDO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-10-10.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US11990323B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11996268B2. Автор: Toshihiko Iwao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160035543A1. Автор: Yoshiyuki Kobayashi,Jun Watanabe,Takuya Okada,Tomoyuki Nara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-02-04.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12014930B2. Автор: Masanori Hosoya,Mitsuhiro Iwano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-18.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12051595B2. Автор: Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051566B2. Автор: Hitoshi Kato,Yuji Sawada,Hiroyuki Kikuchi,Shinji Asari. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190189403A1. Автор: Takashi Uemura,Junya Sasaki,Yasushi Sonoda,Tomoyoshi Ichimaru,Luke Joseph HIMBELE. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11776792B2. Автор: Takashi Uemura,Masahiro Nagatani,Yasushi Sonoda,Kiyohiko Sato,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

Method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: IL167491A. Автор: Robert J Steger. Владелец: Robert J Steger. Дата публикации: 2009-08-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695B1. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695A2. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

Wafer processing apparatus and wafer processing method using the same

Номер патента: US20240282586A1. Автор: Sunggil Kang,Dongkyu Shin,Hoseop Choi,Sangjin AN,Chanyeong JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140141532A1. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20170350014A1. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Plasma processing apparatus, substrate bonding system including the same, and substrate bonding method using the same

Номер патента: US20230215698A1. Автор: Ho Kim,Youngho Kim,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Se-Hoon Jang,Donggap Shin,Siwoong Woo,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Precleaning chamber and plasma processing apparatus

Номер патента: US20170330769A1. Автор: Peng Chen,Peijun Ding,Kui Xu,Mengxin Zhao,qing She,Guodong Bian. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-16.

Systems and methods for electrical and magnetic uniformity and skew tuning in plasma processing reactors

Номер патента: WO2016014442A1. Автор: HAITAO Wang,Jie Zhou,Chunlei Zhang,S. M. Reza Sadjadi,Tza-Jing Gung,Fernando M. SILVEIRA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12131964B2. Автор: Soichiro Eto,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Ryoji ASAKURA,Tsubasa Okamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09997332B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09984906B2. Автор: Naoki Matsumoto,Yugo Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09960031B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09941097B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09899191B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Plasma processing method

Номер патента: US09824866B2. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Yuji Nagatani. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Plasma processing method

Номер патента: US09805917B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09799495B2. Автор: Tomohiro Okumura,Shogo Okita,Bunji MIIZUNO. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09601318B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura,Toshiyuki Nakatsubo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Method for processing a carrier, a method for operating a plasma processing chamber, and a method for processing a semiconductor wafer

Номер патента: US09543157B2. Автор: Michael Renner,Lothar Brencher. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09496147B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09460896B2. Автор: Akitoshi Harada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Apparatus and method for forming a deposited film by means of plasma CVD

Номер патента: US6526910B2. Автор: Masahiro Kanai,Takahiro Yajima,Takeshi Shishido. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-03-04.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240062991A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240003011A1. Автор: Kwang Ryul Kim,Yun Sang Kim,Jin Hee Hong. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing apparatus and ceiling wall

Номер патента: US20230343561A1. Автор: Satoshi Itoh,Eiki Kamata,Taro Ikeda,Shigenori Ozaki,Soudai EMORI,Masashi Imanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234132A1. Автор: Masanori Nakayama,Yoshitomo Hashimoto,Yuki Yamakado,Yusuke TERUI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Near-substrate supplemental plasma density generation with low bias voltage within inductively coupled plasma processing chamber

Номер патента: WO2018136121A1. Автор: Qing Xu,Qian Fu,Yiting Zhang,Saravanapriyan Sriraman,Alex Paterson,Ying Wu,Zhongkui Tan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2018-07-26.

Plasma processing method and plasma processing apparatus including applying a voltage to a lower electrode in a substrate support with a gas supplied into a chamber

Номер патента: US20240222085A1. Автор: Koichiro Nakamura,Norihisa Kiyofuji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Diamond like carbon layer formed by an electron beam plasma process

Номер патента: EP3475971A1. Автор: Yang Yang,Chentsau Ying,Srinivas D. Nemani,Jie Zhou,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,James D. Carducci,Jingjing Liu,Gonzalo MONROY,Lucy Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-05-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180158650A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Ryota Sakane,Hiroshi Nagahata,Jungwoo Na. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Method for preventing explosion of exhaust gas in decompression processing apparatus

Номер патента: US10168049B2. Автор: Norikazu Sasaki,Norihiko Amikura,Risako Miyoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-01.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230307245A1. Автор: Atsushi Takahashi,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Diagnosis device, diagnosis method, plasma processing apparatus, and semiconductor device manufacturing system

Номер патента: US20240213003A1. Автор: Kenji Tamaki,Shota Umeda,Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358758A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Diagnosis apparatus, plasma processing apparatus and diagnosis method

Номер патента: US12040167B2. Автор: Kenji Tamaki,Masaki Ishiguro,Shota Umeda,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230127467A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US20240170260A1. Автор: Eiki Kamata,Taro Ikeda,Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Semiconductor processing apparatus with improved uniformity

Номер патента: WO2021041002A1. Автор: JIAN Li,Paul Brillhart,Juan Carlos Rocha,Vinay K. PRABHAKAR,Viren KALSEKAR. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-03-04.

Plasma processing apparatus and method for using plasma processing apparatus

Номер патента: US20230167553A1. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20140238301A1. Автор: Shinya Akano. Владелец: Chugai Ro Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-28.

Plasma processing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240203707A1. Автор: Seiwa NISHIO. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing device

Номер патента: US20220277932A1. Автор: Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170092513A1. Автор: Toshiki Nakajima,Yoshihiro Umezawa,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240240320A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing assembly using pulsed-voltage and radio-frequency power

Номер патента: US11776789B2. Автор: Kartik Ramaswamy,James Rogers,Rajinder Dhindsa,Olivier Luere,Yue Guo,Leonid Dorf,Evgeny KAMENETSKIY,Linying CUI,Valentin N. Todorow,Daniel Sang BYUN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230268190A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Atsuki Hashimoto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9412562B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9038566B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US8070911B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-12-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20130045547A1. Автор: Kenji Nakata,Atsushi Itou,Kouichi Yamamoto,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-02-21.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US8969211B2. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-03.

Member for plasma processing device and plasma processing device provided with same

Номер патента: US12065727B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Plasma processing apparatus, electrostatic attraction method, and electrostatic attraction program

Номер патента: US11764038B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Shoichiro Matsuyama,Naoki Tamaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Method For Processing Workpiece, Plasma Processing Apparatus And Semiconductor Device

Номер патента: US20230005739A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Plasma processing method and resist pattern modifying method

Номер патента: US20100055911A1. Автор: Jin Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-03-04.

Adjustment method for filter unit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200126772A1. Автор: Nozomu Nagashima,Ryuichi Yui. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US12068208B2. Автор: Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297027A1. Автор: Soichiro Eto,Shigeru Nakamoto,Kosuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20040173309A1. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hiroyuki Kitsunai,Hideyuki Yamamoto,Go Miya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

Electrostatic chuck, substrate support, plasma processing apparatus, and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20230064309A1. Автор: Atsushi Kawabata,Masanori Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Plasma processing system and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297025A1. Автор: Kota Seno,Fumiaki ARIYOSHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12094687B2. Автор: Tetsuo Ono,Naoki Yasui,Masayuki SHIINA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331974A1. Автор: Norihiko Ikeda,Masaru Izawa,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Conveying method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09899245B2. Автор: Hiroshi Kikuchi,Eiki Fujii. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Reactor for plasma processing of semiconductor structures

Номер патента: RU2670249C1. Автор: Владимир Борисович Павлов,Александр Кириллович Петров,Наталья Борисовна Гусева,Вадим Александрович Сологуб,Александр Арменакович Айрапетов,Вадим Васильевич Одиноков,Георгий Яковлевич Павлов,Александр Михайлович Никонов,Михаил Георгиевич Бирюков,Константин Викторович Вавилин,Елена Александровна Кралькина,Полина Алексеевна Неклюдова,Елена Владимировна Карпенкова. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения". Дата публикации: 2018-10-19.

Plasma processing method

Номер патента: US20240321583A1. Автор: Miyako Matsui,Kenichi Kuwahara. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: US12027426B2. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Methods for etching metal films using plasma processing

Номер патента: US12057322B2. Автор: Qingyun Yang,Nathan P. Marchack,Devi Koty,Sebastian Ulrich Engelmann,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Plasma processing method

Номер патента: US20020173161A1. Автор: Kiyoshi Arita,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Plasma processing method

Номер патента: US6723651B2. Автор: Kiyoshi Arita,Shoji Sakemi,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-20.

Method And Apparatus For Seasoning Semiconductor Apparatus Of Sensing Plasma Equipment

Номер патента: US20070201016A1. Автор: NAM Kim,Yeong Song,Sang Oh,Sheung Kim. Владелец: Adaptive Plasma Technology Corp. Дата публикации: 2007-08-30.

Edge covering and semiconductor manufacturing device comprising the same

Номер патента: US20240282613A1. Автор: Kwang Sik Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5759334A. Автор: Kenichi Kojima,Tokihiro Ayabe,Takehiko Senoo,Yukio Soejima,Kishichi Haga. Владелец: Plasma System Corp. Дата публикации: 1998-06-02.

Method of forming conductive section that forms pattern on substrate

Номер патента: EP4088942A1. Автор: Hiroshi Komatsu. Владелец: Connectec Japan Corp. Дата публикации: 2022-11-16.

High temperature chuck for plasma processing systems

Номер патента: US09728437B2. Автор: Sultan Malik,Dmitry Lubomirsky,Satoru Kobayashi,Soonam Park,Tae Seung Cho,Shankar Venkataraman,Toan Q. Tran,Shambhu N. Roy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Method and device for porous body plasma processing

Номер патента: RU2402374C2. Автор: Коити КОНО,Котаро КИМИСИМА,Казуки КИСО. Владелец: Тонен Кемикал Корпорейшн. Дата публикации: 2010-10-27.

Methods for etching metal films using plasma processing

Номер патента: WO2021080690A1. Автор: Qingyun Yang,Devi Koty,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Method of forming active device on substrate and the substrate

Номер патента: US20050275020A1. Автор: Masahiro Kyozuka. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2005-12-15.

Wafer chucking apparatus for plasma process

Номер патента: WO2009104842A1. Автор: Jeongtae Kim. Владелец: Tainics Co., Ltd.. Дата публикации: 2009-08-27.

Method for removing organic cured film on substrate, and acidic cleaning liquid

Номер патента: US20190198314A1. Автор: Takehiro Seshimo,Isao Hirano,Yu TSEWEI,Chuang YACHIEN. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-27.

Plasma processing apparatus and lamination system for secondary battery comprising same

Номер патента: EP4428972A1. Автор: Sang-kyun Lee,Yong-Tae Lee,Hun-Hyeong Lee,Man-Woong HAN. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Power supply circuit for plasma generation, plasma generating apparatus, plasma processing apparatus and plasma processed object

Номер патента: US7719198B2. Автор: Akio Harada,Hirofumi Takikawa,Yoshimi Nishimura. Владелец: Daiken Kagaku Kogyo KK. Дата публикации: 2010-05-18.

Plasma processing method

Номер патента: US20020090826A1. Автор: Kiyoshi Arita,Shoji Sakemi,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-11.

Device for application of liquid medium exposed to ultraviolet radiation on substrate

Номер патента: RU2680112C1. Автор: Петер ДРЕСС,Уве ДИТЦЕ,Петер ГРАБИЦ. Владелец: Зюсс Микротек Фотомаск Эквипмент Гмбх Унд Ко.Кг. Дата публикации: 2019-02-15.

Method of plasma-stimulated atomic-layer deposition of insulating dielectric coatings on heterostructures of nitrid-gallium semiconductor devices

Номер патента: RU2633894C1. Автор: Владимир Федорович Лукичев,Константин Васильевич Руденко,Юрий Федорович Семин,Андрей Валерьевич Мяконьких,Александр Егеньевич Рогожин. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Пульсар". Дата публикации: 2017-10-19.

Method of forming electric heating element by method of plasma sputtering metal and/or metal oxide matrix

Номер патента: RU2383956C2. Автор: Джефри БОРДМАН. Владелец: 2Д Хит Лимитед. Дата публикации: 2010-03-10.

Substrate packaging structure including conductive blocks and conductive areas formed on substrates and optical module including same

Номер патента: US10578817B2. Автор: Zhenzhong Wang. Владелец: Innolight Technology Suzhou Ltd. Дата публикации: 2020-03-03.

Method and apparatus to eliminate galvanic corrosion on copper doped aluminum bond pads on integrated circuits

Номер патента: US20050266669A1. Автор: Philip Rochette. Владелец: Atmel Corp. Дата публикации: 2005-12-01.

Atomic layer deposition processing apparatus to reduce heat energy conduction

Номер патента: US09518321B2. Автор: Masanori Sakai,Kazuhiro Yuasa,Yoshihiko Yanagisawa,Mitsuro Tanabe,Yasutoshi Tsubota. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-13.

Forming metal film patterns on substrates

Номер патента: GB2207289A. Автор: Christopher Frederick Hinsley. Владелец: HR Smith Technical Developments Ltd. Дата публикации: 1989-01-25.

Hard Mask Edge Cover Scheme

Номер патента: US20150072528A1. Автор: Chih-Chien Chi,Huang-Yi Huang,Szu-Ping Tung,Ching-Hua Hsieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-03-12.

Downstop and bump bonds formation on substrates

Номер патента: US20230363295A1. Автор: John Michael Cotte,David Abraham. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Apparatus of semiconductor memory and method of manufacturing the same

Номер патента: US20200118976A1. Автор: Jung Seok AHN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-04-16.

Technique for determining curvatures of embedded line features on substrates

Номер патента: US20020021452A1. Автор: Subra Suresh,Tae-Soon Park. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2002-02-21.

Method to eliminate polycide peeling at wafer edge using extended scribe lines

Номер патента: US5599746A. Автор: Water Lur,Der-Yuan Wu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1997-02-04.

Forming semiconductor body structures with electrical connection on substrates

Номер патента: GB2231199A. Автор: Michael David Jenner,Maurice Victor Blackman,Graham Joseph Crimes. Владелец: Philips Electronic and Associated Industries Ltd. Дата публикации: 1990-11-07.

Patterned films on substrates

Номер патента: GB1482898A. Автор: . Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1977-08-17.

Methods of forming conductors on substrates involving electroplating

Номер патента: GB1527108A. Автор: . Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1978-10-04.

Semiconductor Device and Method of Forming Low Voltage Power Mosfets Using Graphene for Metal Layers and Graphene Nanoribbons for Channel and Drain Enhancement Regions of Power Vertical and Lateral Mosfets on substrates of Silicon, GAN, SIC, or Diamond to Integrate Narrow Band Gap Engineering with Wide Band Gap Engineering and Achieve Energy Saving Devices and Environmental Progress in the Power Semiconductor Industry

Номер патента: US20220123134A1. Автор: Samuel J. Anderson. Владелец: Icemos Technology Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

In Situ Synthesis of Nanoparticles on Substrates by Inkjet Printing

Номер патента: US20130316482A1. Автор: Ghassan Jabbour,Mutalifu Abulikemu. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2013-11-28.

Self-aligned metal electrode to eliminate native oxide effect for metal insulator semiconductor (mis) capacitor

Номер патента: US20070111438A1. Автор: Chih-Ta Wu,Min-Hsiung Chiang,Tsung-Hsun Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2007-05-17.

Method of making layout design to eliminate process antenna effect

Номер патента: US5514623A. Автор: Joe Ko,Bill Hsu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1996-05-07.

Plasma process uniformity by wafer back side doping

Номер патента: US20240112904A1. Автор: Kwang Jae Shin,Kezia Cheng,Alan Sangone Chen,Taecheol Shon,Yong Woo Jeon. Владелец: Skyworks Global Pte Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Component of substrate processing apparatus and method for forming a film thereon

Номер патента: US09828690B2. Автор: Koji Mitsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Shadow mask fixed on substrate by magnetic method

Номер патента: RU2502830C2. Автор: Маркус ГЕРСДОРФФ,Вальтер ФРАНКЕН,Арно ОФФЕРМАННС. Владелец: Айкстрон Се. Дата публикации: 2013-12-27.

Direct growth of graphene on substrates

Номер патента: US8685843B2. Автор: Lain-Jong Li,Ching-Yuan Su,Ang-Yu Lu,Chih-Yu Wu,Keng-Ku Liu. Владелец: Academia Sinica. Дата публикации: 2014-04-01.

Method for selectively depositing material on substrates

Номер патента: US5112439A. Автор: Gary W. Jones,Arnold Reisman. Владелец: MCNC. Дата публикации: 1992-05-12.

Semiconductor device, memory device, and method for forming transistor on substrate

Номер патента: US11910610B2. Автор: Tatsuya Hosoda,Yasuhisa Naruta. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-02-20.

Indium source reagent compositions, and use thereof for deposition of indium-containing films on substrates and ion implantation of indium-doped shallow junction microelectronic structures

Номер патента: US20010021785A1. Автор: Thomas Baum,Chongying Xu. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 2001-09-13.

Lid opening/closing apparatus of electronic device

Номер патента: US20100242367A1. Автор: Yasutoshi Kawai,Takahiro Kitai. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-30.

Method of plasma etching

Номер патента: US12087593B2. Автор: Shih Pin KUO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240355644A1. Автор: Naoki Shibata,Shinsuke TAKAKI,Yoji SAKATA,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Peeling apparatus and manufacturing apparatus of semiconductor device

Номер патента: US09570329B2. Автор: Kenichi Hashimoto,Misako Hirosue,Shingo Eguchi,Yasuharu Hosaka,Yohei Monma,Atsuhiro Tani. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Peeling apparatus and manufacturing apparatus of semiconductor device

Номер патента: US09397126B2. Автор: Kenichi Hashimoto,Misako Hirosue,Shingo Eguchi,Yasuharu Hosaka,Yohei Monma,Atsuhiro Tani. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Plasma passivation technique for the prevention of post etch corrosion of plasma-etched aluminum films

Номер патента: CA1151106A. Автор: Christopher H. Galfo,Ashok L. Nalamwar. Владелец: Fairchild Camera and Instrument Corp. Дата публикации: 1983-08-02.

Substrate holder for a plasma processing system

Номер патента: US5958265A. Автор: Yoneichi Ogahara. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1999-09-28.

Substrate liquid processing apparatus, method of controlling substrate liquid processing apparatus, and storage medium performing substrate liquid processing apparatus control method on substrate liquid processing apparatus

Номер патента: US8881751B2. Автор: Nobuhiro Ogata,Shuichi Nagamine. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Substrate liquid processing apparatus, method of controlling substrate liquid processing apparatus, and storage medium performing substrate liquid processing apparatus control method on substrate liquid processing apparatus

Номер патента: US20110297257A1. Автор: Nobuhiro Ogata,Shuichi Nagamine. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-12-08.

RF Component having self-biasing to eliminate multipacting

Номер патента: US4550297A. Автор: William H. Harrison. Владелец: FREQUENCY WEST Inc. Дата публикации: 1985-10-29.

Method and apparatus of multi threshold voltage cmos

Номер патента: US20180166340A1. Автор: Jeffrey Junhao XU,Choh fei Yeap. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2018-06-14.

Methods and apparatus to provide asymmetrical magnetic fields, and induction heating using asymmetrical magnetic fields

Номер патента: US20190037651A1. Автор: Michael Hoeger. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2019-01-31.

Methods for depositing layers of materials on substrates and structures formed accordingly

Номер патента: US20240302748A1. Автор: Paul Chatelain,Kishan Ashokbhai Patel,Fatemeh Davodi,João Antunes Afonso,Steaphan Mark Wallace. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Methods and apparatus of packaging semiconductor devices

Номер патента: US09659890B2. Автор: Hsien-Wei Chen,Tsung-Fu Tsai,Ming-Song Sheu,Ru-Ying Huang,Yian-Liang Kuo,Chia-Wei Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and memory medium

Номер патента: US09601394B2. Автор: Teruhiko Kodama,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Circuit board guide and interfitting device to eliminate floating cables

Номер патента: US5031074A. Автор: Gonen Ravid. Владелец: RAD COMPUTER SOLUTIONS Inc A CORP OF. Дата публикации: 1991-07-09.

Real-time evaluation of stress fields and properties in line features formed on substrates

Номер патента: EP1428242A2. Автор: Ares J. Rosakis,Subra Massachusetts Inst.of Tech. SURESH. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2004-06-16.

Substrate on substrate structure and electronic device comprising the same

Номер патента: US20210185815A1. Автор: Young Kwan Lee,Yong Hoon Kim,Seung Eun Lee,Hak Chun Kim. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Apparatus of mtl and transfer system including the same

Номер патента: US20240051767A1. Автор: Do Hyun Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Chip-on-wafer-on-substrate package with improved yield

Номер патента: US12068300B2. Автор: Chia-Wei Chang,Yao-Chun Chuang,Jyun-Lin Wu,Ju-Min Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Manufacturing method and manufacturing apparatus of device

Номер патента: US20130178059A1. Автор: Yasushi Higuchi,Hiroaki Iwasawa,Yohei Uchida,Yoshihiro Ikeda,Shinya Nakamura,Kazuyoshi Hashimoto,Yuta Sakamoto,Junichi Hamaguchi,Shuji Kodaira,Youhei ENDO. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2013-07-11.

Chip-on-wafer-on-substrate package with improved yield

Номер патента: US20240355804A1. Автор: Chia-Wei Chang,Yao-Chun Chuang,Jyun-Lin Wu,Ju-Min Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Method and system for a chip-on-wafer-on-substrate assembly

Номер патента: US09910232B2. Автор: Peter De Dobbelaere,Thierry Pinguet,Attila Mekis,Yannick De Koninck,Gianlorenzo Masini. Владелец: Luxtera LLC. Дата публикации: 2018-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09373528B2. Автор: Mitsunori Komatsu,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Plasma processing device

Номер патента: US4978412A. Автор: Makoto Aoki,Izumi Arai,Yoshifumi Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1990-12-18.

Method to form nanosized pattern on substrate (versions) and structure with pattern comprising nanosized self-assembled self-built structures

Номер патента: RU2462412C2. Автор: Чарлз Т. БЛЭК,Тимоти Дж. ДЭЛТОН,Брюс Б. ДОРИС,Карл РЕЙДЕНС,Чарлз Т. БЛЭК (US),Тимоти Дж. ДЭЛТОН (US),Брюс Б. ДОРИС (US),Карл РЕЙДЕНС (US). Владелец: Интернэшнл Бизнес Машинз Корпорейшн. Дата публикации: 2012-09-27.

Method and apparatus to repair defects in nonvolatile semiconductor memory devices

Номер патента: WO2009032928A2. Автор: Ming Li,Gary B. Bronner,Kevin S. Donnelly,Frederick Ware,Donald R. Mullen. Владелец: RAMBUS INC.. Дата публикации: 2009-03-12.

Method of mounting electronic component on substrate and device for mounting said component

Номер патента: RU2398280C2. Автор: Франсуа ДРОЗ. Владелец: Награид Са. Дата публикации: 2010-08-27.

Method of plasma etching

Номер патента: US20230411164A1. Автор: Shih Pin KUO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20230298883A1. Автор: Masayuki Asai,Kazuyuki Okuda,Yasuhiro Inokuchi,Norikazu Mizuno,Tomoki IMAMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Integrated-circuit package with a quick-to-count finger layout design on substrate

Номер патента: US20020096788A1. Автор: Chih-Chin Liao,Wen-Hsin Wang. Владелец: Siliconware Precision Industries Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-25.

Method for fabricating electronic component module using a plasma processing method

Номер патента: MY137638A. Автор: Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2009-02-27.

Plasma processing method and method for fabricating electronic component module using the same

Номер патента: EP1709674A1. Автор: Masaru Matsushita El.Ind.Co.Ltd. NONOMURA,Tatsuhiro Matsushita El. Ind. Co. MIZUKAMI. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-11.

Bump formation method and bump forming apparatus to semiconductor wafer

Номер патента: WO2002043137A2. Автор: Shinji Kanayama,Takaharu Mae,Shoriki Narita,Yasutaka Tsuboi,Masahiko Ikeya. Владелец: MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.. Дата публикации: 2002-05-30.

Bump formation method and bump forming apparatus to semiconductor wafer

Номер патента: EP1340250A2. Автор: Shinji Kanayama,Takaharu Mae,Shoriki Narita,Yasutaka Tsuboi,Masahiko Ikeya. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-03.

Front-end-of-line (FEOL) through semiconductor-on-substrate via (TSV)

Номер патента: US12046537B2. Автор: Jiun-Lei Jerry Yu,Chun Lin Tsai,Po-Chih Chen,Yun-Hsiang Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Front-end-of-line (feol) through semiconductor-on-substrate via (tsv)

Номер патента: US20220359346A1. Автор: Jiun-Lei Jerry Yu,Chun Lin Tsai,Po-Chih Chen,Yun-Hsiang Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Front-end-of-line (feol) through semiconductor-on-substrate via (tsv)

Номер патента: US20240355711A1. Автор: Jiun-Lei Jerry Yu,Chun Lin Tsai,Po-Chih Chen,Yun-Hsiang Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Method for mounting semiconductors provided with bumps on substrate locations of a substrate

Номер патента: US09721819B2. Автор: Florian Speer. Владелец: Besi Switzerland AG. Дата публикации: 2017-08-01.

Processing apparatus and processing method of stack

Номер патента: US09682544B2. Автор: Hisao Ikeda,Hiroki Adachi,Yoshiharu Hirakata,Yasuhiro Jinbo,Akihiro Chida,Kohei Yokoyama,Satoru Idojiri,Shingo Eguchi,Kayo Kumakura,Tomoya Aoyama,Masakatsu Ohno. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Substrate processing apparatus for coating liquid composed of first coating liquid and second coating liquid on substrate with slit-shaped ejection port

Номер патента: US09623435B2. Автор: Yukihiro Wakamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Method of producing silicon film on substrate surface by vapour deposition

Номер патента: RU2438211C2. Автор: Хартвиг Рауледер,Раймунд ЗОННЕНШАЙН,Ханс Юрген ХЕНЕ,Штефан РЕБЕР,Норберт ШИЛЛИНГЕР. Владелец: ФРАУНХОФЕР-ГЕЗЕЛЬШАФТ ЦУР ФЕРДЕРУНГ ДЕР АНГЕВАНДТЕН ФОРШУНГ Е.Фау.. Дата публикации: 2011-12-27.

Method for manufacturing structures on substrates using wet deposition

Номер патента: RU2760864C1. Автор: Штефан РУКМИХ,Карстен НОЙМАНН. Владелец: Плэстик Лоджик Хк Лимитед. Дата публикации: 2021-12-01.

Non-polar led epitaxial plate of blue glow on substrate of lao and method of its production

Номер патента: RU2643176C1. Автор: Чжэнвэй ЛЮ,Чжожань ЦАЙ,Хай ГАО,Чжи Лю,Сянлинь ИНЬ. Владелец: Шанхай Чиптек Сэмикондактор Текнолоджи Ко., Лтд.. Дата публикации: 2018-01-31.

Plasma processing method

Номер патента: US9653321B2. Автор: Shunichi Mikami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Liquid processing apparatus and liquid processing method

Номер патента: US20100200547A1. Автор: Jiro Higashijima,Hiromitsu Namba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-08-12.

Method and arrangement to eliminate multipacting in RF devices

Номер патента: US4053855A. Автор: Aare Kivi,Louis Feit. Владелец: International Telephone and Telegraph Corp. Дата публикации: 1977-10-11.

Substrate mounting table, substrate processing apparatus and substrate temperature control method

Номер патента: US20090194264A1. Автор: Yasuharu Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-08-06.

Substrate-on-substrate structure and electronics comprising the same

Номер патента: US20210183754A1. Автор: Young Kwan Lee,Yong Hoon Kim,Seung Eun Lee,Hak Chun Kim. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Modifying work function of a metal film with a plasma process

Номер патента: US20180218911A1. Автор: WEI Liu,Johanes S. Swenberg,Houda Graoui,Steven C. H. Hung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-02.

Methods for depositing III-alloys on substrates and compositions therefrom

Номер патента: US11721550B2. Автор: Emily Lowell Warren,Jeramy David Zimmerman,Olivia Dean Schneble. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 2023-08-08.

Method of generating and using a plasma processing control program

Номер патента: EP1877878A1. Автор: Andrew Leonard Goodyear,Philip Douglas Rossbrook. Владелец: Oxford Instruments Plasma Technology Ltd. Дата публикации: 2008-01-16.

Single crystal cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: CA3197618A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,John COLWELL,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Single crystal cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: EP4281215A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,John COLWELL,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US20050037629A1. Автор: Ichiro Nakayama,Yoshihiro Yanagi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-17.

To the method and apparatus of Video coding and the method and apparatus to video decoding

Номер патента: CN104811700B. Автор: 韩宇镇,金壹求,闵正惠. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-11-02.

Image processing apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20210409570A1. Автор: Yoshihito Hiroe. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2021-12-30.

Protective cover apparatus for a direct-view light emitting diode (DV LED) screen and a method of protecting and maintaining the DV LED screen

Номер патента: US12093091B1. Автор: Christopher MARTEL,Shawn Moore. Владелец: Tsi Touch Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma generating device, plasma processing device, and plasma etching device for seamless roller mold

Номер патента: US20240260165A1. Автор: Kohei Murakami,Tsuneharu TANAKA,Akira NAGAYASU. Владелец: Shinko Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Image processing apparatus, control method thereof

Номер патента: US8407748B2. Автор: Hideaki Ohshima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-03-26.

Method and device for plasma processing of material

Номер патента: GB2271124A. Автор: Pavel Pavlovich Kulik,Oleg Vyacheslavovich Sinyagin,Iskander Malikovich Tokmulin,Vyacheslav Gennadie Shamshurin,Vladimir Valentinovic Zakharov,Nikolai Vasilievich Ermokhin. Владелец: OPA. Дата публикации: 1994-04-06.

System and method for generating plasma and maintaining the magnetic field of plasma

Номер патента: RU2757930C1. Автор: Мишель Жорж ЛАБЕРЖ,Келли Бернард ЭПП,Блейк Кентон РАБЛА,Меритт Уэйн РЕЙНОЛДС,Александр Дуглас МОССМАН,Стивен Джеймс ХОУАРД. Владелец: Дженерал Фьюжн Инк.. Дата публикации: 2021-10-25.

Electronic device including module accommodating components disposed on substrate

Номер патента: US09781831B2. Автор: Wenda Hao. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Apparatus and method for heat treatment of coatings on substrates

Номер патента: US09750091B2. Автор: James E. Neville,Iftikhar Ahmad,Clayton R. DeCamillis,Robert J Schauer. Владелец: HELLER INDUSTRIES Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Method and apparatus to track gain variation in orthogonal frequency division multiplexing (OFDM) systems

Номер патента: US09722849B2. Автор: Manish Bhardwaj,Garret Shih. Владелец: EDGEWATER WIRELESS SYSTEMS Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Plasma generation and use of plasma generation apparatus

Номер патента: RU2543049C2. Автор: Хью ПОТТС,Деклан Эндрю ДАЙВЕР. Владелец: Зе Юниверсити Корт Оф Зе Юниверсити Оф Глазго. Дата публикации: 2015-02-27.

System and method of controlling magnetic field of plasma

Номер патента: RU2688139C2. Автор: Райан Уолтер ЗИНДЛЕР,Джонатан Дэмиэн ФРЕЙЗЕР. Владелец: Дженерал Фьюжн Инк.. Дата публикации: 2019-05-20.

Process of plasma generation

Номер патента: RU2216132C2. Автор: А.С. Береснев. Владелец: Деренковский Виктор Яковлевич. Дата публикации: 2003-11-10.

Autonomous method and system for minimizing the magnitude of plasma discharge current oscillations in a hall effect plasma device

Номер патента: US20130093350A1. Автор: Bruce Pote,Nathaniel Demmons,Nathan Rosenblad,Vladimir Hruby,Eric Ehrbar. Владелец: Busek Co Inc. Дата публикации: 2013-04-18.

Method and apparatus for creating an artificial electron cyclotron heating region of plasma

Номер патента: US4712155A. Автор: Bernard J. Eastlund,Simon Ramo. Владелец: Apti Inc. Дата публикации: 1987-12-08.

Light emitting device having convex-and-concave structure on substrate

Номер патента: US5936347A. Автор: Kazunori Ueno,Kazuo Isaka,Akihiro Mouri,Masao Ueki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-08-10.

Method and Apparatus of Plasma Flow Control for Drag Reduction

Номер патента: US20210164503A1. Автор: Thomas C. Corke,Flint O. Thomas. Владелец: University of Notre Dame . Дата публикации: 2021-06-03.

Device and Method for the Heating and Confinement of Plasma

Номер патента: US20180063936A1. Автор: Daniel Prater. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-01.

Device and method capable of adjusting treatment area of plasma jets

Номер патента: ZA202304792B. Автор: MENG Li,XIN Wang,Tao Wang,Weizhi Yang,Liping Shi,Sile Chen. Владелец: Wuhu Tech And Innovation Research Institute Ahut. Дата публикации: 2023-11-29.

Recuperator of energy of plasma ions

Номер патента: RU2719503C1. Автор: Иван Васильевич Трифанов. Владелец: Иван Васильевич Трифанов. Дата публикации: 2020-04-20.

Semiconductor memory with insulation film embedded in groove formed on substrate

Номер патента: US5561311A. Автор: Katsuhiko Hieda,Fumio Horiguchi,Takeshi Hamamoto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1996-10-01.

Circuit board including dummy electrode formed on substrate

Номер патента: US20180288869A1. Автор: Nobumasa Tanaka,Shoko Ota,Ryuji HORATA. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2018-10-04.

Method and apparatus to increase optic line capacity

Номер патента: EP4412110A1. Автор: Alfonso Fernandez Duran,Tomas Sanjuan Flores. Владелец: NOKIA SOLUTIONS AND NETWORKS OY. Дата публикации: 2024-08-07.

Method of increasing efficiency of plasma-hydrogen radiator operation

Номер патента: RU2640193C2. Автор: Геннадий Леонидович Багич. Владелец: Геннадий Леонидович Багич. Дата публикации: 2017-12-27.

Installation of plasma-enhanced deposition and method for production of polycrystalline silicon

Номер патента: RU2404287C2. Автор: Мохд А. АСЛАМИ,Дау ВУ,Чарльз ДЕЛЮКА. Владелец: СИЛИКА ТЕК, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2010-11-20.

Cumulation device of plasma clots

Номер патента: RU2692689C1. Автор: Леонид Викторович Фуров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Владимирский Государственный Университет имени Александра Григорьевича и Николая Григорьевича Столетовых" (ВлГУ). Дата публикации: 2019-06-26.

System of plasma transferred wire arc thermal spraying

Номер патента: RU2569861C2. Автор: Леандер ШРАММ,Александер ШВЕНК,Энрико ХАУЗЕР. Владелец: Форд Глобал Технолоджис, ЛЛК. Дата публикации: 2015-11-27.

Plasma torch (variants), its starting method and members of plasma torch

Номер патента: RU2279341C2. Автор: Джосеф П. ДЖОУНС,Роджер В. ХЬЮИТТ,Кевин Д. ХОРНЕР-РИЧАРДСОН,Дэвид А. СМОЛ. Владелец: Термал Дайнэмикс Корпорэйшн. Дата публикации: 2006-07-10.

Method to eliminate gas leaks in pipeline flange zone

Номер патента: RU2372548C2. Автор: Асен СЛИМАНИ,Д`ОРИА Венсан БУЛЕ. Владелец: Д`ОРИА Венсан БУЛЕ. Дата публикации: 2009-11-10.

Method and device for production of plasma

Номер патента: RU2606396C2. Автор: Борислав Стефанов БОРИСОВ,Константин Димитров ТРЕНЧЕВ. Владелец: Константин Димитров ТРЕНЧЕВ. Дата публикации: 2017-01-10.

Air filtration and disinfection system by means of plasma injection

Номер патента: RU2711203C2. Автор: Иоганнес ШИФЕН. Владелец: Ридель Фильтртехник ГмбХ. Дата публикации: 2020-01-15.

Nozzle of plasma burner cooled with liquid, as well as head of plasma burner with nozzle

Номер патента: RU2533187C2. Автор: Франк ЛАУРИШ,Фолькер КРИНК,Тимо ГРУНДКЕ. Владелец: КЬЕЛЬБЕРГ ФИНСТЕРВАЛЬДЕ ПЛАЗМА УНД МАШИНЕН ГМБХ. Дата публикации: 2014-11-20.

Method and means for use in the installation of plasma generators in shaft furnaces

Номер патента: CA1267435A. Автор: Jan Thornblom,Gunnar Astner. Владелец: SKF Steel Engineering AB. Дата публикации: 1990-04-03.

Method for metallizing superconducting material onto surface of substrate by use of plasma phenomenon

Номер патента: CA1311659C. Автор: Itaru Watanabe,Kyoji Tachikawa,Makoto Kabasawa,Yukio Shinbo,Shigeyoshi Kosuge,Yataka Matsuda. Владелец: Tokai University. Дата публикации: 1992-12-22.

Helical field stabilization of plasma devices

Номер патента: CA1164109A. Автор: Tihiro Ohkawa. Владелец: General Atomics Corp. Дата публикации: 1984-03-20.

System and apparatus for on-substrate circuit configured to operate as transformer

Номер патента: US20240120905A1. Автор: JUN Cao,Mohammad Elbadry,Adesh Garg,Ahmed Elkholy,Alireza Nilchi. Владелец: Avago Technologies International Sales Pte Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Content processing apparatus and control method thereof for performing transmission and control of content through a communication path

Номер патента: US8966558B2. Автор: Hideaki Ohshima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-02-24.

Image processing apparatus, control method thereof

Номер патента: US20110050943A1. Автор: Hideaki Ohshima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-03-03.

Image processing apparatus, control method thereof

Номер патента: US20130191503A1. Автор: Hideaki Ohshima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-07-25.

Parallel processing apparatus and replacing method of failing optical transmission line

Номер патента: US20200119809A1. Автор: Atsushi Miki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2020-04-16.

Brushless dc motor, and identification method and identification apparatus of identifying type of brushless dc motor

Номер патента: US20180317340A1. Автор: Hideyuki Takemoto. Владелец: Nidec Corp. Дата публикации: 2018-11-01.

Method and apparatus to select correct smf for snpn ue's onboarding

Номер патента: US20240267869A1. Автор: Youngkyo Baek,Ashok Kumar Nayak. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-08.

Method and apparatus to switch data flows using parallel switch fabrics

Номер патента: WO2003032121A3. Автор: Joseph Cerra,Vishal Sharma,Steven R Dunstan,Timothy Y Chow,Charles E Rohrs. Владелец: Tellabs Operations Inc. Дата публикации: 2003-10-16.

Information processing apparatus and information processing system

Номер патента: US20160205514A1. Автор: Yasuyuki Nakamura,Hajimu IKEDA. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-14.

Method and Apparatus to Switch Data Flows Using Parallel Switch Fabrics

Номер патента: US20070076736A1. Автор: Joseph Cerra,Timothy Chow,Vishal Sharma,Charles ROHRS,Steven Dunstan. Владелец: Tellabs Operations Inc. Дата публикации: 2007-04-05.

Job management apparatus of print job in delivery system for delivering sheet printed by image forming apparatus to delivery destination with autonomously moving delivery apparatus

Номер патента: US09800746B2. Автор: Takahiro Sasaki. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Information processing system, information processing method, mobile terminal, information processing apparatus, and control methods and control programs thereof

Номер патента: US09712943B2. Автор: Yoshikazu Kobayashi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Methods and Apparatuses to provide an electro-optical alignment

Номер патента: US09497860B2. Автор: Kihong Kim. Владелец: Lattice Semiconductor Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Method of using bipolar junction transistor as local oscillator in a satellite down converter to eliminate second and third harmonic interference between two local oscillators

Номер патента: US20030036370A1. Автор: Mao-Jen Chen. Владелец: Prime Electronics and Satellitics Inc. Дата публикации: 2003-02-20.

Method and apparatus of cross-correlation

Номер патента: US20040062324A1. Автор: Yona Perets,Kobby Pick. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2004-04-01.

Method and apparatus of cross-correlation

Номер патента: US20070116155A1. Автор: Yona Perets,Kobby Pick. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-24.

Method and apparatus of cross-correlation

Номер патента: EP1550277A1. Автор: Yona Perets,Kobby Pick. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2005-07-06.

Method and apparatus of cross-correlation

Номер патента: US8942318B1. Автор: Yona Perets,Kobby Pick. Владелец: MARVELL WORLD TRADE LTD. Дата публикации: 2015-01-27.

Method and apparatus of cross-correlation

Номер патента: US8259851B1. Автор: Yona Perets,Kobby Pick. Владелец: MARVELL WORLD TRADE LTD. Дата публикации: 2012-09-04.

Secure communication link between medical apparatuses of a data-management device

Номер патента: US12047417B2. Автор: Stefan Lindegger,Marc LABUDDE,Thomas LEUZINGER,Mathias ZENGER,Adrian Wyss. Владелец: Ypsomed AG. Дата публикации: 2024-07-23.

Adaptive vibration damping mechanism to eliminate acoustic noise in electronic systems

Номер патента: US20140307889A1. Автор: David A. Hardell. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2014-10-16.

Method to eliminate current surge during spindle spin up

Номер патента: US09543863B1. Автор: Ravishanker Krishnamoorthy,Foo Leng Leong. Владелец: Marvell International Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Operating a static transfer switch to eliminate transformer inrush current in the presence of residual flux

Номер патента: US09520874B2. Автор: James M. Miller,Terry D. Bush. Владелец: Liebert Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Method of plasma treatment of materials

Номер патента: CA1137443A. Автор: Mikhail G. Fridlyand. Владелец: GOSUDARSTVENNY PROEKTNY I NAUCHNO-ISSLEDOVATELSKY INSTITUT NIKELEVO-KOBALTOVOI I OLOVYANNOI PROMYSHLENNOSTI. Дата публикации: 1982-12-14.

Apparatuses to authorize and enable/disable enhanced coverage functionality

Номер патента: EP3479619A1. Автор: Puneet Jain. Владелец: Intel IP Corp. Дата публикации: 2019-05-08.

Information processing apparatus, control method for information processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20240193253A1. Автор: Jun Nakagawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Method, system, and apparatus of range measurement in a wireless network

Номер патента: US09872191B2. Автор: Itai Steiner. Владелец: Intel IP Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

System and method and apparatus to detect the re-occurrence of an event and insert the most appropriate event sound

Номер патента: US09736501B2. Автор: Vijay Sathya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-15.

Method and apparatus for producing electroconductive patterns on substrates

Номер патента: RU2721003C2. Автор: Юха МАИЯЛА,Петри СИРВИЁ. Владелец: СТОРА ЭНСО ОЙЙ. Дата публикации: 2020-05-15.

Method for the online quality control of decorative prints on substrate materials

Номер патента: CA3099949C. Автор: Ingo Lehnhoff. Владелец: Flooring Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-12-28.

X-ray image processing apparatus

Номер патента: US4916722A. Автор: Takehiro Ema. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1990-04-10.

Receiver apparatus of the adaptive ICI cancellation iterative receiver in wireless communication system and ICI cancellation method

Номер патента: US7936832B2. Автор: Young-Il Kim,Zhang-Yong Ma. Владелец: Hanaro Telecom Inc. Дата публикации: 2011-05-03.

Image processing apparatus, image reading apparatus, and image forming apparatus

Номер патента: US20190266707A1. Автор: Kosuke MASUMOTO. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2019-08-29.

Image processing apparatus, image reading apparatus, and image forming apparatus

Номер патента: US10740879B2. Автор: Kosuke MASUMOTO. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2020-08-11.

Reduced voltage and time delay to eliminate filament hot shock

Номер патента: EP1152644A1. Автор: Edward J. Collins,Ludwig N. Skilskyj,Leonard Edward Hoegler,Laszio Viktor Lieszkovszky. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-11-07.

Information processing apparatus, non-transitory computer readable medium, and information processing system

Номер патента: US20180109686A1. Автор: Makoto Kondo,Koichi Naito,Hirofumi Ogawa,Nobuki Hagiwara. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-19.

Cover for image forming apparatus to facilitate parts recycling

Номер патента: US20060170982A1. Автор: Sotohiro Tsujihara. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-03.

Heater coupling apparatus of washing machine and coupling method of the same

Номер патента: US20070017082A1. Автор: Dong Kim,Sang Lim,Jong Yoon,Jae Lyu,Chang Son. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2007-01-25.

Methods and apparatus of mac partial reset during intra-du ltm

Номер патента: WO2024164115A1. Автор: Yao Peng,Tao Chen,Yuanyuan Zhang,Shuo MA,Xiaonan Zhang. Владелец: MEDIATEK SINGAPORE PTE. LTD.. Дата публикации: 2024-08-15.

Base edge cover for a bucket and apparatus for retaining same

Номер патента: US5634285A. Автор: William J. Renski. Владелец: Caterpillar Inc. Дата публикации: 1997-06-03.

Processing apparatus, image pickup apparatus, image pickup system, and processing method

Номер патента: US20210381892A1. Автор: Tsubasa Nakamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-12-09.

Processing apparatus, image pickup apparatus, image pickup system, and processing method

Номер патента: US20220357203A1. Автор: Tsubasa Nakamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-11-10.

Information processing system and information processing apparatus

Номер патента: US20200167249A1. Автор: Tatsuya Yamana,Reo Tajima. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Fuel vapor processing apparatus

Номер патента: US09328700B2. Автор: Takashi Mani. Владелец: Aisan Industry Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Peripheral apparatus control system, peripheral apparatus, information processing apparatus, and control method

Номер патента: US20120050798A1. Автор: Koichi Abe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-03-01.

Image processing apparatus and method for guiding sheet

Номер патента: US20150069694A1. Автор: Hiroyuki Taki. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2015-03-12.

Information processing apparatus, information processing system, control method for information processing system, and medium

Номер патента: US20160062835A1. Автор: Naoki HAYASHI,Tsuyoshi Hashimoto,Yukio Kozawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2016-03-03.

Information processing apparatus, information processing system, control method for information processing system, and medium

Номер патента: US9720796B2. Автор: Naoki HAYASHI,Tsuyoshi Hashimoto,Yukio Kozawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Image processing apparatus and control method

Номер патента: US11833839B2. Автор: Tetsuya Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Image processing apparatus and control method

Номер патента: US20220396079A1. Автор: Tetsuya Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-12-15.

Weight measuring apparatus of paper sheet, paper sheet processing apparatus having the same, and weight measuring method of paper sheet

Номер патента: KR20110129333A. Автор: 유끼오 아사리,도루 도도리끼,유스께 미쯔야,요시히꼬 나루오까,나루아끼 히라미쯔. Владелец: 가부시끼가이샤 도시바. Дата публикации: 2011-12-01.

Method for deposition of gradient heat-resistant coatings y-mo-o of plasma of vacuum-arc discharge

Номер патента: RU2728117C1. Автор: Эдуард Леонидович Варданян,Алмаз Юнирович Назаров,Камиль Нуруллаевич Рамазанов,Алексей Андреевич Маслов,Сергей Тихонович Милейко,Сергей Николаевич Галышев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет". Дата публикации: 2020-07-28.

A light-emitting edge covering device and an e-sports table comprising thereof

Номер патента: US20230225501A1. Автор: Yajun Hu. Владелец: Designa Inc. Дата публикации: 2023-07-20.

Transparent electronic device components with opaque edge coverings

Номер патента: US20120225258A1. Автор: Tang Yew Tan,Richard Hung Minh Dinh,Matthew Hill,Lucy E. Browning,Lee Hua Tan. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2012-09-06.

Bright strip based edge covering assembly product, and method for connecting bright strip based edge covering assembly product and external component

Номер патента: EP4454953A1. Автор: Jing Li,Lixing JIANG,Conglong LIN,Xiuyong OU. Владелец: Fuyao Glass Industry Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-30.

Automated reverse action device for plasma processing of shoe preparations

Номер патента: RU2628988C1. Автор: Сергей Петрович Александров,Татьяна Владимировна Жуковская,Андрей Владимирович Шестов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет технологий и управления имени К.Г. Разумовского (Первый казачий университет" (ФГБОУ ВО "МГУТУ им. К.Г. Разумовского (ПКУ)"). Дата публикации: 2017-08-23.

A light-emitting edge covering device and an e-sports table comprising thereof

Номер патента: AU2020101267A4. Автор: Yajun Hu. Владелец: Designa Inc. Дата публикации: 2020-08-13.

A light-emitting edge covering device and an e-sports table comprising thereof

Номер патента: WO2021227194A1. Автор: Yajun Hu. Владелец: Designa Inc.. Дата публикации: 2021-11-18.

Spatially resolved optical emission spectroscopy (OES) in plasma processing

Номер патента: US09970818B2. Автор: Zheng Yan,Yan Chen,Hanyou Chu,Junwei Bao,Holger Tuitje,Ching-Ling Meng,Mihail Mihaylov,Haixing Zou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Material with composite particles on substrate, method of producing said material and method of producing compounds using material with composite particles on substrate as chemical synthesis catalyst

Номер патента: RU2437715C1. Автор: Кен СУЗУКИ,Тацуо ЯМАГУТИ. Владелец: Асахи Касеи Кемикалз Корпорейшн. Дата публикации: 2011-12-27.

Roof tile edge cover

Номер патента: CA1092773A. Автор: Allan B. Hildreth. Владелец: HILDRETH ALAN B. Дата публикации: 1981-01-06.

Integration of plasma and hydrogen process with combined cycle power plant and steam reformers

Номер патента: EP3099397A1. Автор: Peter L. Johnson,Robert J. Hanson,Roscoe W. Taylor. Владелец: Monolith Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-07.

Device for microstructured inoculation of proteins on substrate

Номер патента: RU2632459C2. Автор: Венсан СТЮДЕ,Аммар АЗИУН. Владелец: Юниверсите Де Бордо Сегален. Дата публикации: 2017-10-04.

Laminated barrier film and edge-covering strip for packaging

Номер патента: EP3368299A1. Автор: Pierre Fayet,Cesare Lorenzetti,Jerome Larrieu,Francesco PISCIOTTI. Владелец: Tetra Laval Holdings and Finance SA. Дата публикации: 2018-09-05.

Edge covering with anti-slip system

Номер патента: US20240279832A1. Автор: Patricio Antonio CARRACEDO MESCHI. Владелец: Icl Catodos Ltda. Дата публикации: 2024-08-22.

Propeller including a discrete blade edge cover member

Номер патента: US09908600B2. Автор: Russel Ian HAWKINS. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-06.

Method of plasma-chemical treatment of electrochemical catalyst caron carrier

Номер патента: RU2497601C1. Автор: Сергей Алексеевич Волобуев,Сергей Александрович Григорьев,Кирилл Андреевич Джусь. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт". Дата публикации: 2013-11-10.

Method of plasma synthesis of powders of inorganic materials and apparatus for implementation thereof

Номер патента: RU2743474C2. Автор: Андрей Анатольевич Николаев,Анатолий Владимирович Николаев,Дмитрий Евгеньевич Кирпичев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт металлургии и материаловедения им. А.А. Байкова Российской академии наук (ИМЕТ РАН). Дата публикации: 2021-02-18.

Pool edge cover assembly

Номер патента: EP3805486A1. Автор: Mathew Dalton,John Thomas Carl Peterson. Владелец: Latham Pool Products Inc. Дата публикации: 2021-04-14.

Method of plasma processing of metal products

Номер патента: RU2686505C1. Автор: Юрий Дмитриевич Щицын,Владислав Юрьевич Щицын,Сергей Дмитриевич Неулыбин,Дмитрий Николаевич Трушников. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2019-04-29.

Method of applying coating for deploying layer system on substrate and substrate with layer system

Номер патента: RU2630090C2. Автор: Йорг ФЕТТЕР,Юрген МЮЛЛЕР,Георг ЭРКЕНС. Владелец: Зульцер Метаплас Гмбх. Дата публикации: 2017-09-05.

Apparatus and method for evaluating contamination caused by organic substances deposited on substrate surface

Номер патента: US5882938A. Автор: Katsumi Sato,Hideto Takahashi,Soichiro Sakata. Владелец: Takasago Thermal Engineering Co Ltd. Дата публикации: 1999-03-16.

Virus-inactivated blood plasma of universal change received from portions of plasma of non caucasoid race individuals

Номер патента: RU2362571C2. Автор: Юрген РЕМИШ,Андреа ХЕГЕР,Тор-Эйнар СВАЕ,Вольфганг МАРГЕРР. Владелец: Октафарма Аг. Дата публикации: 2009-07-27.

Propeller including a discrete blade edge cover member

Номер патента: WO2014020548A1. Автор: Russel Ian HAWKINS. Владелец: Hawkins Russel Ian. Дата публикации: 2014-02-06.

Method and apparatus to eliminate fuel use for electric drive machines during trolley operation

Номер патента: WO2013085946A1. Автор: Matthew Hendrickson,Donald Gilmore,Eric Ruth. Владелец: CATERPILLAR INC.. Дата публикации: 2013-06-13.

Methods and apparatus to eliminate partial-redundant vector loads

Номер патента: US09785413B2. Автор: Philippe Thierry,Rakesh Krishnaiyer,Leonardo Jose Borges,Farhana Aleen Schuchman,David L. Kreitzer,Vyacheslav Pavlovich Zakharin,Sergey Preis. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Method of plasma separation of spent nuclear fuel and device for its implementation

Номер патента: RU2419900C1. Автор: Владимир Михайлович Бардаков,Николай Александрович Строкин,Геннадий Николаевич Кичигин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Иркутский государственный технический университет" (ГОУ "ИрГТУ"). Дата публикации: 2011-05-27.

Method of plasma-arc welding by consumable electrode

Номер патента: RU2643010C2. Автор: Алексей Сергеевич Киселев,Ростислав Иванович Дедюх,Антон Сергеевич Гордынец. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет". Дата публикации: 2018-01-29.

Multilayer protective coating for substrate arranged in or outside transport facility, substrate with said coating and method of forming said coating on substrate

Номер патента: RU2471888C2. Автор: Рональд Дж. МОЛЗ,Джеймс Франк ЛИЧ,Кристофер ВАССЕРМАН. Владелец: ЗУЛЬЦЕР МЕТКО (ЮЭс) ИНК.. Дата публикации: 2013-01-10.

Composition for plasma blood stabilizing, method of plasma pasteurization and use of the stabilized plasma in therapy

Номер патента: RU2112522C1. Автор: Бюрнуф Мириана. Владелец: Ассосьасьон Пур ЛЪЕссор де ля Трансфюзьон Сангин Дан ля Режьон дю Нор. Дата публикации: 1998-06-10.

Device and method of plasma gasification of a carbon-containing material and unit for generation of thermal/electric energy in which the device is used

Номер патента: RU2680135C1. Автор: Виктор Евгеньевич Попов,Юрий Николаевич Волков,Александр Николаевич Братцев,Дмитрий Игоревич СУББОТИН,Сергей Анатольевич АТРОХИН. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Научно-Производственная Фирма "Эко-Страна". Дата публикации: 2019-02-15.

Integration of plasma and hydrogen process with combined cycle power plant and steam reformers

Номер патента: CA2937867C. Автор: Peter L. Johnson,Robert J. Hanson,Roscoe W. Taylor. Владелец: Monolith Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Systems and methods for single needle continuous plasma processing

Номер патента: US20130284653A1. Автор: Kyungyoon Min,Christopher J. Wegener,Daniel R. Boggs,Benjamin E. KUSTERS,Prakash Mathew,Marc N. WEASLER. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2013-10-31.

Array of plasma sources and method for treating cell material

Номер патента: WO2022189615A1. Автор: Michael Fischer,Nam Gutzeit. Владелец: Eceramix GmbH. Дата публикации: 2022-09-15.

Array of plasma sources and method for treating cell material

Номер патента: EP4232550A1. Автор: Michael Fischer,Nam Gutzeit. Владелец: Eceramix GmbH. Дата публикации: 2023-08-30.

Array of plasma sources and method for treating cell material

Номер патента: US20240158731A1. Автор: Michael Fischer,Nam Gutzeit. Владелец: Eceramix GmbH. Дата публикации: 2024-05-16.

Appliance for performances measurement of plasma spectral lines in reactor-tokamak

Номер патента: RU2633517C1. Автор: Александр Александрович Медведев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт". Дата публикации: 2017-10-13.

Method for the fabrication of periodic structures on polymers using plasma processes

Номер патента: WO2009150479A1. Автор: Evangelos Gogolides,Angeliki Tserepi,Vassilios Constantoudis,Nikolaos Vourdas,Georgios Boulousis,Marie-Elena Vlachopoulou,Aikaterini Tsougeni,Dimitrios Kontziampasis. Владелец: National Center For Scientific Research ''demokritos''. Дата публикации: 2009-12-17.

Method for the fabrication of periodic structures on polymers using plasma processes

Номер патента: EP2300214A1. Автор: Evangelos Gogolides,Angeliki Tserepi,Vassilios Constantoudis,Nikolaos Vourdas,Georgios Boulousis,Marie-Elena Vlachopoulou,Aikaterini Tsougeni,Dimitrios Kontziampasis. Владелец: Gogolidis Evangelos. Дата публикации: 2011-03-30.

Method for the fabrication of periodic structures on polymers using plasma processes

Номер патента: WO2009150479A4. Автор: Evangelos Gogolides,Angeliki Tserepi,Vassilios Constantoudis,Nikolaos Vourdas,Georgios Boulousis,Marie-Elena Vlachopoulou,Aikaterini Tsougeni,Dimitrios Kontziampasis. Владелец: National Center For Scientific Research ''demokritos''. Дата публикации: 2010-03-04.

Protective Material, Lining, Edge Cover, and Packing Tape

Номер патента: US20090068906A1. Автор: Koji Kawano,Nobuyoshi Shimura. Владелец: Major Corp. Дата публикации: 2009-03-12.

Techniques for analyzing non-uniform curvatures and stresses in thin-film structures on substrates with non-local effects

Номер патента: WO2005119192A3. Автор: Yonggang Huang,Ares J Rosakis. Владелец: Ares J Rosakis. Дата публикации: 2006-08-03.

Systems and methods for optimization of plasma collection volumes

Номер патента: CA3099428C. Автор: Kyungyoon Min,Daniel R. Boggs,Amit J. Patel,Samantha M. PLANAS,Walter T. WATTS. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Chemical film on substrate and method of forming the same, method of forming paracyclophane containing functional ground with disulfide bond

Номер патента: US10246412B2. Автор: Chih-Yu Wu,Hsien-Yeh Chen,Zhen-Yu Guan. Владелец: May-Hwa Enterprise Corp. Дата публикации: 2019-04-02.

Method and Apparatus to Induce Detachment of Flagella Propelled Micro Organisms from Walls and to Countermeasure Their Ability to Swim Upstream

Номер патента: US20100076386A1. Автор: Guillermo Vidal-De-Miguel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-03-25.

Synthesis of plasma generating - chemical looping catalysts

Номер патента: US20230064758A1. Автор: Galip Akay. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-02.

Synthesis of plasma generating - chemical looping catalysts

Номер патента: WO2021145843A3. Автор: Galip Akay. Владелец: Galip Akay. Дата публикации: 2022-02-24.

Synthesis of plasma generating - chemical looping catalysts

Номер патента: WO2021145843A2. Автор: Galip Akay. Владелец: Galip Akay. Дата публикации: 2021-07-22.

Method of stretching the discharge of plasma in liquids

Номер патента: US09845250B2. Автор: Jun Kang. Владелец: Energy Onvector LLC. Дата публикации: 2017-12-19.

Method of manufacturing layered metal oxide particles and layered metal oxide particles formed thereof

Номер патента: US09738986B2. Автор: ZHONG Chen,Yuxin Tang,Zhili Dong. Владелец: NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY. Дата публикации: 2017-08-22.

Filtering unit for cyclone-type dust collecting apparatus of vacuum cleaner

Номер патента: RU2266034C2. Автор: Дзанг-кеун ОХ,Ил-ду ДЗУНГ. Владелец: Самсунг Гвангджу Электроникс Ко., Лтд.. Дата публикации: 2005-12-20.

Burning apparatus of a gas turbine unit

Номер патента: RU2771040C1. Автор: Акинори ХАЯСИ,Ясухиро ВАДА,Кадзуки АБЕ,Кеита НАИТО. Владелец: Мицубиси Пауэр, Лтд.. Дата публикации: 2022-04-25.

Apparatus to review clinical microbiology

Номер патента: US5795158A. Автор: Peter Warinner. Владелец: Warinner; Peter. Дата публикации: 1998-08-18.

Optical device with slab waveguide and channel waveguides on substrate

Номер патента: US20040151432A1. Автор: Kohei Shibata,Koji Terada,Haruhiko Tabuchi,Terukazu Naruse. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2004-08-05.

Methods and apparatus to eliminate partial-redundant vector loads

Номер патента: US20180011693A1. Автор: Philippe Thierry,Rakesh Krishnaiyer,Leonardo Jose Borges,Farhana Aleen Schuchman,David L. Kreitzer,Vyacheslav Pavlovich Zakharin,Sergey Preis. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-01-11.

Universal preparation method for in-situ growth of layered double hydroxide (ldh) layer on substrate surface

Номер патента: US20240083763A1. Автор: Feng Xing,Lei ZENG,Peiyu Chen,Shuxian Hong,Biqin Dong. Владелец: SHENZHEN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-03-14.

Techniques and functional electrical stimulation to eliminate discomfort during electrical stimulation of the retina

Номер патента: EP2364179A2. Автор: Robert J. Greenberg,Kelly H. Mcclure,Chunhong Zhou,Arup Roy,Matthew J. Mcmahon,Avraham I. Caspi. Владелец: Second Sight Medical Products Inc. Дата публикации: 2011-09-14.

String covering apparatus

Номер патента: EP2358229A1. Автор: Perry Jeter. Владелец: Jet Inc. Дата публикации: 2011-08-24.

Distinctive vehicle protective covering apparatus

Номер патента: WO2005012014A3. Автор: Joel H Foreman. Владелец: Joel H Foreman. Дата публикации: 2006-03-23.

Parallax correcting apparatus of a viewfinder

Номер патента: US20020181954A1. Автор: Kazuhiro Ichinokawa. Владелец: Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2002-12-05.

Methods of treating imbalance of plasma lipids level and fatty liver with m2c macrophages

Номер патента: US20220193126A1. Автор: Ko-Tung CHANG. Владелец: National Pingtung University of Science and Technology. Дата публикации: 2022-06-23.

Image-forming apparatus to control potential difference based on image-forming operation

Номер патента: US12124182B2. Автор: Shuhei Tokiwa,Toshihiko Takayama,Shuichi Tetsuno,Shunsuke Matsushita,Shimpei Ishikawa,Mikihiko Hamada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Method for using split-conjugated animal brucellosis vaccine as "provocateur" in order to eliminate latent brucellosis in sick animals

Номер патента: RU2735356C1. Автор: Степан Юрьевич Веселовский,Давуд Абдулсемедович Девришов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский государственный аграрный университет имени Н.И. Вавилова". Дата публикации: 2020-10-30.

Method for determining speed of plasma turbulent movement in mesosphere and bottom thermosphere

Номер патента: RU2638952C1. Автор: Наталия Владимировна Бахметьева,Ариадна Викторовна Толмачева. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского". Дата публикации: 2017-12-19.

Hydrophilic film and method for forming same on substrate

Номер патента: US6071606A. Автор: Kensuke Makita,Seiji Yamazaki,Takashi Seino,Yasuaki Kai,Satoko Sugawara. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2000-06-06.

Method for cryopreservation of plasma microvesicles

Номер патента: RU2746950C1. Автор: Дмитрий Игоревич Соколов,Ксения Львовна Маркова,Сергей Алексеевич Сельков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Научно-исследовательский институт акушерства, гинекологии и репродуктологии имени Д.О. Отта". Дата публикации: 2021-04-22.

Method and device to eliminate parasitic reflections in testing translucent hollow objects

Номер патента: RU2429466C2. Автор: Гийом БАТЕЛЕТ. Владелец: Тиама. Дата публикации: 2011-09-20.

Cellulose composition with ability to eliminate unpleasant odour

Номер патента: RU2729701C1. Автор: Питер М. ФРОАСС. Владелец: Интернэшнл Пэйпа Кампани. Дата публикации: 2020-08-11.

Method for performing a surgical approach to eliminate flexion contracture of two adjacent long fingers of the hand in dupuytren's disease

Номер патента: RU2761735C1. Автор: Любовь Анатольевна Родоманова,Хасан Кюриевич Идрисов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный медицинский исследовательский центр травматологии и ортопедии имени Р.Р. Вредена" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2021-12-13.

Method of obtaining metal nitrate on substrate

Номер патента: RU2516467C2. Автор: ЙОНГ Крийн Питер ДЕ,Мариска ВОЛТЕРС,Петер МЮННИК,Йоханнес Хендрик БИТТЕР,ЙОНГ Петра Элизабет ДЕ. Владелец: Джонсон Мэтти Плс. Дата публикации: 2014-05-20.

Method to eliminate shrinkage cavity in ingot being cast

Номер патента: RU2533221C1. Автор: Роберт Брюс ВАГСТАФФ,Тодд Ф. БИШОФФ,Марк АНДЕРСОН,Уэйн Дж. ФЕНТОН,Джеймс БОРМАН,Дэвид СИНДЕН,Джон Стивен ТИНГЕЙ. Владелец: Новелис Инк.. Дата публикации: 2014-11-20.

Device and method of atomic-layer deposition of coating on substrate surface

Номер патента: RU2704875C2. Автор: Тимо МАЛИНЕН. Владелец: Пикосан Ой. Дата публикации: 2019-10-31.

Para-tert-butyl-calix[6]arenes, containing three acid functional groups in positions 2, 4 and 3, liquid membranes deposited on substrate, substrate materials containing said membranes and use thereof

Номер патента: RU2422432C2. Автор: Рафаэль ДЮВАЛЬ,Катрин КОССОНЕ,Селин БУВЬЕ-КАПЕЛИ. Владелец: Энститю Де Радиопротексьон Э Де Сюрете Нюклеэр (И.Р.С.Н.). Дата публикации: 2011-06-27.

Method of fabricating electrode structures on substrate

Номер патента: US8470150B2. Автор: Kun-Mu Lee,Sz-Ping Fu,Wei-Hao Chiu,Chuan-Ya Hung. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2013-06-25.

Package for piece products on substrate

Номер патента: RU2684499C1. Автор: Олег Владимирович Луньков,Дмитрий Евгеньевич Сапронов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "АйКю-Пак". Дата публикации: 2019-04-09.

Vacuum-molded packaging of product placed on substrate into close-fitting film

Номер патента: RU2494935C1. Автор: Риккардо ПАЛУМБО,Джвано РИЗЗИ. Владелец: Криовак, Инк.. Дата публикации: 2013-10-10.

Method to eliminate exception condition in one of nuclei of multinuclear system

Номер патента: RU2437144C2. Автор: Хиаояианг ЯН,Йиангнинг ЛИ,Фанг ХУ. Владелец: Маипу Коммуникатион Течнологы Ко., Лтд.. Дата публикации: 2011-12-20.

Method for producing metallic planar elements on substrates

Номер патента: US5807456A. Автор: Wittich Kaule. Владелец: GAO Gesellschaft fuer Automation und Organisation mbH. Дата публикации: 1998-09-15.

Image processing apparatus and method of plasma display panel

Номер патента: US7633468B2. Автор: Seung Chan Baek. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2009-12-15.

Methods and devices for the separation of plasma or serum from whole blood, collection of plasma or serum, and reagent delivery system

Номер патента: AU5306290A. Автор: Tzyy-Wen Jeng,Gary M. Oosta,Gradimir G. Georgevich,Diane L. Aunet,Neil A. Seigel. Владелец: ABBOTT LABORATORIES. Дата публикации: 1990-10-11.

Liquid crystal display having IC driving circuits formed on first and second substrates

Номер патента: US5576868A. Автор: Seigo Togashi. Владелец: Citizen Watch Co Ltd. Дата публикации: 1996-11-19.

Information processing apparatus processing print setting, control method, and control program

Номер патента: US11782656B2. Автор: Kazuyuki Saito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Information processing apparatus processing print setting, control method, and control program

Номер патента: US20230359413A1. Автор: Kazuyuki Saito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Method for patterning substrate, method for forming microstructure on substrate, and method for fabricating fluidic device

Номер патента: EP4386484A1. Автор: Keishu TSUDA. Владелец: Craif Inc. Дата публикации: 2024-06-19.

A combination of plasma immunoglobulin and antigen-specific immunoglobulin for the modification of the immune system and the treatment or prevention of autoimmune diseases

Номер патента: EP3990016A1. Автор: Reginald M. Gorczynski,Geoffrey William Hoffmann. Владелец: NETWORK IMMUNOLOGY Inc. Дата публикации: 2022-05-04.

Balancer apparatus of engine

Номер патента: US20090064962A1. Автор: Hiroshi Ohsawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-12.

Linker rewriting to eliminate toc pointer references

Номер патента: US20180196801A1. Автор: Michael Karl Gschwind,Ulrich Weigand. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-07-12.

Radiation detector, method and apparatus of manufacturing the same, scintillator panel and method and apparatus of manufacturing the same

Номер патента: US20210190976A1. Автор: Hiroshi Horiuchi,Atsuya Yoshida. Владелец: Canon Electron Tubes and Devices Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Method and apparatus to maintain motion control during manual patient positioning

Номер патента: US8344679B2. Автор: John Hayes. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2013-01-01.

Method and apparatus to obtain service businesses to assist in solving a trouble

Номер патента: US20020178090A1. Автор: Henry Dahut. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-11-28.

Fabrication method and fabrication apparatus of head using near field light

Номер патента: US8323518B2. Автор: Manabu Oumi,Masakazu Hirata,Majung Park. Владелец: Seiko Instruments Inc. Дата публикации: 2012-12-04.

Methods and apparatus of processing transparent substrates

Номер патента: US12060297B2. Автор: Ludovic Godet,Yongan Xu,Chien-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-13.

Developing apparatus of electrophotographic printer

Номер патента: US20030129003A1. Автор: Yong-Baek Yoo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-07-10.

Apparatus of a combined ice cream cup and a connecting means, and method of connecting ice cream cups

Номер патента: US20110315679A1. Автор: Eran Sasson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-12-29.

Abrasive product coated with agglomerated particles formed in situ and method of making the same

Номер патента: US09586308B2. Автор: Alfredo BANUELOS,Dario ALARCON,Hector F. MEDEL,Octavio A. ROSTRO. Владелец: Fabrica Nacional De Lija SA de CV. Дата публикации: 2017-03-07.

Under cover apparatus of rear bumper multi-carrier

Номер патента: US09428117B2. Автор: Dong Eun Cha,Jin Young Yoon,Hyun Gyung KIM,Seung Mok Lee,Young Sub Oh,Bock Cheol Lee. Владелец: Hyundai Motor Co. Дата публикации: 2016-08-30.

Method of getting macroporous polymer composite material with magnetic nanoparticles to eliminate oil product spills from water surface

Номер патента: RU2680044C1. Автор: Вячеслав Александрович Щербаков,Марина Юрьевна Королева,Лайсан Ханифовна Хасанова,Сергей Александрович Широких,Сергей Игоревич Ракитин,Евгений Васильевич Юртов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д. И. Менделеева" (РХТУ им. Д. И. Менделеева). Дата публикации: 2019-02-14.

Method of plasma and acoustic processing of products

Номер патента: RU2675612C1. Автор: Алмаз Фивзатович Гайсин,Альберт Харисович Гильмутдинов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева-КАИ". Дата публикации: 2018-12-20.

Method of measuring the thickness of coating in the process of plasma-electrolytic oxidation

Номер патента: RU2668344C1. Автор: Евгений Владимирович Парфенов,Михаил Викторович Горбатков,Павел Валерьевич Тарасов,Вета Робертовна Мукаева,Рузиль Галиевич Фаррахов. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет". Дата публикации: 2018-09-28.

Borehole source of plasma impulse excitation

Номер патента: RU2612352C1. Автор: Петр Георгиевич Агеев,Евгений Иванович Головкин,Никита Петрович Агеев,Андрей Вадимович Бочкарев. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Новас Ск". Дата публикации: 2017-03-07.

Method of plasma spraying for coating cylinder block cylinder working surface of piston internal combustion engine

Номер патента: RU2723491C1. Автор: Клаус КЛИМЕК. Владелец: Фольксваген Акциенгезельшафт. Дата публикации: 2020-06-11.

Method and device for performing process of plasma-chemical deposition from vapor phase

Номер патента: RU2740066C2. Автор: Маттеус Якобус Николас ВАН СТРАЛЕН,Игор МИЛИСЕВИЧ,Гертьян КРАБСХЕЙС,Тон БРЕЛС. Владелец: Драка Комтек Б.В.. Дата публикации: 2020-12-31.

METALLIC LUSTRE PIGMENTS BASED ON SUBSTRATE FLAKES WITH A THICKNESS OF 1-50 nm

Номер патента: RU2658063C2. Автор: Адальберт ХУБЕР,Фабиан ПИХ,Кайман ШИМИЦУ. Владелец: Шленк Металлик Пигментс Гмбх. Дата публикации: 2018-06-19.

Printed substrate and method of printing on substrate

Номер патента: RU2768204C1. Автор: Дерек СМИТ,Джон ХЭМИЛТОН,Эндрю МАКВИТИ,Саманта ДЭВИС. Владелец: РИКОХ КОМПАНИ, ЛТД.. Дата публикации: 2022-03-23.

Nozzle apparatus of high-pressure turbines

Номер патента: RU2618990C2. Автор: Юрий Иосифович Зыкунов,Юрий Александрович Канахин,Вадим Васильевич Максимов. Владелец: Открытое акционерное общество "Уфимское моторостроительное производственное объединение" ОАО "УМПО". Дата публикации: 2017-05-11.

Method and device for determining local mechanical stress in film on substrate

Номер патента: RU2679760C1. Автор: Николай Алексеевич Дюжев,Евгений Эдуардович Гусев. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники". Дата публикации: 2019-02-12.

Device for applying coatings on substrates in vacuum

Номер патента: RU2634833C1. Автор: Валентин Константинович Гусев,Евгений Иванович Кожин,Анна Николаевна Афонина,Александр Анатольевич Батраков. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие федеральный научно-производственный центр "Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова". Дата публикации: 2017-11-03.

Deposition of film or coat on substrate

Номер патента: RU2211259C2. Автор: Вей БАЙ,Кванг-Леонг ЧОЙ. Владелец: Империал Колледж Оф Сайенс, Текнолоджи Энд Медисин. Дата публикации: 2003-08-27.

Acrylic polymers, cured film-forming compositions obtained therefrom and method for reducing accumulation of dirt on substrate

Номер патента: RU2655786C1. Автор: Ноэль Р. ВАНЬЕР,Деннис А. СИМПСОН,Шанти СВАРУП,Сянлин СЮЙ,Марк Е. ЭНДЛИШ. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2018-05-30.

Method and apparatus of processing video signal in plasma display panel

Номер патента: US20050007028A1. Автор: Byung Song. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2005-01-13.

Engine control with function to eliminate minute particles in exhaust gas

Номер патента: US4685290A. Автор: Akikazu Kojima,Yasuyuki Sakakibara,Sigeru Kamiya. Владелец: Nippon Soken Inc. Дата публикации: 1987-08-11.

Method of printing on substrate with jet printing

Номер патента: RU2736450C1. Автор: Рольф ШНАЙДЕР,Андреас ДЕБЕЛЬТ,Ян ШЁНЕФЕЛЬД,Михаель ДОРАН. Владелец: Ноушн Системз Гмбх. Дата публикации: 2020-11-17.

Process and reagent for determining the fibrinolytic state of plasma

Номер патента: CA1276097C. Автор: Knut Bartl,Helmut Lill. Владелец: Boehringer Mannheim GmbH. Дата публикации: 1990-11-13.

Method for purification of plasma proteins

Номер патента: US20220204555A1. Автор: Martin Hall,Mats Ander,Mikael Berg,Sandeep Kristiansson. Владелец: Cytiva Bioprocess R&D AB. Дата публикации: 2022-06-30.

Hydraulic valve with components formed to regulate and/or to eliminate the creation of severe electrokinetic streaming current, and its wall current and the method and criteria tobe followed in forming their metering edges which create the overall metering passageway

Номер патента: CA1052228A. Автор: David W. Kirkbride. Владелец: Individual. Дата публикации: 1979-04-10.

Systems and methods for optimization of plasma collection volumes

Номер патента: AU2023270336A1. Автор: Min Kyungyoon,J. Patel Amit,R. Boggs Daniel,M. Planas Samantha,T. WATTS Walter. Владелец: Fenwal Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Microfluidic device for obtaining a quantity of plasma and method of implementation

Номер патента: US20240081701A1. Автор: Erwan Vigneras,Maciej KALISZCZAK,Aymeric Vigneras. Владелец: Belmont Diagnostics. Дата публикации: 2024-03-14.

Safety apparatus of juice extraction module for juicer

Номер патента: US20150182065A1. Автор: Jong Boo Kim. Владелец: Nuc Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Method of forming and immobilizing metal nanoparticles on substrates and the use thereof

Номер патента: US20130319931A1. Автор: Hongjun Liu,Yining Liu,Ziyu Jin. Владелец: AGplus Technologies Pte Ltd. Дата публикации: 2013-12-05.

Image processing apparatus

Номер патента: WO2008123733A1. Автор: Nam Jung Her. Владелец: Samjung. Co., Ltd.. Дата публикации: 2008-10-16.

Method and apparatus of identifying disc types

Номер патента: US7577072B2. Автор: Cheol Jin. Владелец: Hitachi LG Data Storage Korea Inc. Дата публикации: 2009-08-18.

Method of programming a non-volatile memory cell to eliminate or to minimize program deceleration

Номер патента: US20050078526A1. Автор: Sang Nguyen,Hung Nguyen,Yuniarto Widjaja,Alexander Kotov,Tho Ngoc Dang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-04-14.

Combined cleaning apparatus for a sensor apparatus of a vehicle

Номер патента: US20240270211A1. Автор: Petr Novak. Владелец: Continental Automotive Technologies GmbH. Дата публикации: 2024-08-15.

Method and apparatus of training radiation image recognition model online, and method and apparatus of recognizing radiation image

Номер патента: NL2034690B1. Автор: Zhang Li,Chen Zhiqiang,WANG Shuo,SUN Yunda,ZHAO Ji,TANG Hu,Lei Lei,Zheng Ao. Владелец: Univ Tsinghua. Дата публикации: 2024-09-05.

Method and apparatus to form rip lines across a sloping surface

Номер патента: US11987950B2. Автор: David Hall,Lachlan YELDHAM. Владелец: Opti-Minez Pty Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Work area zone boundary demarcation apparatus of autonomously navigating work machine

Номер патента: US12112103B2. Автор: Hideaki Shimamura. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

High purity aluminum top coat on substrate

Номер патента: US09850591B2. Автор: Jennifer Y. Sun,Sumanth Banda. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Stretchable display apparatus and display control method and apparatus of the stretchable display apparatus

Номер патента: US09804699B2. Автор: Changho Hyun,Cheolwoo Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

X-ray diagnostic apparatus to identify a target in x-ray images

Номер патента: US09801602B2. Автор: Yoshinori Shimizu,Yuichiro Watanabe,Kunio Shiraishi,Yoshiaki Iijima,Ryoichi Nagae,Yasuto Hayatsu. Владелец: Toshiba Medical Systems Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Method for the production of conical nanostructures on substrate surfaces

Номер патента: US09469526B2. Автор: Joachim P. Spatz,Christoph Morhard,Claudia Pacholski. Владелец: Max Planck Gesellschaft zur Foerderung der Wissenschaften eV. Дата публикации: 2016-10-18.

Device to eliminate and/or prevent icing of aircraft wing leading edge

Номер патента: RU2489320C2. Автор: ДОКТ Тьерри ЛЕ,Ален ГИЙЕРМОН. Владелец: Эрсель. Дата публикации: 2013-08-10.

Studying and using contextual rules of extracting content to eliminate ambiguity of requests

Номер патента: RU2701110C2. Автор: Милад ШОКОУХИ,Пол БЕННЕТТ,Кевин КОЛЛИНЗ-ТОМПСОН,Сирануш САРКИЗОВА,Марк СЛОАН. Владелец: МАЙКРОСОФТ ТЕКНОЛОДЖИ ЛАЙСЕНСИНГ, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2019-09-24.

Solution of polyurethane-ureas and using thereof for application of coatings on substrates

Номер патента: RU2515955C2. Автор: Юрген КЕХЕР,Торстен РИШЕ,Томас ФЕЛЛЕР,Хольгер КАССЕЛЬМАНН,Юрген УРБАН. Владелец: Байер Матириальсайенс Аг. Дата публикации: 2014-05-20.

System to eliminate icing of turbine engine nose fairing inlet front edge

Номер патента: RU2380558C2. Автор: Ален ПОРТ,Мари-Люс ЗАНАРЕЛЛИ. Владелец: Эрбюс Франс. Дата публикации: 2010-01-27.

Mix of pigment scales oriented by magnetic field and not oriented by magnetic field and applied as coat on substrate

Номер патента: RU2553019C2. Автор: Владимир П. РАКША,Пол Г. КУМБЗ,Чарльз Т. МАРКАНТЕС,Майкл Р. НОУФИ. Владелец: Джей Ди Эс ЮНИФЕЙЗ КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2015-06-10.

Water-soluble compositions and compact methods of producing multicomponent compositions intended for applying composite coatings on substrates

Номер патента: RU2721136C1. Автор: Вэй Вэй,Дейвид Р. ФЕНН,Вэй Ван,Стивен Брайан ИСТИВАН,Чиньмин ХУЭЙ,Крейг Д. НИДЕРСТ,Вэньцин ЛЮ,Сяоцзе МЭН,Лимин СУН,Цзюань ВАН,Иэй СЕ,Хай Жун ХУАН. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2020-05-18.

Method of forming microchannels on substrates and device for its implementation

Номер патента: RU2709888C1. Автор: Виктор Павлович Бессмельцев,Сергей Геннадьевич Баев,Николай Владимирович Голошевский,Денис Николаевич Катасонов,Ярослав Андреевич Киприянов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт автоматики и электрометрии Сибирского отделения Российской академии наук (ИАиЭ СО РАН). Дата публикации: 2019-12-23.

Machine tool construction to eliminate effect of expansion in members

Номер патента: GB898634A. Автор: . Владелец: Cincinnati Milling Machine Co. Дата публикации: 1962-06-14.

Apparatus and process to eliminate diffusional limitations in a membrane biological reactor by pressure cycling

Номер патента: US4861483A. Автор: Michael L. Shuler,George S. Efthymiou. Владелец: Cornell Research Foundation Inc. Дата публикации: 1989-08-29.

Driving apparatus of plasma display panel

Номер патента: US7652641B2. Автор: Jin-Sung Kim,Tae-Seong Kim,Kyoung-ho Kang,Woo-Joon Chung,Seung-Hun Chae. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-26.

Processing of solid micron sized particles for rapid deposition on substrate surfaces with uniform particle distribution

Номер патента: EP3439786A1. Автор: Thomas Fischer,Robert Furstenberg,Chris Kendziora,Michael Papantonakis,Viet K. Nguyen,A. Andrew MCGILL. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2019-02-13.

Method for processing of sewage sludge using pyrolysis to eliminate PFAS and other undesirable materials

Номер патента: US11795090B1. Автор: Eric Myers,James W. Ecker,Lindsay D'Anna. Владелец: WM Intellectual Property Holdings LLC. Дата публикации: 2023-10-24.

Method and apparatus to correct for active write length and bow changes in LED print bars

Номер патента: US5973718A. Автор: James D. Rees,Stephen C. Corona,Robert H. Melino,George A. Charnitski. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1999-10-26.

Processing of solid micron sized particles for rapid deposition on substrate surfaces with uniform particle distribution

Номер патента: US20190360900A1. Автор: Thomas Fischer,R. Andrew McGill,Robert Furstenberg,Chris Kendziora,Michael Papantonakis,Viet K. Nguyen. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2019-11-28.

Methods and apparatus to encrypt media for identification

Номер патента: WO2021216773A1. Автор: Venkadachalam Ramalingam. Владелец: The Nielsen Company (US), LLC. Дата публикации: 2021-10-28.

Methods and apparatus to encrypt media for identification

Номер патента: US11841955B2. Автор: Venkadachalam Ramalingam. Владелец: Nielsen Co US LLC. Дата публикации: 2023-12-12.

Techniques for analyzing non-uniform curvatures and stresses in thin-film structures on substrates with non-local effects

Номер патента: WO2005119192A2. Автор: Yonggang Huang,Ares J. Rosakis. Владелец: California Institute of Technology. Дата публикации: 2005-12-15.

Chemical film on substrate and method of forming the same, method of forming paracyclophane containing functional ground with disulfide bond

Номер патента: US20170166520A1. Автор: Chih-Yu Wu,Hsien-Yeh Chen,Zhen-Yu Guan. Владелец: May-Hwa Enterprise Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

A curved rainwater collecting apparatus for horizontal water tanks and apparatus to fix this apparatus to the horizontal water tank

Номер патента: WO2022225475A1. Автор: Zekeriya GÜMÜŞHAN. Владелец: Guemueshan Zekeriya. Дата публикации: 2022-10-27.

Driving method and apparatus of plasma display panel

Номер патента: US20080170000A1. Автор: Byeongseon MIN. Владелец: Samsung SDI Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-17.

Sound control apparatus of image forming apparatus

Номер патента: US20090010446A1. Автор: Yoshimitsu Nakane. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-01-08.

Polycyclic inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: US20240199613A1. Автор: Nikolaos PAPAIOANNOU,Jeremy Mark Travins,Sarah Jocelyn FINK,John Mark Ellard,Alastair Rae,Stuart Shane RANKIN,Robert Staurt Laurie CHAPMAN. Владелец: Takeda Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Heteroaryl inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: US20240228488A1. Автор: Nikolaos PAPAIOANNOU,Jeremy Mark Travins,Sarah Jocelyn FINK,John Mark Ellard,Alastair Rae,Jonathan Andrew SPENCER,Stuart Shane RANKIN,Robert Staurt Laurie CHAPMAN. Владелец: Takeda Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Process to eliminate the pneumophila legionella from water systems

Номер патента: WO2003070646A1. Автор: Fulvio Burzio,Paola Toniolo. Владелец: SOLVAY SOLEXIS S.P.A.. Дата публикации: 2003-08-28.

Fuel injection control system designed to eliminate overlap between multiple fuel injection events

Номер патента: EP1835161A3. Автор: Mitsuru Denso Corp. Watanabe. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2008-10-01.

Oxygen supplying apparatus of a melting furnace

Номер патента: US20130068420A1. Автор: Tae Won Hwang,Hyun Je Cho,Deuk Man Kim,Seok Mo Choi,Cheon Woo Kim. Владелец: Korea Hydro and Nuclear Power Co Ltd. Дата публикации: 2013-03-21.

Fabrication method and fabrication apparatus of head using near field light

Номер патента: US20090208641A1. Автор: Manabu Oumi,Majung Park,Masakazu Harata. Владелец: Seiko Instruments Inc. Дата публикации: 2009-08-20.

Method for producing a ceramic coating on the surface of an aluminum alloy substrate by means of plasma electrolytic oxidation

Номер патента: EP4232619A1. Автор: Guido Perricone,Gianmarco GIORDANO,Sofia AFONSO ALVES,Patricia FERNÁNDEZ LÓPEZ,Raquel BAYÓN GONZÁLEZ. Владелец: Brembo SpA. Дата публикации: 2023-08-30.

Method for producing a ceramic coating on the surface of an aluminum alloy substrate by means of plasma electrolytic oxidation

Номер патента: WO2022084897A1. Автор: Guido Perricone,Gianmarco GIORDANO,Sofia AFONSO ALVES,Patricia FERNÁNDEZ LÓPEZ,Raquel BAYÓN GONZÁLEZ. Владелец: BREMBO S.p.A.. Дата публикации: 2022-04-28.

Inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: US20240226106A1. Автор: Nikolaos PAPAIOANNOU,Jeremy Mark Travins,Sarah Jocelyn FINK,John Mark Ellard,Alastair Rae. Владелец: SHIRE HUMAN GENETIC THERAPIES, INC.. Дата публикации: 2024-07-11.

Medium processing apparatus

Номер патента: US20160307389A1. Автор: Chang Ho Park,Jae Hoon Kwak,Jin Hwan Cha,Jin Yong HWANG. Владелец: Nautilus Hyosung Inc. Дата публикации: 2016-10-20.

Method and apparatus of developing electrophotographic master plate for printing

Номер патента: US6251552B1. Автор: Takao Nakayama,Chiaki Kawamoto. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2001-06-26.

Training an artificial intelligence engine for real-time monitoring to eliminate false positives

Номер патента: US12056231B2. Автор: David Wright,David Pham,Kenneth William Cluff,Adam Thomas Lewis. Владелец: Truist Bank. Дата публикации: 2024-08-06.

Methods and apparatus of maintenance scheduling in automated testing over a planning period

Номер патента: EP4004831A1. Автор: Yue Zhang,Jeffrey Hoffman,Michael Heydlauf,Sandeep M. Naik,Ahmet TUYSUZOGLU,Luxi ZHENG. Владелец: Siemens Healthcare Diagnostics Inc. Дата публикации: 2022-06-01.

Liquid lithium first walls for electromagnetic control of plasmas in fusion power reactor environments

Номер патента: EP2600350A3. Автор: Thomas Lyman Weaver. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2016-03-23.

Computer-readable recording medium storing image processing program, image processing apparatus, and image processing method

Номер патента: US20240273854A1. Автор: FAN YANG. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Method for dissipating heat on address electrode drive chips of plasma display panel

Номер патента: US20020142694A1. Автор: Kuang-Lang Chen,Yao-Hung Lai. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2002-10-03.

Methods of leveling ink on substrates and apparatuses useful in printing

Номер патента: US20110261127A1. Автор: Gregory J. Kovacs,Steven E. Ready,David K. Biegelsen,Christopher Paulson,Lars E. Swartz. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2011-10-27.

Process to prepare a substance to eliminate the bacteria known as helicobacter pylori

Номер патента: US20060045921A1. Автор: Eugenio Richer-Santos. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-03-02.

Use of plasma membrane calcium atpase (pmca) inhibitors for inhibiting sperm mobility

Номер патента: US20060276529A1. Автор: Ludwig Neyses. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-07.

Methods of leveling ink on substrates and apparatuses useful in printing

Номер патента: US20140020624A1. Автор: Steven E. Ready,David K. Biegelsen,Christopher Paulson,Lars E. Swartz,Gregory K. KOVACS. Владелец: Palo Alto Research Center Inc. Дата публикации: 2014-01-23.

Use of plasma membrane calcium atpase (pmca) inhibitors to inhibit sperm mobility

Номер патента: US20120027815A1. Автор: Ludwig Neyses. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2012-02-02.

Process to prepare a substance to eliminate the bacteria known as Helicobacter pylori

Номер патента: US7045156B2. Автор: Eugenio Guillermo Richer-Santos. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-05-16.

Drive circuit of plasma display panel unit

Номер патента: EP1276095A3. Автор: Shigeo c/o Shizuoka Pioneer Corporation Ide,Kenichi c/o Shizuoka Pioneer Corp. Kobayashi. Владелец: Pioneer Display Products Corp. Дата публикации: 2004-10-20.

Training an artificial intelligence engine for real-time monitoring to eliminate false positives

Номер патента: US20240354397A1. Автор: David Wright,David Pham,Kenneth William Cluff,Adam Thomas Lewis. Владелец: Truist Bank. Дата публикации: 2024-10-24.

Manufacturing method of cover material fastening member and manufacturing apparatus of cover material fastening member

Номер патента: US12103207B2. Автор: Atsushi Nakaya,Wanli Zhang,Hikaru Okuyama,Seiichiro Yonezawa. Владелец: YKK Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Simulation method, simulation program, processing apparatus, simulator, and design method

Номер патента: US09881107B2. Автор: Takashi Kinoshita,Nobuyuki Kuboi. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Liquid lithium first walls for electromagnetic control of plasmas in fusion power reactor environments

Номер патента: US09633751B2. Автор: Thomas Lyman Weaver. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-04-25.

Process and apparatus of mixing a fluid within a vessel

Номер патента: US09446358B2. Автор: Daniel C. Coy. Владелец: BP Corp North America Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Roll-type cvd reactor for synthesising graphene coatings on substrates in the form of a wide strip

Номер патента: RU2760676C1. Автор: Дмитрий Владимирович Смовж,Павел Евгеньевич Маточкин,Иван Андреевич Безруков,Александр Сергеевич Кривенко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью «ЭПОС-Инжиниринг». Дата публикации: 2021-11-29.

Coat applicator intended for application of fluid film on substrate

Номер патента: RU2498866C2. Автор: Франц ДАРСТ,БЮЛЕНТ Юнсал. Владелец: Фмп Текнолоджи Гмбх Флуайд Межерментс & Проджектс. Дата публикации: 2013-11-20.

Improved device for cold gas-dynamic spraying and method of coating on substrate

Номер патента: RU2744008C1. Автор: Навеен Манхар СХАВАН,Соримутху Кумар ПИЛЛАЙ,Судхарсхан Пхани ПАРДХАСАРАДХИ,Сриниваса Рао ДАМЕРАСХАРЛА. Владелец: Интернэшнл Эдвансд Рисерч Сентер Фо Паудер Металерджи Энд Нью Материалз (Арси). Дата публикации: 2021-03-01.

Optical pick-up head apparatus wherein hollographic optical element and photodetector are formed on semiconductor substrate

Номер патента: US5293038A. Автор: Seiji Nishino,Shinichi Kadowaki,Yoshiaki Komma. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1994-03-08.

Metal powder for thermal application of coats on substrates

Номер патента: RU2280708C2. Автор: Ульф ХОЛЬМКВИСТ,Ханс ХАЛЛЕН. Владелец: Хеганес Аб. Дата публикации: 2006-07-27.

Yeast strains for production of biomass on substrate comprising c5 sugar and use thereof

Номер патента: RU2656138C2. Автор: Тома ДЕФУЖЕР,Жорж ПИНЕД. Владелец: Лезафр Э Компани. Дата публикации: 2018-05-31.

Use of plasma to immobilize protein on polymeric surfaces

Номер патента: US5171779A. Автор: Tien-Tsai Hsu,Mann-Tchao Wang,Kuang-Pin Hsiung,Ging H. Hsiue,Min-Shyan Sheu. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 1992-12-15.

Prodrugs of inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: AU2010330743A1. Автор: Sukanto Sinha,Tamie Jo Chilcote. Владелец: Activesite Pharmaceuticals Inc. Дата публикации: 2012-07-05.

Therapeutic agent for diseases in which neoplastic proliferation of plasma cells occurs

Номер патента: CA2757941C. Автор: Haruo Sugiyama,Naoki Hosen. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2016-02-23.

Treatment of plasma

Номер патента: CA1277597C. Автор: Albert D. Friesen. Владелец: WINNIPEG RH INSTITUTE Inc (THE). Дата публикации: 1990-12-11.

Prodrugs of inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: CA2783801A1. Автор: Sukanto Sinha,Tamie Jo Chilcote. Владелец: Activesite Pharmaceuticals Inc. Дата публикации: 2011-06-23.

Heparinization of plasma treated substrates

Номер патента: CA1215676A. Автор: James P. O'connell,Joel L. Williams,Terry S. Dunn,David Montgomery. Владелец: Becton Dickinson and Co. Дата публикации: 1986-12-23.

A combination of plasma immunoglobulin and antigen-specific immunoglobulin for the modification of the immune system and the treatment or prevention of allergic diseases

Номер патента: US20200353081A1. Автор: Reginald M. Gorczynski,Geoffrey William Hoffmann. Владелец: NETWORK IMMUNOLOGY Inc. Дата публикации: 2020-11-12.

Use of notch pathway interfering agents for treatment of plasma cell disorders

Номер патента: WO2005054434A3. Автор: Lionel J Coignet. Владелец: Lionel J Coignet. Дата публикации: 2006-09-28.

Use of notch pathway interfering agents for treatment of plasma cell disorders

Номер патента: EP1709150A2. Автор: Lionel J. Coignet. Владелец: Health Research Inc. Дата публикации: 2006-10-11.

Marker consisting of plasma microrna and a new method for diagnosis of hepatocellular carcinoma

Номер патента: US20230295733A1. Автор: Lei Yu,Zheng Wang,Jia Fan,Jian Zhou,Jie Hu,Zhi DAI. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-21.

Marker consisting of plasma microrna and new method for diagnosis of hepatocellular carcinoma

Номер патента: EP2596136A1. Автор: Lei Yu,Zheng Wang,Jia Fan,Jian Zhou,Jie Hu,Zhi DAI. Владелец: Zhongshan Hospital Fudan University. Дата публикации: 2013-05-29.

A combination of plasma immunoglobulin and antigen- specific immunoglobulin for the modification of the immune system and the treatment or prevention of allergic diseases

Номер патента: WO2019134047A1. Автор: Reginald M. Gorczynski,Geoffrey William Hoffmann. Владелец: Network Immunology Inc.. Дата публикации: 2019-07-11.

A combination of plasma immunoglobulin and antigen-specific immunoglobulin for the modification of the immune system and the treatment or prevention of autoimmune diseases

Номер патента: WO2020257943A1. Автор: Reginald M. Gorczynski,Geoffrey William Hoffmann. Владелец: Network Immunology Inc.. Дата публикации: 2020-12-30.

A combination of plasma immunoglobulin and antigen- specific immunoglobulin for the modification of the immune system and the treatment or prevention of allergic diseases

Номер патента: EP3735273A1. Автор: Reginald M. Gorczynski,Geoffrey William Hoffmann. Владелец: NETWORK IMMUNOLOGY Inc. Дата публикации: 2020-11-11.

A combination of plasma immunoglobulin and antigen- specific immunoglobulin for the modification of the immune system and the treatment or prevention of allergic diseases

Номер патента: CA3086860A1. Автор: Reginald M. Gorczynski,Geoffrey William Hoffmann. Владелец: NETWORK IMMUNOLOGY Inc. Дата публикации: 2019-07-11.

Photochemical process to eliminate lead in gasoline with a high octane number

Номер патента: US4643810A. Автор: Carlo Randaccio. Владелец: VITTORIO SPADA EDIFICIO EUROCISA. Дата публикации: 1987-02-17.

Device and Method of Plasma Polishing Stainless Steel Wire

Номер патента: US20190062941A1. Автор: Kuang-Te Liu,Chun-Jen Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-02-28.

Probe card for a testing apparatus of electronic devices

Номер патента: WO2024132831A1. Автор: Flavio Maggioni. Владелец: TECHNOPROBE S.P.A.. Дата публикации: 2024-06-27.

Robot system, control apparatus of robot system, control method of robot system, imaging apparatus, and storage medium

Номер патента: US20240269857A1. Автор: Yasuharu Maeda,Manabu Takayama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Manufacturing Method Of Cap And Manufacturing Apparatus Of Cap

Номер патента: US20190248090A1. Автор: Kenji Takagi,Takashi Kawada,Eiji Araki,Junji Matsumura,Eiji Fujishige. Владелец: Daiwa Can Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-15.

Developing apparatus of electric photographic printer

Номер патента: US20030099482A1. Автор: Jeong-jai Choi,Chung-Guk Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-05-29.

Method of detecting impurities in high temperature aqueous solution and apparatus of detecting impurities for the same

Номер патента: US8643377B2. Автор: Jei-Won Yeon,Kyuseok Song,Jaesik Hwang,Myung Hee Yun. Владелец: Korea Atomic Energy Research Institute KAERI. Дата публикации: 2014-02-04.

Method of detecting impurities in high temperature aqueous solution and apparatus of detecting impurities for the same

Номер патента: US20120081133A1. Автор: Jei-Won Yeon,Kyuseok Song,Jaesik Hwang,Myung Hee Yun. Владелец: Korea Atomic Energy Research Institute KAERI. Дата публикации: 2012-04-05.

Systems and methods for automatic deployment of self-inflatable vehicle covering apparatus

Номер патента: US12049125B1. Автор: Manfred Amann,Andre Rene Buentello,Gregory David Hansen. Владелец: United Services Automobile Association USAA. Дата публикации: 2024-07-30.

Selective sonication-assisted deposition method of inorganic particles and CHA zeolite membranes grown from seeded layers on substrates using the method and plate-like Si-CHA zeolite particles used for seed layer formation and manufacturing method of the same

Номер патента: US09981852B2. Автор: Jungkyu Choi,Eunjoo Kim,Wanxi CAI. Владелец: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION. Дата публикации: 2018-05-29.

Method and apparatus of producing and utilizing thermal energy in a combined heat and power plant

Номер патента: US09476325B2. Автор: Krishna Moorthy PALANISAMY. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-10-25.

Apparatus and method of composing web document and apparatus of setting web document arrangement

Номер патента: US09465886B2. Автор: Chang-kyu Choi,Young-hun Sung,Sang-Ryong Kim,Yeun-bae Kim,Seong-Woon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-10-11.

Increased ratio of melt indexes for polymer by loading catalyst on substrate saturated by selected liquid agent

Номер патента: RU2645216C2. Автор: Даниел П. ЗИЛКЕР,Ф. Дейвид ХУССЕЙН,Кевин Дж. КЭНН. Владелец: Юнивейшн Текнолоджиз, Ллк. Дата публикации: 2018-02-19.

Method to deposit several layers of coating on substrate

Номер патента: RU2453379C2. Автор: Ричард Дж. Седвари,Деннис А. СИМПСОН. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2012-06-20.

Method and device for application of solid materials in form of particles on substrate

Номер патента: RU2374006C2. Автор: . Владелец: Кронотек Аг. Дата публикации: 2009-11-27.

Method to eliminate facial muscles paralysis

Номер патента: RU2740272C1. Автор: Александр Иванович Неробеев,Камиль Саламович Салихов,Михаил Николаевич Большаков,Рамазан Алиевич Ижаев,Альбина Романовна Долова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный медицинский исследовательский центр стоматологии и челюстно-лицевой хирургии" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2021-01-12.

Ice formation on substrate suppression method

Номер патента: RU2656605C2. Автор: Эдвард Ф. РАКИЕВИЧ,Скотт Дж. МОРАВЕК,Давина Дж. ШВАРТЦМИЛЛЕР,Гуанлян ТАН,Майкл А. ЗАЛИЧ,Брюс А. КОННЕЛЛИ,Тодд М. РОУПЕР. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2018-06-06.

Foamed coating composition and method of depositing coating on substrate using such coating composition

Номер патента: RU2693137C1. Автор: Антони СТЁЙВЕР,Ребекка КРЕЙТ,НИППЕР Патрик ГРОСЗЕ. Владелец: Акцо Нобель Коатингс Интернэшнл Б.В.. Дата публикации: 2019-07-01.

Method of obtaining thin glass-like coating on substrates in order to lower gas-permeability

Номер патента: RU2415170C2. Автор: Штефан БРАНД,Андреас ДИРДОРФ,Хуберт ЛИБЕ,Франк ОСТЕРОД,Сандра СТОЯНОВИЧ,Лутц ПРАГЕР,Райнер МЕНЕРТ,Михаель Р. БУХМАЙЗЕР. Владелец: Клариант Финанс (Бви) Лимитед. Дата публикации: 2011-03-27.

Method and device for forming microchannels on substrates from optical glass, optical crystals and semiconductor materials by femtosecond impulses of laser radiation

Номер патента: RU2661165C1. Автор: Виктор Павлович Бессмельцев,Николай Юрьевич Никаноров,Василий Андреевич Рассохин,Сергей Геннадьевич Баев,Николай Владимирович Голошевский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт автоматики и электрометрии Сибирского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2018-07-12.

Method of making and installing individual implant for orthopaedic prosthetics and method of using individual implant to eliminate defects in oral cavity

Номер патента: RU2717605C1. Автор: Георгий Михайлович Берберов. Владелец: Георгий Михайлович Берберов. Дата публикации: 2020-03-24.

Device for vacuum application of coating and method of coating application on substrate

Номер патента: RU2741042C1. Автор: Эрик СИЛЬБЕРБЕРГ,Сержио ПАС,Реми БОННЕМАН,Бруно ШМИЦ,Дидье МАРНЕФФЕ. Владелец: Арселормиттал. Дата публикации: 2021-01-22.

Application of plasma-treated silicone oil as coatings in medical injection device

Номер патента: RU2621843C2. Автор: Себастьян ЖАНВЬЕР,Паоло МАНДЖИАГАЛЛИ,Себастьян ЖУФФРЕЙ,Седрик ФУШЕР,Ив АНФУ. Владелец: Бектон Дикинсон Франс. Дата публикации: 2017-06-07.

Method of growing green fodder mass on substrate

Номер патента: RU2535739C1. Автор: Михаил Леонидович Гордиевских,Елена Ивановна Столбовая. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Челябинская государственная агроинженерная академия". Дата публикации: 2014-12-20.

Diagnosis of chronic kidney disease by quantitative analysis of post-translational modifications of plasma proteins

Номер патента: EP2933640A1. Автор: Horst-Dieter Lemke. Владелец: Excorlab GmbH. Дата публикации: 2015-10-21.

Making of microstructure on substrate

Номер патента: RU2555663C2. Автор: ХАЙМ Манфред,ФУЗЕ Кристиан,РАМ Михаэль,РАУХ Андреас,ШИНАБЕК Йозеф,Бурхард Теодор,ХОФФМЮЛЛЕР Винфрид. Владелец: Гизеке Унд Девриент Гмбх. Дата публикации: 2015-07-10.

Mobile complex for gas plasma processing of metal

Номер патента: RU2677039C1. Автор: Андрей Александрович Колесников,Станислав Владимирович Адаменко,Евгений Александрович Дасис,Руслан Леонидович Губар. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Газпром трансгаз Ухта". Дата публикации: 2019-01-15.

Diaper to eliminate bed sores

Номер патента: US6146368A. Автор: Lynn LaPointe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2000-11-14.

Method and apparatus of wrapping for annular goods

Номер патента: US3750364A. Автор: I Miura. Владелец: Individual. Дата публикации: 1973-08-07.

Use of plasma proteins concentrates containing vwf with a high proportion of high molecular weight multimers

Номер патента: CA2506218C. Автор: Hans-Peter Hauser,Olaf Walter. Владелец: CSL Behring GmbH Deutschland. Дата публикации: 2013-06-25.

Heat treatment of plasma fractions

Номер патента: CA1238580A. Автор: Charles M. Heldebrant. Владелец: Alpha Therapeutic Corp. Дата публикации: 1988-06-28.

Use of one or more natural or modified oxygen carriers, devoid of plasma and cellular membrane constiuents, for externally treating open, in particular chronic wounds

Номер патента: US20050129747A1. Автор: Wolfgang Barnikol,Alexander Teslenko. Владелец: Sanguibiotech Gmbh. Дата публикации: 2005-06-16.

Sensor top hat cover apparatus and method

Номер патента: EP1664702A2. Автор: James D. Cook,Brian J. Marsh,Kenneth E. Gall,Richard L. Dale. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2006-06-07.

An antibody that binds cd269 (bcma) suitable for use in the treatment of plasma cell diseases such as multiple myeloma and autoimmune diseases

Номер патента: CA2889764A1. Автор: Gerd Müller,Martin Lipp,Felix ODEN,Uta HÖPKEN,Oliver DAUMKE,Stephen MARINO,Daniel OLAL. Владелец: Max Delbrueck Centrum fuer Molekulare in der Helmholtz Gemeinschaft. Дата публикации: 2014-05-08.

Method and apparatus for measuring thickness of paint layers on substrates using backscattering of x-rays

Номер патента: US5862199A. Автор: Innes K. Mackenzie. Владелец: UNIVERSITY OF GUELPH. Дата публикации: 1999-01-19.

Information processing apparatus, print setting method, and storage medium

Номер патента: US20090180140A1. Автор: Nobuhiro Kawamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-07-16.

Method and apparatus for measuring thickness of coating layers on substrates using backscattering of x-rays and gamma rays

Номер патента: CA2296634C. Автор: Innes K. Mackenzie. Владелец: UNIVERSITY OF GUELPH. Дата публикации: 2008-12-30.

Method to prevent backside growth on substrates in a vapor deposition system

Номер патента: CA2023278C. Автор: Jitendra S. Goela,Raymond L. Taylor,Roy D. Jaworski. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1993-08-31.

Method to eliminate the play between chocks and relative support blocks in four-high rolling stands and relative device

Номер патента: WO1999033587A1. Автор: Estore Donini,Giacinto Dal Pan. Владелец: DANIELI & C. OFFICINE MECCANICHE S.P.A.. Дата публикации: 1999-07-08.

Compact beam re-tracing optics to eliminate beam walk-off in an interferometer

Номер патента: US20030197870A1. Автор: Greg Felix,Kerry Bagwell,John Bockman. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2003-10-23.

Substituted imidazopyridines as inhibitors of plasma kallikrein and uses thereof

Номер патента: AU2019234670B2. Автор: Nikolaos PAPAIOANNOU,Jeremy Mark Travins,Sarah Jocelyn FINK,John Mark Ellard,Alastair Rae,Thomas Allen Miller,David Edward Ehmann,Gerald Wayne SHIPPS Jr.. Владелец: Takeda Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Imidazopyridinyl inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: EP4308227A1. Автор: Nikolaos PAPAIOANNOU,Jeremy Mark Travins,Sarah Jocelyn FINK,John Mark Ellard,Alastair Rae. Владелец: Takeda Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Heteroaryl inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: EP4308230A1. Автор: Nikolaos PAPAIOANNOU,Jeremy Mark Travins,Sarah Jocelyn FINK,John Mark Ellard,Alastair Rae,Robert Stuart Laurie CHAPMAN,Jonathan Andrew SPENCER,Stuart Shane RANKIN. Владелец: Takeda Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Polycyclic inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: EP4308564A1. Автор: Nikolaos PAPAIOANNOU,Jeremy Mark Travins,Sarah Jocelyn FINK,John Mark Ellard,Alastair Rae,Robert Stuart Laurie CHAPMAN,Stuart Shane RANKIN. Владелец: Takeda Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: WO2024025907A1. Автор: Jeffrey Francis BREIT,Ian William David YATES. Владелец: Rezolute, Inc.. Дата публикации: 2024-02-01.

Methods, systems, and apparatus for inkjet printing self-assembled monoloayer (sam) structures on substrates

Номер патента: US20230356540A1. Автор: Erica Chen,Yingdong Luo,Ludovic Godet,Kang LUO,Rami HOURANI,Xiaopei Deng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Liquid lithium first walls for electromagnetic control of plasmas in fusion power reactor environments

Номер патента: US20170221589A1. Автор: Thomas Lyman Weaver. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-08-03.

Information processing apparatus, control method for information processing apparatus, image forming system, and non-transitory computer-readable storage medium for detection of malfunction of conveying device that conveys medium to print engine of image forming apparatus and correction of amount of conveyance performed by the conveying device based on the detection

Номер патента: US11776111B2. Автор: Takahiro Koyama. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Methods and kits for determining the efficiency of plasma separation from whole blood

Номер патента: US20240002923A1. Автор: Adam Wasserstrom,Danny Frumkin,Revital KNIRSH. Владелец: Nucleix Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Training an artificial intelligence engine for real-time monitoring to eliminate false positives

Номер патента: US20230351009A1. Автор: David Wright,David Pham,Kenneth William Cluff,Adam Thomas Lewis. Владелец: Truist Bank. Дата публикации: 2023-11-02.

A laser system configured to eliminate systematic error in perform a cataract produced

Номер патента: EP4223264A1. Автор: Rudolph W. Frey. Владелец: Lensar Inc. Дата публикации: 2023-08-09.

Method for forming patterns on substrates and articles manufactured by the same

Номер патента: US8911876B2. Автор: Quan Zhou,Xin-Wu Guan,Po-Feng Ho. Владелец: Fih Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2014-12-16.

Method for forming patterns on substrates and articles manufactured by the same

Номер патента: US20130248057A1. Автор: Quan Zhou,Xin-Wu Guan,Po-Feng Ho. Владелец: Fih Hong Kong Ltd. Дата публикации: 2013-09-26.

Method for producing a ceramic coating on the surface of an aluminum alloy substrate by means of plasma electrolytic oxidation

Номер патента: US20230392277A1. Автор: Guido Perricone,Gianmarco GIORDANO,Sofia AFONSO ALVES,Patricia FERNÁNDEZ LÓPEZ,Raquel BAYÓN GONZÁLEZ. Владелец: Brembo SpA. Дата публикации: 2023-12-07.

Heteroaryl inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: AU2022240596A1. Автор: Nikolaos PAPAIOANNOU,Jeremy Mark Travins,Sarah Jocelyn FINK,John Mark Ellard,Alastair Rae,Robert Stuart Laurie CHAPMAN,Jonathan Andrew SPENCER,Stuart Shane RANKIN. Владелец: Takeda Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

An antibody that binds cd269 (bcma) suitable for use in the treatment of plasma cell diseases such as multiple myeloma and autoimmune diseases

Номер патента: CA2889764C. Автор: Gerd Müller,Martin Lipp,Felix ODEN,Uta HÖPKEN,Oliver DAUMKE,Stephen MARINO,Daniel OLAL. Владелец: Max Delbrueck Centrum fuer Molekulare in der Helmholtz Gemeinschaft. Дата публикации: 2023-10-10.

Inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: US20100130563A1. Автор: Sukanto Sinha,Tamie Jo Chilcote. Владелец: Activesite Pharmaceuticals Inc. Дата публикации: 2010-05-27.

Inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: US7977380B2. Автор: Sukanto Sinha,Tamie Jo Chilcote. Владелец: Activesite Pharmaceuticals Inc. Дата публикации: 2011-07-12.

Inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: US8258170B2. Автор: Sukanto Sinha,Tamie Jo Chilcote. Владелец: Activesite Pharmaceuticals Inc. Дата публикации: 2012-09-04.

Inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: EP4308229A1. Автор: Nikolaos PAPAIOANNOU,Jeremy Mark Travins,Sarah Jocelyn FINK,John Mark Ellard,Alastair Rae. Владелец: Takeda Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Hemostasis clip two stage deployment mechanism to eliminate shed parts

Номер патента: AU2023200157B2. Автор: Joseph W. King,Laurie A. LEHTINEN,Daniel CONGDON. Владелец: Boston Scientific Scimed Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Methods, systems, and apparatus for inkjet printing self- assembled monoloayer (sam) structures on substrates

Номер патента: WO2023215299A1. Автор: Erica Chen,Yingdong Luo,Ludovic Godet,Kang LUO,Rami HOURANI,Xiaopei Deng. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-09.

Systems and methods to eliminate noise from imaging data

Номер патента: US20240038368A1. Автор: Santosh Kumar,Ramesh Venkatesan,Harsh Agarwal,Ravi Jaiswal. Владелец: GE Precision Healthcare LLC. Дата публикации: 2024-02-01.

Therapeutical agent useful for the treatment of plasma cell neoplasias

Номер патента: US20090203939A1. Автор: Rosa Gobbi. Владелец: Bion Est Ltd. Дата публикации: 2009-08-13.

Therapeutical agent useful for the treatment of plasma cell neoplasias

Номер патента: EP1799202A1. Автор: Rosa Gobbi. Владелец: EUREON AG. Дата публикации: 2007-06-27.

Calcium trifluoroacetate for the treatment of plasma cell neoplasias

Номер патента: CA2581379A1. Автор: Rosa Gobbi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-03-30.

Therapeutical agent useful for the treatment of plasma cell neoplasias

Номер патента: WO2006032458A1. Автор: Rosa Gobbi. Владелец: EUREON AG. Дата публикации: 2006-03-30.

Therapeutical agent useful for the treatment of plasma cell neoplasias

Номер патента: EP1799202B1. Автор: Rosa Gobbi. Владелец: EUREON AG. Дата публикации: 2008-11-12.

Therapeutical agent useful for the treatment of plasma cell neoplasias

Номер патента: US7705051B2. Автор: Rosa Gobbi. Владелец: EUREON AG. Дата публикации: 2010-04-27.

Reflector for lighting devices comprising means adapted to eliminate lighting unevenness

Номер патента: EP2642181A3. Автор: Massimo Gattari. Владелец: Iguzzini Illuminazione SpA. Дата публикации: 2014-08-20.

Device and method to eliminate fluff from a yarn

Номер патента: EP2828424A1. Автор: Davide Maccabruni,Sergio Zamattio,Mirko Marchiori. Владелец: SSM Schaerer Schweiter Mettler AG. Дата публикации: 2015-01-28.

Imidazopyridinyl inhibitors of plasma kallikrein

Номер патента: US20240199612A1. Автор: Nikolaos PAPAIOANNOU,Jeremy Mark Travins,Sarah Jocelyn FINK,John Mark Ellard,Alastair Rae. Владелец: SHIRE HUMAN GENETIC THERAPIES, INC.. Дата публикации: 2024-06-20.

Systems, methods, and devices for a headband securement head covering apparatus

Номер патента: US20240156197A1. Автор: Jeffrey N. Yu,Gianna Leigh Lanza,Robyn L. Meeker,Rodney Patrick Cook. Владелец: Yu Management LLC. Дата публикации: 2024-05-16.

Display device and processing apparatus of the same

Номер патента: US20150309242A1. Автор: Li-Ling Chen,Tai-Chi PAN,Bo-Tsuen Chen. Владелец: Innolux Corp. Дата публикации: 2015-10-29.

Ink jet ink composition and method for printing on substrates under conditions of high static electrical charge

Номер патента: EP2035512A1. Автор: Linfang Zhu,Sumana Sharmin,Ayesha Syed,Patrick J Moss,Terrence A Renner,Matthew B Tomlin. Владелец: Videojet Technologies Inc. Дата публикации: 2009-03-18.

Ink jet ink composition and method for printing on substrates under conditions of high static electrical charge

Номер патента: WO2008000619A1. Автор: Linfang Zhu,Sumana Sharmin,Ayesha Syed,Patrick J Moss,Terrence A Renner,Matthew B Tomlin. Владелец: Videojet Technologies Inc. Дата публикации: 2008-01-03.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: CA3212927A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: AU2022252181A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: WO2022212192A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2022-10-06.

Systems, methods, and devices for a headband securement head covering apparatus

Номер патента: WO2024107758A1. Автор: Jeffrey N. Yu,Gianna Leigh Lanza,Robyn L. Meeker,Rodney Patrick Cook. Владелец: Yu Management LLC. Дата публикации: 2024-05-23.

Method for reducing the amount of perfluorocompound gas contained in exhaust emissions from plasma processing

Номер патента: EP1124622A1. Автор: Calvin Todd Gabriel. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2001-08-22.

Plasma Processing Apparatus and Method for Venting the Same to Atmosphere

Номер патента: US20090183683A1. Автор: Kenji Maeda,Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-07-23.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

COORDINATE INPUT APPARATUS, LIGHT RECEIVING APPARATUS OF THE COORDINATE INPUT APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120002217A1. Автор: Kobayashi Katsuyuki,Yoshimura Yuichiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

DRIVING DEVICE AND DRIVING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL, AND PLASMA DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20120001882A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE SUPPORT TABLE OF PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002345A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000610A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Device for replacement of plasmatron for installation for plasma processing of wastes

Номер патента: RU2579037C1. Автор: Алексей Александрович Кудринский,Александр Васильевич Переславцев,Сергей Сергеевич ТРЕСВЯТСКИЙ,Сергей Александрович Вощинин,Владимир Степанович Горохов. Владелец: Сергей Александрович Вощинин. Дата публикации: 2016-03-27.

POWER SUPPLYING MEANS HAVING SHIELDING MEANS FOR FEEDING LINE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000609A1. Автор: DO Jae-Chul,JEON Bu-Il,SONG Myung-Gon,LEE Jung-Rak. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for producing multilayer optical coat on substrate

Номер патента: RU2035752C1. Автор: Е.Н. Зорина,П.П. Кулик,Н.И. Ескин,И.П. Мазанько. Владелец: Инженерный центр "Плазмодинамика". Дата публикации: 1995-05-20.

IMAGE FORMING APPARATUS TO ADD SPECIFIC DATA TO IMAGE, AND IMAGE FORMING METHOD OF ADDING THE SPECIFIC DATA TO THE IMAGE

Номер патента: US20120002224A1. Автор: KIMOTO Taizo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, DISPLAY CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002232A1. Автор: Inui Masanobu. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Minimally invasive apparatus to manipulate and revitalize spinal column disc

Номер патента: US20120004729A1. Автор: Zipnick Richard I.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of forming coatings of tantalum pentoxide on substrate

Номер патента: RU2518257C1. Автор: Владимир Сергеевич Руднев,Михаил Азарьевич Медков,Кирилл Николаевич Килин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт химии Дальневосточного отделения Российской академии наук (ИХ ДВО РАН). Дата публикации: 2014-06-10.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Electrode plate retainer strip for a protective edge cover

Номер патента: AU303450S. Автор: . Владелец: Icon Plastics Pty Ltd. Дата публикации: 2005-10-18.

Process of generation of plasma flux and gear for its realization

Номер патента: RU2187216C1. Автор: А.В. Воронин,Геран Курт ХЕЛЛЬБЛУМ. Владелец: Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе РАН. Дата публикации: 2002-08-10.

Method of plasma processing of incombustible materials

Номер патента: RU2418662C1. Автор: Александр Юрьевич Семенов,Юрий Михайлович Агриков. Владелец: Юрий Михайлович Агриков. Дата публикации: 2011-05-20.

METHODS AND APPARATUS OF ARC PREVENTION DURING RF SPUTTERING OF A THIN FILM ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120000767A1. Автор: Halloran Sean Timothy. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of plasma and electromagnetic effect on dielectric material

Номер патента: RU2537372C2. Автор: Игорь Анатольевич Леонтьев,Юрий Михайлович ЯШНОВ,Георгий Васильевич Лысов. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Твинн". Дата публикации: 2015-01-10.

Gas-electric decoupler of inlet channel of working medium of plasma accelerator

Номер патента: RU2410742C1. Автор: Владимир Васильевич Гопанчук,Мира Юрьевна Потапенко. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Опытное конструкторское бюро "Факел". Дата публикации: 2011-01-27.

Method of plasma arc welding

Номер патента: RU2327553C2. Автор: Олег Михайлович Новиков,Эдуард Павлович Радько,Джей Юн Квон. Владелец: Джей Юн Квон. Дата публикации: 2008-06-27.

Method of control over current of plasma emitter of large area

Номер патента: RU2012945C1. Автор: В.С. Будишевский,В.Я. Мартенс,Н.Г. Ремпе. Владелец: Томский Институт Автоматизированных Систем Управления И Радиоэлектроники. Дата публикации: 1994-05-15.

Shoe cover apparatus

Номер патента: CA168807S. Автор: . Владелец: Pleut Pieds LLC. Дата публикации: 2017-09-15.

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING PATTERNS FORMED ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120002860A1. Автор: Sakai Kaoru,Shibuya Hisae,Maeda Shunji,Nishiyama Hidetoshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus to deposit coatings on pieces by ionic dispersion method

Номер патента: RU2037559C1. Автор: Э.М. Волин. Владелец: Волин Эрнст Михайлович. Дата публикации: 1995-06-19.

Vacuum-arc source of plasma for treatment of the tubular products of the complex geometry

Номер патента: RU2288969C1. Автор: Юрий Владимирович Дубровский,Борис Викторович Бушмин,Иолий Александрович Хазов,Геннадий Владимирович Дубинин. Владелец: НПЦ "ИНТЕКО" ФГУП "Красная Звезда". Дата публикации: 2006-12-10.

Method of sputtering of plasma coating (versions)

Номер патента: RU2338810C2. Автор: Энгель Рафикович Галимов,Салават Анатольевич Гизатуллин,Гали Юнусович Даутов,Ринат Маснавиевич Хазиев,Радик Анатольевич Гизатуллин,ев Алексей Витальевич Бел,Алексей Витальевич Беляев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Казанский государственный технический университет им. А.Н. Туполева. Дата публикации: 2008-11-20.

Cathode of plasma accelerator (versions)

Номер патента: RU2549370C1. Автор: Алексей Геннадьевич Тарасов,Павел Михайлович Пучков,Андрей Владимирович Батурин. Владелец: Государственный научный центр Российской Федерации-федеральное государственное унитарное предприятие "Исследовательский Центр имени М.В. Келдыша". Дата публикации: 2015-04-27.

Method of plasma or blood serum storage for obtaining of immunoglobulene and albuminous biological preparations

Номер патента: RU2338375C2. Автор: Александр Иванович Кузнецов,Андрей Викторович Бармин,Алексей Константинович Барсуков,Виталий Анатольевич Журавлев,Ольга Юрьевна Нестерова,Флюр Минисалихович Касимов,Светлана Александровна Ушнурцева,Евгений Николаевич Желтышев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Удмуртский государственный университет". Дата публикации: 2008-11-20.

Outlet unit of plasma relativistic microwave pulses source with conversion of wave type

Номер патента: RU2595554C2. Автор: Игорь Евгеньевич Иванов,Олег Тимофеевич Лоза,Елена Александровна Шульгина,Ирина Леонидовна Богданкевич,Рена Гаджиага кызы Гусейн-заде,Денис Константинович Ульянов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук. Дата публикации: 2016-08-27.

Method increasing service life of plasma generator used for plasma-arc machining of materials

Номер патента: RU2174065C2. Автор: В.П. Ларионов,И.Е. Киренский. Владелец: Институт физико-технических проблем Севера СО РАН. Дата публикации: 2001-09-27.

Nozzle unit of plasma generator

Номер патента: RU2174063C1. Автор: А.М. Иванов. Владелец: Институт физико-технических проблем Севера СО РАН. Дата публикации: 2001-09-27.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001944A1. Автор: SAKURAI Masahiro,Machino Taichi,Ikeda Teppei. Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002085A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS TO SUPPORT SCALABILITY IN A MULTICARRIER NETWORK

Номер патента: US20120002738A1. Автор: Jacobsen Eric A.,Foerster Jeff,Dahle Dan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002900A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120004017A1. Автор: . Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

THROUGHPUT INFORMATION GENERATING APPARATUS OF SAMPLE ANALYZER, SAMPLE ANALYZER, THROUGHPUT INFORMATION GENERATING METHOD OF SAMPLE ANALYZER, AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT

Номер патента: US20120004857A1. Автор: Yamato Takashi,KURONO Hiroshi,Nakatsuka Hisashi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for atomic layer growing of thin films of chemical compounds on substrates

Номер патента: RU2472870C1. Автор: Владимир Владимирович Чесноков,Дмитрий Владимирович Чесноков,Дарья Сергеевна Михайлова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирская государственная геодезическая академия" (ГОУВПО "СГГА"). Дата публикации: 2013-01-20.

Method of determining duration of plasma-chemical etching of surface of semiconductor plates for submicron technology

Номер патента: RU2535228C1. Автор: Степан Степанович Волков,Михаил Юрьевич Тимашев,Дмитрий Владимирович Суворов,Геннадий Владимирович Гололобов,Алевтина Анатольевна Аристархова,Николай Николаевич Бисярин,Юрий Евгеньевич Дмитревский,Татьяна Ивановна Китаева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Рязанский государственный радиотехнический университет". Дата публикации: 2014-12-10.

Method of determining moment of completion of plasma-electrolytic oxidising process

Номер патента: RU2366765C1. Автор: Андрей Александрович Быбин,Евгений Владимирович Парфенов,Алексей Леонидович Ерохин,Римма Рахимзяновна Невьянцева,Аллан МАТТЬЮЗ. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Уфимский государственный авиационный технический университет. Дата публикации: 2009-09-10.

Sheet material, process of improvement of characteristics of surface of sheet material, process of generation of plasma of glow discharge and device to initiate plasma of glow discharge

Номер патента: RU2154363C2. Автор: Джон Риис Рот,Питер Пинг-уй Тсай,Чаою Лиу,Лэрри С. Вэдсворт,Поль Д. Спенс,Мунир Ларусси. Владелец: ДЗЕ ЮНИВЕРСИТИ ОФ ТЕННЕССИ Рисеч Корпорейшн. Дата публикации: 2000-08-10.

Method to eliminate inflows in tunnels with lining from high-precision blocks

Номер патента: RU2414598C1. Автор: Андрей Александрович Шилин. Владелец: Закрытое акционерное общество "Триада-Холдинг". Дата публикации: 2011-03-20.

Method to eliminate deformations of bridge crossing abutments

Номер патента: RU2481433C1. Автор: Вячеслав Николаевич Кровяков,Виктор Анатольевич Бабелло,Ольга Валентиновна Сергейчук. Владелец: Ольга Валентиновна Сергейчук. Дата публикации: 2013-05-10.

Melting furnace of plasma arc melting unit

Номер патента: RU2504929C2. Автор: Валерий Георгиевич Островский,Юрий Александрович Лайко. Владелец: Открытое акционерное общество "Ракетно-космическая корпорация "Энергия" имени С.П. Королева". Дата публикации: 2014-01-20.

Method of plasma arc furnace charging and device for implementation of method

Номер патента: RU2335549C2. Автор: Андрей Анатольевич Николаев,Анатолий Владимирович Николаев,Игорь Анатольевич Леонтьев. Владелец: Ооо "Твинн". Дата публикации: 2008-10-10.

Method and apparatus of turbine drilling boreholes and turbodrill turbine

Номер патента: RU2032063C1. Автор: А.Г. Мессер,Я.А. Эдельман,Г.М. Таиров,Р.А. Иоаннесян. Владелец: Товарищество с ограниченной ответственностью "ДиСиДи". Дата публикации: 1995-03-27.

Apparatus to thread grinding machine tool for radial relieving of rear surface of cutting tool with small relieving value

Номер патента: RU2014963C1. Автор: А.И. Алферов,В.С. Шапкин,Н.Г. Алферова. Владелец: Московский завод координатно-расточных станков. Дата публикации: 1994-06-30.

Method to eliminate interstring and string crossflows of gas in wells ( variants )

Номер патента: RU2219326C2. Автор: В.Ф. Будников,Ю.М. Басарыгин,В.А. Юрьев,В.П. Жиденко,Б.А. Павленко,К.Ю. Федоров. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Кубаньгазпром". Дата публикации: 2003-12-20.

Method of plasma and erythtrocyte mass producing

Номер патента: RU2151617C1. Автор: С.Ю. Никонов,И.О. Вирон,Ю.Б. Магадеев. Владелец: Закрытое акционерное общество "Дельрус". Дата публикации: 2000-06-27.

Method of plasma surfacing

Номер патента: RU2479392C2. Автор: Николай Михайлович Ожегов,Дмитрий Александрович Капошко,Антон Викторович Бармашов,Валентин Петрович Пазына. Владелец: Николай Михайлович Ожегов. Дата публикации: 2013-04-20.

Device to eliminate accidents in oil and gas well

Номер патента: RU2451787C2. Автор: Дена Карим-Султанович Батаев,Хасан Нажоевич Мажиев,Магомед Абдул-Вахабович Абдуллаев,Адам Хаважиевич Шахабов,Мавсар Жабраилович Люрмагомбетов,Зайнди Маулдинович Хайтаев,Сайд-Эмин Ахмедович Асуев,Хаджи Увайсович Магомадов,Дена Карим-Султанович Батаев (RU),Хасан Нажоевич Мажиев (RU),Адам Хаважиевич Шахабов (RU),Мавсар Жабраилович Люрмагомбетов (RU),Зайнди Маулдинович Хайтаев (RU),Сайд-Эмин Ахмедович Асуев (RU),Хаджи Увайсович Магомадов (RU),Магомед Абдул-Вахабович Абдуллаев (RU). Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Грозненский государственный нефтяной институт имени академика М.Д. Миллионщикова". Дата публикации: 2012-05-27.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, SIGNAL PROCESSING APPARATUS, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002074A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Device for generation of plasma stream

Номер патента: RU2285358C2. Автор: Валерий Анатольевич Гостев,Кирилл Валерьевич Гостев. Владелец: Кирилл Валерьевич Гостев. Дата публикации: 2006-10-10.

Device for initiation of microwave discharge and creation of plasma

Номер патента: RU2431242C2. Автор: Лев Петрович Грачёв,Игорь Иванович Есаков,Александр Александрович Раваев,Кирилл Викторович Ходатаев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Московский радиотехнический институт РАН". Дата публикации: 2011-10-10.

Method of plasma-coal kindling of boiler

Номер патента: RU2336465C2. Автор: Анатолий Федорович Серов,Валентин Сергеевич Перегудов. Владелец: Валентин Сергеевич Перегудов. Дата публикации: 2008-10-20.

Method to eliminate water leakages in underground engineering utilities

Номер патента: RU2473745C1. Автор: Лев Алексеевич Алимов,Виктор Валерианович Воронин,Василий Федорович Коровяков,Рафаэл Шахверан оглы Бабаев. Владелец: Государственное унитарное предприятие г. Москвы Научно-исследовательский институт московского строительства "НИИМосстрой" (ГУП "НИИМосстрой"). Дата публикации: 2013-01-27.

Method of plasma ignition of pulverized coal fuel

Номер патента: RU2210700C2. Автор: Е.И. Карпенко,В.Е. Мессерле,В.С. Перегудов,Ю.М. Пшеничников. Владелец: Мессерле Владимир Ефремович. Дата публикации: 2003-08-20.

Device to eliminate drift of isoelectric line of electro-cardiosignal

Номер патента: RU2417050C1. Автор: Сергей Петрович Панько,Андрей Валериевич Мишуров. Владелец: Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирский федеральный университет" (СФУ). Дата публикации: 2011-04-27.

Method for probe diagnosis of plasma and apparatus for realising said method

Номер патента: RU2503158C1. Автор: Александр Борисович Буянов,Владимир Иванович Карелин,Василий Васильевич Горохов,Алексей Олегович Бакумов,Максим Михайлович Иванов,Владимир Анатольевич Чернышев,Андрей Юрьевич Пузан,Александр Сергеевич Киржаев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский Федеральный ядерный центр - Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики" - ФГУП "РФЯЦ-ВНИИЭФ". Дата публикации: 2013-12-27.

Device for production of plasma with open magnetic conductor and method for electric charge realisation and production of plasma in it

Номер патента: RU2407249C2. Автор: Игорь Максимович Уланов,Артем Юрьевич Литвинцев,Владислав Игоревич Норкин. Владелец: ЗАО "Группа А.Д.Д.". Дата публикации: 2010-12-20.

Device to eliminate hydrate and paraffin deposits in oil wells

Номер патента: RU2303127C2. Автор: Виталий Петрович Кобылин,Виталий Алексеевич Седалищев,Роза Петровна Ли-Фир-Су,Зо Михайловна Львова,Зоя Михайловна Львова,Сергей Витальевич Кобылин. Владелец: Институт физико-технических проблем Севера Сибирского отделения Российской Академии Наук. Дата публикации: 2007-07-20.

Process of plasma-chemical pickling of silicon-carrying materials

Номер патента: RU2141701C1. Автор: С.В. Редькин,В.В. Аристов. Владелец: Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН. Дата публикации: 1999-11-20.

Method to produce arrays of aligned carbon nanotubes on substrate surface

Номер патента: RU2561616C2. Автор: Александр Владимирович Окотруб,Артем Владимирович Гусельников,Сергей Николаевич Багаев,Геннадий Николаевич Грачев,Александр Леонидович Смирнов,Вячеслав Евгеньевич Архипов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт лазерной физики Сибирского отделения Российской академии наук Российской Федерации. Дата публикации: 2015-08-27.

Apparatus to fix casting mold and method of its use

Номер патента: RU2030241C1. Автор: Валерий Иванович Надточий,Анатолий Антонович Назаренко. Владелец: Анатолий Антонович Назаренко. Дата публикации: 1995-03-10.

Method to eliminate migratory locust flocks

Номер патента: RU2180777C1. Автор: В.А. Гурашвили,А.Г. Красюков,Р.Д. Жантиев,О.С. Корсуновска,О.С. Корсуновская. Владелец: Васютин Владимир Андреевич. Дата публикации: 2002-03-27.

Method of deposition of plasma coating

Номер патента: RU2112075C1. Автор: В.А. Жиляев,Н.А. Руденская,Н.А. Руденска,ев В.А. Жил. Владелец: Институт химии твердого тела Уральского Отделения РАН. Дата публикации: 1998-05-27.

Hollow cathode of plasma ion emitter

Номер патента: RU2030015C1. Автор: А.С. Метель. Владелец: Научно-производственное предприятие "Новатех". Дата публикации: 1995-02-27.

Method to detect thickness of coating in process of plasma-electrolytic oxidation

Номер патента: RU2540239C1. Автор: Анвар Ибрагимович Даутов,Евгений Владимирович Парфенов,Денис Михайлович Лазарев,Азамат Раисович Фаткуллин,Алексей Леонидович Ерохин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уфимский государственный авиационный технический университет". Дата публикации: 2015-02-10.

Method of plasma reduction of iron from oxide melt and device for its implementation

Номер патента: RU2384625C1. Автор: Андрей Анатольевич Николаев,Анатолий Владимирович Николаев,Владимир Григорьевич Мизин,Юрий Владимирович Цветков,Константин Александрович Солнцев. Владелец: Институт металлургии и материаловедения им. А.А. Байкова Российской академии наук (РАН) (Государственное учреждение). Дата публикации: 2010-03-20.

Method of plasma ignition of pulverized-coal fuel (variants) and plasma pulverized-coal burner for realization of this method

Номер патента: RU2210032C2. Автор: Е.И. Карпенко,В.С. Перегудов,Владимир Ефремович Мессерле. Владелец: Перегудов Валентин Сергеевич. Дата публикации: 2003-08-10.

Method of plasma treatment of metals

Номер патента: RU2595185C2. Автор: Юрий Дмитриевич Щицын,Павел Сергеевич Кучев,Владислав Юрьевич Щицын,Сергей Дмитриевич Неулыбин. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2016-08-20.

Method of plasma-arc welding of aluminium alloys

Номер патента: RU2292256C2. Автор: В чеслав Владимирович Алексеев,Вячеслав Владимирович Алексеев,Виктор Васильевич Овчинников. Владелец: Виктор Васильевич Овчинников. Дата публикации: 2007-01-27.

Method of plasma spraying of wear resistant coating

Номер патента: RU2462533C1. Автор: Виктор Иванович Кузмин,Александр Анатольевич Михальченко,Евгений Владимирович Картаев,Наталья Александровна Руденская,Наталья Владимировна Соколова. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт теоретической и прикладной механики им. С.А. Христиановича Сибирского отделения РАН (ИТПМ СО РАН). Дата публикации: 2012-09-27.

Device of plasma tissue coagulation

Номер патента: RU2473318C2. Автор: Дмитрий Семенович Стребков,Леонид Юрьевич Юферев. Владелец: Российская академия сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства Российской академии сельскохозяйственных наук (ГНУ ВИЭСХ РОССЕЛЬХОЗАКАДЕМИИ). Дата публикации: 2013-01-27.

Technique of laser heating of plasma

Номер патента: RU2176132C2. Автор: В.Я. Панченко,А.В. Нестеров,В.Г. Низьев. Владелец: Институт проблем лазерных и информационных технологий РАН. Дата публикации: 2001-11-20.

Method of plasma-catalytic processing of solid domestic wastes

Номер патента: RU2504443C1. Автор: Юрий Андреевич Крутяков,Алексей Александрович Кудринский,Арсений Валерьевич Артемов,Владимир Михайлович Кулыгин,Александр Васильевич Переславцев,Сергей Сергеевич ТРЕСВЯТСКИЙ,Сергей Александрович Вощинин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт". Дата публикации: 2014-01-20.

Method of preventing purulent-inflammatory complications in treatment of trauma-orthopedic patients with application of apparatuses of external fixation

Номер патента: RU2508062C1. Автор: Гурген Абавенович Кесян,Рашид Загидуллович Уразгильдеев,Игорь Геннадьевич Арсеньев,Геннадий Николаевич Берченко,Ирина Евгеньевна Кондратьева. Владелец: федеральное государственное бюджетное учреждение "Центральный научно-исследовательский институт травматологии и ортопедии имени Н.Н. Приорова" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2014-02-27.

Vacuum-arc source of plasma

Номер патента: RU2382118C1. Автор: Виталий Валентинович Плихунов,Леонид Михайлович Петров,Всеволод Викторович Зеленков,Светлана Борисовна Иванчук,Геннадий Аркадьевич Гущин,Игорь Викторович Соколов,Виталий Валентинович Плихунов (RU),Всеволод Викторович Зеленков (RU),Леонид Михайлович Петров (RU),Светлана Борисовна Иванчук (RU),Геннадий Аркадьевич Гущин (RU),Игорь Викторович Соколов (RU). Владелец: Открытое акционерное общество "Национальный институт авиационных технологий". Дата публикации: 2010-02-20.

Method for making intraosseous dental implant with ion-beam modification of plasma-deposited multilayer bioactive coating

Номер патента: RU2458707C1. Автор: Владимир Николаевич Лясников,Ирина Владимировна Перинская,Владимир Владимирович Перинский,Орынгали Джулдгалиевич Муктаров. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Саратовский государственный технический университет" (СГТУ). Дата публикации: 2012-08-20.

METHOD OF MAKING MULTILAYER SUPERCONDUCTING yBaCuO NANOFILMS ON SUBSTRATE

Номер патента: RU2382440C1. Автор: Климентий Николаевич Югай,Анатолий Александрович Скутин,Надим Анварович Давлеткильдеев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Омский государственный университет им. Ф.М. Достоевского". Дата публикации: 2010-02-20.

Method for vacuum sputtering of topological thin-film pattern of hybrid microcircuit on substrate

Номер патента: RU2586937C1. Автор: Валерий Григорьевич Эдвабник,Амир Энверович Алямов,Любовь Васильевна Григорьева,Владимир Борисович Цай,Рэм Васильевич Кудрявцев,Денис Юрьевич Сидоров,Светлана Викторовна Юркова. Владелец: ОАО "Научно-исследовательский институт электронных приборов". Дата публикации: 2016-06-10.

Method for surfacing copper or copper alloys on substrate of high-alloy nickel alloys

Номер патента: RU2252117C2. Автор: Ю.В. Мовчан,А.Л. Логинов,Г.В. Шашелова,Л.А. Туманов,Н.М. Григоркин,В.П. Никонов. Владелец: ОАО "НПО Энергомаш им. акад. В.П. Глушко". Дата публикации: 2005-05-20.

Plant for vacuum sputtering of topological pattern of thin-film hybrid microcircuit on substrate

Номер патента: RU2590747C2. Автор: Валерий Григорьевич Эдвабник,Амир Энверович Алямов,Любовь Васильевна Григорьева,Владимир Борисович Цай,Рэм Васильевич Кудрявцев,Денис Юрьевич Сидоров,Светлана Викторовна Юркова. Владелец: ОАО "Научно-исследовательский институт электронных приборов". Дата публикации: 2016-07-10.

Apparatus to feed grease into mandrel

Номер патента: RU2039619C1. Автор: А.А. Солдатов,П.Г. Боровик,Е.П. Солодихин. Владелец: Акционерное общество "Электростальский завод тяжелого машиностроения". Дата публикации: 1995-07-20.

Infrared sensor for the control of plasma-jet spray coating processes

Номер патента: CA1205545A. Автор: Robert D. Lillquist. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1986-06-03.

CONSUMABLE ISOLATION RING FOR MOVABLE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY OF A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000605A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: Lam Research Corporation.. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000608A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

MOVABLE GROUND RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120003836A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of plasma electrolytic oxidation of rectifying metals and their alloys

Номер патента: RU2263163C1. Автор: В.С. Руднев,Т.П. Ярова,Т.П. Яровая,П.М. Недозоров. Владелец: Институт химии Дальневосточного отделения Российской академии наук (статус государственного учреждения) (Институт химии ДВО РАН). Дата публикации: 2005-10-27.

Method to eliminate ice clogging that closes river from one coast to opposite one and raising water level in river

Номер патента: RU2440458C1. Автор: Василий Петрович Ягин,Василий Петрович Ягин (RU). Владелец: Василий Петрович Ягин. Дата публикации: 2012-01-20.

Method of sterilization of articles and materials by means of plasma and device for its realization (variants)

Номер патента: RU2086262C1. Автор: Виктор Николаевич Коровин. Владелец: Виктор Николаевич Коровин. Дата публикации: 1997-08-10.

Process of generation of plasma

Номер патента: RU2090019C1. Автор: Сергей Иванович Герасимов,Евгений Евграфович Мешков,Анатолий Григорьевич Балеевский. Владелец: Анатолий Григорьевич Балеевский. Дата публикации: 1997-09-10.

Method and apparatus to produce slit sieves-figures of rotation

Номер патента: RU2074782C1. Автор: Александр Николаевич Шугуров. Владелец: Александр Николаевич Шугуров. Дата публикации: 1997-03-10.

Method of plasma plasminogen activator inhibitor concentration optimisation in newborn piglets with anemia

Номер патента: RU2399374C1. Автор: Илья Николаевич Медведев,Борис Дмитриевич Беспарточный,Евгения Геннадьевна Краснова,Светлана Юрьевна Завалишина. Владелец: Борис Дмитриевич Беспарточный. Дата публикации: 2010-09-20.

Anti-stick ceramic coating, procedures for its preparation and application on substrate

Номер патента: RU2424253C2. Автор: Бонг Еол Джеон,Санг Мок Ким. Владелец: Серасол Хонг Конг Лимитед. Дата публикации: 2011-07-20.

Engine without connecting rod and method to eliminate jamming of its mechanism

Номер патента: RU2538349C2. Автор: Александр Васильевич Иванов,Сергей Павлович Столяров. Владелец: Сергей Павлович Столяров. Дата публикации: 2015-01-10.

Method of plasma-electrolytic removal of coatings from titanium nitrides or those of compounds of titanium with metals

Номер патента: RU2467098C1. Автор: Аскар Джамилевич Мингажев,Анатолий Михайлович Смыслов,Дамир Рамилевич Таминдаров,Константин Сергеевич Селиванов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие Вакууммаш". Дата публикации: 2012-11-20.

Device to eliminate flexure of bridge span structure cantilever in the case of cantilevered building span assemblage

Номер патента: RU2308563C1. Автор: Адольф Абрамович Тавровский,Сергей Евгеньевич Горбачев,Александр Владимирович Барсуков,Игорь Михайлович Гельфон,Михаил Александрович Хомский. Владелец: Открытое акционерное общество по проектированию строительства мостов "Институт Гипростроймост". Дата публикации: 2007-10-20.

Method of producing fullerene-containing film on substrate

Номер патента: RU2532742C1. Автор: Александр Петрович Семенов,Ирина Александровна Семенова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физического материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2014-11-10.

Method of forming ordered array of nanosized spheroids on substrate

Номер патента: RU2444084C1. Автор: Владимир Владимирович Чесноков,Дмитрий Владимирович Чесноков. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирская государственная геодезическая академия" (ГОУ ВПО "СГГА"). Дата публикации: 2012-02-27.

Method for generation of plasma

Номер патента: RU2038707C1. Автор: И.Д. Чернышев,И.А. Никольский. Владелец: Никольский Игорь Аркадьевич. Дата публикации: 1995-06-27.

Device of plasma ignition of dust-coal fuel

Номер патента: RU2410603C1. Автор: Юрий Иванович Наумов,Юрий Иванович Наумов (RU). Владелец: Закрытое акционерное общество "КОТЭС-Наука". Дата публикации: 2011-01-27.

Diode of plasma shf-generator

Номер патента: RU2569493C1. Автор: Намик Гусейнага оглы Гусейн-заде,Олег Тимофеевич Лоза,Елена Александровна Шульгина,Ирина Леонидовна Богданкевич,Светлана Евгеньевна Ернылева,Евгений Борисович Городничев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технический университет радиотехники, электроники и автоматики" (МИРЭА). Дата публикации: 2015-11-27.

Method and device for ball plasma processing

Номер патента: RU2401310C1. Автор: Магомед-Эмин Хасаевич Исакаев,Александр Семенович Тюфтяев,Александр Эммануилович Яблонский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Современные плазменные технологии". Дата публикации: 2010-10-10.

Unit for ion-ray and plasma processing

Номер патента: RU2496913C2. Автор: Аскар Джамилевич Мингажев,Анатолий Михайлович Смыслов,Василий Андреевич Гонтюрев,Марина Константиновна Смыслова,Вячеслав Юрьевич Гордеев,Игорь Борисович Степанов,Александр Ильич Рябчиков,Юрий Михаилович Дыбленко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология". Дата публикации: 2013-10-27.

SEMICONDUCTOR TRANSISTOR NANO-HETEROSTRUCTURE ON SUBSTRATE OF GaAs WITH MODIFIED STOP LAYER OF AlxGa1-xAs

Номер патента: RU2582440C1. Автор: Галиб Бариевич Галиев,Евгений Александрович Климов,Алексей Николаевич Клочков,Сергей Сергеевич Пушкарев,Рустам Анварович Хабибуллин,Дмитрий Сергеевич Пономарев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники Российской академии наук (ИСВЧПЭ РАН). Дата публикации: 2016-04-27.

Application of antirust coatings on substrate from high-hardness alloys

Номер патента: RU2519694C1. Автор: Александр Сергеевич Денисов,Виктор Никонорович Семенов,Игорь Владимирович Вайнштейн,Игорь Иванович Сазанов,Александр Геннадьевич Андреев,Сергей Владимирович Лядник,Алсу Анисовна Гайнутдинова,Галина Васильевна Удельнова,Анна Мариановна Лядник,Руслан Рауфович Аблеев,Евгений Викторович Беспалов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВПО МГТУ "СТАНКИН"). Дата публикации: 2014-06-20.

Improvements in the Drag Apparatus of Machines for "Open" Drawing, Finishing, Reducing, Roving and Spinning Fibrous Material.

Номер патента: GB190403932A. Автор: Walter Neil. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-03-17.

Improvements in or connected with Spindle Apparatus of Mules and other Spinning or Twisting Machines.

Номер патента: GB190410846A. Автор: Harry Oldfield,John Sykes. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-03-16.

Method and Apparatus For Inspecting Defect Of Pattern Formed On Semiconductor Device

Номер патента: US20120002861A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method to eliminate bending elbow joint contracture

Номер патента: RU2074666C1. Автор: В.Д. Макушин,Ю.П. Солдатов. Владелец: Российский научный центр "Восстановительная травматология и ортопедия" им.акад.Г.А.Илизарова. Дата публикации: 1997-03-10.

Formation method of electroconductive tracks on substrate

Номер патента: RU2468549C1. Автор: Леонид Викторович Воронцов,Владимир Евгеньевич Филимонов. Владелец: Владимир Евгеньевич Филимонов. Дата публикации: 2012-11-27.

METHOD OF PLASMA DEPOSITION OF POWDERS OF Fe-Cr-V-Mo-C SYSTEM

Номер патента: RU2557180C1. Автор: Сергей Федорович Гнюсов,Александр Сергеевич Дегтерёв. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет". Дата публикации: 2015-07-20.

Hollow cathode of plasma emitter of ions

Номер патента: RU2035790C1. Автор: А.С. Метель. Владелец: Научно-производственное предприятие "Новатех". Дата публикации: 1995-05-20.

Method of applying sandwich coatings on substrate

Номер патента: RU2492276C1. Автор: Александр Александрович Москвитин,Виктор Никонорович Семенов,Алексей Николаевич Соловьев,Ражудин Насрединович Ризаханов,Владимир Игоревич Костычев,Николай Владимирович Бей,Игорь Владимирович Костычев. Владелец: Виктор Никонорович Семенов. Дата публикации: 2013-09-10.

Method for obtaining electroconductive tracks on substrate

Номер патента: RU2468550C1. Автор: Леонид Викторович Воронцов,Владимир Евгеньевич Филимонов. Владелец: Владимир Евгеньевич Филимонов. Дата публикации: 2012-11-27.

Computer-aided feed-through device for plasma processing of upper blanks

Номер патента: RU2556166C2. Автор: Сергей Петрович Александров,Ирина Петровна Бердникова,Ильдар Шаукатович Абдулин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный университет технологий и управления" им. К.Г. Разумовского. Дата публикации: 2015-07-10.

Method and apparatus of alf with model-based taps in video coding system

Номер патента: WO2024146428A1. Автор: Yu-Cheng Lin,Yu-Ling Hsiao,Yu-Wen Huang,Tzu-Der Chuang,Yi-Wen Chen,Chih-Wei Hsu,Ching-Yeh Chen,Shih-Chun Chiu. Владелец: MEDIATEK INC.. Дата публикации: 2024-07-11.

Methods and apparatus of rlc enhancement during intra-du ltm

Номер патента: WO2024207446A1. Автор: Yao Peng,Yuanyuan Zhang,Xiaonan Zhang. Владелец: MEDIATEK SINGAPORE PTE. LTD.. Дата публикации: 2024-10-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.