等离子体处理方法和等离子体处理装置

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Plasma processing device member and plasma processing device having the same

Номер патента: TWI772910B. Автор: 日野高志,石川和洋,斎藤秀一. Владелец: 日商京瓷股份有限公司. Дата публикации: 2022-08-01.

THERMAL SPRAYING METHOD OF COMPONENT FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS AND COMPONENT FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20190019654A1. Автор: KOBAYASHI Yoshiyuki. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-17.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240170267A1. Автор: Yoshiki Nakano,Kenichi KOTE,Takafumi Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210375588A1. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-12-02.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200035501A1. Автор: Masahiro Tabata,Sho Kumakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Systems and methods of control for plasma processing

Номер патента: US20200058469A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-02-20.

Plasma processing method

Номер патента: US5858258A. Автор: Hiroshi Kojima,Izumi Arai,Yoshifumi Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-01-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5759334A. Автор: Kenichi Kojima,Tokihiro Ayabe,Takehiko Senoo,Yukio Soejima,Kishichi Haga. Владелец: Plasma System Corp. Дата публикации: 1998-06-02.

Method of processing workpiece

Номер патента: US09716014B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Fumiya Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Shower plate, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12051564B2. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-07-30.

Method of processing target object to be processed

Номер патента: US20160307734A1. Автор: Eiichi Nishimura,Shigeru Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-20.

Control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11887825B2. Автор: Mikio Sato,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210125814A1. Автор: Mikio Sato,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220262631A1. Автор: Satoshi Itoh,Norifumi Kohama,Nathan Ip,Soudai EMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Restoring method for inner wall member of plasma processing apparatus

Номер патента: US20240240300A1. Автор: Taku Watanabe,Tadayoshi Kawaguchi,Shoichiro Mizunashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20070283887A1. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-12-13.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US7895971B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Caizhong Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20170350014A1. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Electrostatic Chuck and Method of Operation for Plasma Processing

Номер патента: US20240355593A1. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Electrostatic chuck and method of operation for plasma processing

Номер патента: WO2024220139A1. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing device member and plasma processing device provided with same

Номер патента: US20210118686A1. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Plasma processing device member and plasma processing device provided with same

Номер патента: US11521835B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2022-12-06.

The manufacture method of abrasive composition and Ginding process and abrasive composition

Номер патента: CN106103637B. Автор: 野岛义弘. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Manufacturing method of adhesive tape for semiconductor processing and semiconductor devices

Номер патента: JPWO2020003920A1. Автор: 淳 前田,前田 淳,和人 愛澤. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2021-08-02.

Plasma Processing Method and Plasma Processing System

Номер патента: US20230178343A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing device member and plasma processing device

Номер патента: US20210035776A1. Автор: Manpei TANAKA. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2021-02-04.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US11901158B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US20210351010A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: EP4442853A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2024-10-09.

Methods of plasma processing using a pulsed electron beam

Номер патента: WO2021141651A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-07-15.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Synchronized pulsing of plasma processing source and substrate bias

Номер патента: EP4231328A1. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Systems and Methods for UV-Based Suppression of Plasma Instability

Номер патента: US20190057864A1. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-02-21.

Systems and Methods for UV-Based Suppression of Plasma Instability

Номер патента: US20200111666A1. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-04-09.

Systems and Methods for UV-Based Suppression of Plasma Instability

Номер патента: US20180076028A1. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-15.

Systems and methods for UV-based suppression of plasma instability

Номер патента: US11120989B2. Автор: Shankar Swaminathan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2021-09-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200378005A1. Автор: Hiroyuki Matsuura,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-03.

Plasma processing method

Номер патента: US09502219B2. Автор: Yoshihide Kihara,Toshio Haga,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US8969211B2. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-03.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230307245A1. Автор: Atsushi Takahashi,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230268190A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Atsuki Hashimoto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US20150170880A1. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-06-18.

METHOD OF CLEANING A PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20170342556A1. Автор: Price Andrew,CROOK KATHRINE,CARRUTHERS MARK. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-30.

A method of cleaning a plasma processing device

Номер патента: EP3249073A1. Автор: Andrew Price,Kathrine Crook,Mark Carruthers. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2017-11-29.

METHOD OF PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER DEPOSITION OF TaC AND TaCN FILMS HAVING GOOD ADHESION TO COPPER

Номер патента: WO2007111780A3. Автор: Tadahiro Ishizaka. Владелец: Tadahiro Ishizaka. Дата публикации: 2008-01-17.

Method of forming titanium oxide film and method of forming hard mask

Номер патента: US20180108534A1. Автор: Toshio Hasegawa,Naoki Shindo,Naotaka Noro,Miyako Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-19.

Method of forming nitride film with plasma

Номер патента: US09478410B2. Автор: Noriaki Fukiage,Takayuki Karakawa,Toyohiro Kamada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Restoring method of consumed component

Номер патента: US20240254620A1. Автор: Kazuya Nagaseki,Michishige Saito,Shota Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Processing apparatus and processing method

Номер патента: US12062569B2. Автор: Kazuya IKEUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Processing apparatus and processing method

Номер патента: US20240363391A1. Автор: Kazuya IKEUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US12068208B2. Автор: Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220122847A1. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11817321B2. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220230848A1. Автор: Yoshiyuki Kondo,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12051595B2. Автор: Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Method of charge controlled patterning during reactive ion etching

Номер патента: US09496148B1. Автор: Richard Wise,Sunit S. Mahajan,Bachir Dirahoui. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Broadband Plasma Processing Systems and Methods

Номер патента: US20210082667A1. Автор: Peter Ventzek,Jianping Zhao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Plasma processing device and operation method

Номер патента: US20150235813A1. Автор: Hitoshi Kato,Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Masato Yonezawa,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-20.

Plasma processing device and operation method

Номер патента: US9376751B2. Автор: Hitoshi Kato,Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Masato Yonezawa,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-28.

Plasma processing method and capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: JP6267989B2. Автор: 理史 浦川. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-24.

Systems for and methods of laser-enhanced plasma processing of semiconductor materials

Номер патента: US8796151B2. Автор: Andrew M. Hawryluk,Arthur W. Zafiropoulo. Владелец: Ultratech Inc. Дата публикации: 2014-08-05.

SYSTEMS AND METHODS OF CONTROL FOR PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20200058470A1. Автор: RANJAN ALOK,CHEN Zhiying,Ventzek Peter. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-20.

Method of and apparatus for tunable gas injection in a plasma processing system

Номер патента: AU2001247685A1. Автор: Eric J. Strang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2001-10-15.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US20130019894A1. Автор: Shin Hiyama,Yutaka Kudou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-24.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US9583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US09583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Cleaning method of film layer in the plasma processing apparatus

Номер патента: US20240203708A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230420228A1. Автор: Akihiro Yokota,Ryo Terashima,Takaharu SAINO,Tomo MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Method of processing workpiece

Номер патента: US09786473B2. Автор: Shigeru Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Plasma processing apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200286737A1. Автор: Toshifumi Nagaiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Method of etching porous film

Номер патента: US20180082823A1. Автор: Mikhaïl Baklanov,Liping Zhang,Eiichi Nishimura,Shigeru Tahara,Jean-Francois De Marneffe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-22.

Method of etching porous film

Номер патента: US09859102B2. Автор: Mikhaïl Baklanov,Liping Zhang,Eiichi Nishimura,Shigeru Tahara,Jean-Francois De Marneffe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Plasma processing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240203707A1. Автор: Seiwa NISHIO. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Method of plasma etching

Номер патента: EP4391023A1. Автор: Samira Binte KAZEMI. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Plasma processing apparatus and method of cleaning the apparatus

Номер патента: US20010001185A1. Автор: Hajime Murakami,Eiji Setoyama,Kouji Ishiguro,Hirofumi Seki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-05-17.

Method of etching organic film

Номер патента: US09711371B2. Автор: Akinori Kitamura,Toshihisa Ozu,Kosuke Kariu,Hai Woo Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Etching method of multilayered film

Номер патента: US09536707B2. Автор: Yusuke Saitoh,Ryuuu ISHITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Forming method of component and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234099A1. Автор: Kazuya Nagaseki,Michishige Saito,Shota Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Method of in situ ceramic coating deposition

Номер патента: WO2022072158A1. Автор: Kwangduk Douglas Lee,Abdul Aziz KHAJA,Sarah Michelle Bobek,Ratsamee Limdulpaiboon. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160079043A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US9607874B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Plasma processing method

Номер патента: US09972776B2. Автор: Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Hidenori TOYOOKA,Norihiro HOSAKA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Holding method of edge ring, plasma processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US11984303B2. Автор: Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297027A1. Автор: Soichiro Eto,Shigeru Nakamoto,Kosuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Methods for etching metal films using plasma processing

Номер патента: US12057322B2. Автор: Qingyun Yang,Nathan P. Marchack,Devi Koty,Sebastian Ulrich Engelmann,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Methods for etching metal films using plasma processing

Номер патента: WO2021080690A1. Автор: Qingyun Yang,Devi Koty,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-04-29.

Method of adsorbing target object on mounting table and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953854B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akihito FUSHIMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Method of evaluating silicon wafer manufacturing process and method of manufacturing silicon wafer

Номер патента: US20200365472A1. Автор: SHUHEI Matsuda,Shigeru Daigo. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2020-11-19.

Plasma processing method

Номер патента: US20240321583A1. Автор: Miyako Matsui,Kenichi Kuwahara. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Method of processing wafer

Номер патента: US20240234154A9. Автор: Akira Mizutani,Shunsuke Teranishi,Kai MINAMIZAKI. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Method of producing processing condition of plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870901B2. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Inspection method of plasma processing apparatus

Номер патента: US12046456B2. Автор: Masahiro Nagatani,Yusuke TAKEGAWA,Kota Kakimoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20040040507A1. Автор: Muneo Furuse,Masanori Kadotani,Motohiko Yoshigai,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-03-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741629B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150206715A1. Автор: Takayuki Ishii,Ryoichi Yoshida,Ken Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12112925B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240347325A1. Автор: Yuki Onodera,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US12063717B2. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US09991100B2. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: US09620336B2. Автор: Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Method of cleaning and conditioning plasma reaction chamber

Номер патента: EP1252361A1. Автор: Duane Outka,Brett C. Richardson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-10-30.

Method of CVD plasma processing with a toroidal plasma processing apparatus

Номер патента: US09909215B2. Автор: William Holber,Robert J. BASNETT. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing method

Номер патента: US09349603B2. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-24.

Plasma processing system with direct outlet toroidal plasma source

Номер патента: WO2016094047A1. Автор: Dmitry Lubomirsky. Владелец: APPLIED MATERIALS, INC. Дата публикации: 2016-06-16.

Control method of radiofrequency source

Номер патента: US20210398776A1. Автор: JING Yang,JING Wei,Yahui Huang,Guodong Chen,Gang Wei,Juanjuan Li. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-23.

Apparatus for ion energy analysis of plasma processes

Номер патента: US12136542B2. Автор: James Doyle,Tigran Poghosyan,Paul Scullin,David Gahan,J J Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2024-11-05.

Autonomous operation of plasma processing tool

Номер патента: US20230352282A1. Автор: Alok Ranjan,Jun Shinagawa,Chungjong Lee,Masaki Kitsunezuka,Toshihiro KITAO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Toroidal Plasma Processing Apparatus with a Shaped Workpiece Holder

Номер патента: US20160340798A1. Автор: William Holber,Robert J. BASNETT. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2016-11-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160225587A1. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Maintenance method of plasma processing apparatus

Номер патента: US20190131137A1. Автор: Takashi Yamamoto,Kazuya Matsumoto,Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-02.

Method of manufacturing EUV photo masks

Номер патента: US12085843B2. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Tzu Yi WANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Method of manufacturing euv photo masks

Номер патента: US20240369918A1. Автор: Hsin-Chang Lee,Pei-Cheng Hsu,Ta-Cheng Lien,Tzu Yi WANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Maintenance method of plasma processing apparatus

Номер патента: US10541142B2. Автор: Takashi Yamamoto,Kazuya Matsumoto,Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-21.

Method of affixing heat transfer sheet

Номер патента: US09812297B2. Автор: Takuya Ishikawa,Naoyuki Satoh,Keita KANBARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Manufacturing method of using hydrogen plasma processing on a semiconductor wafer

Номер патента: US9559141B2. Автор: Kotaro Horikoshi,Tatsunori Murata. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Plasma processing method

Номер патента: US20020173161A1. Автор: Kiyoshi Arita,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Plasma processing method

Номер патента: US6723651B2. Автор: Kiyoshi Arita,Shoji Sakemi,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-20.

Processing method of wafer

Номер патента: US20240312824A1. Автор: Masaru Nakamura. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Plasma Processing Apparatus And Method For Controlling The Same

Номер патента: US20070210032A1. Автор: Ryoji Nishio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-13.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: US12027426B2. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Method of plasma etching

Номер патента: US12087593B2. Автор: Shih Pin KUO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Method of forming contact openings for a transistor

Номер патента: US09484217B2. Автор: Nicolas Posseme. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2016-11-01.

Plasma processing method

Номер патента: US20020090826A1. Автор: Kiyoshi Arita,Shoji Sakemi,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-11.

Method of coating for plasma lighting window panel, and plasma lighting window panel manufactured thereby

Номер патента: KR101031547B1. Автор: 박범규. Владелец: 박범규. Дата публикации: 2011-04-27.

Microwave plasma processing process and apparatus

Номер патента: USRE36224E. Автор: Shuzo Fujimura,Toshimasa Kisa,Yasunari Motoki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1999-06-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20040159639A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Tetsuo Ono,Katsumi Setoguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-19.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: WO2022164661A1. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-04.

Mode-Switching Plasma Systems and Methods of Operating Thereof

Номер патента: US20210151296A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Michael Hummel,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Confinement ring assembly of plasma processing apparatus

Номер патента: US20060283551A1. Автор: Sung-Ku Son. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-12-21.

Method of patterning a metal film with improved sidewall roughness

Номер патента: US20210313192A1. Автор: Angelique RALEY,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-07.

Method of patterning a metal film with improved sidewall roughness

Номер патента: WO2021202193A1. Автор: Angelique RALEY,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-10-07.

Method of controlling plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240055229A1. Автор: Jung Hwan Lee,Min Keun Bae,Aixian Zhang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Method of cleaning plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240063000A1. Автор: Nobuaki Shindo,Yasutaka HAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Method of cleaning plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11887824B2. Автор: Nobuaki Shindo,Yasutaka HAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

And a method of operating the plasma processing apparatus and the plasma processing apparatus

Номер патента: TWI396473B. Автор: Atsuki Furuya,Toshihiro Tojo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-05-11.

A method of plasma ion doping process and an apparatus thereof

Номер патента: KR100870567B1. Автор: 김미진,박태서,홍수진,최시영,이진욱,강종훈. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2008-11-27.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20240006188A1. Автор: Takahiro Yonezawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma process monitoring apparatus and plasma processing apparatus comprising the same

Номер патента: KR102035423B1. Автор: 윤일구. Владелец: 연세대학교 산학협력단. Дата публикации: 2019-10-22.

Plasma processing system

Номер патента: US20200219707A1. Автор: Woohyun Jeong. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-07-09.

Method of adjusting the thickness of an electrode in a plasma processing system

Номер патента: TW531820B. Автор: Eric J Strang,Wayne Lee Johnson,Thomas F A Bibby. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2003-05-11.

Confinement ring for use in a plasma processing system

Номер патента: US11791140B2. Автор: Akira Koshiishi,Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhatanov. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Plasma processing system

Номер патента: US20210125813A1. Автор: Woohyun Jeong. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable medium storing program

Номер патента: US09859109B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Method of adsorbing target object on mounting table and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150135514A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Akihito FUSHIMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-05-21.

METHOD OF EVALUATING SILICON WAFER MANUFACTURING PROCESS AND METHOD OF MANUFACTURING SILICON WAFER

Номер патента: US20200365472A1. Автор: Matsuda Shuhei,DAIGO Shigeru. Владелец: SUMCO CORPORATION. Дата публикации: 2020-11-19.

Method of cleaning substrate after cmp process and apparatus using same

Номер патента: KR101399840B1. Автор: 김민호,이경진,박종문,윤찬상. Владелец: 주식회사 케이씨텍. Дата публикации: 2014-05-29.

Method of cleaning stage in plasma processing apparatus, and the plasma processing apparatus

Номер патента: US12090529B2. Автор: Junichi Sasaki,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Method of modifying electrostatic chuck and plasma processing apparatus

Номер патента: US09558919B2. Автор: Takamitsu Kondo,Shingo Shimogama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20060021700A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-02.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090275209A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-05.

Plasma processing apparatus and substrate support of plasma processing apparatus

Номер патента: US11972933B2. Автор: Masahiro DOGOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Plasma processing method

Номер патента: US09941098B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Spatial monitoring and control of plasma processing environments

Номер патента: US20210241996A1. Автор: Kevin Fairbairn,Victor Brouk,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-08-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190287770A1. Автор: Kenetsu Yokogawa,Tsutomu Tetsuka,Taku Iwase. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Method of operating electrostatic chuck of plasma processing apparatus

Номер патента: US20180350568A1. Автор: Shin Yamaguchi,Akiyoshi MITSUMORI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-12-06.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US11854770B2. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: WO2022154968A1. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-07-21.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US20240170263A1. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: EP4278373A1. Автор: WEI Liu,Rene George,Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240266201A1. Автор: Shogo Okita,Minghui Zhao,Toshiyuki TAKASAKI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus and lower stage

Номер патента: US11929234B2. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda,Sumi Tanaka. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-03-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240030008A1. Автор: Taro Hayakawa,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230352273A1. Автор: Hitoshi Tamura,Chen Pin Hsu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US11948776B2. Автор: Hitoshi Tamura,Chen Pin Hsu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20080216865A1. Автор: Masamichi Sakaguchi,Yasuhiro Nishimori,Satoshi Une,Yutaka Kudou,Masunori Ishihara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US12068140B2. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-20.

Mold and method of forming a radio frequency (rf) coil for a plasma processing apparatus

Номер патента: US20210233706A1. Автор: Michael Hummel. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

MOLD AND METHOD OF FORMING A RADIO FREQUENCY (RF) COIL FOR A PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210233706A1. Автор: Hummel Michael. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-29.

Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20100133698A1. Автор: Naoto Kurosawa. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2010-06-03.

Methods of manufacturing semiconductor devices

Номер патента: US09502532B2. Автор: Kwan Heum Lee,Dong Chan Suh,Hong Bum PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-11-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09703199B2. Автор: Takashi Taguchi,Toru Asano,Tsuyoshi Mitsuhashi,Yukio Toriyama. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11733612B2. Автор: Kazuya Iwata,Norihisa Koga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Thermal processing apparatus using microwaves and method of operating same

Номер патента: US20240206027A1. Автор: Yoon Seok Choi,Han Lim KANG,Sung Suk WI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09484180B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Manabu Iwata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20160225585A1. Автор: Toshiharu Wada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US9583317B2. Автор: Toshiharu Wada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US20220336197A1. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US12009190B2. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Atmospheric plasma processing method and atmospheric plasma processing apparatus

Номер патента: US20230253194A1. Автор: Akihisa Yoshida. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-08-10.

Systems and Methods for Plasma Process

Номер патента: US20230386789A1. Автор: John Carroll,Jianping Zhao,Charles Schlechte,Peter Lowell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: US20120291954A1. Автор: James E. Tappan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-11-22.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: WO2009100288A2. Автор: James E. Tappan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-08-13.

Plasma processing method

Номер патента: US09953811B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

A method of manufacturing a plasma processing chamber and an electrostatic chuck thereof

Номер патента: TWI578365B. Автор: Siao-Ming He. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-11.

Microwave plasma processing process and apparatus

Номер патента: US5364519A. Автор: Shuzo Fujimura,Toshimasa Kisa,Yasunari Motoki. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1994-11-15.

Process and device for plasma processing of workpieces

Номер патента: DE69409459T2. Автор: Hiroji Hanawa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-09-24.

Apparatus for plasma processing and method for plasma processing

Номер патента: KR101515150B1. Автор: 이준혁,김형원,한영기,서영수. Владелец: 참엔지니어링(주). Дата публикации: 2015-04-27.

Apparatus for plasma processing and method for plasma processing

Номер патента: KR101318705B1. Автор: 이준혁,김형원,한영기,서영수,윤치국. Владелец: 참엔지니어링(주). Дата публикации: 2013-10-16.

Connection structure and method of plasma display panel

Номер патента: EP1496537A3. Автор: Soon Hak Kim,Yong Gi Choi,Seung Tea No. 106-1402 Dongyang Hansin Park. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2007-07-25.

Heat transfer film and method of manufacturing partition walls of plasma display panel using the same

Номер патента: US20080124659A1. Автор: Jin Woo Park,Yoon Kwan Lee. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2008-05-29.

Image processing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US09843703B2. Автор: Masato Uchihara. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US12080529B2. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09659754B2. Автор: Yoshio SUSA,Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US20210082673A1. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-03-18.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: US20120328771A1. Автор: George Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2012-12-27.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: WO2012178175A1. Автор: George D. Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2012-12-27.

Plasma processing apparatus and high-frequency power application method of plasma processing apparatus

Номер патента: US12027347B2. Автор: Naoki Matsumoto,Masaru Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Systems and methods of plasma generation with microwaves

Номер патента: CA3221936A1. Автор: Garrett Hill. Владелец: Rimere LLC. Дата публикации: 2022-12-08.

Systems and methods of plasma generation with microwaves

Номер патента: US12106939B2. Автор: Garrett Hill. Владелец: Rimere LLC. Дата публикации: 2024-10-01.

Method for impedance matching of plasma processing apparatus

Номер патента: US09736921B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Naoyuki Umehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Synchronization of plasma processing components

Номер патента: US20230268162A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Digital control of plasma processing

Номер патента: US12068134B2. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Fast neutral generation for plasma processing

Номер патента: US11915910B2. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: US20240266156A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-08.

Module for measuring current/voltage/power of plasma apparatus and plasma apparatus including the same

Номер патента: EP4411785A1. Автор: Jongsik Kim. Владелец: KOREA INSTITUTE OF FUSION ENERGY. Дата публикации: 2024-08-07.

Plasma processing apparatus and plasma state estimation method

Номер патента: US20240030015A1. Автор: Eiki Kamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US20230290623A1. Автор: Kenta Doi,Toshiyuki Nakamura. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006154A1. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11764034B2. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Manufacturing method of barrier ribs of plasma display panel

Номер патента: US20100112888A1. Автор: Chung-Lin Fu,Chun-Chieh Chiu,Yu-Ting Chien. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2010-05-06.

Two stage ion current measurement in a device for analysis of plasma processes

Номер патента: US20230143487A1. Автор: James Doyle,Paul Scullin,David Gahan,Jj Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: WO1999045567A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1999-09-10.

Plasma processing apparatus and operational method thereof

Номер патента: US09767997B2. Автор: Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5647912A. Автор: Takeshi Akimoto,Takahiro Kaminishizono. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1997-07-15.

Plasma processing apparatus and abnormal discharge control method

Номер патента: US20230060329A1. Автор: Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Plasma processing device capable of plasma shaping through magnetic field control

Номер патента: US9728377B2. Автор: Ki Woong Whang,Hee Woon Cheong. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2017-08-08.

Preparation method of vinyl acetate by ethylene process and device thereof

Номер патента: US12049442B2. Автор: HE Dong,Hao Gong,Minhua Zhang,Yingzhe YU,Zhongfeng Geng. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-07-30.

Preparation method of vinyl acetate by ethylene process and device thereof

Номер патента: EP4371972A1. Автор: HE Dong,Hao Gong,Minhua Zhang,Yingzhe YU,Zhongfeng Geng. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-05-22.

Preparation method of vinyl acetate by ethylene process and device thereof

Номер патента: US20240158333A1. Автор: HE Dong,Hao Gong,Minhua Zhang,Yingzhe YU,Zhongfeng Geng. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-05-16.

Method of producing calcium gluconolactate, compositions, processes and uses of same

Номер патента: EP1516624B1. Автор: Manuel Torres Buendia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-11.

Adhesiveless flexible substrate and method of manufacturing the same

Номер патента: US20050014006A1. Автор: Yung-Sen Lin. Владелец: FENG CHIA UNIVERSITY. Дата публикации: 2005-01-20.

Method of and system for image processing and computer program

Номер патента: US20080297863A1. Автор: Hirokazu Kameyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-12-04.

Method of and system for image processing and computer program

Номер патента: US7421142B2. Автор: Hirokazu Kameyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-09-02.

Control method of plasma television, Bluetooth touch pen and plasma television

Номер патента: CN102740020B. Автор: 王飞,高强,郭衡江. Владелец: Goertek Inc. Дата публикации: 2015-01-21.

Image processing apparatus, information processing apparatus, and method therefor

Номер патента: US8706868B2. Автор: Tamaki Kamata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-04-22.

Image processing apparatus, information processing apparatus, and method therefor

Номер патента: US20110296008A1. Автор: Tamaki Kamata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-12-01.

The method of a kind of data process and access node

Номер патента: CN102217241B. Автор: 傅健新. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-12.

The method of a kind of data process and digital TV terminal

Номер патента: CN102883207B. Автор: 鄢国平. Владелец: Shenzhen Skyworth Software Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-23.

Method of and apparatus for image processing, and computer product

Номер патента: US7110595B2. Автор: Yuuki Inoue. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2006-09-19.

METHOD OF L2 LAYER DATA PACKET PROCESSING AND ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20180063300A1. Автор: Chiu Chun-Yuan. Владелец: ACER INCORPORATED. Дата публикации: 2018-03-01.

Management method of SIP-T call control process and apparatus thereof

Номер патента: KR100413524B1. Автор: 이병선,금창섭. Владелец: 한국전자통신연구원. Дата публикации: 2004-01-03.

Method of l2 layer data packet processing and electronic device using the same

Номер патента: EP3288309A1. Автор: Chun-Yuan CHIU. Владелец: Acer Inc. Дата публикации: 2018-02-28.

Method of l2 layer data packet processing and electronic device using the same

Номер патента: TWI663858B. Автор: 邱俊淵. Владелец: 宏碁股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-21.

Method of performing a random access process and wireless device using same

Номер патента: KR101530808B1. Автор: 이현우,서동연,안준기,한승희,김진민,양석철. Владелец: 엘지전자 주식회사. Дата публикации: 2015-06-25.

Method of leveling wafer in exposure process and exposure system thereof

Номер патента: US20200201198A1. Автор: Bum-Hwan Jeon. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Method of speeding up secure boot process and electronic device using the same

Номер патента: US20240070285A1. Автор: Wen-Hung Huang. Владелец: Nuvoton Technology Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Video processing and playing method and video processing apparatus thereof

Номер патента: US09805766B1. Автор: Sheng-Hua Peng. Владелец: Compal Electronics Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Method of generating trained model, machine learning system, program, and medical image processing apparatus

Номер патента: US20230368442A1. Автор: Akira Kudo. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Method of processing language, recording medium, system for processing language, and language processing apparatus

Номер патента: US20210165962A1. Автор: Hideo Ito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-06-03.

Method of processing language, recording medium, system for processing language, and language processing apparatus

Номер патента: WO2020066545A1. Автор: Hideo Ito. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2020-04-02.

Method of processing language, recording medium, system for processing language, and language processing apparatus

Номер патента: US11928431B2. Автор: Hideo Ito. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-12.

Pvc board and method of manufacture

Номер патента: EP3619375A1. Автор: Quanshan Cheng,Genxiang Xue,Jun Yuan. Владелец: Taizhou Huali Plastic Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-11.

Pvc board and method of manufacture

Номер патента: CA3081107A1. Автор: Quanshan Cheng,Genxiang Xue,Jun Yuan. Владелец: Xue Genxiang. Дата публикации: 2018-11-08.

Microwave plasma torch and method of use thereof

Номер патента: US12075553B1. Автор: Hossam GABER,Mustafa Abdalmejeed Mansour Aldeeb. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-08-27.

System and method of determining effective glow discharge lamp current

Номер патента: US09426873B2. Автор: Ted J Casper,Sara K Casper,Kim Marshall. Владелец: Leco Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Interconnect substrate and method of making the same

Номер патента: US20240155760A1. Автор: Yuji Yukiiri. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Method of operating a video processing apparatus

Номер патента: EP2912552A1. Автор: Juergen Obstfelder. Владелец: Scalable Video Systems GMBH. Дата публикации: 2015-09-02.

Information processing apparatus, terminal apparatus, and method of processing information

Номер патента: US20190281111A1. Автор: Taichi Yamamoto. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-12.

Device and method of information processing and program

Номер патента: RU2673102C2. Автор: Виджитха РАНАТУНГА. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2018-11-22.

Methods of plasma dicing bulk acoustic wave components

Номер патента: US12143091B2. Автор: Takeshi Furusawa,Atsushi Takano,Mitsuhiro Furukawa. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2024-11-12.

Image processing apparatus and image processing method, and program

Номер патента: US09445022B2. Автор: Masayuki Tachi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Image processing apparatus that stores a ticket, method of controlling image processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US12081717B2. Автор: Asami Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Communication packet processing apparatus and method

Номер патента: US20150146728A1. Автор: Yukihiro Shimmura. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2015-05-28.

Information processing apparatus, communication control method, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US20240345782A1. Автор: Akira Nakamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Information processing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US10412262B2. Автор: Masaki Kawanishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-09-10.

Information processing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US20170230537A1. Автор: Masaki Kawanishi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-08-10.

Image processing apparatus and method for correcting image based on edge detection

Номер патента: US09699358B2. Автор: Yun-Tae Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-04.

Image processing apparatus, method of controlling the same, and computer-readable storage medium

Номер патента: US20100215288A1. Автор: Toru Ushiku. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-08-26.

Digital image processing apparatus and method of arranging digital image files used by the same

Номер патента: US20090202178A1. Автор: Shinri Takahashi. Владелец: Samsung Techwin Co Ltd. Дата публикации: 2009-08-13.

A kind of plus method of soil blackfungus culture medium processed and its cultivating black fungus

Номер патента: CN107836281A. Автор: 刘汉席. Владелец: LIAONING TIANYING VEGETABLE CO Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Connecting method of belt members in continuous processing and its connecting metal tool

Номер патента: JPS5912037A. Автор: Yoshio Amari,甘利 喜雄. Владелец: Shinko Electric Industries Co Ltd. Дата публикации: 1984-01-21.

A method of induced froth (foam) formation process and natural purification

Номер патента: WO2004101447A1. Автор: Anatoliy Fisenko. Владелец: Anatoliy Fisenko. Дата публикации: 2004-11-25.

Preparation method of titanium alloy powders

Номер патента: US20240253122A1. Автор: Yi Xu,Hui Chen,Chengyang Zhang,Siyi HE. Владелец: Southwest Jiaotong University. Дата публикации: 2024-08-01.

Preparation method of titanium alloy powders

Номер патента: US12083602B2. Автор: Yi Xu,Hui Chen,Chengyang Zhang,Siyi HE. Владелец: Southwest Jiaotong University. Дата публикации: 2024-09-10.

Depletion of plasma proteins

Номер патента: US09417218B2. Автор: Michael Quinn,Mark S. Baker,Gregory E. Rice. Владелец: TherapeuticsMD Inc. Дата публикации: 2016-08-16.

Sterilizing liquid and method of producing the same

Номер патента: US20230225327A1. Автор: Yoshihiro Oka,Tomohiro Hashimoto. Владелец: DAINICHI SEISAKUSHO KK. Дата публикации: 2023-07-20.

Method of Preparing Plasma-Modified Catalyst

Номер патента: US20110294654A1. Автор: How-Ming Lee. Владелец: Institute of Nuclear Energy Research. Дата публикации: 2011-12-01.

Continuous method of producing homogeneous plate

Номер патента: RU2696283C2. Автор: Раджеш Кумар,Эрик Н. ЛОУСОН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2019-08-01.

Method of cleaning a plasma processing apparatus

Номер патента: US20030172952A1. Автор: Nobuyuki Nagayama,Kouji Mitsuhashi,Hiroyuki Nakayama,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2003-09-18.

Method of enhancing releasing effect of mold using low temperature plasma processes

Номер патента: KR100250421B1. Автор: 이병철,조동련,전배혁. Владелец: 전배혁. Дата публикации: 2000-04-01.

Method of preparation of raw coal processing and grain by two step in hydrocyclone.

Номер патента: BE1000549A6. Автор: Ferencz Jozsef,Felmeri Istvan,Stum Rezso. Владелец: Haldex Vall. Дата публикации: 1989-01-31.

Information processing apparatus and storage medium

Номер патента: US20240354131A1. Автор: Sho MAGARIYAMA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Systems and methods of tiered data storage and processing and decision making

Номер патента: US20240111651A1. Автор: Bhumika CHHABRA,Erica A. Ellingson,Sumedha Gandharava. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Method of purifying apolipoprotein a-1

Номер патента: RU2453555C2. Автор: Кью ХОАНГ,Бао КСИАНГФЕЙ. Владелец: Кью ХОАНГ. Дата публикации: 2012-06-20.

Methods of diagnosing, treating, or preventing plasma cell disorders

Номер патента: EP2073843A2. Автор: Adam M. Boruchov,Raymond L. Comenzo. Владелец: SLOAN KETTERING INSTITUTE FOR CANCER RESEARCH. Дата публикации: 2009-07-01.

Methods of diagnosing, treating, or preventing plasma cell disorders

Номер патента: WO2008033571A3. Автор: Adam M Boruchov,Raymond L Comenzo. Владелец: Raymond L Comenzo. Дата публикации: 2008-06-26.

Method of stretching the discharge of plasma in liquids

Номер патента: US09845250B2. Автор: Jun Kang. Владелец: Energy Onvector LLC. Дата публикации: 2017-12-19.

Orally administered composition to lower serum methionine levels and method of use

Номер патента: US20210254040A1. Автор: Qinghong Han,Robert M. Hoffman. Владелец: Anticancer Inc. Дата публикации: 2021-08-19.

Detection of plasma ACE2

Номер патента: US20070042452A1. Автор: Alexander Smith,Rebecca Lew,Louise Burrell. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-02-22.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20210056765A1. Автор: Tsuyoshi Ishikawa,Hirotake Ichikawa,Mitsuru Nishibe. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2021-02-25.

Method of producing clathrate complexes of volatile substances

Номер патента: RU2741848C1. Автор: . Владелец: Слуцкий Александр Сергеевич. Дата публикации: 2021-01-29.

Method of producing bread kvass

Номер патента: RU2600623C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2016-10-27.

Method of producing bread kvass

Номер патента: RU2600626C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2016-10-27.

Method of producing bread kvass

Номер патента: RU2600625C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2016-10-27.

Prekallikrein-modulating compositions and methods of use thereof

Номер патента: US12042509B2. Автор: ZHEN Li,Rui Zhu,Kimberly Fultz,Sean STUDER,Zhiqing (Joel) Zhou. Владелец: Adarx Pharmaceuticals Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Glass processing apparatus and methods

Номер патента: WO2018017398A1. Автор: Gilbert De Angelis,Juan Camilo ISAZA. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2018-01-25.

Prekallikrein-modulating compositions and methods of use thereof

Номер патента: EP4409003A1. Автор: ZHEN Li,Rui Zhu,Kimberly Fultz,Sean STUDER,Zhiqing Zhou (Joel). Владелец: Adarx Pharmaceuticals Inc. Дата публикации: 2024-08-07.

Method of generating trained model, machine learning system, program, and medical image processing apparatus

Номер патента: US20240005498A1. Автор: Akira Kudo. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Control method of applying voltage on plasma display device and plasma display panel

Номер патента: TW511058B. Автор: Norihiro Uemura,Keizo Suzuki,Kenichi Yamamoto,Shirun Ho. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-11-21.

Method of and system for image processing and recording medium for carrying out the method

Номер патента: US20040091166A1. Автор: Masahiko Yamada. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-13.

METHOD OF PROCESSING LANGUAGE, RECORDING MEDIUM, SYSTEM FOR PROCESSING LANGUAGE, AND LANGUAGE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210165962A1. Автор: ITO Hideo. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-03.

Methods of Automatized Sample Loading and Processing and Devices and Systems Related Thereto

Номер патента: US20180372768A1. Автор: Bryant Jason E.,Johnson Brett W.,Schoon Richard J.. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-27.

Method of controlling cycles of repeating process and device for effecting same

Номер патента: SU645613A3. Автор: Майер Хартмут. Владелец: Роберт Бош (Фирма). Дата публикации: 1979-01-30.

METHOD OF LEVELING WAFER IN EXPOSURE PROCESS AND EXPOSURE SYSTEM THEREOF

Номер патента: US20200201198A1. Автор: JEON BUM-HWAN. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-25.

Method of Analyzing Defect in Printing Process and Computer Readable Media Storing The Same

Номер патента: KR101640936B1. Автор: 성정규. Владелец: 주식회사 고영테크놀러지. Дата публикации: 2016-07-20.

Method of analyzing defect in printing process and computer readable media storing the same

Номер патента: KR20110060997A. Автор: 성정규. Владелец: 주식회사 고영테크놀러지. Дата публикации: 2011-06-09.

Device for separation of plasma or serum from blood cells and methods of using the device

Номер патента: WO2020222960A1. Автор: Tianyu Zheng. Владелец: Nano Discovery, Inc.. Дата публикации: 2020-11-05.

Method of removing materials by their disintegration by action of electric plasma

Номер патента: WO2016105279A3. Автор: Ivan Kočiš,Gabriel HORVÁTH. Владелец: Ga Drilling, A. S.. Дата публикации: 2016-08-18.

Method of removing materials by their disintegration by action of electric plasma

Номер патента: WO2016105279A2. Автор: Ivan Kočiš,Gabriel HORVÁTH. Владелец: Ga Drilling, A. S.. Дата публикации: 2016-06-30.

Method of removing materials by their disintegration by action of electric plasma

Номер патента: EP3240942A2. Автор: Ivan Kočiš,Gabriel HORVÁTH. Владелец: Ga Drilling As. Дата публикации: 2017-11-08.

Method of removing materials by their disintegration by action of electric plasma

Номер патента: WO2016105279A4. Автор: Ivan Kočiš,Gabriel HORVÁTH. Владелец: Ga Drilling, A. S.. Дата публикации: 2016-09-15.

Method of printing on plates

Номер патента: RU2598308C2. Автор: Дитер ДЁРИНГ. Владелец: Кроноплюс Техникаль АГ. Дата публикации: 2016-09-20.

Tool re-processor and methods of re-processing devices

Номер патента: RU2633070C2. Автор: Ник Н. НГУЙЕН,Уджал БХАУМИК,Хэл УИЛЛЬЯМС. Владелец: Этикон, Инк.. Дата публикации: 2017-10-11.

Plasma treatment device and method of treating a surface

Номер патента: US11986567B2. Автор: Xin Zhou,Julius Regalado,Kenneth Cherisol,Miles Clark. Владелец: Bluewave Technologies Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Printing system, instruction apparatus, control method of instruction apparatus, and program

Номер патента: US20240289580A1. Автор: Shusuke Kibune. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Low voltage operation method of plasma display panel and apparatus thereof

Номер патента: US20020047589A1. Автор: Byoung Min,Jun Yoo,Dae Myoung. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2002-04-25.

Printer, data processing apparatus, and method of controlling data processing apparatus

Номер патента: US20150125174A1. Автор: Yasunaga Yamaguchi. Владелец: Oki Data Corp. Дата публикации: 2015-05-07.

Integrated laundry processing apparatus and control method thereof

Номер патента: US20220372685A1. Автор: Taewoong Kim,Dongsoo Lee,Hyemin KANG. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2022-11-24.

Image processing method, image processing apparatus, robot apparatus, program, and recording medium

Номер патента: US10043276B2. Автор: Kazuki Otake. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-08-07.

Driving method of plasma display device

Номер патента: US20110032280A1. Автор: Kazuhiro Yamada. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-02-10.

Data processing apparatus, method of controlling the same, and storage medium storing program

Номер патента: US8520693B2. Автор: Hisashi Ishikawa,Hirowo Inoue. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-08-27.

Driving method of plasma display device

Номер патента: US20100283775A1. Автор: Kazuhiro Yamada. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-11-11.

Drive method of plasma display panel

Номер патента: US20080211741A1. Автор: TETSUYA Shigeta,Mitsuhiro Ishizuka,Kazuo Yahagi,Hirofumi Honda,Shunsuke Itakura. Владелец: Pioneer Corp. Дата публикации: 2008-09-04.

Method of determining renal clearances

Номер патента: WO1997027481A1. Автор: Michael Kell. Владелец: Private Clinic Laboratories, Inc.. Дата публикации: 1997-07-31.

Method of controlling processor, information processing apparatus, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US09915996B2. Автор: Masaaki Noro. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Method of displaying preset information and information processing apparatus

Номер патента: US20210089244A1. Автор: Kenji Sawaguchi,Hitomi Sakai. Владелец: Oki Data Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Method of displaying preset information and information processing apparatus

Номер патента: US11487480B2. Автор: Kenji Sawaguchi,Hitomi Sakai. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-01.

Information processing apparatus, method of controlling the same, and storage medium

Номер патента: US12039052B2. Автор: Takashi Fujii. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Method of extraction of zinc

Номер патента: RU2298585C2. Автор: Джон МОЙЗ,Фрэнк ХОУЛЛИС. Владелец: Интек Лтд. Дата публикации: 2007-05-10.

Antimicrobial compositions and methods of using them

Номер патента: RU2519038C2. Автор: Януш СТЕЧКО,Стефен Р. ЭШ. Владелец: Зурекс Фарма, Инк.. Дата публикации: 2014-06-10.

Image processing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US20110063321A1. Автор: Seung-Kwon Park,Jong-Hyuk Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-03-17.

Apparatus, method of operating an apparatus and a computer program

Номер патента: WO2024028562A1. Автор: Brendan Moran,Gustavo PETRI. Владелец: ARM LIMITED. Дата публикации: 2024-02-08.

Plasma processing system and method

Номер патента: WO2004048942A1. Автор: Andrej S. Mitrovic. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2004-06-10.

Information Processing Apparatus and Information Processing Method

Номер патента: US20200019885A1. Автор: Masato Hayashi,Takashi Takemoto,Normann MERTIG. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2020-01-16.

MOVABLE GROUND RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120003836A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000608A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of recovering lime milk in a process of purifying it and process apparatus therefor

Номер патента: PL254466A1. Автор: Franciszek Dabrowski,Pawel Messer. Владелец: Swidnicka Fabryka Urzadzen Prz. Дата публикации: 1987-04-21.

Method of cleaning a plasma processing device

Номер патента: GB202315825D0. Автор: . Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Method of producing calcium gluconolactate, compositions, processes and uses of same

Номер патента: AU2002314604A1. Автор: Manuel Torres Buendia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-16.

Method of initiating air cooler defrosting processes and system therefor

Номер патента: PL306012A1. Автор: Bogusław Zakrzewski,Janusz Haberek. Владелец: Politechnika Szczecinska. Дата публикации: 1996-05-27.

Systems for and methods of laser-enhanced plasma processing of semiconductor materials

Номер патента: US20130267096A1. Автор: Hawryluk Andrew M.,Zafiropoulo Arthur W.. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-10.

Renovating device and renovating method of component for plasma processing device

Номер патента: CN115692148A. Автор: 杨桂林,段蛟. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2023-02-03.

METHOD OF MANAGEMENT OF THE GRANULATION PROCESS AND PORIZATION OF SLAG MELT

Номер патента: SU367064A1. Автор: М. Басе М.. Владелец: . Дата публикации: 1973-01-23.

Laser plasma processed multilayer film and laser plasma processing method thereof

Номер патента: JP3852176B2. Автор: 秀郎 西野,秀樹 小平. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2006-11-29.

Flow field simulation analysis method of electrode and nozzle cooling water channel and plasma cutting torch

Номер патента: CN101866382A. Автор: 陈小平,代丽华,王仲勋. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-20.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003829A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND SOLID-STATE IMAGE SENSOR

Номер патента: US20120001291A1. Автор: Kokumai Kazuo. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE SUPPORT TABLE OF PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002345A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEMS AND METHODS OF DETERMINING PATIENT PHYSIOLOGICAL PARAMETERS FROM AN IMAGING PROCEDURE

Номер патента: US20120004561A1. Автор: John Kalafut F.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

PLASMA TREATMENT APPARATUS AND PLASMA TREATMENT METHOD

Номер патента: US20120000887A1. Автор: Saito Makoto,SUZUKI Keiji,ETO Hideo,Nishiyama Nobuyasu. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

TAIL THE MOTION METHOD OF GENERATING SIMULATED STROBE MOTION VIDEOS AND PICTURES USING IMAGE CLONING

Номер патента: US20120002112A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003795A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

DRIVING DEVICE AND DRIVING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL, AND PLASMA DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20120001882A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF PROCESSING IMAGE, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20120002879A1. Автор: . Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002900A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING AN ELECTROCHEMICAL DEVICE USING ULTRAFAST PULSED LASER DEPOSITION

Номер патента: US20120003395A1. Автор: CHE Yong,HU Zhendong. Владелец: IMRA AMERICA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, DISPLAY CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002232A1. Автор: Inui Masanobu. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

BIGLYCAN MUTANTS AND RELATED THERAPEUTICS AND METHODS OF USE

Номер патента: US20120004178A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO GAMING DEVICE AND METHOD OF WAGERING ON A VIRTUAL FOOTBALL GAME

Номер патента: US20120004018A1. Автор: Reeves,III Allen N.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of generating plasma flow

Номер патента: RU2359433C1. Автор: Александр Иванович Апуневич. Владелец: Александр Иванович Апуневич. Дата публикации: 2009-06-20.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000610A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of verifying diagnosis of pheochromocytoma and/or paraganglioma in patients with earlier detected level of daily conjugated metanephrine and/or conjugated normetanephrine excretion, exceeding upper norm limit

Номер патента: RU2449288C1. Автор: Николай Сергеевич Кузнецов,Александр Викторович Ильин,Иван Иванович Дедов,Галина Афанасьевна Мельниченко,Дмитрий Германович Бельцевич,Марьяна Анатольевна Лысенко,Владимир Эдуардович Ванушко,Екатерина Анатольевна Трошина,Марина Юрьевна Юкина,Иван Иванович Дедов (RU),Александр Викторович Ильин (RU),Галина Афанасьевна Мельниченко (RU),Екатерина Анатольевна Трошина (RU),Дмитрий Германович Бельцевич (RU),Марина Юрьевна Юкина (RU),Николай Сергеевич Кузнецов (RU),Владимир Эдуардович Ванушко (RU),Марьяна Анатольевна Лысенко (RU). Владелец: Федеральное государственное учреждение Эндокринологический научный центр Министерства здравоохранения и социального развития Российской Федерации. Дата публикации: 2012-04-27.

STAMPER, METHOD OF MANUFACTURING THE STAMPER, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD USING THE STAMPER

Номер патента: US20120000885A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PHOTOGRAPHING APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING THE SAME

Номер патента: US20120002065A1. Автор: PARK Wan Je,Seung Jung Ah. Владелец: Samsung Electronics Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002071A1. Автор: Nishiyama Tomohiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, STAGE-UNDULATION CORRECTING METHOD, PROGRAM THEREFOR

Номер патента: US20120002032A1. Автор: Sakagami Junichi,Narusawa Ryu,Hirono Yu. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND PROGRAM THAT CLASSIFIES DATA OF IMAGES

Номер патента: US20120002878A1. Автор: . Владелец: CASIO COMPUTER CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002085A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

PRINTING APPARATUS, CONTROL METHOD OF PRINTING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120003023A1. Автор: Igarashi Hiroya. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE SCANNING APPARATUS AND CONTROL METHOD OF DOCUMENT SIZE DETECTION LIGHT SOURCE

Номер патента: US20120002247A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of forecasting course of bronchial asthma

Номер патента: RU2012884C1. Автор: А.Х. Коган,С. Болевич,И.Г. Даниляк. Владелец: Болевич Сергей. Дата публикации: 1994-05-15.

Method of production of alloyed carbon-containing coatings

Номер патента: RU2141006C1. Автор: Б.Н. Пыпкин,М.Л. Шупегин. Владелец: Пыпкин Борис Николаевич. Дата публикации: 1999-11-10.

CAMERA AND IMAGE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120002076A1. Автор: . Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of direct reduction of iron

Номер патента: RU2368667C2. Автор: Игорь Анатольевич Леонтьев. Владелец: Ооо "Твинн". Дата публикации: 2009-09-27.

CANCER BIOMARKERS AND METHODS OF USE THEREOF

Номер патента: US20120003639A1. Автор: KERLIKOWSKE KARLA,TLSTY THEA D.,GAUTHIER MONA L.,BERMAN HAL K.,BREMER TROY,MOLINARO ANNETTE M.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

NUCLEOTIDE SEQUENCES ENCODING GSH1 POLYPEPTIDES AND METHODS OF USE

Номер патента: US20120004114A1. Автор: . Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY AND PIONEER HI-BRED INTERNATIONAL. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF CONTINUOUSLY PRODUCING ELECTRONIC FILM COMPONENTS

Номер патента: US20120000065A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CRYSTALLINE CERIUM OXIDE AND PREPARATION METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120000137A1. Автор: CHOI Sang-Soon,CHO Seung-Beom,HA Hyun-Chul,KWAK Ick-Soon,CHO Jun-Yeon. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

CONTINUOUS BAGGING PROCESSES AND SYSTEMS

Номер патента: US20120000161A1. Автор: . Владелец: GALA INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Multi-Layer Compressible Foam Sheet and Method of Making the Same

Номер патента: US20120000384A1. Автор: Vest Ryan W.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELLS USING EPITAXIAL DEPOSITION

Номер патента: US20120000511A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF ARC DETECTION AND SUPPRESSION DURING RF SPUTTERING OF A THIN FILM ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120000765A1. Автор: Halloran Sean Timothy. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of Electron Diffraction Tomography

Номер патента: US20120001068A1. Автор: . Владелец: FEI COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

ORGANIC LIGHT-EMITTING DISPLAY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001182A1. Автор: Choi Jong-Hyun,Lee Dae-Woo. Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRONIC DEVICE AND METHOD OF CONTROLLING THE SAME

Номер патента: US20120001490A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MAGNETIC RESONANCE IMAGING APPARATUS AND MAGNETIC RESONANCE IMAGING METHOD OF CONTROLLING IMAGE CONTRAST

Номер патента: US20120001632A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

AVIONICS DEVICE, SYSTEMS AND METHODS OF DISPLAY

Номер патента: US20120001773A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Driving Method of Input/Output Device

Номер патента: US20120001847A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

PIEZORESISTIVE DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND PIEZORESISTIVE-TYPE TOUCH PANEL HAVING THE SAME

Номер патента: US20120001870A1. Автор: LEE Kang Won,Lee Seung Seob. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD OF ILLUMINATING INTERFEROMETRIC MODULATORS USING BACKLIGHTING

Номер патента: US20120001962A1. Автор: Tung Ming-Hau,Chui Clarence. Владелец: QUALCOMM MEMS Technologies, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF AND ARRANGEMENT FOR LINKING IMAGE COORDINATES TO COORDINATES OF REFERENCE MODEL

Номер патента: US20120002840A1. Автор: van Dam Peter Michael,Linnenbank Andreas Christianus. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Nanostructured Mn-Al Permanent Magnets And Methods of Producing Same

Номер патента: US20120003114A1. Автор: Zeng Qi,Baker Ian. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

NEW METHODS OF TREATING DRY EYE SYNDROME

Номер патента: US20120003296A1. Автор: Shantha Totada R.,Shantha Erica Maya,Shantha Jessica Gowramma. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003503A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

SEPARATOR FOR AN ELECTRICITY STORAGE DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120003525A1. Автор: . Владелец: TOMOEGAWA CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING WAX-CONTAINING POLYMER PARTICLES

Номер патента: US20120003581A1. Автор: Yang Xiqiang,Bennett James R.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF PRODUCING C4 DICARBOXYLIC ACIDS

Номер патента: US20120003708A1. Автор: . Владелец: ARCHER DANIELS MIDLAND COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING AN INTEGRATED CIRCUIT DEVICE

Номер патента: US20120003806A1. Автор: . Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FORMING STRAINED EPITAXIAL CARBON-DOPED SILICON FILMS

Номер патента: US20120003825A1. Автор: Dip Anthony. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF FORMING THE SAME

Номер патента: US20120003828A1. Автор: Chang Sung-Il,Choe Byeong-In,KANG Changseok. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods of Forming Nonvolatile Memory Devices Using Nonselective and Selective Etching Techniques to Define Vertically Stacked Word Lines

Номер патента: US20120003831A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods of Treating an Overweight or Obese Subject

Номер патента: US20120004162A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METABOLIC BIOMARKERS FOR OVARIAN CANCER AND METHODS OF USE THEREOF

Номер патента: US20120004854A1. Автор: Gray Alexander,Guan Wei,Fernandez Facundo M.,McDonald John,Zhou Manshui. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of manufacturing printed circuit board having flow preventing dam

Номер патента: US20120000067A1. Автор: CHOI Jin Won,KIM Seung Wan. Владелец: SAMSUNG ELLECTRO-MECHANICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120000484A1. Автор: . Владелец: Denso Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING A SOLAR CELL WITH A TUNNEL DIELECTRIC LAYER

Номер патента: US20120000528A1. Автор: Smith David,Dennis Tim,Harrington Scott,Manning Jane,Waldhauer Ann. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Systems and Methods for the Collection, Retention, and Redistribution of Rainwater and Methods of Construction of the Same

Номер патента: US20120000546A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SPUTTERING TARGET ASSEMBLY AND METHOD OF MAKING SAME

Номер патента: US20120000594A1. Автор: Ivanov Eugene Y.,Theado Erich. Владелец: TOSOH SMD, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF STACKING FLEXIBLE SUBSTRATE

Номер патента: US20120000602A1. Автор: KIM Yong Hae,PARK Dong Jin,Suh Kyung Soo,KIM Gi Heon,KIM Chul Am. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2012-01-05.

SOL-GEL MONOLITHIC COLUMN WITH OPTICAL WINDOW AND METHOD OF MAKING

Номер патента: US20120000850A1. Автор: . Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2012-01-05.

POSITRON EMISSION IMAGING DEVICE AND METHOD OF USING THE SAME

Номер патента: US20120001064A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

GATE STRUCTURES AND METHOD OF FABRICATING SAME

Номер патента: US20120001266A1. Автор: . Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001300A1. Автор: Ito Takayuki,ISHIDA Tatsuya,Yoshino Kenichi,Naito Tatsuya. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001333A1. Автор: HWANG Chang Youn. Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

LIGHT EMITTING MODULE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001544A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120001885A1. Автор: Kim Na-Young,Kang Ki-Nyeng,Park Yong-Sung. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

INKJET RECORDING APPARATUS AND CONTROL METHOD OF THE INKJET RECORDING APPARATUS

Номер патента: US20120001971A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

MONITORING CAMERA AND METHOD OF TRACING SOUND SOURCE

Номер патента: US20120002047A1. Автор: Kim Sung Jin,AN Kwang Ho. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF DETERMINING SHIFT BETWEEN TWO IMAGES

Номер патента: US20120002845A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL WAVEGUIDE DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF

Номер патента: US20120002931A1. Автор: Watanabe Shinya. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Crosslinked Dextran Composite Magnetic Microparticles and Preparation Process and Using Method Thereof

Номер патента: US20120003321A1. Автор: . Владелец: XI'AN GOLDMAG NANOBIOTECH CO. LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MANURACTURING METHOD OF EGG WITH EDIBLE COMPOSITION

Номер патента: US20120003368A1. Автор: LEE Hye-Jin. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

LIGNIN/POLYACRYLONITRILE-CONTAINING DOPES, FIBERS, AND METHODS OF MAKING SAME

Номер патента: US20120003471A1. Автор: . Владелец: WEYERHAEUSER NR COMPANY. Дата публикации: 2012-01-05.

POROUS CLUSTERS OF SILVER POWDER COMPRISING ZIRCONIUM OXIDE FOR USE IN GAS DIFFUSION ELECTRODES, AND METHODS OF PRODUCTION THEREOF

Номер патента: US20120003549A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGING PARTICULATES, PAPER AND PROCESS, AND IMAGING OF PAPER USING DUAL WAVELENGTH LIGHT

Номер патента: US20120003592A1. Автор: . Владелец: INTERNATIONAL PAPER COMAPNY. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE AND FABRICATION SYSTEM OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003761A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods of manufacturing semiconductor devices with Si and SiGe epitaxial layers

Номер патента: US20120003799A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF REDUCING EROSION OF A METAL CAP LAYER DURING VIA PATTERNING IN SEMICONDUCTOR DEVICES

Номер патента: US20120003832A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF ETCHING SACRIFICIAL LAYER

Номер патента: US20120003835A1. Автор: Yeh Chiu-Hsien,Yang Chan-Lon,Wang Yeng-Peng. Владелец: UNITED MICROELECTRONICS CORP.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of Regenerating a Polishing Pad Using a Polishing Pad Sub Plate

Номер патента: US20120003903A1. Автор: SUZUKI Eisuke,SUZUKI Tatsutoshi. Владелец: Toho Engineering. Дата публикации: 2012-01-05.

WOUND DRESSING APPARATUS AND METHOD OF USE

Номер патента: US20120004628A1. Автор: . Владелец: Smith & Nephew PLC. Дата публикации: 2012-01-05.

Method Of Implanting An Interspinous Vertebral Implant

Номер патента: US20120004727A1. Автор: Fuentes Jean-Marc,Ben-Mokhtar Mourad. Владелец: Eden Spine, LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of Estimation of Traffic Information, Device of Estimation of Traffic Information and Car Navigation Device

Номер патента: US20120004836A1. Автор: . Владелец: Xanavi Informatics Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS FOR AND A METHOD OF DETERMINING SURFACE CHARACTERISTICS

Номер патента: US20120004888A1. Автор: . Владелец: Taylor Hobson Limited. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

RRAM structure and method of making the same

Номер патента: US20120001141A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE FORMING APPARATUS TO ADD SPECIFIC DATA TO IMAGE, AND IMAGE FORMING METHOD OF ADDING THE SPECIFIC DATA TO THE IMAGE

Номер патента: US20120002224A1. Автор: KIMOTO Taizo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001260A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CANNULA LINED WITH TISSUE IN-GROWTH MATERIAL AND METHOD OF USING THE SAME

Номер патента: US20120004496A1. Автор: . Владелец: CIRCULITE, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of producing white okroshka kvass

Номер патента: RU2596419C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2016-09-10.

Method of removing c and n contaminant compounds using heterotrophic ammonia-oxidising bacteria

Номер патента: RU2438997C2. Автор: Гуаньхао ПЕНГ. Владелец: Гуаньхао ПЕНГ. Дата публикации: 2012-01-10.

Method of producing aromatic kvass with oregano

Номер патента: RU2596437C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2016-09-10.

Exothermic glass and methods of its production

Номер патента: RU2075537C1. Автор: Хэн Чулл-Воо. Владелец: Хайэр Вакуум инд Ко., Лтд.. Дата публикации: 1997-03-20.

LABEL, LABELING SYSTEM AND METHOD OF LABELING FOR CONTAINERS FOR DRUG PRODUCTS

Номер патента: US20120000592A1. Автор: MASE Joseph,Thomas Lindsey. Владелец: Sagent Pharmaceuticals, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Liquid Crystal Display Device And Method Of Manufacturing That

Номер патента: US20120004453A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Production method of compote out of cherry-plum

Номер патента: RU2377867C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2010-01-10.

Method of producing white okroshka kvass

Номер патента: RU2596421C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2016-09-10.