Apparatus and method for measurement of critical dimensions of features and detection of defects in UV, VUV, and EUV lithography masks
Номер патента: US7345771B2
Опубликовано: 18-03-2008
Автор(ы): Henry Allen Hill
Принадлежит: Zetetic Institute
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 18-03-2008
Автор(ы): Henry Allen Hill
Принадлежит: Zetetic Institute
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Optical apparatus and method for performing a measurement of at least one geometric dimension of an object
Номер патента: EP2864733A1. Автор: Agazzi Giovanni. Владелец: Gevis Srl. Дата публикации: 2015-04-29.