Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Catadioptric projection objective

Номер патента: WO2004090600A2
Опубликовано: 21-10-2004
Автор(ы): Alexander Epple, Aurelian Dodoc
Принадлежит: Carl Zeiss Smt Ag
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Catadioptric projection objective with parallel, offset optical axes

Номер патента: US09772478B2. Автор: David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Rudolf Murai von Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-26.

Catadioptric projection lens and method for producing same

Номер патента: US11360293B2. Автор: Hendrik Wagner,Michael Grupp,Martin ROCKTAESCHEL. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-06-14.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US20020167734A1. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2002-11-14.

Large-field unit-magnification catadioptric projection system

Номер патента: WO2012033685A1. Автор: Romeo I. Mercado. Владелец: Coherent, Inc.. Дата публикации: 2012-03-15.

Downsizing catadioptric projection system

Номер патента: DE69314567T2. Автор: Yutaka Virunubu Hodoga Suenaga. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-02-26.

Downsizing catadioptric projection system

Номер патента: DE69216940T2. Автор: Yutaka Suenaga. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-09-04.

Catadioptric projection optical system, exposure apparatus having the same, device fabrication method

Номер патента: US7317571B2. Автор: Takashi Kato,Hirohiko Shinonaga,Chiaki Terasawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-01-08.

Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Номер патента: US09817220B2. Автор: Toralf Gruner,Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

High aperture catadioptric projection objective

Номер патента: WO2009040011A3. Автор: Alexander Epple. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2009-05-22.

Catadioptric projection objective with intermediate images

Номер патента: US09726979B2. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-08.

High aperture catadioptric projection objective

Номер патента: WO2009040011A2. Автор: Alexander Epple. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2009-04-02.

Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Номер патента: US09459435B2. Автор: Toralf Gruner,Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-04.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US09726870B2. Автор: Toralf Gruner,Alexander Epple,Thomas Schicketanz,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-08.

Catadioptric projection objective

Номер патента: WO2006005547A1. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Jürgen Mann,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Rudolf Von Bünau,Alexander Epple,Susanne Beder. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2006-01-19.

Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Номер патента: US20170052355A1. Автор: Toralf Gruner,Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-23.

Projection objective and method for optimizing a system aperture stop of a projection objective

Номер патента: US20100214551A1. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-08-26.

Projection objective and method for optimizing a system aperture stop of a projection objective

Номер патента: US8049973B2. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-11-01.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING DEFLECTION MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20170052355A1. Автор: Gruner Toralf,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-23.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING DEFLECTION MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20160154228A1. Автор: Gruner Toralf,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-02.

Catadioptric projection system for 157 nm lithography

Номер патента: WO2002044786A2. Автор: Russell Hudyma. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2002-06-06.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH TWO INTERMEDIATE IMAGES AND NO MORE THAN FOUR LENSES BETWEEN THE APERTURE STOP AND IMAGE PLANE

Номер патента: US20140376086A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Shafer David,Dodoc Aurelian,Von Buenau Rudolf Murai. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-25.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20160231546A1. Автор: Epple Alexander,Gruner Toralf,KAMENOV Vladimir,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-11.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH PARALLEL, OFFSET OPTICAL AXES

Номер патента: US20180031815A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Shafer David,Dodoc Aurelian,Von Buenau Rudolf Murai. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-01.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20150055214A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Dodoc Aurelian,Beder Susanne,Singer Wolfgang,Shafer David R.,Von Buenau Rudolf Murai. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-26.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20180095258A1. Автор: Epple Alexander,Gruner Toralf,KAMENOV Vladimir,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-05.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE INCLUDING A REFLECTIVE OPTICAL COMPONENT AND A MEASURING DEVICE

Номер патента: US20190101832A1. Автор: ZACZEK Christoph,Gruner Toralf,Mueller Ralf,Bleidistel Sascha. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-04.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH PARALLEL, OFFSET OPTICAL AXES

Номер патента: US20150226948A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Shafer David,Dodoc Aurelian,Von Buenau Rudolf Murai. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-13.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20180373006A1. Автор: Epple Alexander,Gruner Toralf,KAMENOV Vladimir,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-27.

Catadioptric projection objective with geometric beam splitting

Номер патента: US20050185269A1. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Helmut Beierl. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-08-25.

Catadioptric projection objective including a reflective optical component and a measuring device

Номер патента: US10146137B2. Автор: Toralf Gruner,Sascha Bleidistel,Ralf Mueller,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-12-04.

Catadioptric projection apparatus

Номер патента: US5638218A. Автор: Yasuhiro Oomura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-06-10.

CATADIOPTRIC PROJECTION LENS AND METHOD FOR PRODUCING SAME

Номер патента: US20190302434A1. Автор: Wagner Hendrik,ROCKTAESCHEL Martin,Grupp Michael. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-03.

Catadioptric projection lens and method for producing same

Номер патента: WO2018104178A1. Автор: Hendrik Wagner,Martin Rocktäschel,Michael Grupp. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-06-14.

Catadioptric projection lens for use in wafer-scanner for immersion lithography, has refractive objective portion with immersion lens group that is made of optical high-index material with refractive index greater than specific value

Номер патента: DE102009011329A1. Автор: Aurelian Dr. Dodoc. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-09-09.

Catadioptric projection system for 157 nm lithography

Номер патента: US20030197922A1. Автор: Russell Hudyma. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2003-10-23.

Catadioptric projection lens and method for compensating the intrinsic birefringence in a lens of this type

Номер патента: WO2004025349A1. Автор: Michael Albert,Vladimir Kamenov. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2004-03-25.

Projection objectives including a plurality of mirrors with lenses ahead of mirror M3

Номер патента: US20050036213A1. Автор: Hans-Jürgen Mann,Alexander Epple,Russell Hudyma. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-02-17.

Projection objective comprising a plurality of mirrors with a lens in front of the mirror M3

Номер патента: JP5036311B2. Автор: エプル，アレキサンダー,マン，ハンス−ユルゲン,フディマ，ラッセル. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2012-09-26.

Projection objectives including a plurality of mirrors with lenses ahead of mirror M3

Номер патента: US7190530B2. Автор: Hans-Jürgen Mann,Alexander Epple,Russell Hudyma. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-03-13.

Projection exposure apparatus, projection exposure method, and projection objective lens

Номер патента: JP5396673B2. Автор: ウルリッヒ ヴィルヘルム,フェルトマン ハイコ,ロスタルスキ ハンス・ユルゲン. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-01-22.

Projection exposure apparatus, projection exposure method and projection objective

Номер патента: TW200813642A. Автор: Wilhelm Ulrich,Heiko Feldmann,Hans-Juergen Rostalski. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-03-16.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING DEFLECTION MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20180095259A1. Автор: Gruner Toralf,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-05.

Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Номер патента: TW201131199A. Автор: Toralf Gruner,Thomas Schicketanz. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2011-09-16.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING DEFLECTION MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20150062725A1. Автор: Gruner Toralf,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-05.

Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Номер патента: US20190056576A1. Автор: Toralf Gruner,Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-21.

Projection exposure system comprising a catadioptric projection objective with intermediate images

Номер патента: KR101639964B1. Автор: 아우렐리안 도독,빌헬름 울리히,알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2016-07-14.

Catadioptric projection objective with adaptive mirror and projection exposure method

Номер патента: US20070012871A1. Автор: Christian Wagner,Gerald Richter,Michael Gerhard. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-18.

Catadioptric projection objective with mirror group

Номер патента: JP4801047B2. Автор: マン ハンス・ユルゲン,ウルリッヒ ヴィルヘルム,エップル アレキサンダー,ドドック アウレリアン,シェイファー デイヴィッド. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2011-10-26.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US8300211B2. Автор: Toralf Gruner,Alexander Epple,Ralf Mueller. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-10-30.

Catadioptric projection objective with intermediate images

Номер патента: KR101391470B1. Автор: 아우렐리안 도독,빌헬름 울리히,알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-05-07.

Catadioptric projection objective

Номер патента: CN101995591A. Автор: 弗拉迪米尔·卡梅诺夫,亚历山大·埃普尔,托拉尔夫·格鲁纳,托马斯·希克坦兹. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-30.

Catadioptric projection objective with intermediate images

Номер патента: KR101376931B1. Автор: 아우렐리안 도독,빌헬름 울리히,알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-03-25.

Catadioptric projection objective with mirror group

Номер патента: EP1733272A1. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-12-20.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US20140111787A1. Автор: Wolfgang Singer,David R. Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Susanne Beder,Rudolf M. Von Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-04-24.

Catadioptric projection objective

Номер патента: CN101995591B. Автор: 弗拉迪米尔·卡梅诺夫,亚历山大·埃普尔,托拉尔夫·格鲁纳,托马斯·希克坦兹. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-03-25.

Catadioptric projection objective

Номер патента: WO2008101676A2. Автор: Aurelian Dodoc. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-08-28.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US20110038061A1. Автор: Toralf Gruner,Alexander Epple,Thomas Schicketanz,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-02-17.

Catadioptric Projection Objective With Intermediate Images

Номер патента: US20140111786A1. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-04-24.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20150055212A1. Автор: Epple Alexander,Gruner Toralf,KAMENOV Vladimir,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-26.

Catadioptric Projection Objective With Intermediate Images

Номер патента: US20170363963A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Epple Alexander,Dodoc Aurelian. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-21.

Catadioptric projection objective

Номер патента: WO2004010164A2. Автор: Aurelian Dodoc,Alexander Epple. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2004-01-29.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US10042146B2. Автор: Toralf Gruner,Alexander Epple,Thomas Schicketanz,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-08-07.

Catadioptric projection objective with pupil correction

Номер патента: WO2008104192A1. Автор: Aurelian Dodoc. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-09-04.

Catadioptric projection objective

Номер патента: EP1771771B1. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Jürgen Mann,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Rudolf Von Bünau,Alexander Epple,Susanne Beder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-12-30.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US8416490B2. Автор: Wolfgang Singer,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Susanne Beder,Rudolf Von Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-04-09.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US7203010B2. Автор: Aurelian Dodoc,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-04-10.

Catadioptric projection objective

Номер патента: JP4921580B2. Автор: ミューラー ラルフ,エプレ アレクサンダー,グルナー トラルフ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2012-04-25.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US20070236674A1. Автор: Wolfgang Singer,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Susanne Beder,Rudolf Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-10-11.

Catadioptric projection objective with geometric beam splitting

Номер патента: US20050117224A1. Автор: David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Helmut Beierl. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-06-02.

Projection exposure apparatus with a catadioptric projection optical system

Номер патента: US6661499B2. Автор: Yasuhiro Omura,Takashi Mori,Toshihiko Ozawa,Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-12-09.

Catadioptric projection optical system, exposure apparatus having the same, device fabrication method

Номер патента: US20060088320A1. Автор: Hideki Morishima,Chiaki Terasawa,Yuji Katashiba. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-27.

Catadioptric projection optical system, exposure apparatus having the same, device fabrication method

Номер патента: US7283294B2. Автор: Hideki Morishima,Chiaki Terasawa,Yuji Katashiba. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-10-16.

Method for correcting a lithographic projection objective and projection objective of such a kind

Номер патента: EP1746463A2. Автор: Wilhelm Ulrich,Boris Bittner,Norbert Wabra,Toralf Dr. Gruner,Volker Gräschus,Thomas Okon. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-01-24.

Objective, especially a projection objective for microlithography

Номер патента: WO2003104897A3. Автор: Alexander Kohl,Ulrich Weber,Hubert Holderer. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2004-03-04.

Method for correcting a lithography projection objective, and such a projection objective

Номер патента: US8659744B2. Автор: Volker Graeschus,Toralf Gruner,Wilhelm Ulrich,Boris Bittner,Norbert Wabra,Thomas Okon. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-02-25.

MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20140333913A1. Автор: Kraehmer Daniel,KALLER Julian,Epple Alexander,Gruner Toralf,FELDMANN Heiko,Dodoc Aurelian,KAMENOV Vladimir,Conradi Olaf,Perrin Jean-Claude,Okon Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-13.

Microlithography projection objective

Номер патента: KR101653514B1. Автор: 아우렐리안 도독,하이코 펠드만,다니엘 크라에메르,장-클로드 페린,줄리안 칼러,블라디미르 카메노프,올라프 콘라디,토랄프 그루너,토마스 오콘,알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2016-09-01.

Microlithography projection objective

Номер патента: KR101483791B1. Автор: 아우렐리안 도독,하이코 펠드만,다니엘 크라에메르,장-클로드 페린,줄리안 칼러,블라디미르 카메노프,올라프 콘라디,토랄프 그루너,토마스 오콘,알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2015-01-16.

Microlithography projection objective

Номер патента: KR101590743B1. Автор: 아우렐리안 도독,하이코 펠드만,다니엘 크라에메르,장-클로드 페린,줄리안 칼러,블라디미르 카메노프,올라프 콘라디,토랄프 그루너,토마스 오콘,알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2016-02-01.

Microlithography projection objective

Номер патента: CN101297243B. Автор: 海科·费尔德曼,丹尼尔·克雷默,让-克洛德·佩林,朱利安·卡勒,奥雷利安·多多克,弗拉基米尔·卡梅诺夫,奥拉夫·康拉迪,托拉夫·格鲁纳,托马斯·奥孔,亚历山大·埃普勒. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-10-03.

Microlithography projection objective

Номер патента: KR101629160B1. Автор: 아우렐리안 도독,하이코 펠드만,다니엘 크라에메르,장-클로드 페린,줄리안 칼러,블라디미르 카메노프,올라프 콘라디,토랄프 그루너,토마스 오콘,알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2016-06-09.

Correction device for compensation of disturbances of the polarization distribution and projection objective for microlithography

Номер патента: DE10328938A1. Автор: Christian Dr. Hembd. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-01-20.

Projection objective for microlithography

Номер патента: US20080259308A1. Автор: Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-10-23.

Optical correction element and method for the correction of temperature-induced imaging aberrations in optical systems, projection objective and projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: WO2008122410A2. Автор: Aurelian Dodoc,Daniel Kraehmer,Ulrich Loering,Olaf Conradi. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-10-16.

Projection objective of micro-lithographic projection exposure equipment e.g. for fabrication of integrated circuits, has diffractive optical element arranged in pupil plane

Номер патента: DE102006028242A1. Автор: Alexander Epple,Hans-Jürgen Rostalski,Heiko Feldmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-01-18.

Correcting Device to Compensate for Polarization Distribution Perturbations and Projection Objective for Microlithographic Projection Lens

Номер патента: KR101085737B1. Автор: 크리스찬 헴드. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2011-11-21.

Projection objective having a high aperture and a planar end surface

Номер патента: WO2006133801A1. Автор: Wolfgang Singer,Karl-Heinz Schuster,Susanne Beder. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2006-12-21.

High-na projection objective with aspheric lens surfaces

Номер патента: US20090296204A1. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-12-03.

Projection objective for microlithography

Номер патента: US7271876B2. Автор: Wilhelm Ulrich,Gerhard Fuerter,Michael Gerhard. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-09-18.

Projection objective for microlithography

Номер патента: DE102008001216A1. Автор: Alexander Dr. Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-10-23.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: US8094380B2. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-10.

Catadioptric projection objective with tilted deflecting mirrors, projection exposure apparatus, projection exposure method, and mirror

Номер патента: JP2014225690A. Автор: Mueller Ralf,Singer Wolfgang,ヴォルフガング ジンガー,ラルフ ミューラー,アクセル ゲーネルマイアー,Axel Genelmayer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-12-04.

Catadioptric projection objective with tilted deflecting mirrors, projection exposure apparatus, projection exposure method, and mirror

Номер патента: KR101399768B1. Автор: 악셀 괴너마이어,볼프강 징거,랄프 뮐러. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-05-27.

High transmission, high aperture catadioptric projection objective and projection exposure apparatus

Номер патента: EP2177934A1. Автор: Wilhelm Ulrich,Ralf Dr. Müller,Daniel Krähmer,Thomas Schicketanz,Alexander Dr. Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-04-21.

High transmission, high aperture catadioptric projection objective and projection exposure apparatus

Номер патента: TW201027267A. Автор: Wilhelm Ulrich,Alexander Epple,Ralf Mueller,Daniel Kraehmer,Thomas Schicketanz. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2010-07-16.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH MIRROR GROUP

Номер патента: US20130120728A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Dodoc Aurelian,Shafer David R.. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-16.

Catadioptric Projection Objective With Intermediate Images

Номер патента: US20140078483A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Epple Alexander,Dodoc Aurelian. Владелец: . Дата публикации: 2014-03-20.

Catadioptric Projection Objective With Intermediate Images

Номер патента: US20140118713A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Epple Alexander,Dodoc Aurelian. Владелец: . Дата публикации: 2014-05-01.

Objective as a microlithography projection objective with at least one liquid lens

Номер патента: KR100965330B1. Автор: 데이비드 샤퍼,수산네 베데르,칼-하인즈 쉿쳐. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 아게. Дата публикации: 2010-06-22.

Objective lens esp. as micro-lithography projection objective, has objective divided into first part-objective with single mirror and second part-objective with primary and secondary mirror

Номер патента: DE102005042005A1. Автор: Hans-Jürgen Mann,Wilhelm Ulrich,David Fairfield Shafer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-07-06.

8-Mirror microlithography projection objective

Номер патента: US20070047069A1. Автор: Hans-Jürgen Mann,Wilhelm Ulrich,Gunther Seitz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-03-01.

Optical arrangement in a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9086561B2. Автор: Alexander Epple,Hans-Juergen Rostalski,Tilman Schwertner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-07-21.

6 Mirror-microlithography-projection objective

Номер патента: KR20020011340A. Автор: 한스-유르겐 만,우도 딩어,미켈 뮐베이어. Владелец: 케이.그나찌그, 뮬러 리브만. Дата публикации: 2002-02-08.

6-mirror microlithography projection objective

Номер патента: US6867913B2. Автор: Michael Mühlbeyer,Hans-Jürgen Mann,Udo Dinger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-03-15.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09720329B2. Автор: Stephan Muellender,Hans-Juergen Mann,Rolf Freimann,Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Objective, particularly a projection objective for use in semiconductor lithography

Номер патента: US20040201909A1. Автор: Werner Lang,Alexander Kohl,Hubert Holderer,Hartmut Brandenburg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2004-10-14.

Projection objective for microlithography

Номер патента: US20180164474A1. Автор: Toralf Gruner,Aurelian Dodoc,Hans-Juergen Mann,Daniel Kraehmer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-06-14.

Projection objective with decentralized control

Номер патента: WO2007071307A1. Автор: Torsten Gross. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2007-06-28.

Projection objective with obscurated pupil for microlithography

Номер патента: EP2191331A1. Автор: Toralf Gruner,Aurelian Dodoc,Hans-Juergen Mann,Daniel Kraehmer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-06-02.

Method for improving the imaging properties of a projection objective, and such a projection objective

Номер патента: US09581813B2. Автор: Toralf Gruner,Sascha Bleidistel,Wolfgang Hummel,Andreas Frommeyer,Heiko Feldmann,Gerald Richter,Olaf Conradi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-28.

Projection objective

Номер патента: US20200310256A1. Автор: Yinzhang GUO,Fuping AN,Zhaoxiang CHU. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Optical element with an antireflection coating, projection objective, and exposure apparatus comprising such an element

Номер патента: US09684252B2. Автор: Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-20.

Lithography projection objective

Номер патента: US11899181B2. Автор: Yinzhang GUO. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Projection objective for a microlithography apparatus with improved imaging properties and method for improving the imaging properties of the projection objective

Номер патента: WO2008037496A3. Автор: Armin Schoeppach,Toralf Gruner,Mariella Beckenbach,Klaus Rief,Andreas Bertele,Benjamin Sigel,Sascha Bleidistel,Wolfgang Hummel,Andreas Frommeyer,Jochen Schwaer,Baerbel Schwaer,Thomas Schletterer,Artur Hoegele. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-06-19.

Optical Element With An Antireflection Coating, Projection Objective, And Exposure Apparatus Comprising Such An Element

Номер патента: US20120038897A1. Автор: Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-02-16.

Microlithography projection objective for imaging radiation from object plane to image plane, has mirrored entry pupil in mirrored entry pupil plane obtained by mirroring entry pupil at object plane

Номер патента: DE102006014380A1. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Jürgen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-10-11.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: KR101166658B1. Автор: 만 한스-쥐르겐,시그너 울프강. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2012-07-18.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: US7869138B2. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-01-11.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: US8810927B2. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-08-19.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: US20110063596A1. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-17.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: TW200741244A. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Juergen Mann. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2007-11-01.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: TWI456250B. Автор: Mann Hans-Juergen,Singer Wolfgang. Владелец: Zeiss Carl Smt Gmbh. Дата публикации: 2014-10-11.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: KR101144492B1. Автор: 만 한스-쥐르겐,시그너 울프강. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2012-05-14.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus designed for EUV and a method of optically adjusting a projection objective

Номер патента: US20130242278A1. Автор: Mann Hans-Juergen,FREIMANN Rolf,ENKISCH Hartmut,MUELLENDER Stephan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Projection objective of a microlithographic exposure apparatus designed for euv and a method of optically adjusting a projection objective

Номер патента: KR101909301B1. Автор: 한스-위르겐 만,하르트무트 엔키시,스테판 뮐렌더,롤프 프라이만. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2018-12-10.

Projection objective, especially for microlithography, and method for adjusting a projection objective

Номер патента: US20040109237A1. Автор: Paul Graeupner,Wilhelm Ulrich,Alexander Epple,Winfried Kaiser,Reiner Garreis. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2004-06-10.

Objective, particularly a projection objective for use in semiconductor lithography

Номер патента: WO2003012529A3. Автор: Werner Lang,Alexander Kohl,Hubert Holderer,Hartmut Brandenburg. Владелец: Hartmut Brandenburg. Дата публикации: 2004-01-08.

Projection objective, especially for microlithography, and method for adjusting a projection objective

Номер патента: US7310187B2. Автор: Paul Graeupner,Wilhelm Ulrich,Alexander Epple,Winfried Kaiser,Reiner Garreis. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-12-18.

Objective, particularly a projection objective for use in semiconductor lithography

Номер патента: US7123427B2. Автор: Werner Lang,Alexander Kohl,Hubert Holderer,Hartmut Brandenburg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-10-17.

Reduction projection objective for microlithography

Номер патента: TW466353B. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: Zeiss Stiftung. Дата публикации: 2001-12-01.

PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY

Номер патента: US20180164474A1. Автор: Kraehmer Daniel,Mann Hans-Juergen,Gruner Toralf,Dodoc Aurelian. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-14.

APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING OPTIMAL FOCAL PLANE OF LITHOGRAPHIC PROJECTION OBJECTIVE LENS

Номер патента: US20200225588A1. Автор: LIU ZHIXIANG,XU Jiajun,XING Tingwen,LIN Wumei. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-16.

Projection objective of a microlithographic exposure apparatus

Номер патента: CN103189800A. Автор: H.恩基什,S.米伦德,H-J.曼,R.弗里曼. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-07-03.

Microlithography projection objective and projection exposure apparatus

Номер патента: KR100749015B1. Автор: 딩어우도. Владелец: 칼 짜이스 에스엠테 아게. Дата публикации: 2007-08-13.

Optical System, in particular an illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: KR101474035B1. Автор: 다미안 피올카,닐스 디에크만. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-12-17.

Optical system, in particular an illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2008074673A2. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-06-26.

Microlithography projection objective with crystal elements

Номер патента: WO2005059645A2. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-06-30.

Illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20090195766A1. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-08-06.

Refractive projection objective with a waist

Номер патента: US20040120051A1. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2004-06-24.

Projection objective lens for microlithography

Номер патента: EP1006387A2. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2000-06-07.

Projection objective of a microlithographic exposure apparatus

Номер патента: EP2635937B1. Автор: Stephan Muellender,Hans-Juergen Mann,Rolf Freimann,Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-08-19.

A projection objective including an optical device

Номер патента: US20230142187A1. Автор: Johannes Lippert,Toralf Gruner,Hans-Michael STIEPAN,Kerstin Hild,Thilo Pollak,Jeffrey Cavaco. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-05-11.

Projection objective lens of microlithography projection exposure apparatus

Номер патента: JP5069232B2. Автор: ハウフ，マルクス,コンラディ，オラルフ,ビットナー，ボリス,ブライジイステル，サシャ,フメル，ヴォルフガング,カツィ，アリフ,トロスバッハ，ベアベル,ウェーバー，ヨッヘン,ホルデーラー，フーベルト,タエバチ，パヤン. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2012-11-07.

Projection objective lens for microlithography

Номер патента: EP1006387A3. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2002-05-02.

Microlithography projection objective with crystal lens

Номер патента: WO2005059618A3. Автор: Karl-Heinz Schuster,Wilfried Clauss. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2006-01-19.

Optical measuring system, and a projection objective

Номер патента: US20080100930A1. Автор: Armin Schoeppach,Bernhard Gellrich,Werner Lang,Alexander Kohl,Hubert Holderer,Johannes Rau,Hartmut Brandenburg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-05-01.

Projection objective lens of DMD maskless photoetching machine

Номер патента: CN104536120A. Автор: 杨勇,周毅,胡松,刘俊伯,邓钦元,程依光,司新春. Владелец: Institute of Optics and Electronics of CAS. Дата публикации: 2015-04-22.

Projection objectives including optical devices

Номер патента: JP2023535619A. Автор: リッペルト ヨハネス,グリューナー トラルフ,ヒルド ケルスティン,マイケル ステパン ハンズ,ポラック ティーロ,カヴァコ ジェフリー. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2023-08-18.

Projection objective with decentralized control

Номер патента: EP1969428A1. Автор: Torsten Gross. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-09-17.

Very-high aperture projection objective

Номер патента: US20040004757A1. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2004-01-08.

Projection Objective

Номер патента: US20030048547A1. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: Karl-Heinz Schuster. Дата публикации: 2003-03-13.

Projection objective with obscurated pupil for microlithography

Номер патента: EP2191331B1. Автор: Toralf Gruner,Aurelian Dodoc,Hans-Juergen Mann,Daniel Kraehmer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-31.

Projection objective with obscurated pupil for microlithography

Номер патента: TW200921293A. Автор: Toralf Gruner,Aurelian Dodoc,Hans-Juergen Mann,Daniel Kraehmer. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2009-05-16.

Refractive projection objective

Номер патента: AU2003230593A8. Автор: Wilhelm Ulrich,Hans-Jürgen Rostalski,Rolf Freimann,Russell Hudyma. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2003-09-16.

Catadioptric reduction lens

Номер патента: WO2003052462A2. Автор: David R. Shafer,Alexander Epple. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2003-06-26.

Projection objective and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20100085644A1. Автор: Hans-Juergen Rostalski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-04-08.

Catadioptric projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: US9081295B2. Автор: Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-07-14.

Exposure device using a catadioptric projection system

Номер патента: DE69321814D1. Автор: Kazuhiro Takahashi,Masato Muraki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-12-03.

Mirror, projection objective with such mirror, and projection exposure apparatus for microlithography with such projection objective

Номер патента: US09575224B2. Автор: Rolf Freimann,Norman Baer,Gero Wittich,Guido Limbach,Thure Boehm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-21.

Mirror for the EUV wavelength range, substrate for such a mirror, projection objective for microlithography comprising such a mirror or such a substrate, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: US09494718B2. Автор: Stephan Muellender,Aurelian Dodoc,Gerhard Braun,Wilfried Clauss,Christoph Zaczek,Hans-Jochen Paul,Sascha Migura,Gisela von Blanckenhagen,Joern Weber,Roland Loercher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-15.

Mirror, projection objective with such mirror, and projection exposure apparatus for microlithography with such projection objective

Номер патента: US20130286471A1. Автор: Rolf Freimann,Norman Baer,Gero Wittich,Guido Limbach,Thure Boehm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-10-31.

OPTICAL CORRECTION ARRANGEMENT, PROJECTION OBJECTIVE HAVING SUCH AN OPTICAL CORRECTION ARRANGEMENT AND MICROLITHOGRAPHIC APPARATUS HAVING SUCH A PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20180196256A1. Автор: Walter Holger. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-12.

METHOD FOR IMPROVING THE IMAGING PROPERTIES OF A PROJECTION OBJECTIVE, AND SUCH A PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20150293352A1. Автор: Gruner Toralf,FELDMANN Heiko,Bleidistel Sascha,Richter Gerald,HUMMEL Wolfgang,Frommeyer Andreas,Conradi Olaf. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-15.

Projection objective for a microlithography apparatus with improved imaging properties and method for improving the imaging properties of the projection objective

Номер патента: WO2008037496A2. Автор: Armin Schoeppach,Toralf Gruner,Mariella Beckenbach,Klaus Rief,Andreas Bertele,Benjamin Sigel,Sascha Bleidistel,Wolfgang Hummel,Andreas Frommeyer,Jochen Schwaer,Baerbel Schwaer,Thomas Schletterer,Artur Hoegele. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-04-03.

Objective, in particular a projection objective for semiconductor lithography

Номер патента: DE10121346A1. Автор: Thomas Petasch,Jens Kugler,Karlfrid Osterried. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2002-11-07.

Method for improving the imaging properties of a projection objective, and such a projection objective

Номер патента: WO2006125617A2. Автор: Toralf Gruner,Sascha Bleidistel,Wolfgang Hummel,Andreas Frommeyer,Heiko Feldmann,Gerald Richter,Olaf Conradi. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2006-11-30.

Mirror for the euv wavelength range, projection objective for microlithography comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: WO2010118928A1. Автор: Aurelian Dodoc,Gerhard Braun,Christoph Zaczek,Hans-Jochen Paul,Sascha Migura. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-10-21.

Mirror for the euv wavelength range, projection objective for microlithography comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: WO2011003676A1. Автор: Aurelian Dodoc,Gerhard Braun,Christoph Zaczek,Hans-Jochen Paul,Sascha Migura. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-01-13.

Mirror, projection objective comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: WO2012041697A1. Автор: Rolf Freimann,Norman Baer,Gero Wittich,Guido Limbach,Thure Boehm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Mirror for the EUV wavelength range, projection objective for microlithography with such a mirror and projection exposure apparatus for microlithography with such a projection objective

Номер патента: DE102009017095A1. Автор: Gerhard Braun,Aurelian Dr. Dodoc,Hans-Jochen Paul,Sascha Dr. Migura,Christoph Dr. Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-10-28.

Mirror for the euv wavelength range, projection objective for microlithography comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: KR101679893B1. Автор: 아우렐리안 도독,한스-요헨 파울,게르하르트 브라운,자샤 미구라,크리스토프 착첵. Владелец: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하. Дата публикации: 2016-11-25.

Mirror for the EUV wavelength range, projection objective for microlithography with such a mirror and projection exposure apparatus for microlithography with such a projection objective

Номер патента: DE102009032779A1. Автор: Gerhard Braun,Aurelian Dr. Dodoc,Hans-Jochen Paul,Sascha Dr. Migura,Christoph Dr. Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-01-13.

Mirror for the euv wavelength range, substrate for such a mirror, projection objective for microlithography comprising such a mirror or such a substrate, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: WO2011072953A1. Автор: Stephan Muellender,Aurelian Dodoc,Gerhard Braun,Wilfried Clauss,Christoph Zaczek,Hans-Jochen Paul,Sascha Migura,Gisela von Blanckenhagen,Joern Weber,Roland Loercher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-06-23.

Mirror for the EUV wavelength range, substrate for such a mirror, projection objective for microlithography comprising such a mirror or such a substrate, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: CN102713690B. Автор: S.米古拉,J.韦伯,S.马伦德,W.克劳斯,H-J.保罗,G.布朗,A.多多克,C.扎克泽克,G.范布兰肯哈根,R.勒歇尔. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-05-06.

EUV wavelength region mirror, microlithographic projection objective lens including the mirror, and microlithography projection exposure apparatus including the objective lens

Номер патента: JP5509326B2. Автор: ポール ハンス−ヨッヒェン,ブラウン ゲルハルト,ミグラ サッシャ,ドドク アウレリアン,ツァツェック クリストフ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-06-04.

Objective with doubly refracting lenses especially a projection objective for microphotolithography and compensation process has two different sets of doubly refracting lenses

Номер патента: DE10253353A1. Автор: Wilhelm Ulrich,Michael Totzeck,Daniel Krähmer,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2004-03-11.

Method for improving the imaging properties of a projection objective, and such a projection objective

Номер патента: EP1883861A2. Автор: Toralf Gruner,Sascha Bleidistel,Wolfgang Hummel,Andreas Frommeyer,Heiko Feldmann,Gerald Richter,Olaf Conradi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-02-06.

Method for improving the imaging properties of a projection objective, and such a projection objective

Номер патента: TW200710428A. Автор: Toralf Gruner,Sascha Bleidistel,Wolfgang Hummel,Andreas Frommeyer,Heiko Feldmann,Gerald Richter,Olaf Conradi. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2007-03-16.

Method of manufacturing a projection objective and projection objective manufactured by that method

Номер патента: KR101408483B1. Автор: 토랄프 그루너,알렉산더 에플레,하이코 펠트만. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-06-17.

Mirror for the euv wavelength range, projection objective for microlithography comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: EP2419769A1. Автор: Aurelian Dodoc,Gerhard Braun,Christoph Zaczek,Hans-Jochen Paul,Sascha Migura. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-02-22.

Mirror for the euv wavelength range, projection objective for microlithography comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: EP2452229A1. Автор: Aurelian Dodoc,Gerhard Braun,Christoph Zaczek,Hans-Jochen Paul,Sascha Migura. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-05-16.

Optical correction arrangement, projection objective having such an optical correction arrangement and microlithographic apparatus having such a projection objective

Номер патента: US20180196256A1. Автор: Holger Walter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-07-12.

Optical Element With An Antireflection Coating, Projection Objective, And Exposure Apparatus Comprising Such An Element

Номер патента: US20120038897A1. Автор: Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-02-16.

LITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20220075159A1. Автор: GUO Yinzhang. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-10.

PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20200310256A1. Автор: GUO Yinzhang,AN Fuping,CHU Zhaoxiang. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-01.

PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20180373155A1. Автор: Wabra Norbert,Eder Robert. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-27.

Method of operating a microlithographic projection exposure apparatus and projection objective of such an apparatus

Номер патента: KR101679136B1. Автор: 홀거 발터,보리스 비트너. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2016-11-23.

Method for producing a reflective optical element of a projection exposure system and reflective optical element for a projection exposure system, projection objective and projection exposure system

Номер патента: DE102018211596A1. Автор: Matthias Käs,Steffen Bezold,Matthias Manger,Christoph Petri,Pavel Alexeev,Walter Pauls. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-01-16.

Projection objective for microlithography

Номер патента: KR101510493B1. Автор: 헬뮤트 바이에르,하이코 펠트만,죠켄 헤츨러,마이클 토트젝. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2015-04-08.

Projection objective for microlithography

Номер патента: CN101815969A. Автор: 赫尔穆特·贝耶尔,海科·费尔德曼,约琴·赫茨勒,迈克尔·托特泽克. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-08-25.

Optical system e.g. projection objective, for microlithography projection exposure system, has module insertable and removable as unit into system, and concave curved optical surface for capping cavity during operation of exposure system

Номер патента: DE102005024163A1. Автор: Sascha Bleidistel,Aurelian Dodoc,Albrecht Ehrmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-11-30.

Refractive projection objective for immersion lithography

Номер патента: US20030174408A1. Автор: Wilhelm Ulrich,Hans-Juergen Rostalski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2003-09-18.

Refractive projection objective for immersion lithography

Номер патента: US20050190455A1. Автор: Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Rostalski,Helmut Beierl. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-09-01.

Very high-aperture projection objective

Номер патента: US20050141098A1. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-06-30.

Projection objective adapted for use with different immersion fluids or liquids, method of conversion of such and production method

Номер патента: US20080273248A1. Автор: Wolfgang Singer,Toralf Gruner,Wilhelm Ulrich,Heiko Feldmann,Susanne Beder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-11-06.

Projection objective for microlithography

Номер патента: US8553202B2. Автор: Jens Kugler,Tilman Schwertner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-10-08.

Projection objective having mirror elements with reflective coatings

Номер патента: KR101393912B1. Автор: 다니 찬,한스-위르겐 만,샤샤 미구라. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-05-12.

Refractive projection objective for immersion lithography

Номер патента: KR101129946B1. Автор: 아우렐리안 도독,빌헬름 율리히,한스-위르겐 로스탈스키. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2012-03-27.

Refractive projection objective for immersion lithography

Номер патента: KR100991590B1. Автор: 로슈탈스키한스-위르겐,울리히빌헬름. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 아게. Дата публикации: 2010-11-04.

Projection objective for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2004010224A2. Автор: Wolfgang Singer,Johannes Wangler,Hans-Jürgen Mann,Wilhelm Ulrich. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2004-01-29.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20090284831A1. Автор: Karl-Heinz Schuster,Toralf Gruner,Heiko Feldmann,Olaf Dittmann,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Wilfried Clauss,Susanne Beder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-11-19.

Projection objective having mirror elements with reflective coatings

Номер патента: KR101393999B1. Автор: 다니 찬,한스-위르겐 만,샤샤 미구라. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-05-14.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: CN101467090A. Автор: S·贝德,D·克雷默,T·格鲁纳,W·克劳斯,K-H·舒斯特,H·费尔德曼,M·托采克,O·迪特曼. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-06-24.

Projection objective for immersion lithography

Номер патента: US7969663B2. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Hans-Juergen Rostalski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-06-28.

Lithography projection objective

Номер патента: TWI723714B. Автор: 郭銀章. Владелец: 大陸商上海微電子裝備（集團）股份有限公司. Дата публикации: 2021-04-01.

Projection objective for a projection exposure apparatus

Номер патента: EP2341391A3. Автор: Wolfgang Singer,Johannes Wangler,Hans-Jürgen Mann,Wilhelm Ulrich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-08-17.

Projection objective for microlithographic projection exposure apparatus, has optical subsystem that projects intermediate image into image-plane with image-plane side projection ratio of specific value

Номер патента: DE102006038454A1. Автор: Heiko Feldmann,Susanne Beder,Daniel Krähmer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-07-05.

Projection objective for microlithography

Номер патента: US8436982B2. Автор: Heiko Feldmann,Michael Totzeck,Helmut Beierl,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-07.

Photoetching projection objective lens optimal focal plane detection device and method

Номер патента: CN109581827B. Автор: 刘志祥,林妩媚,邢廷文,许嘉俊. Владелец: Institute of Optics and Electronics of CAS. Дата публикации: 2020-06-09.

Projection objective lens system and microlithography system using the same

Номер патента: WO2012072004A1. Автор: 朱立荣. Владелец: 上海微电子装备有限公司. Дата публикации: 2012-06-07.

Method for loading a blank made of quartz glass with hydrogen, lens element, and projection object lens

Номер патента: EP3027570A1. Автор: Eric Eva. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-06-08.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US7710640B2. Автор: Heiko Feldmann,Daniel Kraehmer,Susanne Beder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-05-04.

Refractive projection objective for immersion lithography

Номер патента: US6891596B2. Автор: Wilhelm Ulrich,Hans-Juergen Rostalski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-05-10.

Method for loading a blank made of quartz glass with hydrogen, lens element, and projection object lens

Номер патента: EP3027570B1. Автор: Eric Eva. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-11-27.

Method for loading a blank made of quartz glass with hydrogen, lens element, and projection object lens

Номер патента: WO2015014717A1. Автор: Eric Eva. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-02-05.

Optical subassembly and projection objective in semiconductor lithography

Номер патента: US20070014037A1. Автор: Andreas Frommeyer,Wolfgang Keller,Willi Heintel,Harald Kirchner,Yim-Bun Kwan,G. Morrison. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-01-18.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20110235013A1. Автор: Karl-Heinz Schuster,Toralf Gruner,Heiko Feldmann,Olaf Dittmann,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Wilfried Clauss,Susanne Beder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-09-29.

Method of operating a microlithographic projection exposure apparatus and projection objective of such an apparatus

Номер патента: US9164402B2. Автор: Boris Bittner,Holger Walter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-10-20.

Optical subassembly and projection objective for semiconductor lithography

Номер патента: AU2003296244A8. Автор: Yim-Bun Patrick Kwan,Andreas Frommeyer,Wolfgang Keller,Willi Heintel,Harald Kirchner,Fraser G Morrison. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-05-11.

Projection objective for a microlithographic EUV projection exposure apparatus

Номер патента: TW201126275A. Автор: Mann Hans-Juergen,Thomas Schicketanz,Siegfried Rennon. Владелец: Zeiss Carl Smt Gmbh. Дата публикации: 2011-08-01.

Method of manufacturing a projection objective and projection objective

Номер патента: US20090207487A1. Автор: Toralf Gruner,Alexander Epple,Heiko Feldmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-08-20.

Lithographic projection objective

Номер патента: US09494868B2. Автор: Thomas Petasch,Boris Bittner,Olaf Rogalsky,Jochen Haeussler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-15.

Projection objective for microlithography, microlithography projection exposure apparatus with said projection objective, microlithographic manufacturing method for components, as well as a component manufactured with said method

Номер патента: EP2165241A1. Автор: Aksel Goehnermeier,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-03-24.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2005081067A1. Автор: Wolfgang Singer,Toralf Gruner,Alexander Epple,Norbert Wabra,Susanne Beder,Bernhard Kneer. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-09-01.

Projection objective for microlithography, microlithography projection exposure apparatus with said projection objective, microlithographic manufacturing method for components, as well as a component manufactured with said method

Номер патента: WO2008145295A1. Автор: Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-12-04.

Projection objective for microlithography, microlithography projection exposure apparatus with said projection objective, microlithographic manufacturing method for components, as well as a component manufactured with said method

Номер патента: WO2008145296A9. Автор: Aksel Goehnermeier,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-01-14.

Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same

Номер патента: US9964859B2. Автор: Wilhelm Ulrich,Norbert Wabra,Daniel Kraehmer,Ulrich Loering,Vladan Blahnik. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-08.

Projection objective for microlithography, microlithography projection exposure apparatus with said projection objective, microlithographic manufacturing method for components, as well as a component manufactured with said method

Номер патента: WO2008145295A9. Автор: Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-01-14.

Projection objective for microlithography

Номер патента: US20100079741A1. Автор: Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimer Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-04-01.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09977338B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09588445B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Projection Objective For a Microlithographic Projection Exposure Apparatus

Номер патента: US20080123069A1. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-05-29.

Optical system, in particular an illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2008074673A3. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-09-12.

Projection exposure system

Номер патента: US20020075466A1. Автор: Toralf Gruner,Rudolf Von Bünau,Erwin Gaber. Владелец: Erwin Gaber. Дата публикации: 2002-06-20.

Chromatically corrected catadioptric objective and projection exposure apparatus including the same

Номер патента: WO2009030444A2. Автор: Alexander Epple. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2009-03-12.

Catadioptric projection objective

Номер патента: WO2005069055A2. Автор: Hans-Jürgen Mann,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Rudolf Von Bünau,Alexander Epple. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-07-28.

Catadioptric projection objective

Номер патента: KR101204114B1. Автор: 한스-위르겐 만,빌헬름 울리히,알렉산더 에플레,데이빗 쉐퍼,아우렐리안 도도크,뷔나우 루돌프 폰. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2012-11-23.

Catadioptric projection objective

Номер патента: CN102169226B. Автор: D·谢弗,W·乌尔里希,A·多多克,R·冯比瑙,H·-J·曼,A·埃普勒. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-04-23.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US20050190435A1. Автор: David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Rudolf Von Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-09-01.

Catadioptric projection objective

Номер патента: CN102207609B. Автор: D.谢弗,A.埃普勒,A.多多克,W.乌尔里希,R.冯比瑙,H.-J.曼. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-03-20.

Catadioptric projection objective

Номер патента: KR101417706B1. Автор: 한스-위르겐 만,빌헬름 울리히,알렉산더 에플레,데이빗 쉐퍼,아우렐리안 도도크,루돌프 폰 뷔나우. Владелец: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하. Дата публикации: 2014-07-08.

Catadioptric projection objective

Номер патента: EP2006739A3. Автор: Hans-Jürgen Mann,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Rudolf Von Bünau,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-06-26.

Catadioptric projection objective

Номер патента: KR101309242B1. Автор: 한스-위르겐 만,빌헬름 울리히,알렉산더 에플레,데이빗 쉐퍼,아우렐리안 도도크,루돌프 폰 뷔나우. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2013-09-16.

Catadioptric projection objective

Номер патента: TW201037349A. Автор: David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Buenau Rudolf Von. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2010-10-16.

Catadioptric projector, catadioptric projection system and process

Номер патента: CA2013070A1. Автор: Helene H. Jones,Eric C. Haseltine. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1990-11-03.

Image displaying apparatus with catadioptric projection system

Номер патента: EP2587311A3. Автор: Makoto Hirakawa,Kiichiro Nishina,Yasuyuki Shibayama,Takanobu Osaka,Hibiki Tatsuno. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-07.

Catadioptric projection objective with pupil mirror, projection exposure apparatus and method

Номер патента: KR101367074B1. Автор: 알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-02-24.

MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20170192362A1. Автор: Kraehmer Daniel,KALLER Julian,Epple Alexander,Gruner Toralf,FELDMANN Heiko,Dodoc Aurelian,KAMENOV Vladimir,Conradi Olaf,Perrin Jean-Claude,Okon Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2017-07-06.

PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20160282729A1. Автор: Wabra Norbert,Eder Robert. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-29.

Objective, in particular projection objective for semiconductor lithography

Номер патента: TWI424186B. Автор: Klaus Rief. Владелец: Zeiss Carl Smt Gmbh. Дата публикации: 2014-01-21.

Projection objective for microlithography, microlithography projection exposure apparatus having the projection objective, microlithography manufacturing method for components, and components manufactured using the method

Номер патента: JP4968558B2. Автор: ミハエル トーツェック,アクセル ゲーネルマイアー,ダニエル クレーマー,ウラディミル カメノフ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2012-07-04.

Method For Adjusting A Projection Objective

Номер патента: US20180024440A1. Автор: Emer Wolfgang. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-25.

LITHOGRAPHIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20190025709A1. Автор: Petasch Thomas,Bittner Boris,ROGALSKY Olaf,Haeussler Jochen. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-24.

Method For Adjusting A Projection Objective

Номер патента: US20190056670A1. Автор: Emer Wolfgang. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-21.

Projection objective for microlithography

Номер патента: US20160170307A1. Автор: Bernd Geh. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-06-16.

PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20160195817A1. Автор: Mann Hans-Juergen,FREIMANN Rolf,ENKISCH Hartmut,MUELLENDER Stephan. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-07.

MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20140293256A1. Автор: Kraehmer Daniel,KALLER Julian,Epple Alexander,Gruner Toralf,FELDMANN Heiko,Dodoc Aurelian,KAMENOV Vladimir,Conradi Olaf,Perrin Jean-Claude,Okon Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2014-10-02.

PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY

Номер патента: US20170248850A1. Автор: Geh Bernd. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-31.

Method for adjusting a projection objective

Номер патента: US20140347647A1. Автор: Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-11-27.

Method for adjusting a projection objective

Номер патента: DE102004035595A1. Автор: Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-11-03.

Projection objective wave aberration detection device and detection method for improving detection speed

Номер патента: CN112034688B. Автор: 刘洋,唐锋,王向朝,卢云君,彭常哲. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2021-07-27.

Method for improving an optical imaging property of a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US8237915B2. Автор: Paul Graeupner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-08-07.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: CN100592210C. Автор: S·贝德,W·辛格,B·尼尔,N·瓦布拉,T·格鲁纳,A·艾普勒. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-02-24.

Optical element motion support device, projection objective and litho machine

Номер патента: CN107145040B. Автор: 李显凌,倪明阳,隋永新,杨怀江,张德福. Владелец: Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS. Дата публикации: 2019-04-02.

Method for adjusting a projection objective

Номер патента: DE102004035595B4. Автор: Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-02-07.

Lithographic projection objective

Номер патента: US20090153829A1. Автор: Thomas Petasch,Boris Bittner,Olaf Rogalsky,Jochen Haeussler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-06-18.

Method for revising/repairing a lithographic projection objective

Номер патента: KR101235492B1. Автор: 보리스 비트너,오라프 로갈스키,토마스 페타쉬,조헨 해우슬러. Владелец: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하. Дата публикации: 2013-02-20.

Projection objective for microlithography

Номер патента: US9568838B2. Автор: Bernd Geh. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-14.

Projection objective wave aberration detection device and detection method for improving detection speed

Номер патента: CN112034688A. Автор: 刘洋,唐锋,王向朝,卢云君,彭常哲. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2020-12-04.

Lens, in particular projection objective for semiconductor lithography

Номер патента: DE102005057860A1. Автор: Klaus Rief. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-06-06.

Lithographic projection objective

Номер патента: US10042265B2. Автор: Thomas Petasch,Boris Bittner,Olaf Rogalsky,Jochen Haeussler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-08-07.

Method for adjusting a projection objective

Номер патента: US9715177B2. Автор: Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-25.

Method for adjusting a projection objective

Номер патента: US20110216303A1. Автор: Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-09-08.

METHOD FOR IMPROVING AN OPTICAL IMAGING PROPERTY OF A PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20130114056A1. Автор: Graeupner Paul. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-09.

LARGE FIELD PROJECTION OBJECTIVE FOR LITHOGRAPHY

Номер патента: US20130293859A1. Автор: Wu Heng,Huang Ling,Liu Guogan. Владелец: SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. Дата публикации: 2013-11-07.

LITHOGRAPHIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20140078482A1. Автор: Petasch Thomas,Bittner Boris,ROGALSKY Olaf,Haeussler Jochen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-03-20.

PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY

Номер патента: US20140104588A1. Автор: Mann Hans-Juergen,Zellner Johannes,Endres Martin. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-04-17.

DEVICE AND METHOD FOR DETECTING PROJECTION OBJECTIVE WAVE-FRONT ABERRATION

Номер патента: US20210026250A1. Автор: Li Peng,Tang Feng,Peng Changzhe,Wang Xiangzhao,Lu Yunjun. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-28.

LITHOGRAPHIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20170031247A1. Автор: Petasch Thomas,Bittner Boris,ROGALSKY Olaf,Haeussler Jochen. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-02.

PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20150055109A1. Автор: Wabra Norbert,Eder Robert. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-26.

LITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE, AND A METHOD FOR CORRECTING IMAGE DEFECTS OF THE SAME

Номер патента: US20190072861A1. Автор: Loering Ulrich,Blahnik Vladan,Ulrich Wilhelm,Kraehmer Daniel,Wabra Norbert. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-07.

PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20140185024A1. Автор: Wabra Norbert,Zellner Johannes,Rudolph Guenter,Bittner Boris,MOFFAT Bryce Anton,GRATZKE Alexander,Schneider Sonja,Schneider Ricarda,von Hodenberg Martin,Schob Arne. Владелец: . Дата публикации: 2014-07-03.

APPARATUSES AND METHODS FOR DETECTING WAVE FRONT ABBERATION OF PROJECTION OBJECTIVE SYSTEM IN PHOTOLIGHOGRAPHY MACHINE

Номер патента: US20140240697A1. Автор: Xiang Yang,YU Changsong. Владелец: Changchun Institute of Opitcs, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences. Дата публикации: 2014-08-28.

LIGHT INTENSITY FLUCTUATION-INSENSITIVE PROJECTION OBJECTIVE WAVE ABERRATION DETECTION DEVICE AND DETECTION METHOD THEREOF

Номер патента: US20210208005A1. Автор: Liu Yang,Tang Feng,Peng Changzhe,Wang Xiangzhao,Lu Yunjun. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-08.

PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20170227853A1. Автор: Wabra Norbert,Eder Robert. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-10.

LITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE, AND A METHOD FOR CORRECTING IMAGE DEFECTS OF THE SAME

Номер патента: US20140327891A1. Автор: Loering Ulrich,Blahnik Vladan,Ulrich Wilhelm,Kraehmer Daniel,Wabra Norbert. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-06.

METHOD OF OPERATING A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND PROJECTION OBJECTIVE OF SUCH AN APPARATUS

Номер патента: US20140327892A1. Автор: Bittner Boris,Walter Holger. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-06.

DESIGN METHOD OF EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20140368805A1. Автор: Liu Fei,LI Yanqiu. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-18.

LITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE, AND A METHOD FOR CORRECTING IMAGE DEFECTS OF THE SAME

Номер патента: US20160370709A1. Автор: Loering Ulrich,Blahnik Vladan,Ulrich Wilhelm,Kraehmer Daniel,Wabra Norbert. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-22.

In particular an optical system which is an illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: JP5461387B2. Автор: ミハエル トーツェック,トラルフ グルナー,ダミアン フィオルカ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-04-02.

Optical system, in particular illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: KR101450362B1. Автор: 다미안 피올카,토랄프 그루너,미카엘 토트젝크. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-10-14.

Projection objective for immersion lithography

Номер патента: US7460206B2. Автор: Karl-Heinz Schuster,Markus Brotsack,Toralf Gruner,Michael Lill,Karl-Stefan Weissenrieder,Alexander Hirnet,Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek,Harald Schink,Ulrich Loering,Patrick Scheible. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-12-02.

Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same

Номер патента: US8879159B2. Автор: Wilhelm Ulrich,Norbert Wabra,Daniel Kraehmer,Ulrich Loering,Vladan Blahnik. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-11-04.

Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same

Номер патента: US9316922B2. Автор: Wilhelm Ulrich,Norbert Wabra,Daniel Kraehmer,Ulrich Loering,Vladan Blahnik. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-04-19.

Projection objective for immersion lithography

Номер патента: US20050225737A1. Автор: Karl-Heinz Schuster,Markus Brotsack,Toralf Gruner,Michael Lill,Karl-Stefan Weissenrieder,Alexander Hirnet,Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek,Harald Schink,Ulrich Loering,Patrick Scheible,Guenter Scheible. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-10-13.

Optical system, in particular illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2008119794A1. Автор: Damian Fiolka,Toralf Gruner,Michael Totzeck. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-10-09.

Projection objective lens of microlithography projection exposure apparatus

Номер патента: JP5863974B2. Автор: ルドルフ ギュンター,ツェルナー ヨハネス,ビトナー ボリス,ワブラ ノルベルト,フォン ホーデンベルク マルティン,フォン ホーデンベルク マルティン,シュナイダー ソニヤ,シュナイダー リカルダ,ショブ アルネ,グラツケ アレクザンダー,アントン モファット ブライス,アントン モファット ブライス. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2016-02-17.

Optical assembly, projection exposure apparatus and projection objective

Номер патента: US20080316621A1. Автор: Markus Hauf,Ole Fluegge,Jochen Weber,Erich Merz,Kai-Uwe Berroth,Cornelia Buehler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-12-25.

Projection objective wave aberration detection device and detection method

Номер патента: CN110441992A. Автор: 李鹏,唐锋,王向朝,卢云君,彭常哲. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2019-11-12.

Measuring system for the optical measurement of projecting object lens of micro-lithography projection exposure system

Номер патента: CN101833247B. Автор: A·厄尔曼,M·门格尔,U·维格曼,W·埃默,R·克莱门特,L·马蒂杰森. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-11-06.

Rinse method for use in the interior of the projection objective casing of a microlithography unit in which sensors are provided in the rinse gas circuit for the detection of harmful impurities in the rinse gas

Номер патента: DE102005033408A1. Автор: Otto Hahnemann,Frank Marianek,Detlev MÜLLER,Stephan Dr. Back. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-08-31.

Parallel detection device for multiple field point wave aberrations of lithographic projection objective lens and detection method

Номер патента: CN105259738A. Автор: 唐锋,王向朝,戴凤钊,郑亚忠. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2016-01-20.

Focal plane measuring device and method for projection objective and exposure system

Номер патента: CN108508705B. Автор: 杜荣. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-16.

Optical system, in particular illumination device or projection objective for a microlithography projection exposure apparatus

Номер патента: JP4421604B2. Автор: パツィディス アレクサンドラ,ツァチェク クリストフ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー. Дата публикации: 2010-02-24.

Illumination system and projection objective of a mask inspection apparatus

Номер патента: WO2011101331A1. Автор: Michael Layh,Heiko Feldmann,Ulrich Müller,Markus Schwab,Oswald Gromer,Erik Matthias Sohmen,Joachim Stühler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-08-25.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: KR101693950B1. Автор: 귄터 루돌프,보리스 비트너,리카르다 슈나이더,노르베르트 바브라,요하네스 첼너,마르틴 폰 호덴베르크,조냐 슈나이더,아르네 쇼브,알렉산더 그라츠케,브라이스 안톤 모파트. Владелец: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하. Дата публикации: 2017-01-06.

Microlithography projection objective

Номер патента: KR20170088445A. Автор: 아우렐리안 도독,하이코 펠드만,다니엘 크라에메르,장-클로드 페린,줄리안 칼러,블라디미르 카메노프,올라프 콘라디,토랄프 그루너,토마스 오콘,알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2017-08-01.

Projection objectives having mirror elements with reflective coatings

Номер патента: US20080165415A1. Автор: Hans-Juergen Mann,Danny Chan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-07-10.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: TW200831943A. Автор: Johannes Ruoff,Daniel Kraehmer. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-08-01.

Projection objectives having mirror elements with reflective coatings

Номер патента: EP1930771A1. Автор: Hans-Jürgen Dr. Mann,Danny Dr. Chan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-06-11.

Microlithography projection objective

Номер патента: KR101763092B1. Автор: 아우렐리안 도독,하이코 펠드만,다니엘 크라에메르,장-클로드 페린,줄리안 칼러,블라디미르 카메노프,올라프 콘라디,토랄프 그루너,토마스 오콘,알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2017-07-28.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: KR101492266B1. Автор: 노르베르트 바브라,로베르트 에데르. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2015-02-11.

Projection objective support meanss and photoetching machine equipment

Номер патента: CN107797217A. Автор: 赵灿武,孙见奇. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Projection objective for microlithography

Номер патента: US9304408B2. Автор: Martin Endres,Hans-Juergen Mann,Johannes Zellner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-04-05.

Illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9274435B2. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-03-01.

Optical system, in particular illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: DE102007027985A1. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-06-26.

Projection objective, projection exposure apparatus, and projection exposure method for microlithography

Номер патента: JP5462791B2. Автор: アクセル ゲーネルマイアー,ウルリッヒ レーリンク,ゲルト ライジンガー,フランツ ヨーゼフ シュティッケル,ゾーニャ シュナイダー,ヨハン トレンクラー,シュテファン クラウス,ゴルドン デーリンク. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-04-02.

Projection objective for microlithography

Номер патента: KR101656534B1. Автор: 한스-위르겐 만,마틴 엔드레스,요하네스 젤너. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2016-09-09.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP1754110A1. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-02-21.

Projection objective for microlithography, projection exposure apparatus, projection exposure method and optical correction plate

Номер патента: KR101428136B1. Автор: 요한 트렌클러,울리히 뢰링크,게르트 라이징거,프란쯔-요제프 스티켈,손야 쉬나이더,스테판 크라우스,고르돈 되링크,악셀 괴흐너마이어. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-08-07.

PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE DEVICE

Номер патента: DE602005008591D1. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-09-11.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US8064041B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-11-22.

Projection objective having a mirror element with a reflective coating

Номер патента: JP5601694B2. Автор: マン ハンス・ユルゲン,シャン ダニー. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-10-08.

Projection objectives with mirror elements with reflective coatings

Номер патента: DE602007013857D1. Автор: Danny Dr Chan,Hans-Juergen Dr Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-05-26.

Projection objective for microlithography

Номер патента: EP2255251B1. Автор: Hans-Jürgen Mann,Martin Endres,Johannes Zellner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-04-26.

Catadioptric Projection Objective With Intermediate Images

Номер патента: US20150205084A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Epple Alexander,Dodoc Aurelian. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-23.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20160274343A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Dodoc Aurelian,Beder Susanne,Singer Wolfgang,Shafer David R.,Von Buenau Rudolf Murai. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-22.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH PUPIL CORRECTION

Номер патента: US20140300957A1. Автор: Dodoc Aurelian. Владелец: . Дата публикации: 2014-10-09.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20130242279A1. Автор: Epple Alexander,Gruner Toralf,KAMENOV Vladimir,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Catadioptric projector,catadioptric projection system and process

Номер патента: IL93922A0. Автор: . Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1990-12-23.

Optical element six-degree of freedom micro-displacement regulating device, projection objective and litho machine

Номер патента: CN106338805B. Автор: 李显凌,倪明阳,隋永新,杨怀江,张德福. Владелец: Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS. Дата публикации: 2019-02-05.

A kind of optical fiber scanning projection objective and optical fiber scanning projection device

Номер патента: CN108802964A. Автор: 周旭东. Владелец: Chengdu Idealsee Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-13.

A kind of short focus projection objective and optical fiber scanning projection device

Номер патента: CN108802979A. Автор: 周旭东,姚长呈,喻秀英. Владелец: Chengdu Idealsee Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-13.

Projection objective and projector

Номер патента: US20100091249A1. Автор: Rainer Fischer,Eberhard Piehler,Gertrud Blei,Guenther Benedix,Gurdrun Schroeter. Владелец: SYPRO OPTICS GMBH. Дата публикации: 2010-04-15.

Projection objective having mirror elements with reflective coatings

Номер патента: EP2191332B1. Автор: Hans-Jürgen Mann,Sascha Migura,Danny Chan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-29.

Optical element's six-degree-of-freedom micro-displacement adjusting device, projection objective lens and lithography machine

Номер патента: CN106338805A. Автор: 李显凌,倪明阳,隋永新,杨怀江,张德福. Владелец: Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS. Дата публикации: 2017-01-18.

The projection objective that comprises mirror element with reflectance coating

Номер патента: CN101836163A. Автор: 汉斯-于尔根·曼,丹尼·陈,萨斯查·米古拉. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-09-15.

It is a kind of that focus projection objective and projecting apparatus are exempted from based on wavefront coded

Номер патента: CN105116518B. Автор: 周建军,张丽,张文字. Владелец: Zhejiang Crystal Optech Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Controlling project contribution, initiation, and/or distribution through data structuring of a contingent project object

Номер патента: US20240070789A1. Автор: Peter Jenson. Владелец: Neon Wind Ventures LLC. Дата публикации: 2024-02-29.

Alignment system for use in lithography utilizing a spherical reflector having a centered etched-on projection object

Номер патента: US5483345A. Автор: Shepard D. Johnson,David S. Holbrook,James A. Sozanski,J. Casey Donaher. Владелец: MRS Tech Inc. Дата публикации: 1996-01-09.

METHOD FOR MEASURING DISTORTION OF PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20130335718A1. Автор: ZHANG JUN,Sun Gang,Fang Li,Min Jinhua. Владелец: . Дата публикации: 2013-12-19.

Non-interfering viewing systems for use in catadioptric projection systems

Номер патента: IL97246A0. Автор: . Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1992-05-25.

Non-interfering viewing system for use in catadioptric projection systems

Номер патента: IL97246A. Автор: . Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1994-05-30.

Mirror for the EUV wavelength range, production method for such a mirror, projection objective for microlithography with such a mirror and microlithography projection exposure apparatus with such a projection objective

Номер патента: DE102011003357A1. Автор: Hartmut Enkisch,Jörn Weber,Stephan Müllender,Oliver Dier. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-08-02.

Feed for positioning projection objectives - has rack and pinion drive giving fine and coarse adjustment of objective in carrier

Номер патента: FR2496904A1. Автор: Kurt Henkelmann. Владелец: Ernst Leitz Wetzlar GmbH. Дата публикации: 1982-06-25.

Photographic and projection objective

Номер патента: US1899069A. Автор: Warmisham Arthur. Владелец: KAPELLA Ltd. Дата публикации: 1933-02-28.

TEMPERATURE BALANCING DEVICE OF PROJECTION OBJECTIVE OF LITHOGRAPHY MACHINE AND METHOD THEREOF

Номер патента: US20130128243A1. Автор: Chen Lijun,ZHU Jun. Владелец: SHANGHAI HUALI MICROELECTRONICS CORPORATION. Дата публикации: 2013-05-23.

PROJECTION OBJECTIVE LENS SYSTEM

Номер патента: US20130250434A1. Автор: Zhu Lirong. Владелец: SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.. Дата публикации: 2013-09-26.

Projection objective and waveguide display device

Номер патента: US20210157108A1. Автор: Aikio Mika. Владелец: . Дата публикации: 2021-05-27.

Projection objective and scanning display device

Номер патента: CN112817121B. Автор: 不公告发明人. Владелец: Chengdu Idealsee Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-01.

Projection objective lens

Номер патента: SU625640A3. Автор: Фогль Георг,Меллер Бо,Астере Жан-Эрик. Владелец: Линдако Лтд., (Фирма). Дата публикации: 1978-09-25.

Projection objective and waveguide display device

Номер патента: FI20175508A1. Автор: Mika Aikio. Владелец: DISPELIX OY. Дата публикации: 2018-12-03.

Projection object lens and three dimensional display apparatus

Номер патента: CN106646885A. Автор: 乔文,陈林森,黄文彬,浦东林,赵改娜. Владелец: Svg Optronics Co ltd. Дата публикации: 2017-05-10.

Gauss type four member projection objective with finite conjugates and initial plano-parallel plate

Номер патента: US3391968A. Автор: Ellis L Betensky. Владелец: Bausch and Lomb Inc. Дата публикации: 1968-07-09.

DEVICE FOR PROJECTING OBJECTS ON A CYLINDRICAL PICTURE WALL.

Номер патента: NL7810697A. Автор: . Владелец: Ver Flugtechnische Werke. Дата публикации: 1979-06-18.

Projection objective lens

Номер патента: JP4341002B2. Автор: ヴオルフガング ライネツケ，,ホルスト リンゲ，. Владелец: BCI FINANZ AG. Дата публикации: 2009-10-07.

A kind of wide visual field high-resolution projection objective

Номер патента: CN104749752B. Автор: 刘鹏. Владелец: Zhangjiagang Zhong He Robotization Science And Technology Ltd. Дата публикации: 2017-10-13.

Projection objective and scanning display device

Номер патента: US20220397746A1. Автор: CHAO Chen. Владелец: Chengdu Idealsee Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-15.

Improvement in projection objectives

Номер патента: FR1114644A. Автор: . Владелец: PHYSIQUE ET IND. Дата публикации: 1956-04-16.

Ultrawide angle and high resolution projection objective

Номер патента: US3366436A. Автор: Rickless Nathan. Владелец: Bausch and Lomb Inc. Дата публикации: 1968-01-30.

Catadioptric projection lantern.

Номер патента: EP0326596A4. Автор: Paul A Hoisington,Kenneth H Fischbeck. Владелец: Spectra Inc. Дата публикации: 1989-11-07.

Projection methods and devices for three-dimensional projection objects

Номер патента: JP6846661B2. Автор: 中村　秀幸,秀幸 中村,竜司 渕上,郁雄 渕上,渕上　竜司. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-24.

Apparatus for positioning an optical element in a structure

Номер патента: US20060072217A1. Автор: Ulrich Weber,Hubert Holderer,Dirk Rexhaeuser. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-04-06.

Optical apparatus for use in photolithography

Номер патента: US09933707B2. Автор: Yim-Bun Patrick Kwan,Erik Loopstra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-03.

An exposure device

Номер патента: CA2353858C. Автор: Stefan Eggers,Hans-Dieter Strater. Владелец: Punch Graphix Prepress Germany GmbH. Дата публикации: 2009-08-25.

Optical apparatus for use in photolithography

Номер патента: US20120194793A1. Автор: Yim-Bun Patrick Kwan,Erk Loopstra. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2012-08-02.

Fluid-stabilized barer structure of display for providing object e.g. football to game machine, has retainer whose partial area has object in contact region to partly project object into retainer in which contact region is contacted

Номер патента: DE102011112185A1. Автор: Wladyslaw Tadeusz Bohojlo. Владелец: NEUMANN GmbH. Дата публикации: 2013-03-07.

Pair programming payoff with project objective

Номер патента: US20240220889A1. Автор: Harish Bharti,Pranshu Tiwari,Swarnalata Patel,Saurabh Trehan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Method and device for processing moving track of projection object

Номер патента: CN110478906B. Автор: 曾鵾程. Владелец: Netease Hangzhou Network Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-16.

Method for operating a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09665010B2. Автор: Markus Deguenther. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Objective with birefringent lenses

Номер патента: US20050200966A1. Автор: Wilhelm Ulrich,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimer Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-09-15.

Illumination system particularly for microlithography

Номер патента: US7186983B2. Автор: Wolfgang Singer,Johannes Wangler,Martin Antoni,Karl-Heinz Schuster,Wilhelm Ulrich,Udo Dinger,Hans-Juergen Mann,Joerg Schultz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-03-06.

Projection exposure apparatus for euv microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041720A2. Автор: Aksel GÖHNERMEIER,Heiko Feldmann,Johannes Ruoff,Oliver Natt,Marc Bienert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Reduction projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: US9933705B2. Автор: Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: US20090168189A1. Автор: Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-07-02.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP1586946A3. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Olaf Dittmann,Michael Totzeck. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-01-17.

Polarization-modulating optical element

Номер патента: US20080316459A1. Автор: Damian Fiolka,Markus Deguenther. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-12-25.

Device for polarization-specific examination, an optical imaging system and a calibration method

Номер патента: US20050146789A1. Автор: Markus Mengel,Ulrich Wegmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-07-07.

Protective coating with windows for protection of optical element that is soluble in immersion liquid.

Номер патента: GB2431670A. Автор: Christoph Zaczek,Hubert Holderer,Johannes Deyhle,Gennady Fedosenko. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-05-02.

Objective for a projection or backprojection apparatus

Номер патента: EP1631850A1. Автор: Khaled Sarayeddine,Pascal Benoit,Jean-Jacques Sacre. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2006-03-08.

Image display apparatus and projection optical system

Номер патента: US11528458B2. Автор: Jun Nishikawa,Naoko Edamitsu. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2022-12-13.

METHOD FOR MANUFACTURING A LASER PROJECTION OBJECT OF METAL POWDER, SUCH AS A TURBOMACHINE BLADE

Номер патента: FR2896176B1. Автор: Joel Olivier Vigneau. Владелец: SNECMA SAS. Дата публикации: 2009-12-04.

DEVICE FOR PROTECTION AGAINST A PROJECTED OBJECT

Номер патента: FR3054576A1. Автор: Vincent Chauty. Владелец: CAN. Дата публикации: 2018-02-02.

DEVICE FOR PROJECTING OBJECTS OBSERVED BY TRANSPARENCY

Номер патента: FR2808155B1. Автор: Gido Greco,Raphael Gross,Jean Marcel Pierron. Владелец: PIERRON ENTPR. Дата публикации: 2003-06-06.

Construction machine and projecting object of the same

Номер патента: US20060158006A1. Автор: Tadashi Mori. Владелец: KOMATSU LTD. Дата публикации: 2006-07-20.

Microlithographic exposure method as well as a projection exposure system for carrying out the method

Номер патента: US20110069296A1. Автор: Johannes Wangler,Damian Fiolka,Aksel Goehnermeier,Markus Brotsack,Toralf Gruner,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Nils Dieckmann,Markus Schwab,Markus Zenzinger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-24.

Method of operating a projection exposure tool for microlithography

Номер патента: US09442381B2. Автор: Ralf Mueller,Christian Wald,Michael Totzeck,Ulrich Loering,Olaf Conradi,Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-09-13.

Projection exposure method, system and objective

Номер патента: US09678440B2. Автор: Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-13.

Catoptric illumination system for microlithography tool

Номер патента: US09588434B2. Автор: Martin Endres,Jens Ossmann,Ralf Stuetzle. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20090015845A1. Автор: Toralf Gruner,Joerge Tschischgale. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-01-15.

Multi-channel device and method for measuring distortion and magnification of objective lens

Номер патента: US20220365441A1. Автор: Yang Liu,FENG Tang,Xiangzhao Wang,Yunjun Lu,Yisha Cao. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2022-11-17.

Multi-channel device and method for measuring distortion and magnification of objective lens

Номер патента: US11604418B2. Автор: Yang Liu,FENG Tang,Xiangzhao Wang,Yunjun Lu,Yisha Cao. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2023-03-14.

System for measuring the image quality of an optical imaging system

Номер патента: US09429495B2. Автор: Markus Mengel,Ulrich Wegmann,Wolfgang Emer,Albrecht Ehrmann,Reiner Clement,Ludo Mathijssen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-30.

Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041461A2. Автор: Toralf Gruner,Sascha Bleidistel,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP2198344A1. Автор: Arif Kazi,Sascha Bleidistel,Aurelian Dodoc,Olaf Conradi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-06-23.

Method of forming photoresist pattern and projection exposure apparatus

Номер патента: US20230185201A1. Автор: Kanyu Cao. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Methods and Apparatus For Measuring Wavefronts and For Determining Scattered Light, and Related Devices and Manufacturing Methods

Номер патента: US20080231840A1. Автор: Ulrich Wegmann,Wolfgang Emer,Helmut Haidner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-09-25.

Optical component made from synthetic quartz glass with enhanced radiation resistance, and method for producing the component

Номер патента: EP2118026A1. Автор: Stefan Ochs,Juergen Weber,Bodo Kuehn. Владелец: Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG. Дата публикации: 2009-11-18.

Optical component made from synthetic quartz glass with enhanced radiation resistance, and method for producing the component

Номер патента: WO2008104485A1. Автор: Stefan Ochs,Juergen Weber,Bodo Kuehn. Владелец: SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.. Дата публикации: 2008-09-04.

Reticle, reticle-chuck, reticle positioning system and optical system

Номер патента: WO2013174398A1. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Thomas Ihl,Moritz Becker,Stefan-Wolfgang Schmidt,Vera Butscher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-11-28.

Projection exposure method, projection exposure apparatus, laser radiation source and bandwidth narrowing module for a laser radiation source

Номер патента: US20110304837A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-12-15.

Projection exposure apparatus with multiple sets of piezoelectric elements moveable in different directions and related method

Номер патента: US9110388B2. Автор: Sascha Bleidistel,Bernhard Geuppert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-08-18.

Projection system with infrared monitoring function

Номер патента: US09420246B2. Автор: Yan Huang,Haixiang Wang,Qinglin Na,Haohuang Mai. Владелец: PIQS TECHNOLOGY (SHENZHEN) Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Projection system with infrared monitoring function

Номер патента: US20150109589A1. Автор: Yan Huang,Haixiang Wang,Qinglin Na,Haohuang Mai. Владелец: PIQS TECHNOLOGY (SHENZHEN) Ltd. Дата публикации: 2015-04-23.

Projection apparatus

Номер патента: CA2065376A1. Автор: Svyatoslav Ivanovich Arsenich. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-12-30.

Projection apparatus

Номер патента: CA2065376C. Автор: Svyatoslav Ivanovich Arsenich. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-06-08.

Exposure apparatus for copying machines

Номер патента: CA1099549A. Автор: Anton Schätz,Georg Konigl,Paul H. Feneberg,Gunther Kirchhof. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1981-04-21.

Projection apparatus

Номер патента: US8405900B2. Автор: Masakuni Iwanaga. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2013-03-26.

Projection apparatus

Номер патента: US20110317247A1. Автор: Masakuni Iwanaga. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-29.

Projection type image display device, image processing device and image processing method, and computer program

Номер патента: US09723280B2. Автор: Naomasa Takahashi,Masatoshi Nishino,Naoki Kobayashi,Noriyuki Yamashita,Yohsuke KAJI,Yoichi Hirota. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Image forming apparatus

Номер патента: US20180157201A1. Автор: Hideki Mori,Makoto Matsuo,Dai Kanai,Teppei Nagata,Kenta Koyama,Hideki Takaoka,Masatoshi Lin,Jun Shirayanagi,Kotaro Torikata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-06-07.

Projection type exposing apparatus

Номер патента: US4710029A. Автор: Kinya Katoh. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1987-12-01.

Non-interfering color viewing system using spectral multiplexing

Номер патента: CA2094151A1. Автор: David A. Ansley,Motiur R. Ullah,Philip M. Sagan. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-03-24.

Non-interfering color viewing system using spectral multiplexing

Номер патента: WO1993006580A1. Автор: David A. Ansley,Motiur R. Ullah,Philip M. Sagan. Владелец: Hughes Aircraft Company. Дата публикации: 1993-04-01.

Display system based on hologram and hologram display method using the same

Номер патента: US20170255023A1. Автор: BILAL Ahmed,Jong Hun Lee,Yong Yi LEE,Kwan Heng LEE,Moon Gu SON. Владелец: GWANGJU INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2017-09-07.

Focusing attachment

Номер патента: GB2532407A. Автор: Jeffrey Barlow John. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-05-25.

Improvements in or relating to optical objectives

Номер патента: GB561375A. Автор: . Владелец: Taylor Taylor and Hobson Ltd. Дата публикации: 1944-05-17.

Optical system for stereoscopic projection

Номер патента: EP2919060A3. Автор: Fei Liu,Jie Gong,Penghua SU. Владелец: Shenzhen Future 3d Tech Co ltd. Дата публикации: 2015-12-30.

Optical system of thermal imaging device

Номер патента: RU2614167C1. Автор: Владимир Петрович Иванов,Наталья Геннадьевна Нигматуллина,Дина Нургазизовна Шарифуллина,Виллен Арнольдович Балоев,Сергей Владимирович Рагинов,Ирина Анатольевна Скочилова. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное объединение "Государственный институт прикладной оптики" (АО "НПО ГИПО"). Дата публикации: 2017-03-23.

Device for projecting pictures on a screen

Номер патента: US3893758A. Автор: Claude Hily,Jean Jacques Hunzinger. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1975-07-08.

Imaging lens system

Номер патента: GB1087721A. Автор: John Henry Jeffree. Владелец: CAPS RES Ltd. Дата публикации: 1967-10-18.

Improvements in objectives

Номер патента: GB346171A. Автор: . Владелец: KAPELLA Ltd. Дата публикации: 1931-04-09.

Optical fiber, optical fiber scanner and projection apparatus

Номер патента: US11789257B2. Автор: CHAO Chen,Jiazhou Wang,Dawei Shen. Владелец: Chengdu Idealsee Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Optical fiber scanner and projection apparatus

Номер патента: US20220197017A1. Автор: CHAO Chen,Jiazhou Wang,Dawei Shen. Владелец: Chengdu Idealsee Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Interactive zoetrope for animation of solid figurines and holographic projections

Номер патента: US20110286065A1. Автор: Lanny S. Smoot,David F. Barnett,Todd P. Camill. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2011-11-24.

Information generation method, information generation system, and non-transitory computer-readable storage medium storing program

Номер патента: US11616935B2. Автор: Ippei KUROTA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2023-03-28.

Control device, projection apparatus, control method, and control program

Номер патента: US11796899B2. Автор: Akihiro Ishizuka,Kazuki Inoue,Kazuki Ishida,Tomonori Masuda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Projector and pattern image display method

Номер патента: US7309133B2. Автор: Noriaki Miyasaka. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2007-12-18.

Information generation method, information generation system, and non-transitory computer- readable storage medium storing program

Номер патента: US20220078383A1. Автор: Ippei KUROTA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2022-03-10.

Projector for the representation of revolving bodies of rotation

Номер патента: US3565520A. Автор: Horst Raff,Wolfgang Roos,Rudi Winzer. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 1971-02-23.

Improvements in and relating to colour photography

Номер патента: GB363387A. Автор: Charles Nordman. Владелец: Individual. Дата публикации: 1931-12-17.

Image projector display device

Номер патента: CA2620657C. Автор: Frederick Stanley Black, Jr.. Владелец: EDISON NATION PRODUCT Co 4 LLC. Дата публикации: 2011-09-13.

Apparatus and method for projecting graphic information onto a light-sensitive material

Номер патента: US20040135982A1. Автор: Ulrich KLÜTER. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 2004-07-15.

Apparatus and method for projecting graphic information onto a light-sensitive material

Номер патента: US6867847B2. Автор: Ulrich KLÜTER. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 2005-03-15.

Номер патента: GB423677A. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1975-09-02.

Image projection system and image projection apparatus

Номер патента: US09774835B2. Автор: HIROSHI Baba,Shinsuke Yanazume. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Improvements in and relating to photographic contact printing

Номер патента: GB686770A. Автор: . Владелец: Kodak Ltd. Дата публикации: 1953-01-28.

Improvements in and relating to cinema projection

Номер патента: GB727696A. Автор: Arthur Bowen. Владелец: British Thomson Houston Co Ltd. Дата публикации: 1955-04-06.

LCD projector capable of preventing thermal shimmering by using a thermal diffusion film

Номер патента: US5682216A. Автор: Arlie R. Conner,David Booth,Shih-Yuan Yu,Falcon Lin. Владелец: Lightware Inc. Дата публикации: 1997-10-28.

System and method for fusing radar/camera object data and LiDAR scan points

Номер патента: US09476983B2. Автор: Shuqing Zeng. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2016-10-25.

Target object positioning method and apparatus, computer device, and storage medium

Номер патента: EP4404153A1. Автор: Dingyong ZHANG. Владелец: NIO Technology Anhui Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

System and method of line sampling object scene information

Номер патента: WO2002097728A3. Автор: Eric Veach,Larry I Gritz,Craig E Kolb,Matthew M Pharr. Владелец: Exluna Inc. Дата публикации: 2003-03-27.

Reusable customized project system

Номер патента: US20050193383A1. Автор: Rahul Kumar,Izydor Gryko,Kevin Perry,Christopher Burrows,Svetlozar Keremidarski,C. Hodges,Jemy Huang,Joshua Shepard,Diane Melde. Владелец: Microsoft Corp. Дата публикации: 2005-09-01.

Multi-camera control apparatus and method to maintain location and size of object in continuous viewpoint switching service

Номер патента: US09786064B2. Автор: Il Gu Jung,Kwang Yong Kim,Gi Mun UM,Won Ryu,Yoo Kyung KIM. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2017-10-10.

System, information processing apparatus, and information processing method

Номер патента: US09535538B2. Автор: Takahiro Yagishita. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Multiple map image projecting and fusing

Номер патента: US20100013673A1. Автор: Marc Blais. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2010-01-21.

Visualisation assembly

Номер патента: US11756271B2. Автор: Alexander Hoch. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-12.

Multiple map image projecting and fusing

Номер патента: US7769246B2. Автор: Marc Blais. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2010-08-03.

Control method and control device

Номер патента: US20160274677A1. Автор: Yunhui Liu. Владелец: Lenovo Beijing Ltd. Дата публикации: 2016-09-22.

Control method and control device

Номер патента: US09948907B2. Автор: Yunhui Liu. Владелец: Lenovo Beijing Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Method for estimating a relative position of an object in the surroundings of a vehicle and electronic control unit for a vehicle and vehicle

Номер патента: US11887336B2. Автор: Francesco Ferroni. Владелец: Argo AI GmbH. Дата публикации: 2024-01-30.

Method and apparatus for ascertaining the absolute coordinates of an object

Номер патента: US5289264A. Автор: Hans Steinbichler. Владелец: Individual. Дата публикации: 1994-02-22.

User interface device and control method thereof for supporting easy and accurate selection of overlapped virtual objects

Номер патента: US11150728B2. Автор: Jung Min Park,Joong-Jae Lee. Владелец: Center Of Human Centered Interaction for Coexistence. Дата публикации: 2021-10-19.

User interface device and control method thereof for supporting easy and accurate selection of overlapped virtual objects

Номер патента: US20210041944A1. Автор: Jung Min Park,Joong-Jae Lee. Владелец: Center Of Human Centered Interaction for Coexistence. Дата публикации: 2021-02-11.

Image reconstruction system and method

Номер патента: US20170270693A1. Автор: Hao Chen,Ji Qi,Na Zhang,Kai CUI,Haihua Zhou,Le Yang,Wanli TENG,Juan FENG,Jie NIU,Yecheng HAN,Yange MA. Владелец: Shanghai United Imaging Healthcare Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-21.

Method for evaluating water richness of bottom aquifer of cenozoic loose layer of coal mine

Номер патента: ZA202400104B. Автор: Li Dong,DOU Litong,BI Yaoshan,Huang Kaifeng,Li Fenghui,Zhan Keliang. Владелец: Huainan Normal Univ. Дата публикации: 2024-08-28.

Image reconstruction system and method

Номер патента: US09875558B2. Автор: Hao Chen,Ji Qi,Na Zhang,Kai CUI,Haihua Zhou,Le Yang,Wanli TENG,Juan FENG,Jie NIU,Yecheng HAN,Yange MA. Владелец: Shanghai United Imaging Healthcare Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Image reconstruction system and method

Номер патента: US09697623B1. Автор: Hao Chen,Ji Qi,Na Zhang,Kai CUI,Haihua Zhou,Le Yang,Wanli TENG,Juan FENG,Jie NIU,Yecheng HAN,Yange MA. Владелец: Shanghai United Imaging Healthcare Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Facial recognition device and facial recognition method

Номер патента: EP4365832A1. Автор: Ryuta TSUTSUMI,Yusuke TOMOZOE. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-08.

Specifying method, specifying system, and non-transitory computer-readable storage medium storing a program

Номер патента: US20220132088A1. Автор: Ippei KUROTA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2022-04-28.

Device for measuring the velocity of a variety of objects

Номер патента: AU4197697A. Автор: Marcel Nussbaumer,Beat Schoenenberg. Владелец: UNITRON ELECTRONICS AG. Дата публикации: 1998-04-17.

Method for executing code portions on execution resources

Номер патента: US11983516B2. Автор: Gilbert Cabillic,Jean-Philippe Lesot. Владелец: Scaledynamics. Дата публикации: 2024-05-14.

Heat locator

Номер патента: RU2604959C1. Автор: Владимир Петрович Иванов,Виллен Арнольдович Балоев,Маргарита Васильевна Дорофеева,Владимир Самуилович Яцык. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное объединение "Государственный институт прикладной оптики" (АО "НПО ГИПО"). Дата публикации: 2016-12-20.

Automated information stand

Номер патента: RU2655285C2. Автор: Айдар Анварович Гимазетдинов,Алексей Сергеевич Малацион. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский государственный энергетический университет" (ФГБОУ ВПО "КГЭУ"). Дата публикации: 2018-05-24.

Device for automated control of process of designing structure of control system of equipment

Номер патента: RU2735348C1. Автор: Дмитрий Николаевич Франтасов,Павел Александрович Мельников,Анна Сергеевна Климась. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный университет путей сообщения" (СамГУПС). Дата публикации: 2020-10-30.

System and method for creation of a project manifest in a computing environment

Номер патента: US20230315952A1. Автор: Senthil Manickavasagam KUMAR. Владелец: Slate Technologies Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

System and method for creation of a project manifest in a computing environment

Номер патента: WO2023167912A1. Автор: Senthil Manickavasagam KUMAR. Владелец: Slate Technologies Inc.. Дата публикации: 2023-09-07.

Electrooptical measurement device for ascertaining the relative position of bodies or of surface areas of these bodies

Номер патента: US6665064B2. Автор: Michael Hermann. Владелец: PRUEFTECHNIK DIETER BUSCH AG. Дата публикации: 2003-12-16.

Method and system for creating a personalized experience with video in connection with a stored value token

Номер патента: CA3132313C. Автор: Nathan Clark,Nicole Runnels,Madeline Wong,Andrew Harper,Mackenzie Squires,Randy Lee Bradshaw. Владелец: Home Depot International Inc. Дата публикации: 2024-02-20.

Setting support method, setting support system for projection region, and non-transitory computer-readable storage medium storing a program

Номер патента: US11800073B2. Автор: Kota Takeuchi,Ippei KUROTA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Projection sysyem, projector, and calibration method thereof

Номер патента: US20140285532A1. Автор: Chung-Yi Yang. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2014-09-25.

System and method for inferring user intent to formulate an optimal solution in a construction environment

Номер патента: WO2023192237A1. Автор: Senthil Manickavasagam KUMAR. Владелец: Slate Technologies Inc.. Дата публикации: 2023-10-05.

Current collector shape adjusting device

Номер патента: US20120240654A1. Автор: Masaru Kobayashi,Shinichi Sakai,Hiroaki Arai,Masato Onishi,Masaru Doutai. Владелец: Panasonic EV Energy Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-27.

Systems, methods and computer program products for standardizing expert-driven assessments

Номер патента: WO2006059964A3. Автор: Marilee J. Bresciani. Владелец: North Carolina State University. Дата публикации: 2012-11-22.

Projection-type video display device

Номер патента: US09927923B2. Автор: Minoru Hasegawa,Takashi Matsubara,Mitsuo Nakajima,Sakiko Narikawa. Владелец: Hitachi Maxell Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Moving amount estimating apparatus, autonomous mobile body, and moving amount estimating method

Номер патента: US09802619B2. Автор: Yuki Denda. Владелец: Murata Machinery Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Vehicle backing aid

Номер патента: US4937796A. Автор: Robert K. Tendler. Владелец: Individual. Дата публикации: 1990-06-26.

Methods and apparatus for shear correction in image projections

Номер патента: US11818468B2. Автор: David Newman,Daryl Stimm. Владелец: GoPro Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Navigation with Footwear Using Microfluidics

Номер патента: US20190174862A1. Автор: Sarbajit K. Rakshit,James E. Bostick,John M. Ganci, Jr.,Martin G. Keen. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-06-13.

Proactive integrity checks

Номер патента: US20240036971A1. Автор: Paolo Antinori,Andrea Cosentino. Владелец: Red Hat Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Information generation method, information generation system, and non- transitory computer-readable storage medium storing program

Номер патента: US20220078384A1. Автор: Ippei KUROTA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2022-03-10.

System and method for intent-based computational simulation in a construction environment

Номер патента: WO2023192243A1. Автор: Senthil Manickavasagam KUMAR. Владелец: Slate Technologies Inc.. Дата публикации: 2023-10-05.

Information generation method using projection image and taken image, information generation system, and non-transitory computer-readable storage medium storing program

Номер патента: US11818516B2. Автор: Ippei KUROTA. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Methods and apparatus for shear correction in image projections

Номер патента: US20210203844A1. Автор: David Newman,Daryl Stimm. Владелец: GoPro Inc. Дата публикации: 2021-07-01.

Navigation with footwear using microfluidics

Номер патента: WO2019110392A1. Автор: Martin Keen,James Bostick,Sarbajit Rakshit,John GANCI JR. Владелец: Ibm United Kingdom Limited. Дата публикации: 2019-06-13.

Device for fixing a clamping frame to an object or fixing its orientation relative to a motif to be applied to the object

Номер патента: US20190248129A1. Автор: Thomas Drees,Mark Busche. Владелец: Smake GmbH. Дата публикации: 2019-08-15.

Device for fixing a clamping frame to an object or fixing its orientation relative to a motif to be applied to the object

Номер патента: US10675860B2. Автор: Thomas Drees,Mark Busche. Владелец: Smake GmbH. Дата публикации: 2020-06-09.

Loading objects into individual pockets of a moving web

Номер патента: US20050257851A1. Автор: Volker Schmid,Egon Ogger. Владелец: Uhlmann Pac Systeme GmbH and Co KG. Дата публикации: 2005-11-24.

Ophthalmological device

Номер патента: US20140098347A1. Автор: Christian Rathjen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-04-10.

Ophthalmological device

Номер патента: US20110205492A1. Автор: Christian Rathjen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-25.

Mobile holographic simulator of bowling pins and virtual objects

Номер патента: WO2006092813A8. Автор: Silvia Zambelli. Владелец: Silvia Zambelli. Дата публикации: 2007-08-30.

Ocular enhancement training system

Номер патента: US20030004016A1. Автор: Michael Bonaventura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-02.

Method and device for image projection with laser brightness enhancement

Номер патента: RU2692084C1. Автор: Лев Семенович Гликин. Владелец: Лев Семенович Гликин. Дата публикации: 2019-06-21.

Composite lightweight bullet proof panel for use on vessels, aircraft and the like

Номер патента: US5200256A. Автор: C. R. Dunbar. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-04-06.

Improvements in or relating to apparatus for generating involutes

Номер патента: GB572605A. Автор: . Владелец: KAPELLA Ltd. Дата публикации: 1945-10-16.

Optical projection system

Номер патента: RU2154352C2. Автор: ЛИМ Дае-Янг,ЯНГ Джин-Се. Владелец: Дэу Электроникс Ко., Лтд.. Дата публикации: 2000-08-10.

Quartz-type glass and process for its production

Номер патента: US20080039310A1. Автор: Kenji Yamada,Hideaki Hayashi,Akio Koike,Shinya Kikugawa,Mitsuhiro Kawata,Naoki Sugimoto. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2008-02-14.

Transport trailer with four wheel steering

Номер патента: CA2834543C. Автор: James E. Wood,Joshua P. Gaerke,Andrew A. Gartin. Владелец: J&M Manufacturing Co Inc. Дата публикации: 2017-04-04.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH PUPIL CORRECTION

Номер патента: US20120002273A1. Автор: Dodoc Aurelian. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING DEFLECTION MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20120236277A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-09-20.

Catadioptric projection objective with pupil mirror, projection exposure apparatus and method

Номер патента: JP5462625B2. Автор: アレクサンダー エプレ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-04-02.

Catadioptric projection objective with pupil mirror, projection exposure apparatus and method

Номер патента: JP5462739B2. Автор: アレクサンダー エプレ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-04-02.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH INTERMEDIATE IMAGES

Номер патента: US20120162625A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-06-28.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20120274918A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-11-01.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20120250147A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Shafer David,Dodoc Aurelian,Von Buenau Rudolf,Beder Susanne,Singer Wolfgang. Владелец: . Дата публикации: 2012-10-04.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20120274919A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Shafer David,Dodoc Aurelian,Von Buenau Rudolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-11-01.

Catadioptric projection objective

Номер патента: JP5600128B2. Автор: マン ハンス・ユルゲン,ウルリッヒ ヴィルヘルム,エップル アレキサンダー,ドドック アウレリアン,シェイファー デイヴィッド,フォン・ビュナウ ルドルフ,ベーデル スザンネ,ズィンガー ヴォルフガング. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-10-01.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE INCLUDING A REFLECTIVE OPTICAL COMPONENT AND A MEASURING DEVICE

Номер патента: US20120218536A1. Автор: ZACZEK Christoph,Gruner Toralf,Mueller Ralf,Bleidistel Sascha. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-08-30.

LARGE-FIELD UNIT-MAGNIFICATION CATADIOPTRIC PROJECTION SYSTEM

Номер патента: US20120063010A1. Автор: Mercado Romeo I.. Владелец: Coherent, Inc.. Дата публикации: 2012-03-15.

MIRROR FOR EUV WAVELENGTHS, PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY HAVING SUCH MIRROR AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS HAVING SUCH PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20120134015A1. Автор: ZACZEK Christoph,Dodoc Aurelian,Braun Gerhard,MIGURA Sascha,Paul Hans-Jochen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-05-31.

METHOD OF MANUFACTURING A PROJECTION OBJECTIVE AND PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20120134016A1. Автор: Epple Alexander,Gruner Toralf,FELDMANN Heiko. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-05-31.

METHOD FOR CORRECTING A LITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE, AND SUCH A PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20120188636A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-07-26.

MIRROR FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE, PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY CROMPRISING SUCH A MIRROR, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20120212810A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-08-23.

MIRROR FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE, SUBSTRATE FOR SUCH A MIRROR, PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A MIRROR OR SUCH A SUBSTRATE, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20130038929A1. Автор: CLAUSS Wilfried,ZACZEK Christoph,Dodoc Aurelian,MUELLENDER Stephan,Braun Gerhard,WEBER Joern,MIGURA Sascha,von BLANCKENHAGEN Gisela,Paul Hans-Jochen,LOERCHER Roland. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-02-14.

Device for removing projecting objects inside a pipe

Номер патента: AU2070495A. Автор: Helmar Haas. Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-10-03.

Projection objective

Номер патента: PL254488A1. Автор: Henryk Nycz. Владелец: LODZKIE ZAKLADY KINOTECHNICZNE. Дата публикации: 1987-02-23.

Projection objective

Номер патента: PL144925B1. Автор: Henryk Nycz. Владелец: LODZKIE ZAKLADY KINOTECHNICZNE. Дата публикации: 1988-07-30.

Wide-angle projection objective

Номер патента: CS284690A2. Автор: Ladislav Pospisil,Libuse Schwarzova. Владелец: Libuse Schwarzova. Дата публикации: 1991-12-17.

Wide-angle projection objective

Номер патента: CS287690A2. Автор: Ladislav Pospisil,Eva Hamerska. Владелец: Eva Hamerska. Дата публикации: 1991-12-17.

LITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE, AND A METHOD FOR CORRECTING IMAGE DEFECTS OF THE SAME

Номер патента: US20120019800A1. Автор: Loering Ulrich,Blahnik Vladan,Ulrich Wilhelm,Kraehmer Daniel,Wabra Norbert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-26.

PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120033296A1. Автор: Wabra Norbert,Eder Robert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-02-09.

OPTICAL ARRANGEMENT IN A PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120075602A1. Автор: Rostalski Hans-Juergen,Schwertner Tilman,Epple Alexander. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-03-29.

PROJECTION OBJECTIVE AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH NEGATIVE BACK FOCUS OF THE ENTRY PUPIL

Номер патента: US20120075608A1. Автор: Mann Hans-Juergen,Singer Wolfgang. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-03-29.

PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120281196A1. Автор: Loering Ulrich,EHM Dirk Heinrich,SCHMIDT Stefan-Wolfgang,KAMENOV Vladimir,WURMBRAND Andreas,BECKER Moritz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-11-08.

PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY

Номер патента: US20120327382A1. Автор: Geh Bernd. Владелец: . Дата публикации: 2012-12-27.

PROJECTION OBJECTIVE HAVING MIRROR ELEMENTS WITH REFLECTIVE COATINGS

Номер патента: US20130010352A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-01-10.

ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION OBJECTIVE OF A MASK INSPECTION APPARATUS

Номер патента: US20130038850A1. Автор: Mueller Ulrich,FELDMANN Heiko,Layh Michael,Schwab Markus,Stuehler Joachim,Gromer Oswald,Sohmen Erik Matthias. Владелец: . Дата публикации: 2013-02-14.

Projection objective lens with 0,1 magnification

Номер патента: SU800943A1. Автор: Элла Семеновна Гуревич,Евгений Евгеньевич Онегин,Игорь Александрович Кадомский,Светлана Станиславовна Черневич,Светлана Бахшиевна Манвелян. Владелец: Предприятие П/Я Р-6495. Дата публикации: 1981-01-30.

Projection objective lens

Номер патента: SU637772A1. Автор: Элла Семеновна Гуревич,Владимир Ильич Цуран,Александр Пантелеевич Грамматин,Яков Иванович Точицкий. Владелец: Предприятие П/Я Р-6495. Дата публикации: 1978-12-15.

1,5 magnification projection objective

Номер патента: SU1659955A1. Автор: Игорь Феликсович Гуревич. Владелец: Конструкторское бюро точного электронного машиностроения. Дата публикации: 1991-06-30.

Projection objective with high aperture ratio

Номер патента: SU1800431A1. Автор: Mikhail R Alekseev,Igor S Gashkin,Oleg M Golubovskij. Владелец: Nii Priborostroeniya. Дата публикации: 1993-03-07.

Axial adjusting device for optical element in projection objective system

Номер патента: CN103472690A. Автор: 孙振,赵磊,巩岩,彭海峰,唐大为. Владелец: Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS. Дата публикации: 2013-12-25.

Device for securing and focusing projection objective

Номер патента: SU645115A1. Автор: Марк Яковлевич Ременюк,Сергей Николаевич Маркин. Владелец: Предприятие П/Я Г-4046. Дата публикации: 1979-01-30.

Device for installing and leveling photo-etching machine projection objective

Номер патента: CN101226345A. Автор: 唐海明,朱岳彬. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-23.

Symmetric projection objective

Номер патента: SU1730605A1. Автор: Михаил Наумович Сокольский,Людмила Ниловна Курчинская,Сергей Аронович Родионов,Александр Владимирович Буцевицкий,Лариса Михайловна Еськова. Владелец: Ленинградский Институт Точной Механики И Оптики. Дата публикации: 1992-04-30.

Mark structure used for measuring distortion of projection object lens and its method

Номер патента: CN102466977B. Автор: 王帆,马明英. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-13.

Exposure projection objective lens

Номер патента: CN103105666B. Автор: 武珩. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-15.

Projection objective

Номер патента: SU838632A1. Автор: Нина Ивановна Куликовская,Алла Николаевна Хонинева,Рейно Абрамович Лиуконен. Владелец: Предприятие П/Я Р-6681. Дата публикации: 1981-06-15.

A kind of projection objective focal plane shape measure labelling apparatus and application

Номер патента: CN103616166B. Автор: 李兰兰,胡松,赵立新,李金龙,邸成良. Владелец: Institute of Optics and Electronics of CAS. Дата публикации: 2016-08-17.

Space image detection-based projection objective wave aberration in-situ measurement method

Номер патента: CN102681358A. Автор: 段立峰,王向朝,徐东波. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2012-09-19.

Variable focal length type projection objective lens apparatus

Номер патента: JPS63139313A. Автор: ブエルンフアルド・ドオクトエル,イングオルフ・ムエンツエル. Владелец: DOOKUTOERU OPUTSUIKU BUETSURUARU GmbH. Дата публикации: 1988-06-11.

Photo-etching machine projection objective coma in situ detection system

Номер патента: CN201083963Y. Автор: 王向朝,袁琼雁. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2008-07-09.

Wave aberration of photo-etching machine projection objective detection labelling and detection method

Номер патента: CN103955117B. Автор: 王向朝,刘晓雷,李思坤,沈丽娜,闫观勇. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2016-09-21.

90-degree turning rear-projection object lens

Номер патента: CN100432736C. Автор: 李方红,史国发. Владелец: KECHAUNG DIGITAL-DISPLAY TECHNOLOGY Co Ltd SHENZHEN. Дата публикации: 2008-11-12.

Small-sized projection objective

Номер патента: RU2044333C1. Автор: Маня Израйлевна Карп,Нинэль Андреевна Черняк. Владелец: Центральное конструкторское бюро "Пеленг". Дата публикации: 1995-09-20.

Projection objective

Номер патента: SU1622870A1. Автор: Марина Алексеевна Варварина,Евгений Николаевич Гончаренко,Антонина Васильевна Михайлова. Владелец: Предприятие П/Я Р-6681. Дата публикации: 1991-01-23.

Projection objective device and projection system

Номер патента: CN215642018U. Автор: 张铎,贾钊,孟栋良,童安磊. Владелец: Hangzhou Anmi Medical Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-01-25.

A kind of projection objective lens optical system

Номер патента: CN103676096B. Автор: 郭银章,孙晶露. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-09.

Single-power large-viewing field photoetching projection objective lens

Номер патента: CN102279457B. Автор: 黄玲,刘国淦,武珩. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-22.

Full high-definition projection objective lens

Номер патента: CN212255852U. Автор: 郭瀚文. Владелец: Nanhua Intelligent Precision Machine Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-29.

A kind of business administration project objective process publicity platform

Номер патента: CN204945990U. Автор: 王帅,邓旭东,罗曼曼. Владелец: Wuhan University of Science and Engineering WUSE. Дата публикации: 2016-01-06.

Device and method for detecting optimal focal plane of projection objective

Номер патента: CN102455247A. Автор: 徐兵,蔡巍,陈跃飞,贾翔,王端秀. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2012-05-16.

Online detection method of wave aberration of projection objective of lithography machine for self-calibrating system error

Номер патента: CN102163008B. Автор: 刘克,汪海,李艳秋. Владелец: Beijing Institute of Technology BIT. Дата публикации: 2013-06-05.

Device and method for carrying out field measurement on wave aberration of projection objective of photoetching machine adopting extended light sources

Номер патента: CN102193338B. Автор: 王建峰,刘克,汪海,李艳秋. Владелец: Beijing Institute of Technology BIT. Дата публикации: 2012-11-07.

Projection objective wave aberration on-line detection device and method based on double-beam interference

Номер патента: CN103076724A. Автор: 王宇,刘广义,齐月静,周翊,苏佳妮. Владелец: Academy of Opto Electronics of CAS. Дата публикации: 2013-05-01.

System error self-corrected online detecting device of projection objective lens wave aberration of photo-etching machine

Номер патента: CN102200695B. Автор: 刘克,汪海,李艳秋. Владелец: Beijing Institute of Technology BIT. Дата публикации: 2012-11-07.

Device for installing and leveling photo-etching machine projection objective

Номер патента: CN101226345B. Автор: 唐海明,朱岳彬. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2010-07-21.

Operate the method and device of projection objects

Номер патента: CN104375817B. Автор: 张锦锋,张柳新. Владелец: Lenovo Beijing Ltd. Дата публикации: 2017-12-29.

Temperature balancing device for projection objective of photoetching machine

Номер патента: CN214670082U. Автор: 张俊杰. Владелец: Shanghai Lieth Precision Equipment Co ltd. Дата публикации: 2021-11-09.

Projection objective

Номер патента: RU2044334C1. Автор: Нинэль Андреевна Черняк,Маня Израилевна Карп. Владелец: Центральное конструкторское бюро "Пеленг". Дата публикации: 1995-09-20.

Gas supply device and photoetching projection objective provided with same

Номер патента: CN105137719A. Автор: 于淼,隋永新,杨怀江,崔洋,李佩玥,彭吉. Владелец: Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS. Дата публикации: 2015-12-09.

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20120002186A1. Автор: Omura Yasuhiro,Okada Takaya,Nagasaka Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Goal Based System Utilizing a Table Based Architecture

Номер патента: US20120003613A9. Автор: . Владелец: ACCENTURE GLOBAL SERVICES GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120002185A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120002184A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

Номер патента: GB402902A. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1976-02-10.

Optical system with remote apertures for infrared spectrum

Номер патента: RU2386156C1. Автор: Татьяна Николаевна Хацевич,Евгений Александрович Терешин. Владелец: Институт физики полупроводников СО РАН. Дата публикации: 2010-04-10.

Projection optical system

Номер патента: RU2313813C2. Автор: Михаил Сергеевич Левтонов. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2007-12-27.

Device for carrying out radiographic and tomographic examination

Номер патента: RU2288465C1. Автор: Виталий Иванович Микеров,Евгений Петрович Боголюбов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова". Дата публикации: 2006-11-27.

Detector of penetrating radiations

Номер патента: RU2290666C1. Автор: Виталий Иванович Микеров,Евгений Петрович Боголюбов,Юрий Николаевич Бармаков. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова". Дата публикации: 2006-12-27.

Penetrating radiation detector

Номер патента: RU2288467C1. Автор: Виталий Иванович Микеров,Евгений Петрович Боголюбов,Антон Евгеньевич Монич,Евгений Петрович Монич. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова". Дата публикации: 2006-11-27.

Detector of penetrating radiations

Номер патента: RU2290664C1. Автор: Виталий Иванович Микеров,Евгений Петрович Боголюбов,Сергей Вадимович Кузин,Олег Илларионович Бугаенко,Андрей Александрович Перцов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова". Дата публикации: 2006-12-27.

Chromosphere telescope

Номер патента: RU2143126C1. Автор: С.А. Чупраков,В.Д. Трифонов. Владелец: Институт солнечно-земной физики СО РАН. Дата публикации: 1999-12-20.

Energy distribution transformer usable in ophthalmological laser device

Номер патента: RU2197933C1. Автор: В.С. Тюрин,А.Д. Семенов,В.А. Сугробов,А.В. Дога. Владелец: Государственное учреждение Межотраслевой научно-технический комплекс "Микрохирургия глаза". Дата публикации: 2003-02-10.

Radiography and tomography device

Номер патента: RU2293971C2. Автор: Виталий Иванович Микеров,Евгений Петрович Боголюбов,Евгений Петрович Боголюбов (RU),Виталий Иванович Микеров (RU). Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова". Дата публикации: 2007-02-20.

Diffraction interferometer

Номер патента: RU2240503C1. Автор: В.П. Коронкевич,Г.А. Ленкова. Владелец: Институт автоматики и электрометрии СО РАН. Дата публикации: 2004-11-20.

Improvements in and relating to Kinematographic Exhibitions.

Номер патента: GB190508341A. Автор: Paul Effing. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-04-19.

Digital television set

Номер патента: RU2310287C1. Автор: Борис Иванович Волков. Владелец: Борис Иванович Волков. Дата публикации: 2007-11-10.

Digital monitor

Номер патента: RU2292664C1. Автор: Борис Иванович Волков. Владелец: Борис Иванович Волков. Дата публикации: 2007-01-27.

An engineering project bidding quotation analysis method and a system and a storable medium

Номер патента: ZA202307566B. Автор: Yong Wang,Dan Liu,Xiaolin Wang,Jinxiang Xu,Yongfeng Yuan,Fengtao Qiu,Jingyi Dong,huan An. Владелец: Intelligent & Tech Branch Of China Railway First Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-28.

Radio-optical endoscope

Номер патента: RU2239179C1. Автор: В.Я. Маклашевский,А.А. Кеткович. Владелец: Маклашевский Виктор Яковлевич. Дата публикации: 2004-10-27.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.