PLASMA ETCHING METHOD AND PLASMA ETCHING APPARATUS

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230402289A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA,Noriyoshi ARIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20190237332A1. Автор: KATSUNORI Tanaka,Hotaka Maruyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-08-01.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: EP3843126A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-30.

Method and Apparatus for Plasma Etching

Номер патента: US20210193471A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US11664232B2. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-05-30.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09887109B2. Автор: Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09728418B2. Автор: Hiroshi Tsujimoto,Keigo TOYODA,Masaru ISAGO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20190006186A1. Автор: Hiroki Sato,Hisashi Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-03.

Plasma etching apparatus and method for operating the same

Номер патента: US12046451B2. Автор: Ju Ho Lee,Seung Bo SHIM,Doug Yong SUNG,Nam Kyun Kim,Seung Han BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-23.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09659789B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Method and Apparatus for Plasma Etching

Номер патента: US20210193471A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20160268140A1. Автор: Shunichi Mikami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-15.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11710644B2. Автор: Takahiro Yokoyama,Masanori Hosoya,Hiroie MATSUMOTO,Taihei MATSUHASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150206715A1. Автор: Takayuki Ishii,Ryoichi Yoshida,Ken Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140076848A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20220051902A1. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-17.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20210118690A1. Автор: Shuichi Kuboi,Seiya YOSHINAGA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US11637020B2. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-25.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20230245897A1. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US20240355635A1. Автор: Kazuhiko Tonari. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20230386793A1. Автор: Kenji Maeda,Yosuke Kurosaki,Hiroto Otake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20080179283A1. Автор: Hiroyuki SHIBAMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-07-31.

Plasma etching method, plasma etching apparatus, control program and computer-readable storage medium

Номер патента: US20080190892A1. Автор: Sung Tae Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-08-14.

Plasma etching apparatus and method of etching wafer

Номер патента: WO2009008659A3. Автор: Jung Hee Lee,Kwan Goo Rha,Chul Hee Jang,Young Ki Han,Gil Hun Lee. Владелец: Gil Hun Lee. Дата публикации: 2009-03-12.

Method of plasma etching

Номер патента: US12087593B2. Автор: Shih Pin KUO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Method of plasma etching

Номер патента: US20230411164A1. Автор: Shih Pin KUO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11139169B2. Автор: Sho Kumakura,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-05.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20200402800A1. Автор: Sho Kumakura,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11791175B2. Автор: Takayuki Suga,Jun Lin,Yoshiki Igarashi,Satoru KIKUSHIMA,Chengya CHU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20230395400A1. Автор: Takayuki Suga,Jun Lin,Yoshiki Igarashi,Satoru KIKUSHIMA,Chengya CHU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210159084A1. Автор: Yoshihide Kihara,Sho Kumakura,Maju TOMURA,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11380555B2. Автор: Yoshihide Kihara,Sho Kumakura,Maju TOMURA,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-05.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210082709A1. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240355589A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Etching method and apparatus for semiconductor wafers

Номер патента: US20040157452A1. Автор: Yoshihiro Ogawa,Hiroshi Tomita,Hisashi Okuchi,Hiroyasu Iimori. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-12.

Method and apparatus for plasma etching dielectric substrates

Номер патента: GB202219448D0. Автор: . Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-02-01.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20030203640A1. Автор: Kazue Takahashi,Saburo Kanai,Toshio Masuda,Tetsunori Kaji,Mitsuru Suehiro. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-30.

Etching apparatus and methods of cleaning thereof

Номер патента: US12080582B2. Автор: Wei-Jen Lo,Lun-Kuang Tan,Yu-Chi Lin,Chih-Teng Liao,Huai-Tei Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Method and Apparatus for Plasma Etching Dielectric Substrates

Номер патента: US20240212998A1. Автор: Andrew RUBIN,Nicolas Launay,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Semiconductor etching apparatus and etching method of semiconductor devices using the semiconductor etching apparatus

Номер патента: KR20020017447A. Автор: 지경구,정승필. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2002-03-07.

Method and apparatus for plasma etching dielectric substrates

Номер патента: EP4391010A1. Автор: Andrew RUBIN,Nicolas Launay,Kevin RIDDEL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Method for etching oxide film in plasma etching system

Номер патента: US6103137A. Автор: Jae-Hyun Park. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2000-08-15.

METHOD AND DEVICE FOR PLASMA ETCHING A MATERIAL

Номер патента: FR2613168A1. Автор: Daniel Henry,Roderick Boswell. Владелец: ETAT FRANCAIS. Дата публикации: 1988-09-30.

Plasma etching apparatus and method of plasma etching a semiconductor substrate

Номер патента: EP3958288A1. Автор: Maxime Varvara,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2022-02-23.

Plasma etching method

Номер патента: US20180240690A1. Автор: Kenta Chito. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20050061447A1. Автор: Yong-Dae Kim,Do-hyeong Kim,Doo-Won Lee,Soon-Ho Yon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US10297489B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-21.

Etching control method and etching control system

Номер патента: US20230245916A1. Автор: Yusuke Tamakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Single-wafer etching method for wafer and etching apparatus thereof

Номер патента: MY147183A. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2012-11-14.

Component for film formation apparatus or etching apparatus

Номер патента: US20230223241A1. Автор: Koji Kawahara,Tomonori Ogawa. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Method and device for plasma-etching organic material film

Номер патента: AU2003296132A8. Автор: Masanobu Honda,Shoichiro Matsuyama,Kazuya Nagaseki,Hisataka Hayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2004-07-29.

Method and device for plasma-etching organic material film

Номер патента: AU2003296132A1. Автор: Masanobu Honda,Shoichiro Matsuyama,Kazuya Nagaseki,Hisataka Hayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2004-07-29.

Method and Apparatus for Plasma Etching

Номер патента: US20220208550A1. Автор: Weikang Fan,Stephan Shannon L. Lilje. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140073113A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-13.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US09583315B2. Автор: Tomoyuki Mizutani,Hiroshi Tsujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20100133234A1. Автор: Hiroshi Suzuki,Tetsuo Yoshida,Ryoichi Yoshida,Michishige Saito,Akira Obi,Toshikatsu Wakaki,Hayato Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-06-03.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US20120309203A1. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-12-06.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143017A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US8252694B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Plasma etching method

Номер патента: US09779962B2. Автор: Shinichi Kozuka,Takao FUNAKUBO,Yuta Seya,Aritoshi Mitani. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma etching method

Номер патента: US09978566B2. Автор: Akihiro Yokota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Etsuji Ito,Tatsuro Ohshita,Shu KUSANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200312622A1. Автор: SATOSHI Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Plasma etching method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US10529582B2. Автор: Mitsunari Horiuchi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-01-07.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Plasma etching method

Номер патента: US09793136B2. Автор: Kosei Ueda,Yoshinobu Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150303069A1. Автор: Manabu Sato,Takanori Sato,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Plasma Etching with Metal Sputtering

Номер патента: US20240249927A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma etching method

Номер патента: US7037843B2. Автор: Isamu Namose. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-05-02.

Etching method for substrate to be processed and plasma-etching device

Номер патента: US09721803B2. Автор: Hiroyuki Takaba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Semiconductor device manufacturing method and plasma etching apparatus

Номер патента: US8772172B2. Автор: Eiichi Nishimura,Masato Kushibiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-07-08.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143028A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma etching method

Номер патента: US8741166B2. Автор: Tomoyuki Watanabe,Tetsuo Ono,Mamoru Yakushiji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-06-03.

Plasma etching method using perfluoroisopropyl vinyl ether

Номер патента: US20230162972A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-05-25.

Plasma etching method

Номер патента: EP3989682A1. Автор: Daisuke Sato,Yuki Oka,Kaoru Kaibuki. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-04-27.

Dual mode plasma etching system and method of plasma endpoint detection

Номер патента: US5242532A. Автор: John L. Cain. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1993-09-07.

Plasma etching method using pentafluoropropanol

Номер патента: US20230178341A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma etching tools and systems

Номер патента: WO2023239630A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma etching tools and systems

Номер патента: US20230395385A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Plasma etching method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20190080923A1. Автор: Mitsunari Horiuchi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-14.

Plasma etching method using gas molecule containing sulfur atom

Номер патента: EP3813097A1. Автор: Yoshinao Takahashi,Korehito Kato,Yoshihiko IKETANI,Mitsuharu SHIMODA. Владелец: Kanto Denka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-28.

Passivation chemistry for plasma etching

Номер патента: US20230335378A1. Автор: Eric A. Hudson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Passivation chemistry for plasma etching

Номер патента: WO2022072160A3. Автор: Eric A. Hudson. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2022-07-21.

Method for controlling etch rate when using consumable electrodes during plasma etching

Номер патента: US5955383A. Автор: Yuan-ko Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-09-21.

Apparatus for controlling etch rate when using consumable electrodes during plasma etching

Номер патента: US6030489A. Автор: Yuan-ko Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-02-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200227270A1. Автор: Masahito Mori,Hayato Watanabe,Takao Arase,Taku Iwase,Satoshi Terakura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Focus ring for improvement of semiconductor plasma etching process

Номер патента: US20220415621A1. Автор: Seung Ho Yang,Byeong Su An,Sung Dong Cho,Seong Wan BAE. Владелец: One Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Magnetron-enhanced plasma etching process

Номер патента: US4668338A. Автор: Sasson Somekh,David Cheng,Dan Maydan,Mei Cheng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1987-05-26.

Plasma etching of porous substrates

Номер патента: US9595422B2. Автор: Mikhaïl Baklanov,Liping Zhang,Jean-Francois De Marneffe. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2017-03-14.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US11456183B2. Автор: Masahito Mori,Toru Ito,Tadamitsu Kanekiyo. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-09-27.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US20200043744A1. Автор: Masahito Mori,Toru Ito,Tadamitsu Kanekiyo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Atomic layer etching method

Номер патента: US20210193473A1. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09922806B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234163A1. Автор: Shoi Suzuki,Taku GOHIRA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230317466A1. Автор: Masahito Yamaguchi,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09997337B2. Автор: Masahito Mori,Naoshi Itabashi,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Etching method

Номер патента: US09997374B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Sho TOMINAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11495468B2. Автор: Masanobu Honda,Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-08.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210066089A1. Автор: Masanobu Honda,Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Apparatus for plasma etching a metal layer and method of plasma-etching a metal layer

Номер патента: KR102040427B1. Автор: 김보성,홍문표,윤호원. Владелец: 고려대학교 세종산학협력단. Дата публикации: 2019-11-06.

Plasma etching method, and production method for semiconductor element

Номер патента: US20220068652A1. Автор: Yoshimasa Inamoto. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma etching method

Номер патента: US09966273B2. Автор: Yoshiki Igarashi,Wataru TAKAYAMA,Sho TOMINAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma etching method

Номер патента: US20190096689A1. Автор: Go Matsuura. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Plasma etching methods

Номер патента: US6010967A. Автор: Kevin G. Donohoe,Richard L. Stocks. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-01-04.

Plasma etching gas

Номер патента: US20030017708A1. Автор: Ming-Chung Liang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2003-01-23.

Method and system for etching a gate stack

Номер патента: WO2006025944A1. Автор: Arpan P. Mahorowala,Hiromasa Mochiki,Annie Y. Xia. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2006-03-09.

Methods and apparatus for alignment marks

Номер патента: US09899334B1. Автор: Fuchao Wang,Dongping Zhang,Billy Alan WOFFORD,Prakash Dalpatbhai Dev,Dina Rodriguez. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Method for manufacturing electronic device by forming a hole in a multilayer insulator film by plasma etching

Номер патента: US09530664B2. Автор: Shingo Kitamura,Aiko Kato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Dry etching method

Номер патента: US09905431B2. Автор: Masahito Mori,Takao Arase,Satoshi Terakura,Ryuta Machida. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Etching methods with alternating non-plasma and plasma etching processes

Номер патента: US20240162042A1. Автор: Xiangyu GUO,Nathan Stafford. Владелец: American Air Liquide Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Damage free gate dielectric process during gate electrode plasma etching

Номер патента: US5843835A. Автор: Ming-Hsi Liu. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 1998-12-01.

Selective silicon nitride plasma etching

Номер патента: US5188704A. Автор: Bang C. Nguyen,Kenneth L. Devries,Wayne T. Babie,Chau-Hwa J. Yang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1993-02-23.

Plasma etching method

Номер патента: US5928963A. Автор: Akira Koshiishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-07-27.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: US20190013209A1. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-01-10.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: US09934984B2. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Plasma etching method

Номер патента: US20100264116A1. Автор: Tatsuya Sugimoto,Masahiro Nakamura,Takefumi Suzuki. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2010-10-21.

Method and system for reducing polymer build up during plasma etch of an intermetal dielectric

Номер патента: US20020158247A1. Автор: Mohammad Massoodi,Mehrdad Mahanpour,Jose Hulog. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-31.

Plasma etching method

Номер патента: US20190228983A1. Автор: Takaaki Sakurai,Hirotoshi Inui. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-07-25.

Etching method using halogen fluoride and method for producing semiconductor

Номер патента: US20220051898A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-02-17.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US20060032585A1. Автор: Takeshi Shimada,Ken Yoshioka,Tadamitsu Kanekiyo,Yoshitaka Kai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-16.

Two step plasma etching

Номер патента: CA1191479A. Автор: Steven F. Bergeron,Bernard F. Duncan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1985-08-06.

Process for plasma etching of vias

Номер патента: US5514247A. Автор: Robert Wu,Hongching Shan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-05-07.

Plasma etching of silicon carbide

Номер патента: WO2002097852A3. Автор: Si Yi Li. Владелец: Si Yi Li. Дата публикации: 2003-04-03.

Two step plasma etching

Номер патента: US4457820A. Автор: Steven F. Bergeron,Bernard F. Duncan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-07-03.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: US20180122649A1. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: WO2017044154A1. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: ZEON CORPORATION. Дата публикации: 2017-03-16.

Method and apparatus for anisotropic etching

Номер патента: WO2001008207A1. Автор: Jyoti Kiron Bhardwaj. Владелец: Surface Technology Systems Plc. Дата публикации: 2001-02-01.

Plasma etching of dielectric layer with etch profile control

Номер патента: US20030045114A1. Автор: Lumin Li,Tuqiang Ni. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-06.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US12142495B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Toshiki KANAKI,Megumi UMEMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Metal removal method, dry etching method, and production method for semiconductor element

Номер патента: US20220325418A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-10-13.

Etching gas, etching method, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230386851A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Etching gas, etching method, and method for producing semiconductor element

Номер патента: EP4231332A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-08-23.

Atomic layer etch methods and hardware for patterning applications

Номер патента: US09997371B1. Автор: Adrien Lavoie,Purushottam Kumar,Pulkit Agarwal. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Etching method and storage medium

Номер патента: US09613823B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Kenshirou ASAHI,Kimihiko DEMICHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Etching method and method for producing semiconductor element

Номер патента: US20240249952A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Etching method and manufacturing method of a semiconductor memory device

Номер патента: US20240321570A1. Автор: Tsubasa IMAMURA,Ayata Harayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US8283254B2. Автор: Takahito Mukawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-10-09.

The method and system of plasma etching is carried out with bimodal process gas composition

Номер патента: CN106653550B. Автор: 向华,傅乾,吴英,许晴,谭忠奎. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-01-08.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US20120244709A1. Автор: Yoshiki Igarashi,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-09-27.

Plasma etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20150187588A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US09653357B2. Автор: Junichi Arami,Kenji Okazaki. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Method and system of monitoring and controlling deformation of a wafer substrate

Номер патента: US10431436B2. Автор: Huma Ashraf,Roland MUMFORD,Kevin RIDDELL,Grant Baldwin. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2019-10-01.

Plasma etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130267094A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Hironobu Ichikawa,Jin KUDO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-10-10.

Method of Plasma Etching

Номер патента: US20230170188A1. Автор: Huma Ashraf,Janet Hopkins,Kevin RIDDELL,Alex Huw Wood. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Method and apparatus for performing plasma process on particles

Номер патента: US20020148812A1. Автор: Naoki Tamitani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-17.

Method of plasma etching

Номер патента: EP4391023A1. Автор: Samira Binte KAZEMI. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Plasma etching method

Номер патента: US20240006186A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim,Sang-Hyun YOU. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing method and resist pattern modifying method

Номер патента: US20100055911A1. Автор: Jin Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-03-04.

Method of Plasma Etching

Номер патента: US20240213030A1. Автор: Binte Kazemi Samira. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Method of Plasma Etching

Номер патента: US20210193908A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Plasma etching unit

Номер патента: US20100024983A1. Автор: Masanobu Honda,Shoichiro Matsuyama,Kazuya Nagaseki,Koichiro Inazawa,Hisataka Hayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-02-04.

Plasma etching of ni-containing materials

Номер патента: WO2003065419A3. Автор: Lee Chen. Владелец: Lee Chen. Дата публикации: 2003-11-13.

Polarization-dependent laser-assisted plasma etching

Номер патента: US20190096684A1. Автор: David N. Ruzic,Jason A. Peck. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2019-03-28.

Polarization-dependent laser-assisted plasma etching

Номер патента: US10510550B2. Автор: David N. Ruzic,Jason A. Peck. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2019-12-17.

Etching method and semiconductor element manufacturing method

Номер патента: EP4181176A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-05-17.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230251567A1. Автор: Yoshihide Kihara,Jaeyoung Park,Maju TOMURA,Taiki Miura,Ryutaro Suda,Yusuke FUKUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Plasma generation and pulsed plasma etching

Номер патента: US09793127B2. Автор: yu chao Lin,Chao-Cheng Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Formation of removable shroud by anisotropic plasma etch

Номер патента: US20050287762A1. Автор: John Lee,Barbara Haselden. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2005-12-29.

Method for selectivity enhancement during dry plasma etching

Номер патента: US09666447B2. Автор: Vinayak Rastogi,Alok Ranjan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Focus ring and plasma etching apparatus comprising the same

Номер патента: EP4322200A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-14.

Focus ring and plasma etching apparatus comprising the same

Номер патента: US20240055238A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Apparatus and method for plasma etching

Номер патента: US20240258084A1. Автор: Jongwoo SUN,Jewoo HAN,Haejoong Park,Kyohyeok KIM,Taehwa Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2024-08-01.

Focus ring and plasma etching device including same

Номер патента: US20240030007A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Dry-etching method

Номер патента: US10192749B2. Автор: Kenichi Kuwahara,Syuji ENOKIDA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-29.

Dry-etching method

Номер патента: US20170162397A1. Автор: Kenichi Kuwahara,Syuji ENOKIDA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-08.

Apparatus and method for plasma etching

Номер патента: US11984304B2. Автор: Jongwoo SUN,Jewoo HAN,Haejoong Park,Kyohyeok KIM,Taehwa Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-14.

Focus ring and plasma etching device including same

Номер патента: EP4310886A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Method of manufacturing a ferroelectric device using a plasma etching process

Номер патента: US5443688A. Автор: Steven R. Collins,Abron S. Toure,Bruce W. LeBlanc. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 1995-08-22.

Enhanced plasma etching

Номер патента: US4985112A. Автор: Walter E. Mlynko,Frank D. Egitto. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1991-01-15.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11764070B2. Автор: Satoshi TODA,Naoki Shindo,Gen You,Haruna Suzuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20220399204A1. Автор: Nobuhiro Takahashi,Ken NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-15.

Method and apparatus for etching disk-like member

Номер патента: US7494597B2. Автор: Hisaya Fukunaga,Tadamitsu Miyazaki,Kazuya Hirayama,Hiroyasu Futamura. Владелец: Sumco Techxiv Corp. Дата публикации: 2009-02-24.

Ashing apparatus, ashing methods, and methods for manufacturing semiconductor devices

Номер патента: US20030073322A1. Автор: Takumi Shibata. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2003-04-17.

Single Wafer Etching Apparatus and Single Wafer Etching Method

Номер патента: US20070175863A1. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2007-08-02.

Anisotropic etching method

Номер патента: EP1096553B1. Автор: Hiroyuki Mitsubishi Materials Silicon Corp. OI. Владелец: Mitsubishi Materials Silicon Corp. Дата публикации: 2010-12-29.

Etching method and storage medium

Номер патента: US09607855B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Koji Takeya,Masashi Matsumoto,Junichiro Matsunaga,Ayano Hagiwara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Etching apparatus and method for semiconductor device

Номер патента: US20080248650A1. Автор: Tae-yong Kwon,Kyung Hyun Han,Kyung Chun Lim,Sang Min Jeong,Dong Yong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-10-09.

Wet etching method and wet etching system

Номер патента: US12119230B2. Автор: Takashi Ono,Kazuma Sekiya,Daigo Shitabo. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Dry etching method and apparatus for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US5990016A. Автор: Byong-dong Kim,Jung-kyu Lee,Sung-il Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-11-23.

Single wafer etching apparatus

Номер патента: MY148161A. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2013-03-15.

Method of monitoring output intensity of laser beam in bevel etching apparatus

Номер патента: US09905485B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210090898A1. Автор: Satoshi TODA,Naoki Shindo,Ryo Kuwajima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-25.

Method and apparatus for etching disk-like member

Номер патента: US20070017901A1. Автор: Hisaya Fukunaga,Tadamitsu Miyazaki,Kazuya Hirayama,Hiroyasu Futamura. Владелец: Komatsu Electronic Metals Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-25.

Substrate etching apparatus and substrate etching method

Номер патента: US20240242980A1. Автор: Yonghyun KIM,Kyu-Bum Kim,Jungwoo CHOI,Yeongmin Kim,Seung Ho MYOUNG,Ju Yeong YUN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma etching apparatus and plasma cleaning method

Номер патента: US09659756B2. Автор: Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Local etching apparatus

Номер патента: US6302995B1. Автор: Michihiko Yanagisawa,Chikai Tanaka. Владелец: SpeedFam-IPEC Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-16.

Plasma etching method

Номер патента: US20170372915A1. Автор: Hirotoshi Inui. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2017-12-28.

Local etching apparatus and local etching method

Номер патента: US20010036741A1. Автор: Michihiko Yanagisawa,Chikai Tanaka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Dry etching method and dry etching agent

Номер патента: US9929021B2. Автор: Akifumi YAO,Hiroyuki Oomori. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Dry Etching Method and Dry Etching Agent

Номер патента: US20170084467A1. Автор: Akifumi YAO,Hiroyuki Oomori. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-23.

Process for developing fine openings in a flexible electronic component with a plasma-etching technique

Номер патента: US20240071824A1. Автор: Gurinder S. Saini,David J. Crary. Владелец: Tech Etch Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Etching apparatus for use in manufacture of flat panel display device and manufacturing method using the same

Номер патента: US20070151950A1. Автор: Chun Il Kim. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-05.

Etching apparatus for use in manufacture of flat panel display device and manufacturing method using the same

Номер патента: US7807018B2. Автор: Chun Il Kim. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-05.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US4595452A. Автор: Richard F. Landau,Henry A. Majewski. Владелец: Oerlikon Buhrle USA Inc. Дата публикации: 1986-06-17.

Substrate removing method and storage medium

Номер патента: US20120250213A1. Автор: Yohei Yamazawa,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-10-04.

Plasma etching method for semiconductor device and etching apparatus of the same

Номер патента: US20020137340A1. Автор: Kye-Hyun Baek,Kil-Ho Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-26.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: KR19990078060A. Автор: 모리야쓰요시,우에스기후미히코,이토나쓰코. Владелец: 닛본 덴기 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1999-10-25.

Quartz glass member for plasma etching

Номер патента: US20110232847A1. Автор: Tatsuhiro Sato,Kyoichi Inaki. Владелец: Shin Etsu Quartz Products Co Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Methods and Systems for Plasma Etching Using Bi-Modal Process Gas Composition Responsive to Plasma Power Level

Номер патента: US20170125253A1. Автор: Xu Qing,Wu Ying,TAN Zhongkui,FU Qian. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-04.

Methods and Systems for Plasma Etching Using Bi-Modal Process Gas Composition Responsive to Plasma Power Level

Номер патента: US20170271166A1. Автор: Xu Qing,Wu Ying,TAN Zhongkui,FU Qian. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-21.

SYSTEM, METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA ETCH HAVING INDEPENDENT CONTROL OF ION GENERATION AND DISSOCIATION OF PROCESS GAS

Номер патента: US20160049304A1. Автор: Hudson Eric A.. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-18.

Display panel, plasma etching method and system

Номер патента: US20210119128A1. Автор: Pengbin ZHANG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Focus ring, plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20060102288A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Daiki Satoh,Masato Horiguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-05-18.

Focus ring, plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US8192577B2. Автор: Hideyuki Kobayashi,Daiki Satoh,Masato Horiguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-06-05.

Method of controlling plasma etch process

Номер патента: US20030153102A1. Автор: Hsien-Kuang Chiu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-08-14.

Photomask plasma etching apparatus, etching method, and photomask forming method

Номер патента: US20060292727A1. Автор: Takeharu Motokawa,Junichi Tonotani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Plasma etching process

Номер патента: US5405491A. Автор: Iraj E. Shahvandi,Carol Gelatos,Leroy Grant, Jr.. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Display panel, plasma etching method and system

Номер патента: US11189797B2. Автор: Pengbin ZHANG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

Plasma etching device

Номер патента: US20040134612A1. Автор: Takeomi Numata. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2004-07-15.

Method and apparatus for in-situ dry development

Номер патента: WO2024063997A1. Автор: Eric Chih-Fang Liu,Steven Grzeskowiak. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-03-28.

Vacuum loadlock ultraviolet bake for plasma etch

Номер патента: US20020046809A1. Автор: Mark Tesauro. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Plasma etching method and plasma etching system for carrying out the same

Номер патента: US6159388A. Автор: Shinya Iida,Yasuhiro Horiike,Michihiko Yanagisawa. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2000-12-12.

Etching method for magnetic tunnel junction

Номер патента: US11963455B2. Автор: Lu Chen,Dongdong HU,Kaidong Xu,Dongchen CHE. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Etching method and bevel etching apparatus

Номер патента: US09623516B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Etching method of glass substrate and wet etching apparatus thereof

Номер патента: US09676661B2. Автор: JIA Li. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Suction-extraction apparatus for treatment fluid and etching apparatus containing the same

Номер патента: MY188634A. Автор: Jürgen Haungs,Stefan Rapp. Владелец: Gebr Schmid GmbH. Дата публикации: 2021-12-22.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US12062522B2. Автор: Fumiya Kobayashi,Maju TOMURA,Keiji Kitagaito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

System, method and apparatus for ion milling in a plasma etch chamber

Номер патента: US09899227B2. Автор: Joydeep Guha,Aaron Eppler,Jun Hee Han,Butsurin JINNAI. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140141532A1. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

High-purity fluorinated hydrocarbon, use as a plasma etching gas, and plasma etching method

Номер патента: US09984896B2. Автор: Tatsuya Sugimoto. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Integrated laser and plasma etch dicing

Номер патента: WO2024163214A1. Автор: Cheng Sun,Clinton Goh,Jonathan Bryant MELLEN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Integrated laser and plasma etch dicing

Номер патента: US20240266220A1. Автор: Cheng Sun,Clinton Goh,Jonathan Bryant MELLEN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Method of plasma etching

Номер патента: US20020011464A1. Автор: Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Mamoru Yakushiji. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-31.

Apparatus and methods for actively controlling rf peak-to-peak voltage in an inductively coupled plasma etching system

Номер патента: WO2001075930A3. Автор: Shu Nakajima. Владелец: Shu Nakajima. Дата публикации: 2002-05-23.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US5895551A. Автор: Chang Heon Kwon. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1999-04-20.

Plasma etch apparatus with heated scavenging surfaces

Номер патента: US6083412A. Автор: Michael Rice,Jeffrey Marks,David W Groechel,Nicolas J Bright. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-07-04.

Plasma processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240194487A1. Автор: Yu Zhao,Makoto Satake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US20130019894A1. Автор: Shin Hiyama,Yutaka Kudou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-24.

Plasma etching electrode

Номер патента: US5993597A. Автор: Kazuo Saito,Akira Yamaguchi,Yasushi Mochizuki. Владелец: Nisshinbo Industries Inc. Дата публикации: 1999-11-30.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220285169A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210159089A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Method of high density plasma etching for semiconductor manufacture

Номер патента: US5783100A. Автор: Guy Blalock,Kevin Donohoe. Владелец: Micron Display Technology Inc. Дата публикации: 1998-07-21.

Method of plasma etching

Номер патента: US9040427B2. Автор: Huma Ashraf,Anthony Barker. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Plasma etching of additive-containing aln

Номер патента: EP4199687A1. Автор: Huma Ashraf,Alex WOOD,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-06-21.

Cyclical plasma etching

Номер патента: US20170069469A1. Автор: Michael J. Cooke,Andrew L. Goodyear. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2017-03-09.

Apparatus and method for plasma etching

Номер патента: US20070199657A1. Автор: Hiroshi Akiyama,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-08-30.

Plasma Etching

Номер патента: US20230197457A1. Автор: Huma Ashraf,Alex WOOD,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Etching method

Номер патента: US20140011363A1. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-01-09.

Method and system for distributing gas for a bevel edge etcher

Номер патента: WO2008124350A1. Автор: Andrew Bailey, III,Greg Sexton,Alan Schoep. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2008-10-16.

Plasma etching chamber

Номер патента: WO2009061104A1. Автор: Hee-Se Lee,Seong-Hyun Chung,Se Mun Park. Владелец: Sosul Co., Ltd.. Дата публикации: 2009-05-14.

Etching method and etching system

Номер патента: RU2332749C1. Автор: Ясухиро МОРИКАВА,Тосио ХАЯСИ,Коукоу СУУ. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2008-08-27.

Gas etching method and apparatus

Номер патента: US4160690A. Автор: Takashi Yamazaki,Yasuhiro Horiike,Masahiro Shibagaki. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1979-07-10.

Etching method of etching apparatus

Номер патента: US20220359173A1. Автор: Shih-Chieh Lin,Shuen-Hsiang Ke. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Plasma Etching Method

Номер патента: US20120052688A1. Автор: Shoichi Murakami,Akimitsu Oishi,Masayasu Hatashita. Владелец: Sumitomo Precision Products Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Plasma etching method

Номер патента: US09680090B2. Автор: Kentaro Yamada,Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Daisuke Fujita. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Method and system for regulating plasma dicing rates

Номер патента: US11721586B2. Автор: Antonius Hendrikus Jozef Kamphuis,Johannes Cobussen,Ernst Eiper,Chantal Dijkstra. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2023-08-08.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150332929A1. Автор: Masanobu Honda,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-11-19.

Method of plasma etching thin films of difficult to dry etch materials

Номер патента: WO2001020655A1. Автор: Martin Gutsche,Satish D. Athavale. Владелец: Infineon Technologies North America Corp.. Дата публикации: 2001-03-22.

Plasma etching techniques

Номер патента: WO2022173633A1. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-08-18.

Plasma etching techniques

Номер патента: US20220254645A1. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: WO2005079476B1. Автор: Jennifer Wang. Владелец: Northrop Grumman Corp. Дата публикации: 2006-07-27.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: EP1729978A2. Автор: Jennifer Wang. Владелец: Northrop Grumman Corp. Дата публикации: 2006-12-13.

Method for plasma etching of Ir-Ta-O electrode and for post-etch cleaning

Номер патента: US20020187645A1. Автор: HONG Ying,Sheng Hsu,Fengyan Zhang,Jer-shen Maa. Владелец: Sharp Laboratories of America Inc. Дата публикации: 2002-12-12.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: US20050178740A1. Автор: Jennifer Wang. Владелец: Northrop Grumman Space and Mission Systems Corp. Дата публикации: 2005-08-18.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: WO2005079476A2. Автор: Jennifer Wang. Владелец: NORTHROP GRUMMAN CORPORATION. Дата публикации: 2005-09-01.

Method and system for regulating plasma dicing rates

Номер патента: US20230326796A1. Автор: Antonius Hendrikus Jozef Kamphuis,Johannes Cobussen,Ernst Eiper,Chantal Claude Dijkstra. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2023-10-12.

Device fabrication by plasma etching with lessened loading effect

Номер патента: CA1124207A. Автор: Cyril J. Mogab. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-05-25.

Dry etching method

Номер патента: US4406733A. Автор: Shinichi Tachi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-09-27.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: CA1124208A. Автор: Cyril J. Mogab. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-05-25.

Plasma etch process for single-crystal silicon with improved selectivity to silicon dioxide

Номер патента: WO1985002818A1. Автор: Mammen Thomas,Atiye Bayman. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 1985-07-04.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: CA1121305A. Автор: William R. Harshbarger,Hyman J. Levinstein,Cyril J. Mogab,Roy A. Porter. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-04-06.

Improvements relating to plasma etching

Номер патента: EP1188180A1. Автор: Srinivasan Anand,Carl-Fredrik Carlstrom,Gunnar Landgren. Владелец: Surface Technology Systems Ltd. Дата публикации: 2002-03-20.

Plasma etching techniques

Номер патента: US11538690B2. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-27.

Method and apparatus for etching a deep trench

Номер патента: EP1420438A2. Автор: AJAY Kumar,Padmapani C. Nallan,Shu-Ting S. Hsu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Hard mask for copper plasma etch

Номер патента: US20010035582A1. Автор: Peter D. Nunan,Mark Richard Tesauro. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2001-11-01.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: US4226665A. Автор: Cyril J. Mogab. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1980-10-07.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: US4208241A. Автор: William R. Harshbarger,Hyman J. Levinstein,Cyril J. Mogab,Roy A. Porter. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1980-06-17.

Anisotropic plasma etching of trenches in silicon by control of substrate temperature

Номер патента: GB2341348A. Автор: Franz Laermer,Andrea Schilp,Volker Becker. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2000-03-15.

Anisotropic polysilicon plasma etch using fluorine gases

Номер патента: US5453156A. Автор: Ming-Shry Cher,Chung-Hsing Shan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1995-09-26.

Process for the plasma etching of materials not containing silicon

Номер патента: US7071110B2. Автор: Josef Mathuni,Günther Ruhl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-07-04.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09991138B2. Автор: Akifumi YAO,Mitsuhiro Tachibana,Koji Takeya,Tatsuo Miyazaki,Kunihiro Yamauchi,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Etching method and method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US09972696B2. Автор: Sang Won Bae,Hoyoung Kim,Wonsang Choi,Jae-Jik Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-15.

Semiconductor fin fabrication method and Fin FET device fabrication method

Номер патента: US09698253B2. Автор: Jing Zhao. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Dry Etching Method, Semiconductor Device Manufacturing Method, and Chamber Cleaning Method

Номер патента: US20190355590A1. Автор: Akifumi YAO,Shoi Suzuki. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Silicon etching liquid, silicon etching method, and microelectromechanical element

Номер патента: US09875904B2. Автор: Yoshiko Fujioto. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Selective Etching Method and Method for Forming an Isolation Structure of a Memory Device

Номер патента: US20100167494A1. Автор: Dae Jin Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-07-01.

Semiconductor device fabrication method and semiconductor device

Номер патента: US09853122B2. Автор: Masataka Yoshinari. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US20180102235A1. Автор: Yongsun Ko,Kijong Park,Taeheon Kim,Kyunghyun Kim,Jun-youl Yang,Jae Jin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-12.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US20170207066A1. Автор: Yongsun Ko,Kijong Park,Taeheon Kim,Kyunghyun Kim,Jun-youl Yang,Jae Jin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-20.

Etching method for a structure pattern layer having a first material and second material

Номер патента: US09697990B2. Автор: Akiteru Ko,Satoru Nakamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Plasma etching method

Номер патента: US20190027368A1. Автор: Go Matsuura. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-01-24.

Construction of a chamber casing in a plasma etching system

Номер патента: US5720846A. Автор: Whikun Yi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1998-02-24.

Baffle plate and plasma etching device having same

Номер патента: WO2003098669A1. Автор: Moon Hwan Kim,Jeung Woo Lee,Young Jae Moon. Владелец: Tokyo Electron Korea Ltd.. Дата публикации: 2003-11-27.

Method and Apparatus for In-Situ Dry Development

Номер патента: US20240096622A1. Автор: Eric Chih-Fang Liu,Steven Grzeskowiak. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Dry etching method, and dry etching agent and storage container therefor

Номер патента: US12100600B2. Автор: Shinya Ikeda,Hiroyuki Oomori,Tatsunori Kamida. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Graphene etching methods, systems, and composites

Номер патента: US09919929B2. Автор: Angele Sjong,Kraig Anderson. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2018-03-20.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234097A1. Автор: Atsushi Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Method and system for regulating plasma dicing rates

Номер патента: US12142527B2. Автор: Antonius Hendrikus Jozef Kamphuis,Johannes Cobussen,Ernst Eiper,Chantal Claude Dijkstra. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2024-11-12.

Method of reducing dielectric damage from plasma etch charging

Номер патента: US5843827A. Автор: Richard William Gregor,Chung Wai Leung. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 1998-12-01.

Device fabrication by plasma etching of aluminum rich surfaces

Номер патента: CA1121306A. Автор: David N. Wang,Hyman J. Levinstein. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-04-06.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: US4256534A. Автор: David N. Wang,Hyman J. Levinstein. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1981-03-17.

Method and structure for ex-situ polymer stud grid array contact formation

Номер патента: WO2002080269A2. Автор: Leo M. Higgins, III. Владелец: Siemens Dematic Electronics Assembly Systems, Inc.. Дата публикации: 2002-10-10.

Method and structure for ex-situ polymer stud grid array contact formation

Номер патента: WO2002080269A3. Автор: Leo M Higgins Iii. Владелец: Siemens Dematic Electronics As. Дата публикации: 2003-07-17.

PLASMA ETCHING OR DEPOSITION METHOD AND DEVICE FOR IMPLEMENTING THE METHOD

Номер патента: FR2616030A1. Автор: Barbara Charlet,Louise Peccoud. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 1988-12-02.

Plasma etching method, plasma etching device, plasma processing method, and plasma processing device

Номер патента: US09837251B2. Автор: Naoki Moriguchi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Plasma etching method and apparatus, and method of manufacturing liquid ejection head

Номер патента: US20120175061A1. Автор: Shuji Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-07-12.

Plasma etching of mask materials

Номер патента: EP4330769A1. Автор: Madhava Rao Yalamanchili,Toi Yue Becky Leung,Madhavi Rajaram Chandrachood. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Plasma etching method and method for manufacturing semiconductor element

Номер патента: US20240038546A1. Автор: Kazuma Matsui,Yuki Oka. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2024-02-01.

Plasma etching method using faraday cage

Номер патента: EP3712927A1. Автор: So Young Choo,Eun Kyu Her,Jeong Ho Park,Bu Gon Shin,Chung Wan Kim,Song Ho Jang,Jung Hwan Yoon. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Plasma etching of mask materials

Номер патента: US11915932B2. Автор: Madhava Rao Yalamanchili,Toi Yue Becky Leung,Madhavi Rajaram Chandrachood. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Plasma control method and plasma control apparatus

Номер патента: US20060110933A1. Автор: Makoto Shimosawa. Владелец: Fuji Electric Holdings Ltd. Дата публикации: 2006-05-25.

Plasma etching method using faraday cage

Номер патента: US20200365379A1. Автор: So Young Choo,Eun Kyu Her,Jeong Ho Park,Bu Gon Shin,Chung Wan Kim,Song Ho Jang,Jung Hwan Yoon. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Method and system for vapor extraction from gases

Номер патента: US4735633A. Автор: Kin-Chung R. Chiu. Владелец: Chiu Kin Chung R. Дата публикации: 1988-04-05.

Etching method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09882124B2. Автор: Akitaka Shimizu,Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Methods and structures of integrated MEMS-CMOS devices

Номер патента: US09950924B2. Автор: Sudheer S. Sridharamurthy,Ali J. Rastegar,Xiao Charles Yang,Te-Hse Terrence Lee,Mugurel Stancu. Владелец: MCube Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Irregular-surface forming method using plasma-etching process, and electrode member

Номер патента: US20130008697A1. Автор: Takeshi Kondo,Satoshi Naganawa. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2013-01-10.

Silicon microstructuring method and microbattery

Номер патента: US20150064567A1. Автор: Mohamed Boufnichel,Jean-Christophe Houdbert. Владелец: STMicroelectronics Tours SAS. Дата публикации: 2015-03-05.

Silicon microstructuring method and microbattery

Номер патента: US09780366B2. Автор: Mohamed Boufnichel,Jean-Christophe Houdbert. Владелец: STMicroelectronics Tours SAS. Дата публикации: 2017-10-03.

Method and apparatus for treating exhaust gases from CVD, PECVD or plasma etch reactors

Номер патента: US5928426A. Автор: Kenneth Allen Aitchison. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 1999-07-27.

Improved endpoint detection system and method for plasma etching

Номер патента: WO1991005367A1. Автор: Calvin Gabriel,Jim Nulty. Владелец: Vlsi Technology, Inc.. Дата публикации: 1991-04-18.

METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA ETCHING

Номер патента: US20180102235A1. Автор: Kim Kyunghyun,YANG Jun-youl,KO Yongsun,Park Kijong,KIM Taeheon,Shin Jae Jin. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-12.

METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA ETCHING

Номер патента: US20170207066A1. Автор: Kim Kyunghyun,YANG Jun-youl,KO Yongsun,Park Kijong,KIM Taeheon,Shin Jae Jin. Владелец: . Дата публикации: 2017-07-20.

Method and device for plasma etching

Номер патента: WO1999009583A1. Автор: Heinz Steinhardt. Владелец: Walther, Helga. Дата публикации: 1999-02-25.

ION BEAM ETCHING METHOD OF MAGNETIC FILM AND ION BEAM ETCHING APPARATUS

Номер патента: US20140251790A1. Автор: KODAIRA Yoshimitsu,Toyosato Tomohiko. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-11.

Exhausting method and means in a dry etching apparatus

Номер патента: US6551520B1. Автор: Ron-Fu Chu. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2003-04-22.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20050211380A1. Автор: Takayoshi Sawayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-29.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20020014308A1. Автор: Takayoshi Sawayama. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2002-02-07.

Plasma etching method

Номер патента: US09960014B2. Автор: Masatoshi Miyake,Nobuyuki Negishi,Ken'etsu Yokogawa,Naoyuki Kofuji,Masami Kamibayashi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Method and apparatus to improve plasma etch uniformity

Номер патента: WO2006041634A2. Автор: David Johnson,Russell Westerman. Владелец: Unaxis Usa Inc.. Дата публикации: 2006-04-20.

Method and apparatus to improve plasma etch uniformity

Номер патента: EP1797578A2. Автор: David Johnson,Russell Westerman. Владелец: Unaxis USA Inc. Дата публикации: 2007-06-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321562A1. Автор: Yoshihide Kihara,Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Method and apparatus for processing carbon nanotubes

Номер патента: US09771266B2. Автор: Takashi Matsumoto,Osayuki AKIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Radio frequency electron cyclotron resonance plasma etching apparatus

Номер патента: US5401351A. Автор: Seiji Samukawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1995-03-28.

Plasma etching method

Номер патента: US20170084430A1. Автор: Masatoshi Miyake,Nobuyuki Negishi,Ken'etsu Yokogawa,Naoyuki Kofuji,Masami Kamibayashi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-03-23.

Inductively coupled plasma etching apparatus

Номер патента: EP1269513A2. Автор: Shu Nakajima. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-01-02.

Inductively coupled plasma etching apparatus

Номер патента: WO2001075931A3. Автор: Shu Nakajima. Владелец: Shu Nakajima. Дата публикации: 2002-03-21.

Method and apparatus for etching and deposition using micro-plasmas

Номер патента: CA2387432C. Автор: Yogesh B. Gianchandani,Chester G. Wilson. Владелец: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2010-02-09.

System and method for plasma etching endpoint detection

Номер патента: US5405488A. Автор: Samuel V. Dunton,Calvin T. Gabriel,Dimitrios Dimitrelis. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Plasma etch chamber and method of plasma etching

Номер патента: EP3465727A1. Автор: Mohamed Elghazzali,Ben CURTIS,Frantisek Balon. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2019-04-10.

Plasma etch chamber and method of plasma etching

Номер патента: US20190304757A1. Автор: Mohamed Elghazzali,Ben CURTIS,Frantisek Balon. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2019-10-03.

Microwave plasma etching apparatus

Номер патента: US4559100A. Автор: Shigeru Nishimatsu,Keizo Suzuki,Yoshifumi Ogawa,Sadayuki Okudaira,Ken Ninomiya. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-12-17.

Sealing surfaces of components used in plasma etching tools using atomic layer deposition

Номер патента: US20230215703A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Robin Koshy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-07-06.

Method and apparatus for etch endpoint detection

Номер патента: WO2005045890A2. Автор: Francois Chandrasekar Dassapa,Brian K. McMillin. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2005-05-19.

Method and apparatus for etch endpoint detection

Номер патента: EP1678480A2. Автор: Francois Chandrasekar Dassapa,Brian K. McMillin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2006-07-12.

Plasma etch-resistant film and a method for its fabrication

Номер патента: US20210115555A1. Автор: Pekka J. Soininen,Mohammad Ameen,Vasil Vorsa. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2021-04-22.

A plasma etch-resistant film and a method for its fabrication

Номер патента: US20200080197A1. Автор: Pekka J. Soininen,Mohammad Ameen,Vasil Vorsa. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2020-03-12.

A plasma etch-resistant film and a method for its fabrication

Номер патента: EP3423610A1. Автор: Pekka J. Soininen,Mohammad Ameen,Vasil Vorsa. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2019-01-09.

Methods and apparatus for improving an rf excited reactive gas plasma

Номер патента: CA1157914A. Автор: Birol Kuyel. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1983-11-29.

Plasma etching using improved electrode

Номер патента: US4297162A. Автор: Randall S. Mundt,Timothy A. Wooldridge,Thomas O. Blasingame. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1981-10-27.

Electrode for plasma etching

Номер патента: US6007672A. Автор: Kazuo Saito,Akira Yamaguchi,Yasushi Mochizuki. Владелец: Nisshinbo Industries Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

Ion beam etching method and ion beam etching apparatus

Номер патента: US09966092B2. Автор: Kiyotaka Sakamoto,Yasushi Kamiya,Hiroshi Akasaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20240203694A1. Автор: Masahiro Yamamoto,Masaki Hosono,Kyohei Noguchi,Takuji Sako,Julen AROZAMENA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Method and apparatus for end point detection

Номер патента: US5045149A. Автор: James E. Nulty. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1991-09-03.

Ion beam processing method and ion beam processing apparatus

Номер патента: US20150303028A1. Автор: Yasushi Kamiya,Hiroshi Akasaka,Yuta Konno. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2015-10-22.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US09934941B2. Автор: Yasuyuki Sonoda. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Ion beam processing method and ion beam processing apparatus

Номер патента: US09852879B2. Автор: Yasushi Kamiya,Hiroshi Akasaka,Yuta Konno. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Thin film etching method and semiconductor device fabrication using same

Номер патента: SG153733A1. Автор: Cong Hai,HU Xiang,Zhou Mei Sheng,Pradeep Yelehanka. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2009-07-29.

Solid polymer electrolyte composite membrane comprising plasma etched porous support

Номер патента: WO2006036957A2. Автор: HAN Liu,Anthony B. LaConti. Владелец: GINER ELECTROCHEMICAL SYSTEMS, LLC. Дата публикации: 2006-04-06.

Etching methods for a magnetic memory cell stack

Номер патента: WO2003077287A3. Автор: Xiaoyi Chen,Guangxiang Jin,Jeng H Hwang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-02-26.

Dry etching method

Номер патента: US20060108323A1. Автор: Shuichi Okawa. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-05-25.

Plasma etching method

Номер патента: US8293127B1. Автор: Joseph F. Rypl. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2012-10-23.

Plasma etching of solder resist openings

Номер патента: US20170273187A1. Автор: SHENG Li,Rahul Jain,Robert Alan May,Sri Ranga Sai Boyapati,Kristof Darmawikarta. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-09-21.

Plasma etching of solder resist openings

Номер патента: WO2017160459A1. Автор: SHENG Li,Rahul Jain,Robert Alan May,Sri Ranga Sai Boyapati,Kristof Darmawikarta. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-09-21.

Plasma etching of solder resist openings

Номер патента: US09820386B2. Автор: SHENG Li,Rahul Jain,Robert Alan May,Sri Ranga Sai Boyapati,Kristof Darmawikarta. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Plasma Etched Catalytic Laminate with Traces and Vias

Номер патента: US20190014666A1. Автор: Konstantine Karavakis,Kenneth S. Bahl. Владелец: Sierra Circuits Inc. Дата публикации: 2019-01-10.

Method and apparatus for transmitting data

Номер патента: RU2571096C2. Автор: Бо ДАЙ,Чуньли ЛЯН,Бинь ЮЙ,Юйцян ЧЖАН,Вейвей ЯН. Владелец: ЗетТиИ Корпорейшн. Дата публикации: 2015-12-20.

Data configuration method and device

Номер патента: RU2533638C2. Автор: Юйпин ЛИ,Яожун Е,Лан ЧЖОУ,Кай ЧЖАНЬ. Владелец: Хуавей Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2014-11-20.

Method and system for reliable starting turbine engine

Номер патента: RU2666029C2. Автор: Пьер АРРЬЕ,Венсан ПУМАРЕД. Владелец: Турбомека. Дата публикации: 2018-09-05.

Retransmition method and device

Номер патента: RU2679250C1. Автор: Сяндун ЧЖАН. Владелец: Хуавей Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-02-06.

Pilot signal allocation method and apparatus

Номер патента: RU2458470C2. Автор: Ксин КИ,Джианфенг КАНГ,Чао ВЕИ. Владелец: Нокиа Сименс Нетуоркс Ой. Дата публикации: 2012-08-10.

Silicon component for plasma etching apparatus

Номер патента: US9290391B2. Автор: Kosuke Imafuku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-22.

Method and apparatus for micromachining using a magnetic field and plasma etching

Номер патента: US20030040178A1. Автор: Neal Rueger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-27.

Device for fabricating a mask by plasma etching a semiconductor substrate

Номер патента: US20060148274A1. Автор: Michel Puech,Martial Chabloz. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2006-07-06.

Methods and apparatus for measuring temperatures at high potential

Номер патента: WO1998011412A1. Автор: Donald W. Berrian. Владелец: Berrian Donald W. Дата публикации: 1998-03-19.

Method and apparatus for forming a layer

Номер патента: US4857139A. Автор: Shunpei Yamazaki,Mamoru Tashiro,Kazuo Urata. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1989-08-15.

Storage medium with polarized rock thin section substrate, and manufacturing method and use thereof

Номер патента: SE2150136A1. Автор: Yi Yang,Jianzhong Liu. Владелец: Inst Geochemistry Cas. Дата публикации: 2021-11-22.

Implant, and method and system for producing such an implant

Номер патента: US09737392B2. Автор: Jan Hall. Владелец: Nobel Biocare Services AG. Дата публикации: 2017-08-22.

Multi-stage resin surface etching method, and plating method on resin using same

Номер патента: EP3633066A1. Автор: Hiroshi Ishizuka,Miyoko IZUMITANI,Yasuyuki Kuramochi. Владелец: JCU Corp. Дата публикации: 2020-04-08.

Discharge tube for a local etching apparatus and a local etching apparatus using the discharge tube

Номер патента: US6429399B2. Автор: Michihiko Yanagisawa,Tadayoshi Okuya. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-06.

Method and system to locate moving transport facilities

Номер патента: RU2419104C2. Автор: Эндрю К. РЕКОВ,Скотт А. СТЕФЕНС. Владелец: ДИР ЭНД КОМПАНИ. Дата публикации: 2011-05-20.

Method and apparatus for producing urea

Номер патента: RU2412163C2. Автор: Федерико ЗАРДИ,Паоло СТИКЧИ,Паоло БРУНЕНГО. Владелец: Уреа Касале С.А.. Дата публикации: 2011-02-20.

Improved oxidation methods and reactor

Номер патента: RU2577839C2. Автор: Фрэнк Р. ФИТЧ,Нареш САЧЕК,Чжисюн ТА. Владелец: Линде Акциенгезелльшафт. Дата публикации: 2016-03-20.

Method and device for sawing

Номер патента: RU2288836C2. Автор: Аско ПЕРТТИЛЯ. Владелец: Маиртек Кю. Дата публикации: 2006-12-10.

Tea extract production method and tea extract

Номер патента: RU2432088C2. Автор: Ши-Цю ЧЖАН. Владелец: Унилевер Н.В.. Дата публикации: 2011-10-27.

Method and device for capacities processing

Номер патента: RU2392070C1. Автор: Штеффен КАППЕЛЬ,Клаус БАУМГАРТНЕР,Андреас ФАЛЬДИК. Владелец: Кхс Аг. Дата публикации: 2010-06-20.

Liquid crystal display, and also method and device for measuring pressure

Номер патента: RU2635409C2. Автор: Чжуншен ЦЗЯН,Аньюй ЛЮ,Гошен ЛИ. Владелец: Сяоми Инк.. Дата публикации: 2017-11-13.

Method and system for controlling meat products

Номер патента: RU2301433C2. Автор: Хокан АНДЕРССОН. Владелец: Телэнвайрнмент Аб. Дата публикации: 2007-06-20.

Method and device for check, control and(or) adjustment of centrifuge

Номер патента: RU2264621C2. Автор: Карл Хейнц ЦЕТТИР. Владелец: Вестфалия Сепаратор Аг. Дата публикации: 2005-11-20.

Stamp, and stamp manufacturing method, and antireflection coating

Номер патента: RU2497980C1. Автор: Токио ТАГУТИ,Тиаки МИНАРИ. Владелец: Шарп Кабусики Кайся. Дата публикации: 2013-11-10.

Method and design of mixer

Номер патента: RU2604628C2. Автор: Йорге АРРИБО. Владелец: НОВ КОНДОР ЭлЭлСи. Дата публикации: 2016-12-10.

Methods and systems for cooking in robotic kitchen

Номер патента: RU2699690C2. Автор: Марк ОЛЕЙНИК. Владелец: Марк ОЛЕЙНИК. Дата публикации: 2019-09-09.

Method and device to increase the hydrocarbon fuel gas component

Номер патента: RU2659248C2. Автор: Антонийо ЛИЦИТАР. Владелец: Улла Скётт Юуль-Хансен. Дата публикации: 2018-06-29.

Method and apparatus for conditioning sludge before drying

Номер патента: RU2449955C2. Автор: Клод ПРЕВО,Марсель ЛЕЗУАЛЛЬ,Андрэ ОБРИ. Владелец: Дегремон. Дата публикации: 2012-05-10.

Method and device for drying and milling wet material

Номер патента: RU2680240C2. Автор: Жан-Марк МАРШАЛЬ. Владелец: Бруайёр Пуатемиль Енженьери. Дата публикации: 2019-02-18.

Method and device for a structure subject to rolling

Номер патента: RU2689640C2. Автор: Жан-Люк ЛОНГЕРОШ,Филипп МАГАЛЬДИ. Владелец: Джепс Текно. Дата публикации: 2019-05-28.

Method and device for vacuum film-coating

Номер патента: RU2466915C2. Автор: Андреа ГРАНИЛИ. Владелец: Криовак, Инк.. Дата публикации: 2012-11-20.

Neon-helium mixture separation method and device

Номер патента: RU2263861C1. Автор: М.Ю. Савинов,В.Л. Бондаренко. Владелец: Савинов Михаил Юрьевич. Дата публикации: 2005-11-10.

Method and apparatus for plasma etching a substrate

Номер патента: GB202404374D0. Автор: . Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-05-08.

Quantitative monitoring method and structure for plasma etching

Номер патента: CN1752288A. Автор: 李婷,杨芳,张大成,张钰,王纬,方竞,贺学锋. Владелец: PEKING UNIVERSITY. Дата публикации: 2006-03-29.

PLASMA ETCHING METHOD

Номер патента: US20120003838A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR FORMING SURFACE PROCESSED DATA

Номер патента: US20120001908A1. Автор: Takahashi Kenji,Kikuta Mamoru,Miura Kenjiro,Uzuyama Daijiro. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR DRYING A FIBROUS WEB

Номер патента: US20120000089A1. Автор: Boechat Joao V.,Scherb Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device for Drying Goods

Номер патента: US20120000090A1. Автор: Mühlherr Christian,Lieberherr Kurt. Владелец: Buhler AG. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for solar-greenhouse production and harvesting of micro-algae

Номер патента: US20120000126A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR DISPENSING MOIST SMOKELESS TOBACCO

Номер патента: US20120000165A1. Автор: Williams Dwight D.. Владелец: ALTRIA CLIENT SERVICES, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device for Manufacturing a Three-Layer Cord of the Type Rubberized in Situ

Номер патента: US20120000174A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR THE CONTINUOUS OR SEMI-CONTINUOUS PRODUCTION OF FLAVORED ICE

Номер патента: US20120000206A1. Автор: Erbs Daryl G.,Pierskalla Cary J.,Myers John P.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for reducing tin oxide in float glass production

Номер патента: US20120000248A1. Автор: Nelson Douglas M.. Владелец: Pilkington Group Limited. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and device for providing blood constituents

Номер патента: US20120000299A1. Автор: . Владелец: ROCHE DIAGNOSTICS OPERATIONS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device for Controlling Vibrations of a Metallurgical Vessel

Номер патента: US20120000315A1. Автор: Fleischanderl Alexander,Hiebler Martin,Staudinger Guenther,Wimmer Peter. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SPINDLE MOTOR TRAY ADHESIVE DISPENSING METHOD AND SUPPLEMENTARY APPARATUS

Номер патента: US20120000418A1. Автор: Huang David. Владелец: TRICORE CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Control Apparatus for Controlling a High-Pressure Fuel Supply Pump

Номер патента: US20120000445A1. Автор: Tokuo Kenichiro,Watanabe Masanori,BORG Jonathan. Владелец: Hitachi, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR FORMING A PHOTOVOLTAIC CELL AND A PHOTOVOLTAIC CELL

Номер патента: US20120000529A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR ACTIVELY SUPPRESSING PRESSURE OSCILLATIONS IN A HYDRAULIC SYSTEM

Номер патента: US20120000543A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HIGH SOLIDS CONTENT SLURRY METHODS AND SYSTEMS

Номер патента: US20120000653A1. Автор: . Владелец: SCHLUMBERGER TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and arrangement for sealing a subsea oil wellhead

Номер патента: US20120000666A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Motorized Litter Transport Kits, Methods and Devices Relating Thereto

Номер патента: US20120000718A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and an Apparatus for Grouping Discrete Laminar Articles Into Batches of Predetermined Count

Номер патента: US20120000748A1. Автор: Chauhan Vijay. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS OF ARC PREVENTION DURING RF SPUTTERING OF A THIN FILM ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120000767A1. Автор: Halloran Sean Timothy. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLY FOR ANODIZING, ANODIZING METHOD, AND ANODIZED FILM

Номер патента: US20120000784A1. Автор: . Владелец: KOST CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND SYSTEMS FOR HOLDING SURGICAL INSTRUMENT COUNT SHEETS

Номер патента: US20120000804A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Composition for Environmental Clean Up

Номер патента: US20120000856A1. Автор: Yancy Donald Lane. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MANURE SEPARATION FOR DIGESTER METHOD AND APPARATUS

Номер патента: US20120000863A9. Автор: DeWaard David C.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR APPLYING METALLIC CLADDING TO INTERIOR SURFACES OF PIPE ELBOWS

Номер патента: US20120000966A1. Автор: GREENWALL Norman Alexander. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR ALIGNMENT OF INTEGRATED CIRCUITS

Номер патента: US20120001340A1. Автор: . Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURE METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001344A1. Автор: IDANI Naoki,TAKESAKO Satoshi. Владелец: FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS, SHEET FEED CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120001377A1. Автор: Miyahara Nobuaki. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ENERGY GENERATION

Номер патента: US20120001431A1. Автор: SMITH George. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR GENERATION OF FREE-SURFACE WAVES USING CAVITY RESONATOR

Номер патента: US20120001434A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

TUNABLE WHITE COLOR METHODS AND USES THEREOF

Номер патента: US20120001555A1. Автор: Leung Wa-Hing,Tu Qifei. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLY APPARATUS, POWER SUPPLY SYSTEM, CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120001591A1. Автор: Fukaya Yudai. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLY APPARATUS, POWER SUPPLY SYSTEM, CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120001592A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Circuitry to Recover Energy from Discharge Signals of a Charging Operation of a Battery/Cell

Номер патента: US20120001594A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR CHARGING MULTI-CELL LITHIUM-BASED BATTERIES

Номер патента: US20120001596A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HARD PARTICLE CONCENTRATION DETECTING METHOD, PARTICLE CONCENTRATION DETECTING METHOD, AND DEVICE THEREFOR

Номер патента: US20120001619A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method And Apparatus For Measuring The Thickness Of A Metal Layer Provided On A Metal Object

Номер патента: US20120001624A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for obtaining spatial information and measuring the dielectric constant of an object

Номер патента: US20120001628A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR TESTING ISFET ARRAYS

Номер патента: US20120001646A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120001733A1. Автор: Kousaka Satoshi,Abeno Takashi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for efficiently querying and identifying multiple items on a communication channel

Номер патента: US20120001736A1. Автор: Hulvey Robert. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Generating Mood-Based Haptic Feedback

Номер патента: US20120001749A1. Автор: . Владелец: IMMERSION CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM, METHOD, AND APPARATUS FOR TRIGGERING AN ALARM

Номер патента: US20120001756A1. Автор: Eckert Lee H.,MERCIER MICHAEL,SHAFER Gary Mark. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device for Determining Aspect Angle Progression

Номер патента: US20120001796A1. Автор: Berens Patrick,Holzner Juergen,Gebhardt Ulrich. Владелец: EADS DEUTSCHLAND GmbH. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR CALIBRATING AN ARRAY ANTENNA

Номер патента: US20120001810A1. Автор: Soualle Francis,Wolf Helmut. Владелец: Astrium GmbH. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Implementing a Multiple Display Mode

Номер патента: US20120001829A1. Автор: JUNG Younghee,Anttila Akseli,Tanaka Yumiko. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSOR, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT

Номер патента: US20120001858A1. Автор: Matsuda Kyohei,Suda Yukihiro,NAGAO Yoji. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR CALCULATING A POWER CONSUMPTION SEGMENT AND DISPLAYING A POWER CONSUMPTION INDICATOR

Номер патента: US20120001883A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

GAME MACHINE, DISPLAY CONTROL METHOD, AND DISPLAY CONTROL PROGRAM

Номер патента: US20120001900A1. Автор: MICHIGUCHI Takuro. Владелец: Kyoraku Industrial Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND SYSTEMS FOR 3D ANIMATION

Номер патента: US20120001906A1. Автор: Wilkinson James. Владелец: BLUE SKY STUDIOS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND SYSTEMS FOR 3D ANIMATION

Номер патента: US20120001907A1. Автор: Wilkinson James. Владелец: BLUE SKY STUDIOS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and system for identifying and defining geofences

Номер патента: US20120001928A1. Автор: Sheha Michael A.,Sheha Angie. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Image display and storage apparatus, method and medium

Номер патента: US20120001941A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Brightness Controller, Brightness Control Method, and Computer Program Product

Номер патента: US20120001949A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ENCODING/DECODING VIDEO DATA TO IMPLEMENT LOCAL THREE-DIMENSIONAL VIDEO

Номер патента: US20120002006A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MULTIPLE VIEWPOINT IMAGING CONTROL DEVICE, MULTIPLE VIEWPOINT IMAGING CONTROL METHOD AND CONPUTER READABLE MEDIUM

Номер патента: US20120002019A1. Автор: Hashimoto Takashi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE DISPLAY APPARATUS, IMAGE DISPLAY METHOD, AND COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002026A1. Автор: . Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGING APPARATUS, IMAGE EDITING METHOD AND PROGRAM

Номер патента: US20120002072A1. Автор: OGAWA Katsunori. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR PROVIDING PORTABLE PHOTOGRAPHIC IMAGES

Номер патента: US20120002095A1. Автор: Lehrman Mikel A.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR REPAIRING FLAT PANEL DISPLAY

Номер патента: US20120002155A1. Автор: . Владелец: INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2012-01-05.

LOCAL EXPOSURE APPARATUS, LOCAL EXPOSURE METHOD AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002183A1. Автор: Tanaka Shigeki,Matsumura Yuki,Ota Yoshiharu,MORIYAMA Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus Using Volume Holographic Wavelength Blockers

Номер патента: US20120002197A1. Автор: MOSER Christophe,HAVERMEYER Frank. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

PRINT SHOP MANAGEMENT METHOD AND PROGRAM FOR PRINTING MIXED COLOR AND BLACK AND WHITE DOCUMENTS

Номер патента: US20120002219A1. Автор: . Владелец: KONICA MINOLTA SYSTEMS LABORATORY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND PROGRAM FOR CUSTOM SPOOL PAGE PRINTING

Номер патента: US20120002229A1. Автор: TRAN John Phuong. Владелец: KONICA MINOLTA SYSTEMS LABORATORY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, DISPLAY CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002232A1. Автор: Inui Masanobu. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING SYSTEM, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002238A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

MENU DISPLAY SYSTEM, MENU DISPLAY METHOD, AND SERVER DEVICE

Номер патента: US20120002239A1. Автор: OKAMURA Kinko. Владелец: SEIKO EPSON CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR PACKAGING A SUBSTRATE

Номер патента: US20120002266A1. Автор: . Владелец: QUALCOMM MEMS Technologies, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and System for Determining Projections in Non-Central Catadioptric Optical Systems

Номер патента: US20120002304A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR COOLING ELECTRONIC DEVICES

Номер патента: US20120002342A1. Автор: . Владелец: Apple Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR INTEGRATED CABLE DROP COMPENSATION OF A POWER CONVERTER

Номер патента: US20120002451A1. Автор: . Владелец: POWER INTEGRATIONS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR SEPARATING AND COMPOSING SEISMIC WAVES

Номер патента: US20120002505A1. Автор: . Владелец: Institue of Geology and Geophysics, Chinese Academy of Sciences. Дата публикации: 2012-01-05.

PLAYBACK DEVICE, PLAYBACK METHOD AND PROGRAM

Номер патента: US20120002518A1. Автор: Yonezawa Takeshi,Sagara Seiichi,Uemura Kamon. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

CONTROL DEVICE, CONTROL METHOD, AND CONTROL PROGRAM

Номер патента: US20120002522A1. Автор: Yamamoto Masaaki. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Information Storage Medium, Reproducing Method, And Recording Method

Номер патента: US20120002529A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION STORAGE MEDIUM, REPRODUCING METHOD, AND RECORDING METHOD

Номер патента: US20120002530A1. Автор: Morita Seiji,Takazawa Koji,Ando Hideo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION STORAGE MEDIUM, REPRODUCING METHOD, AND RECORDING METHOD

Номер патента: US20120002531A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR DISTRIBUTING NETWORK TRAFFIC AMONG MULTIPLE DIRECT HARDWARE ACCESS DATAPATHS

Номер патента: US20120002535A1. Автор: . Владелец: ORACLE AMERICA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMMUNICATION APPARATUS, COMMUNICATION SYSTEM, COMMUNICATION METHOD, AND A COMPUTER-READABLE MEDIUM

Номер патента: US20120002565A1. Автор: AMANO Katsuhiro. Владелец: BROTHER KOGYO KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

COMMUNICATION APPARATUS, COMMUNICATION METHOD, AND A COMPUTER-READABLE MEDIUM

Номер патента: US20120002566A1. Автор: . Владелец: BROTHER KOGYO KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR AVOIDING INTERFERENCE CAUSED BY NON-SYNCHRONIZATION IN RELAY TDD SYSTEM

Номер патента: US20120002576A1. Автор: Zhang Xiaobo,You Mingli. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ESTABLISHING AND MAINTAINING A SPECTRALLY EFFICIENT MULTICAST GROUP CALL

Номер патента: US20120002581A1. Автор: . Владелец: MOTOROLA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

CONTROL SIGNAL TRANSMITTING METHOD AND APPARATUS IN RELAY STATION

Номер патента: US20120002593A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

RECEIVING METHOD AND DEVICE FOR DOWNLINK SERVICE IN LONG TERM EVOLUTION SYSTEM

Номер патента: US20120002595A1. Автор: . Владелец: ZTE CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PREVENTING SIGNAL INTERFERENCE IN WIRELESS RELAY NETWORK BASED ON SYNCHRONOUS HARQ

Номер патента: US20120002597A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TRANSMITTING DATA ON RELAY COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002598A1. Автор: Kim Byoung-Hoon,Seo Han-Byul. Владелец: LG ELECTRONICS INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TRANSMITTING AND RECEIVING HARQ BURST

Номер патента: US20120002619A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE OF NETWORK RESOURCE RELEASE PROCESSING

Номер патента: US20120002625A1. Автор: . Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Uplink Multi-Carrier Transmit Diversity

Номер патента: US20120002630A1. Автор: . Владелец: Telefonaktiebolaget lM Ericsson (publ). Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR SUPPORTING CARRIER AGGREGATION

Номер патента: US20120002635A1. Автор: Kim So Yeon,Chung Jae Hoon,Kwon Yeong Hyeon,Han Seung Hee. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR CALL ROUTING

Номер патента: US20120002646A1. Автор: Zabawskyj Bohdan K.,Moore Ben. Владелец: REDKNEE INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND ARRANGEMENTS IN A WIRELESS TELECOMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002648A1. Автор: . Владелец: Telefonaktiebolaget lM Ericsson (publ). Дата публикации: 2012-01-05.

GATEWAY APPARATUS, COMMUNICATION CONTROL METHOD, AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM STORING COMMUNICATION CONTROL PROGRAM

Номер патента: US20120002659A1. Автор: KAWAGUCHI Kenji. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR COEXISTENCE OF MULTIPLE OPERATING ENTITY SYSTEMS

Номер патента: US20120002662A1. Автор: LI YANG,Lv Yongxia,HOU Yunzhe,Wan Lei,Ren Xiaotao. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR COMPRESSING FRAME

Номер патента: US20120002683A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and System for Transmission of Identification via Metadata for Repeating Relays using Spread-Spectrum Technology

Номер патента: US20120002701A1. Автор: . Владелец: COMTECH EF DATA CORP.. Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE METHOD AND SYSTEM FOR TRANSMISSION AND RECEPTION OF DATA

Номер патента: US20120002708A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR SELECTING VIDEO CODEC TO BE USED BETWEEN STATIONS

Номер патента: US20120002718A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR MULTI-LAYER RATE CONTROL FOR A MULTI-CODEC SYSTEM

Номер патента: US20120002721A1. Автор: CHEN Xuemin,Berbecel Gheorghe. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR REGION-BASED FILTER PARAMETER SELECTION FOR DE-ARTIFACT FILTERING

Номер патента: US20120002722A1. Автор: Zheng Yunfei,Yin Peng,Sole Joel,Xu Qian,Lu Xiaoan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ENCODING DEVICE AND METHOD AND MULTIMEDIA APPARATUS INCLUDING THE ENCODING DEVICE

Номер патента: US20120002724A1. Автор: KIim Seong Hee. Владелец: CORE LOGIC INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for scalable video coding

Номер патента: US20120002726A1. Автор: Lei Zhibin,WU Yannan,Fang Laifa. Владелец: Hong Kong Applied Science and Technology Research Institute Company Limited. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR FAST DIGITAL CHANNEL CHANGE UTILIZING TIME-STAMP MANAGEMENT

Номер патента: US20120002731A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS TO SUPPORT SCALABILITY IN A MULTICARRIER NETWORK

Номер патента: US20120002738A1. Автор: Jacobsen Eric A.,Foerster Jeff,Dahle Dan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TRANSMITTING A REFERENCE SIGNAL IN A WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002740A1. Автор: Chung Jae Hoon,Kwon Yeong Hyeon,Han Seung Hee. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Codebook-Based Precoding in MIMO Systems

Номер патента: US20120002750A1. Автор: Tiirola Esa Tapani,Pajukoski Kari Pekka,Hooli Kari Juhani. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Transmitter, Transmission Method, Receiver, Reception Method, and Program

Номер патента: US20120002751A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR BREATHING ADAPTED IMAGING

Номер патента: US20120002780A1. Автор: . Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR CALLED PARTY TO PROVIDE INDICATION INFORMATION TO CALLING PARTY

Номер патента: US20120002796A1. Автор: Zhang Yi,Wang Jun,Li Yan,LIU Jianfeng. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and system for realizing secure forking call session in IP multimedia subsystem

Номер патента: US20120002816A1. Автор: Teng Zhimeng,Wei Yinxing,Tian Tian,Zhu Yunwen. Владелец: ZTE CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

KEY MANAGEMENT METHOD AND KEY MANAGEMENT DEVICE

Номер патента: US20120002817A1. Автор: Wada Hiroyuki,Oida Atsushi. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

AUDIO PROCESSING DEVICE, AUDIO PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002828A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus For Inspecting Defect Of Pattern Formed On Semiconductor Device

Номер патента: US20120002861A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING UNIT, IMAGE PROCESSING METHOD, AND COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002864A1. Автор: KOUNO MASAKAZU. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

FEATURE POINT GENERATION SYSTEM, FEATURE POINT GENERATION METHOD, AND FEATURE POINT GENERATION PROGRAM

Номер патента: US20120002867A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR BLOCK BASED IMAGE COMPRESSION WITH MULTIPLE NON-UNIFORM BLOCK ENCODINGS

Номер патента: US20120002873A1. Автор: . Владелец: ATI TECHNOLOGIES ULC. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Systems for Image Data Processing

Номер патента: US20120002875A1. Автор: . Владелец: Luminex Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND SYSTEMS FOR DETERMINING AN ENHANCED RANK ORDER VALUE OF A DATA SET

Номер патента: US20120002876A1. Автор: WILLIAMS DARIN S.. Владелец: Raytheon Company. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Systems for Image Data Processing

Номер патента: US20120002882A1. Автор: . Владелец: Luminex Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS, METHODS, AND COMPUTER-READABLE MEDIA FOR DETERMINING BASIC PROBABILITY NUMBERS FOR DATA FUSION

Номер патента: US20120002887A1. Автор: . Владелец: BATTELLE ENERGY ALLIANCE, LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Automatic Pattern Analysis

Номер патента: US20120002888A1. Автор: Ishikawa Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and apparatus for encoding/decoding graphic data

Номер патента: US20120002891A1. Автор: Ahn Jeong-hwan,Han Mahn-jin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002900A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device for Image Zooming

Номер патента: US20120002901A1. Автор: ZHANG Wei,Si Bingyu,Lee Chi-Tien. Владелец: INFOVISION OPTOELECTRONICS (KUNSHAN) CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR STORING A LASER OPTICAL FIBER

Номер патента: US20120002933A1. Автор: Williams Richard Alan,Seftel Allen D.,Pastor Stephen T.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Providing a Copy-Protected Video Signal

Номер патента: US20120002950A1. Автор: Tan Baolin,Abdin Mazen. Владелец: DCS Copy Protection Limited. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PROGRESSIVELY DELETING MEDIA OBJECTS FROM STORAGE

Номер патента: US20120002951A1. Автор: REISMAN Richard R.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and System for Correcting the Linearity Error in Electrophotographic Devices

Номер патента: US20120002986A1. Автор: Hadady Craig Eric,Jones Christopher Dane,Lemaster John. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CONVEYING DEVICE, CONVEYING METHOD AND MICROSCOPE SYSTEM

Номер патента: US20120003065A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ASSEMBLING ROTATING MACHINES

Номер патента: US20120003076A1. Автор: Cummins Josef Scott,Wilson Ian David. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OXIDATION TREATMENT METHOD AND OXIDATION TREATMENT APPARATUS

Номер патента: US20120003143A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatus for Manufacturing Plasma Based Plastics and Bioplastics Produced Therefrom

Номер патента: US20120003193A1. Автор: Burgess James E.,Smith Jason,Campbell Phil G.,Weiss Lee E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND KITS USED IN IDENTIFYING GLIOBLASTOMA

Номер патента: US20120003209A1. Автор: . Владелец: THE TRANSLATIONAL GENOMICS RESEARCH INSTITUTE. Дата публикации: 2012-01-05.

MODULATING PDX-1 WITH PCIF1, METHODS AND USES THEREOF

Номер патента: US20120003242A1. Автор: Stoffers Doris. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatus for Manufacturing Plasma Based Plastics and Bioplastics Produced Therefrom

Номер патента: US20120003279A1. Автор: Burgess James E.,Smith Jason,Campbell Phil G.,Weiss Lee E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatus for Manufacturing Plasma Based Plastics and Bioplastics Produced Therefrom

Номер патента: US20120003324A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MODIFIED SODIUM-MONTMORILLONITE, PREPARATION METHOD AND USES THEREOF

Номер патента: US20120003328A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Compositions for Reducing Sodium Content in Food Products

Номер патента: US20120003358A1. Автор: Vadlamani Keswara R.,Friday Dillon,Broska Amy,Miller Jared. Владелец: CAMPBELL SOUP COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR CONNECTING TUBES MADE OUT OF THERMOPLASTIC MATERIAL

Номер патента: US20120003411A1. Автор: Strübin Pierre,Chuat René,Grosjean Yoland. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS USING A SPLIT CASE DIE TO PRESS A PART AND THE PART PRODUCED THEREFROM

Номер патента: US20120003443A1. Автор: . Владелец: KENNAMETAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING APPARATUS FOR CATALYST-COATED MEMBRANE ASSEMBLY

Номер патента: US20120003572A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING A VISIBLE HYDROGEN FLAME

Номер патента: US20120003593A1. Автор: Conrad Wayne Ernest. Владелец: G.B.D. CORP. Дата публикации: 2012-01-05.

STANDARDIZED METHOD AND KIT FOR THE QUANTIFICATION OF HEPATITIS A VIRUS

Номер патента: US20120003624A1. Автор: . Владелец: UNIVERSIDAD DE BARCELONA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND KITS FOR DETECTING AN INFECTIOUS AGENT

Номер патента: US20120003625A1. Автор: ZHANG AIGUO,OKUNIEFF PAUL,ZHANG LURONG,ZHANG LULU. Владелец: DIACARTA, LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND KITS FOR DETERMINING PREDISPOSITION TO DEVELOP KIDNEY DISEASES

Номер патента: US20120003644A1. Автор: . Владелец: Rappaport Family Institute for Research in the Medical Sciences. Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions, Methods and Kits for Nucleic Acid Synthesis and Amplification

Номер патента: US20120003645A1. Автор: Woo Cora L.,Yim Priscilla W.,Berkman Jennifer. Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SAMPLE PREPARATION FOR IN SITU NUCLEIC ACID ANALYSIS, METHODS AND COMPOSITIONS THEREFOR

Номер патента: US20120003656A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND DEVICES FOR THE SELECTIVE DETECTION OF MICROORGANISMS

Номер патента: US20120003661A1. Автор: . Владелец: C3 JIAN, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Immunohistochemical staining method and immunohistochemical staining apparatus

Номер патента: US20120003669A1. Автор: OGAWA Jun-ichi,MINAMIYA Yoshihiro,Toda Hiroshi,Akagami Yoichi,Kagaya Masami. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Kits for Measuring Von Willebrand Factor

Номер патента: US20120003670A1. Автор: Montgomery Robert. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Means for Detecting the Activity of Osteoclasts

Номер патента: US20120003684A1. Автор: Dieter Peter,Lutter Anne-Helen,Hempel Ute. Владелец: TECHNISCHE UNIVERSITAET DRESDEN. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND KIT FOR IDENTIFICATION OF AN EXPLOSIVE SUBSTANCE WHICH CONTAINS AN OXIDANT

Номер патента: US20120003746A1. Автор: AMISAR Shai. Владелец: MISTRAL DETECTION LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS, METHODS AND APPARATUSES FOR MAGNETIC PROCESSING OF SOLAR MODULES

Номер патента: US20120003777A1. Автор: . Владелец: MIASOLE. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTROPLATING METHODS AND CHEMISTRIES FOR CIGS PRECURSOR STACKS WITH CONDUCTIVE SELENIDE BOTTOM LAYER

Номер патента: US20120003786A1. Автор: Pinarbasi Mustafa,Aksu Serdar. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND COMPOSITIONS FOR DOPING SILICON SUBSTRATES WITH MOLECULAR MONOLAYERS

Номер патента: US20120003826A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR REDUCING POWER CONSUMPTION IN BLUETOOTH PROXIMITY IMPLEMENTATIONS

Номер патента: US20120003932A1. Автор: Zhodzishsky Victor. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR SIGNAL STRENGTH MEASUREMENT

Номер патента: US20120003942A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Radio-frequency Processing Device and Method and Related Wireless Communication Device

Номер патента: US20120003947A1. Автор: CHEN Wan-Ming,HO Chien-Ting,Su Chih-Chin,Lai Chung-Chi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR VERIFICATION OF A TELEPHONE NUMBER

Номер патента: US20120003957A1. Автор: Agevik Niklas,Idren Bjorn. Владелец: TELEFONAKTIEBOLAGET L M ERICSSON (PUBL). Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR DATA SESSION ESTABLISHMENT

Номер патента: US20120003958A1. Автор: Hossain Asif,Lu Lan,CHAN Kwong Hang Kevin,Ma David P.. Владелец: RESEARCH IN MOTION LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR BASE STATION SELF-CONFIGURATION

Номер патента: US20120003961A1. Автор: . Владелец: INTERDIGITAL TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR ESTABLISHING A GROUP CALL

Номер патента: US20120003969A1. Автор: Hiben Bradley M.,ANDERSON JEFF S.,Anderson Henry W.. Владелец: MOTOROLA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOBILE COMMUNICATION METHOD AND RADIO BASE STATION

Номер патента: US20120003970A1. Автор: . Владелец: NTT DOCOMO, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOBILE COMMUNICATION METHOD AND RADIO BASE STATION

Номер патента: US20120003977A1. Автор: Iwamura Mikio,Abeta Sadayuki. Владелец: NTT DOCOMO, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR CELL SELECTION IN WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120003978A1. Автор: LIM Chi-Woo,Lee Mi-Hyun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM TO CONTROL MOVABLE ENTITIES

Номер патента: US20120003992A1. Автор: . Владелец: WIRELESSWERX INTERNATIONAL, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR BLOCKER DETECTON AND AUTOMATIC GAIN CONTROL

Номер патента: US20120004005A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING AN UPLINK TRANSMITTING POWER, AND A BASE STATION

Номер патента: US20120004006A1. Автор: Liu Ying,Hao Peng,Lu Zhaohua,LIU Kun,Xue Yan. Владелец: ZTE CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR PROVIDING ENHANCED ADDRESS BOOK WITH AUTOMATIC CONTACT MANAGEMENT

Номер патента: US20120004015A1. Автор: . Владелец: LG ELECTRONICS INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR SUSPENDING AND SPINNING A SPHERICAL OBJECT

Номер патента: US20120004054A1. Автор: McKendrick Jason S.,Jewkes Rodney R.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

LIQUID FUEL PRODUCING METHOD AND LIQUID FUEL PRODUCING SYSTEM

Номер патента: US20120004329A1. Автор: Iwama Marie. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus, methods, and fluid compositions for electrostatically-driven solvent ejection or particle formation

Номер патента: US20120004370A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Prolapse Repair

Номер патента: US20120004501A1. Автор: Beyer Roger D.. Владелец: AMS Research Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

DIAGNOSTIC IMAGING SUPPORT DEVICE, DIAGNOSTIC IMAGING SUPPORT METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120004514A1. Автор: Marugame Atsushi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR ULTRASOUND DATA PROCESSING

Номер патента: US20120004545A1. Автор: Ziv-Ari Morris,Sokulin Alexander,KEMPINSKI ARCADY. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR TREATING PHOTOAGED TISSUE

Номер патента: US20120004549A1. Автор: . Владелец: GUIDED THERAPY SYSTEMS, L.L.C.. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatuses for Full-Thickness Hollow Organ Biopsy

Номер патента: US20120004573A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR FOCUSED RESONANCE NANOPERMEABILIZATION (FORN)

Номер патента: US20120004591A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND MEANS FOR COLLECTING CORD BLOOD

Номер патента: US20120004635A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND SYSTEMS FOR TREATMENT OF TISSUE IN A BODY LUMEN

Номер патента: US20120004656A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

GUIDEWIRE INSERTION METHODS AND DEVICES

Номер патента: US20120004665A1. Автор: . Владелец: DePuy Spine, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR TREATING ANAPHYLAXIS USING ELECTRICAL MODULATION

Номер патента: US20120004701A1. Автор: Errico Joseph P.,Mendez Steven. Владелец: ElectroCore, LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND PROGRAMMING TOOL FOR CREATING A USER PROGRAM FOR A SAFETY CONTROLLER

Номер патента: US20120004744A1. Автор: REUSCH Matthias,Bauer Ralf,Woehrle Stefan,Holzaepfel Matthias,Gilmore Maurice. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and System for Excursion Monitoring in Optical Lithography Processes in Micro Device Fabrication

Номер патента: US20120004758A1. Автор: . Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR CONTROL BATTERY AND SPECIFICATION DETERMINING METHOD OF BATTERY

Номер патента: US20120004787A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and System for Calculating and Reporting Slump in Delivery Vehicles

Номер патента: US20120004790A1. Автор: . Владелец: VERIFI LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR OPERATING AN INTERNAL COMBUSTION ENGINE

Номер патента: US20120004803A1. Автор: Eser Gerhard,Azadeh Reza,MOSER Wolfgang. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM FOR DIAGNOSING THE OPERATING STATUS OF AN ASSISTED START-UP MODE FOR A MOTOR VEHICLE

Номер патента: US20120004817A1. Автор: . Владелец: RENAULT S.A.S.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device For Controlling an Internal Combustion Engine

Номер патента: US20120004822A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM OF CONTROLLING AIR TRAFFIC

Номер патента: US20120004837A1. Автор: MCDONALD GREG. Владелец: AIRSERVICES AUSTRALIA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR MONITORING A PHOTOVOLTAIC UNIT

Номер патента: US20120004870A1. Автор: Ney Jörg-Werner. Владелец: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER METHOD AND SYSTEM PROVIDING DESIGN OF AN ASSEMBLY MODELED BY A GRAPH

Номер патента: US20120004891A1. Автор: RAMEAU Jean-Francois,Alt Laurent. Владелец: Dassault Systemes. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TESTING ON-LINE SERVICES

Номер патента: US20120004895A1. Автор: . Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR IMPROVED CEMENT PLUG PLACEMENT

Номер патента: US20120000650A1. Автор: Rondeau Joel,Daccord Gerard,Samuel Mathew,Montgomery Michael,James Simon,Piot Bernard,Rolovic Radovan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND SYSTEMS TO SIMPLIFY POPULATION OF MODULAR COMPONENTS IN AN INFORMATION HANDLING SYSTEM

Номер патента: US20120001763A1. Автор: Billick Stephen,Bassman Robert. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INTEGRATED GRAPHICS PROCESSOR DATA COPY ELIMINATION METHOD AND APPARATUS WHEN USING SYSTEM MEMORY

Номер патента: US20120001927A1. Автор: . Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE DISPLAY DEVICE, IMAGE DISPLAY METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002106A1. Автор: INOUE Yasuo,Mori Hideto. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Apparatus for Improving the Reliability of Solder Joints

Номер патента: US20120002386A1. Автор: Pykari Lasse Juhani,Lu David L.. Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND SYSTEM USING PHASE MODULATION TO REDUCE SPECTRAL BROADENING

Номер патента: US20120002688A1. Автор: . Владелец: Deep Photonics Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING ENCODED CONTENT USING DYNAMICALLY OPTIMIZED CONVERSION

Номер патента: US20120002716A1. Автор: Gasparri Massimiliano,Antonellis Darcy. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR LOW COST COEFFICIENT-SUPPRESSION FOR VIDEO COMPRESSION

Номер патента: US20120002729A1. Автор: Osamoto Akira. Владелец: TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR REDUCING QUANTIFICATION NOISE FOR TRANSMITTING A MULTI-CARRIER SIGNAL

Номер патента: US20120002747A1. Автор: Isson Olivier. Владелец: SPIDCOM TECHNOLOGIES. Дата публикации: 2012-01-05.

REGION DATA EDITING APPARATUS, REGION DATA EDITING METHOD, AND RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20120002850A1. Автор: . Владелец: RIKEN. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR MANAGING VIDEO CONTENT

Номер патента: US20120002884A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR GRINDING A WORKPIECE SURFACE OF ROTATION

Номер патента: US20120003904A1. Автор: SCHMITZ Roland. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND CONTROL DEVICE FOR TRIGGERING PASSENGER PROTECTION MEANS FOR A VEHICLE

Номер патента: US20120004811A1. Автор: Becker Jens,HIEMER Marcus. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and device for stretching vertebral column and restoring intervertebral disks

Номер патента: RU2270650C1. Автор: Олег Юрьевич Кром. Владелец: Олег Юрьевич Кром. Дата публикации: 2006-02-27.

Method and system for checking authenticity of object

Номер патента: RU2295765C2. Автор: Йин-Хунг ЦЕНГ. Владелец: Юзерстар Информейшн Систем Ко., Лтд.. Дата публикации: 2007-03-20.

Method and device for participating in interactive game

Номер патента: RU2250124C1. Автор: А.И. Кедринский,А.И. Силаев. Владелец: Силаев Александр Иванович. Дата публикации: 2005-04-20.