等离子体处理方法和等离子体处理装置
Номер патента: CN104576453B
Опубликовано: 22-06-2018
Автор(ы): 伊藤务, 新妻良祐, 狐塚慎, 狐塚慎一, 舟久保隆男, 西野雅
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 22-06-2018
Автор(ы): 伊藤务, 新妻良祐, 狐塚慎, 狐塚慎一, 舟久保隆男, 西野雅
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Plasma processing device member and plasma processing device having the same
Номер патента: TWI772910B. Автор: 日野高志,石川和洋,斎藤秀一. Владелец: 日商京瓷股份有限公司. Дата публикации: 2022-08-01.