Refractive projection objective for immersion lithography
Номер патента: US20050190455A1
Опубликовано: 01-09-2005
Автор(ы): Alexander Epple, Aurelian Dodoc, Hans-Juergen Rostalski, Helmut Beierl
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-09-2005
Автор(ы): Alexander Epple, Aurelian Dodoc, Hans-Juergen Rostalski, Helmut Beierl
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Projection objective for microlithography
Номер патента: US20180164474A1. Автор: Toralf Gruner,Aurelian Dodoc,Hans-Juergen Mann,Daniel Kraehmer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-06-14.