Method for processing substrate, processing apparatus, and processing system
Номер патента: US20220115589A1
Опубликовано: 14-04-2022
Автор(ы): Song Yun Kang, Takuya Kubo
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 14-04-2022
Автор(ы): Song Yun Kang, Takuya Kubo
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for processing processed substrate, and plasma processing apparatus
Номер патента: JP2014075567A. Автор: Masanobu Honda,Ryoichi Yoshida,Ken Kobayashi,亮一 吉田,嘉英 木原,Yoshihide Kihara,昌伸 本田,Hiromi MOCHIZUKI,広実 望月,Seiya Kawamata,誠也 川又,小林 憲. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-04-24.