Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Номер патента: US20170052355A1
Опубликовано: 23-02-2017
Автор(ы): Thomas Schicketanz, Toralf Gruner
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Номер патента: US09459435B2. Автор: Toralf Gruner,Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-04.

Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Номер патента: US09817220B2. Автор: Toralf Gruner,Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Номер патента: US20190056576A1. Автор: Toralf Gruner,Thomas Schicketanz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-21.

Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method

Номер патента: TW201131199A. Автор: Toralf Gruner,Thomas Schicketanz. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2011-09-16.

High aperture catadioptric projection objective

Номер патента: WO2009040011A3. Автор: Alexander Epple. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2009-05-22.

High aperture catadioptric projection objective

Номер патента: WO2009040011A2. Автор: Alexander Epple. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2009-04-02.

Catadioptric projection objective

Номер патента: WO2006005547A1. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Jürgen Mann,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Rudolf Von Bünau,Alexander Epple,Susanne Beder. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2006-01-19.

Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices

Номер патента: US7301605B2. Автор: Yasuhiro Omura,Soichi Owa,Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-11-27.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US8300211B2. Автор: Toralf Gruner,Alexander Epple,Ralf Mueller. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-10-30.

Catadioptric projection objective

Номер патента: JP4921580B2. Автор: ミューラー ラルフ,エプレ アレクサンダー,グルナー トラルフ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2012-04-25.

Projection exposure apparatus, projection exposure method, and projection objective lens

Номер патента: JP5396673B2. Автор: ウルリッヒ ヴィルヘルム,フェルトマン ハイコ,ロスタルスキ ハンス・ユルゲン. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-01-22.

Projection exposure apparatus, projection exposure method and projection objective

Номер патента: TW200813642A. Автор: Wilhelm Ulrich,Heiko Feldmann,Hans-Juergen Rostalski. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-03-16.

Catadioptric projection objective with intermediate images

Номер патента: US09726979B2. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-08.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US09726870B2. Автор: Toralf Gruner,Alexander Epple,Thomas Schicketanz,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-08.

Projection exposure system

Номер патента: US20020075466A1. Автор: Toralf Gruner,Rudolf Von Bünau,Erwin Gaber. Владелец: Erwin Gaber. Дата публикации: 2002-06-20.

Catadioptric projection objective with parallel, offset optical axes

Номер патента: US09772478B2. Автор: David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Rudolf Murai von Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-26.

Catadioptric projection lens and method for producing same

Номер патента: US11360293B2. Автор: Hendrik Wagner,Michael Grupp,Martin ROCKTAESCHEL. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-06-14.

Catadioptric projection apparatus

Номер патента: US5638218A. Автор: Yasuhiro Oomura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-06-10.

Chromatically corrected catadioptric objective and projection exposure apparatus including the same

Номер патента: WO2009030444A2. Автор: Alexander Epple. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2009-03-12.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09933706B2. Автор: Damian Fiolka,Markus Deguenther,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-03.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09454085B2. Автор: Damian Fiolka,Markus Deguenther,Gerhard-Wilhelm Ziegler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-09-27.

Euv illumination device and method for operating a microlithographic projection exposure apparatus designed for operation in the euv

Номер патента: EP4405751A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-31.

Projection objective and method for optimizing a system aperture stop of a projection objective

Номер патента: US20100214551A1. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-08-26.

Projection objective and method for optimizing a system aperture stop of a projection objective

Номер патента: US8049973B2. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-11-01.

Euv illumination device and method for operating a microlithographic projection exposure apparatus designed for operation in the euv

Номер патента: US20240248410A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-25.

Method of determining lens materials for a projection exposure apparatus

Номер патента: US20060109560A1. Автор: Toralf Gruner,Aurelian Dodoc,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-05-25.

Catadioptric projection objective with tilted deflecting mirrors, projection exposure apparatus, projection exposure method, and mirror

Номер патента: JP2014225690A. Автор: Mueller Ralf,Singer Wolfgang,ヴォルフガング ジンガー,ラルフ ミューラー,アクセル ゲーネルマイアー,Axel Genelmayer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-12-04.

Catadioptric projection objective with tilted deflecting mirrors, projection exposure apparatus, projection exposure method, and mirror

Номер патента: KR101399768B1. Автор: 악셀 괴너마이어,볼프강 징거,랄프 뮐러. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-05-27.

Projection exposure method and projection lens with setting of the pupil transmission

Номер патента: US11906904B2. Автор: Toralf Gruner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-20.

Projection exposure method and projection lens with setting of the pupil transmission

Номер патента: US20200081350A1. Автор: Toralf Gruner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-03-12.

Method of determining lens materials for a projection exposure apparatus

Номер патента: US20070195423A1. Автор: Toralf Gruner,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov,Rudolf Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-08-23.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING DEFLECTION MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20170052355A1. Автор: Gruner Toralf,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-23.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING DEFLECTION MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20180095259A1. Автор: Gruner Toralf,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-05.

Catadioptric projection system for 157 nm lithography

Номер патента: WO2002044786A2. Автор: Russell Hudyma. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2002-06-06.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US20140111787A1. Автор: Wolfgang Singer,David R. Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Susanne Beder,Rudolf M. Von Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-04-24.

Catadioptric projection objective

Номер патента: WO2004010164A2. Автор: Aurelian Dodoc,Alexander Epple. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2004-01-29.

Catadioptric projection objective with mirror group

Номер патента: JP4801047B2. Автор: マン ハンス・ユルゲン,ウルリッヒ ヴィルヘルム,エップル アレキサンダー,ドドック アウレリアン,シェイファー デイヴィッド. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2011-10-26.

Catadioptric projection objective with pupil correction

Номер патента: WO2008104192A1. Автор: Aurelian Dodoc. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-09-04.

Catadioptric projection objective

Номер патента: EP1771771B1. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Jürgen Mann,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Rudolf Von Bünau,Alexander Epple,Susanne Beder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-12-30.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US8416490B2. Автор: Wolfgang Singer,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Susanne Beder,Rudolf Von Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-04-09.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US7203010B2. Автор: Aurelian Dodoc,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-04-10.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US20070236674A1. Автор: Wolfgang Singer,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Susanne Beder,Rudolf Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-10-11.

Catadioptric projection objective with mirror group

Номер патента: EP1733272A1. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-12-20.

Catadioptric projection objective with geometric beam splitting

Номер патента: US20050117224A1. Автор: David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Helmut Beierl. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-06-02.

Catadioptric projection optical system, exposure apparatus having the same, device fabrication method

Номер патента: US20060088320A1. Автор: Hideki Morishima,Chiaki Terasawa,Yuji Katashiba. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-27.

Catadioptric projection optical system, exposure apparatus having the same, device fabrication method

Номер патента: US7283294B2. Автор: Hideki Morishima,Chiaki Terasawa,Yuji Katashiba. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-10-16.

Catadioptric projection system for 157 nm lithography

Номер патента: US20030197922A1. Автор: Russell Hudyma. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2003-10-23.

Reflection/refraction optical system, exposure method, projection exposure apparatus, method for manufacturing microdevice, imaging optical system, and projection exposure method

Номер патента: KR100823790B1. Автор: 시라이시나오마사,오무라야스히로,오와소이치. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2008-04-21.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING DEFLECTION MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20160154228A1. Автор: Gruner Toralf,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-02.

Catadioptric projection objective with adaptive mirror and projection exposure method

Номер патента: US20070012871A1. Автор: Christian Wagner,Gerald Richter,Michael Gerhard. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-18.

Projection exposure system comprising a catadioptric projection objective with intermediate images

Номер патента: KR101639964B1. Автор: 아우렐리안 도독,빌헬름 울리히,알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2016-07-14.

Projection exposure apparatus with a catadioptric projection optical system

Номер патента: US6661499B2. Автор: Yasuhiro Omura,Takashi Mori,Toshihiko Ozawa,Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-12-09.

Catadioptric Projection Objective With Intermediate Images

Номер патента: US20140111786A1. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-04-24.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH PARALLEL, OFFSET OPTICAL AXES

Номер патента: US20180031815A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Shafer David,Dodoc Aurelian,Von Buenau Rudolf Murai. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-01.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20150055212A1. Автор: Epple Alexander,Gruner Toralf,KAMENOV Vladimir,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-26.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20150055214A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Dodoc Aurelian,Beder Susanne,Singer Wolfgang,Shafer David R.,Von Buenau Rudolf Murai. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-26.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20180095258A1. Автор: Epple Alexander,Gruner Toralf,KAMENOV Vladimir,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-05.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE INCLUDING A REFLECTIVE OPTICAL COMPONENT AND A MEASURING DEVICE

Номер патента: US20190101832A1. Автор: ZACZEK Christoph,Gruner Toralf,Mueller Ralf,Bleidistel Sascha. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-04.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20160231546A1. Автор: Epple Alexander,Gruner Toralf,KAMENOV Vladimir,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-11.

Catadioptric Projection Objective With Intermediate Images

Номер патента: US20170363963A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Epple Alexander,Dodoc Aurelian. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-21.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20180373006A1. Автор: Epple Alexander,Gruner Toralf,KAMENOV Vladimir,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-27.

Catadioptric projection objective with geometric beam splitting

Номер патента: US20050185269A1. Автор: Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Helmut Beierl. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-08-25.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US10042146B2. Автор: Toralf Gruner,Alexander Epple,Thomas Schicketanz,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-08-07.

Catadioptric projection objective

Номер патента: WO2004090600A2. Автор: Aurelian Dodoc,Alexander Epple. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2004-10-21.

Catadioptric projection objective with intermediate images

Номер патента: KR101391470B1. Автор: 아우렐리안 도독,빌헬름 울리히,알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-05-07.

Catadioptric projection objective

Номер патента: CN101995591B. Автор: 弗拉迪米尔·卡梅诺夫,亚历山大·埃普尔,托拉尔夫·格鲁纳,托马斯·希克坦兹. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-03-25.

Catadioptric projection objective

Номер патента: CN101995591A. Автор: 弗拉迪米尔·卡梅诺夫,亚历山大·埃普尔,托拉尔夫·格鲁纳,托马斯·希克坦兹. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-30.

Catadioptric projection objective with intermediate images

Номер патента: KR101376931B1. Автор: 아우렐리안 도독,빌헬름 울리히,알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-03-25.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US20020167734A1. Автор: Karl-Heinz Schuster. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2002-11-14.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US20110038061A1. Автор: Toralf Gruner,Alexander Epple,Thomas Schicketanz,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-02-17.

Catadioptric projection objective including a reflective optical component and a measuring device

Номер патента: US10146137B2. Автор: Toralf Gruner,Sascha Bleidistel,Ralf Mueller,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-12-04.

Large-field unit-magnification catadioptric projection system

Номер патента: WO2012033685A1. Автор: Romeo I. Mercado. Владелец: Coherent, Inc.. Дата публикации: 2012-03-15.

Catadioptric projection lens and method for producing same

Номер патента: WO2018104178A1. Автор: Hendrik Wagner,Martin Rocktäschel,Michael Grupp. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-06-14.

Downsizing catadioptric projection system

Номер патента: DE69314567T2. Автор: Yutaka Virunubu Hodoga Suenaga. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-02-26.

Catadioptric projection lens for use in wafer-scanner for immersion lithography, has refractive objective portion with immersion lens group that is made of optical high-index material with refractive index greater than specific value

Номер патента: DE102009011329A1. Автор: Aurelian Dr. Dodoc. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-09-09.

Downsizing catadioptric projection system

Номер патента: DE69216940T2. Автор: Yutaka Suenaga. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-09-04.

Catadioptric projection lens and method for compensating the intrinsic birefringence in a lens of this type

Номер патента: WO2004025349A1. Автор: Michael Albert,Vladimir Kamenov. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2004-03-25.

Catadioptric projection optical system, exposure apparatus having the same, device fabrication method

Номер патента: US7317571B2. Автор: Takashi Kato,Hirohiko Shinonaga,Chiaki Terasawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-01-08.

Projection exposure apparatus, projection exposure apparatus adjustment method, and projection exposure method

Номер патента: JP3985346B2. Автор: 稔彦 小澤,秀基 小松田,泰弘 大村,孝司 森. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2007-10-03.

Optical correction element and method for the correction of temperature-induced imaging aberrations in optical systems, projection objective and projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: WO2008122410A2. Автор: Aurelian Dodoc,Daniel Kraehmer,Ulrich Loering,Olaf Conradi. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-10-16.

Optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2017102599A1. Автор: Ulrich SCHÖNHOFF. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-22.

High transmission, high aperture catadioptric projection objective and projection exposure apparatus

Номер патента: EP2177934A1. Автор: Wilhelm Ulrich,Ralf Dr. Müller,Daniel Krähmer,Thomas Schicketanz,Alexander Dr. Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-04-21.

High transmission, high aperture catadioptric projection objective and projection exposure apparatus

Номер патента: TW201027267A. Автор: Wilhelm Ulrich,Alexander Epple,Ralf Mueller,Daniel Kraehmer,Thomas Schicketanz. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2010-07-16.

Catadioptric projection objective

Номер патента: WO2008101676A2. Автор: Aurelian Dodoc. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-08-28.

Projection objective of micro-lithographic projection exposure equipment e.g. for fabrication of integrated circuits, has diffractive optical element arranged in pupil plane

Номер патента: DE102006028242A1. Автор: Alexander Epple,Hans-Jürgen Rostalski,Heiko Feldmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-01-18.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: US8094380B2. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-10.

Mirror of a projection exposure apparatus for microlithography with mirror surfaces on different mirror sides, and projection exposure apparatus

Номер патента: US09606339B2. Автор: Wolfgang Singer,Ralf Mueller,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-28.

Imaging optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: US09459539B2. Автор: Hans-Juergen Mann,Susanne Beder,Christoph Menke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-04.

Imaging optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014019617A1. Автор: Hans-Jürgen Mann,Christoph Menke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-02-06.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09720329B2. Автор: Stephan Muellender,Hans-Juergen Mann,Rolf Freimann,Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Projection exposure method and projection exposure apparatus

Номер патента: US09933710B2. Автор: Toralf Gruner,Johannes Ruoff,Stephan André,Daniel Golde. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-03.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING DEFLECTION MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20150062725A1. Автор: Gruner Toralf,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-05.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH MIRROR GROUP

Номер патента: US20130120728A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Dodoc Aurelian,Shafer David R.. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-16.

Catadioptric Projection Objective With Intermediate Images

Номер патента: US20140078483A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Epple Alexander,Dodoc Aurelian. Владелец: . Дата публикации: 2014-03-20.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH PARALLEL, OFFSET OPTICAL AXES

Номер патента: US20150226948A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Shafer David,Dodoc Aurelian,Von Buenau Rudolf Murai. Владелец: . Дата публикации: 2015-08-13.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH TWO INTERMEDIATE IMAGES AND NO MORE THAN FOUR LENSES BETWEEN THE APERTURE STOP AND IMAGE PLANE

Номер патента: US20140376086A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Shafer David,Dodoc Aurelian,Von Buenau Rudolf Murai. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-25.

Catadioptric Projection Objective With Intermediate Images

Номер патента: US20140118713A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Epple Alexander,Dodoc Aurelian. Владелец: . Дата публикации: 2014-05-01.

CATADIOPTRIC PROJECTION LENS AND METHOD FOR PRODUCING SAME

Номер патента: US20190302434A1. Автор: Wagner Hendrik,ROCKTAESCHEL Martin,Grupp Michael. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-03.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP1586946A3. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Olaf Dittmann,Michael Totzeck. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-01-17.

Reflective optical element, illumination optical unit, projection exposure apparatus, and method for producing a protective layer

Номер патента: US20230205090A1. Автор: Sandro Hoffmann,Valentin Jonatan Bolsinger,Sandra Haschke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-06-29.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09523923B2. Автор: Markus Deguenther. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-20.

Projection objective

Номер патента: US20200310256A1. Автор: Yinzhang GUO,Fuping AN,Zhaoxiang CHU. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprising a depolarizing element

Номер патента: US9170499B2. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Olaf Dittmann,Markus Schwab,Wolfgang Seitz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-10-27.

Lithography projection objective

Номер патента: US11899181B2. Автор: Yinzhang GUO. Владелец: Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Pattern exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

Номер патента: US20240255855A1. Автор: Masaki Kato,Yasushi Mizuno,Toshiharu Nakashima,Keisuke Hasegawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09535336B2. Автор: Severin Waldis,Florian Bach,Yim-Bun Patrick Kwan,Sascha Bleidistel,Armin Werber,Daniel Benz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-03.

Optical element with an antireflection coating, projection objective, and exposure apparatus comprising such an element

Номер патента: US09684252B2. Автор: Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-20.

Optical Element With An Antireflection Coating, Projection Objective, And Exposure Apparatus Comprising Such An Element

Номер патента: US20120038897A1. Автор: Alexandra Pazidis,Christoph Zaczek. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-02-16.

Mirror for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3117257A1. Автор: Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-18.

Optical element, projection optical unit and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240176249A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Matthias Fetzer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-30.

Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US9140993B2. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-09-22.

Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: EP2927935A3. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-01-27.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: EP4388371A1. Автор: Boaz Pnini. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-26.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20240012334A1. Автор: Markus Raab,Matthias Manger,Andreas Raba,Mirko Buechsenschuetz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-11.

Projection exposure apparatus with near-field manipulator

Номер патента: US20170052453A1. Автор: Johannes Lippert,Yim-Bun Patrick Kwan,Jasper Wesselingh,Peter Deufel,Pascal Marsollek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-23.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4320467A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-14.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240019613A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240184212A1. Автор: Boaz Pnini. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-06.

Arrangement for use in a projection exposure tool for microlithography having a reflective optical element

Номер патента: WO2011092020A2. Автор: Erik Loopstra,Dirk Heinrich Ehm,Vadim Yevgenyevich Banine,Maarten Van Kampen,Stefan-Wolfgang Schmidt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-08-04.

Optical element, projection optical unit and projection exposure apparatus

Номер патента: EP4384874A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Matthias Fetzer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-19.

Exposure method, exposure device for performing the method and manufacturing method of display substrate using the method

Номер патента: US20160187790A1. Автор: Seung-Kyu Lee,Ik-Han Oh,Hyeon-Min Cho. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

Exposure method, exposure device for performing the method and manufacturing method of display substrate using the method

Номер патента: US09841686B2. Автор: Seung-Kyu Lee,Ik-Han Oh,Hyeon-Min Cho. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Projection optical system, projection exposure apparatus having the projection optical system, projection method thereof, exposure method thereof and fabricating method for fabricating a device using the projection exposure apparatus

Номер патента: US6750948B2. Автор: Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-06-15.

Method for operating a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09665010B2. Автор: Markus Deguenther. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Projection exposure apparatus for euv microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041720A2. Автор: Aksel GÖHNERMEIER,Heiko Feldmann,Johannes Ruoff,Oliver Natt,Marc Bienert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Facet mirror for a projection exposure apparatus

Номер патента: US09823577B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-21.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20210080841A1. Автор: Stefan Xalter,Bernhard Gellrich,Jens Kugler,Stefan Hembacher,Mark Feygin. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-03-18.

Projection exposure apparatus and method for designing a component of a projection exposure apparatus

Номер патента: US20240085800A1. Автор: Markus Raab,Matthias Manger,Dieter Bader,Thilo Pollak,Stefan BAUEREGGER,Alexander Ostendorf,Bastian Keller,Joerg Tschischgale,Dietmar Duerr,Irina Schrezenmeier,Andreas Beljakov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-14.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: WO2021052940A1. Автор: Stefan Xalter,Bernhard Gellrich,Jens Kugler,Stefan Hembacher,Mark Feygin. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-03-25.

Mirror arrangement for an EUV projection exposure apparatus, method for operating the same, and EUV projection exposure apparatus

Номер патента: US09709770B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Hendrik Wagner,Walter Pauls,Rumen ILIEW,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-18.

Chromatically corrected imaging illumination optical unit for use in a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024156598A1. Автор: Alexander Epple,Stig Bieling,Markus Schwab,Henning Mehnert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-02.

Attenuation filter for projection lens, projection lens having attenuation filter for projection exposure apparatus, and projection exposure apparatus having projection lens

Номер патента: US20190064676A1. Автор: Toralf Gruner,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-28.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09841682B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Sascha Bleidistel,Juergen Fischer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-12.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09568837B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Sascha Bleidistel,Juergen Fischer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-14.

Anamorphically imaging projection lens system and related optical systems, projection exposure systems and methods

Номер патента: US09568832B2. Автор: Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-14.

Method for improving the imaging properties of a projection objective, and such a projection objective

Номер патента: US09581813B2. Автор: Toralf Gruner,Sascha Bleidistel,Wolfgang Hummel,Andreas Frommeyer,Heiko Feldmann,Gerald Richter,Olaf Conradi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-28.

Projection exposure apparatus, and method for reducing deformations, resulting from dynamic accelerations, of components of the projection exposure apparatus

Номер патента: US20190219926A1. Автор: Erik Loopstra,Bernhard Geuppert,Jens Kugler,Stefan Hembacher. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-07-18.

Component for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2023237452A1. Автор: Michael Groiss. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-14.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP2126636A2. Автор: Manfred Maul,Nils Dieckmann,Oliver Natt,Christian Hettich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-12-02.

Optical assembly, optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024179896A1. Автор: Roman Orlik. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-09-06.

Mirror module, in particular for a microlithographic projection exposure appararatus

Номер патента: US09996015B2. Автор: Bernhard Gellrich,Andreas Wurmbrand,Jens Prochnau,Dirk Schaffer,Markus Kern. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-06-12.

Arrangement for thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09500957B2. Автор: Joachim Hartjes. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-22.

Method for adjusting an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013135500A1. Автор: Ingo Saenger,Bastian Trauter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Projection optical system, method for producing the same, and projection exposure apparatus using the same

Номер патента: AU1891200A. Автор: Hiroyuki Hiraiwa,Issey Tanaka. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-07-24.

Illumination optical unit for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013135532A1. Автор: Ingo Sänger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Projection exposure methods and apparatus, and projection optical system

Номер патента: EP1936420A3. Автор: Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-09-10.

Euv collector for an euv projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024002672A1. Автор: Daniel Brown,Yezheng Tao,Haining Wang,Markus Karl,Evan DAVIS,Michael Purvis,Silvi Haendel,Alexander Schafgans. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-04.

Method for heating an optical element in a microlitho-graphic projection exposure apparatus and optical system

Номер патента: US20230350312A1. Автор: Dirk Hellweg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-11-02.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, and method of processing a mirror

Номер патента: WO2024074306A1. Автор: Eric Eva,Matthias KAES. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-04-11.

Optical assembly, projection exposure apparatus and method

Номер патента: US20220382165A1. Автор: Johannes Lippert,Markus Raab,Andreas Raba. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-12-01.

Optical system with improved durability for projection exposure apparatus and method for manufacturing optical system for projection exposure apparatus

Номер патента: US20020135746A1. Автор: Seishi Fujiwara,Hiroki Jinbo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-09-26.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2021078421A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-04-29.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4049088A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-08-31.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2020254147A1. Автор: Toralf Gruner,Hans Michael Stiepan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-12-24.

Optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024133262A1. Автор: Christian Werner,Tobias Hegele,Dietmar Duerr,Johannes Kruis,Sebastian Henseler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-27.

Apparatus and method for avoiding a degradation of an optical used surface of a mirror module, projection system, illumination system and projection exposure apparatus

Номер патента: US20240319621A1. Автор: Moritz Becker,Julian Kaller,Arnoldus Jan Storm. Владелец: NEDERLANDSE ORGANISATIE VOORTOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO. Дата публикации: 2024-09-26.

Optical system, projection exposure system and method

Номер патента: US20240288784A1. Автор: Toralf Gruner,Martin Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-29.

Assembly, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US12105434B2. Автор: Stefan Troeger,Thomas Gorius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-10-01.

Lighting system of a microlithographic projection exposure system and method for operating such a lighting system

Номер патента: US09977334B2. Автор: Markus Deguenther,Johannes Eisenmenger,Thomas Korb,Vladimir Davydenko. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09817317B2. Автор: Frank Schlesener,Ingo Saenger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Arrangement for the thermal actuation of a mirror, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09798254B2. Автор: Markus Hauf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-24.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09720327B2. Автор: Manfred Maul. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09671699B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-06.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09575414B2. Автор: Johannes Wangler,Markus Deguenther,Manfred Maul,Axel Scholz,Michael Layh,Ralf Scharnweber,Heiko Siekmann,Reinhard Voelkel,Kenneth Weible,Uwe Spengler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-21.

Reduction projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: US9933705B2. Автор: Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: US20090168189A1. Автор: Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-07-02.

Reflective optical element for the euv wavelength range, method for producing and for correcting such an element, projection lens for microlithography comprising such an element, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection lens

Номер патента: WO2013050199A1. Автор: Markus Weiss,Boris Bittner,Norbert Wabra,Norbert Kerwien,Martin Weiser,Christoph SCHLICHENMAIER,Wilfried Clauss. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-04-11.

Projection exposure system

Номер патента: US5386266A. Автор: Ho-Young Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1995-01-31.

Method for assigning a pupil facet of a pupil facet mirror of an illumination optical unit of a projection exposure apparatus to a field facet of a field facet mirror of the illumination optical unit

Номер патента: US9791785B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-17.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5365371A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-11-15.

Optical unit for an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20050237623A1. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-10-27.

Objective, particularly a projection objective for use in semiconductor lithography

Номер патента: US20040201909A1. Автор: Werner Lang,Alexander Kohl,Hubert Holderer,Hartmut Brandenburg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2004-10-14.

Assembly, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20230034958A1. Автор: Stefan Troeger,Thomas Gorius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-02-02.

Bipod, optical system and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024061869A1. Автор: Tobias Hegele,Sonia Anaelle Bissie,Dietmar Duerr. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-28.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: US20240111223A1. Автор: Klaus Rief. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-04-04.

Mirror for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024012978A1. Автор: Sandro Hoffmann,Valentin Jonatan Bolsinger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus

Номер патента: US20220206398A1. Автор: Willi Anderl,Hubert Holderer,Markus Holz,Stefan Seitz,Christian Körner,Manuel Stompe. Владелец: Bertrandt Ingenieurbuero GmbH. Дата публикации: 2022-06-30.

Mirror element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180101002A1. Автор: Martin Hermann,Hartmut Enkisch,Christoph Nottbohm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-04-12.

Mirror element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20170176741A1. Автор: Martin Hermann,Hartmut Enkisch,Christoph Nottbohm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-22.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20200026195A1. Автор: Johannes Lippert,Toralf Gruner,Kerstin Hild. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-01-23.

Facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus

Номер патента: US11789367B2. Автор: Willi Anderl,Hubert Holderer,Markus Holz,Stefan Seitz,Christian Körner,Manuel Stompe. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-10-17.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US11809085B2. Автор: Toralf Gruner,Hans Michael Stiepan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-11-07.

Euv collector for use in an euv projection exposure apparatus

Номер патента: EP3440490A1. Автор: Johannes Zellner,Holger Kierey. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-13.

Method for aligning a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20170023865A1. Автор: Rolf Freimann,Jochen Hetzler,Bernd Doerband. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-26.

Optical assembly, method for deforming an optical element, and projection exposure system

Номер патента: US20230393485A1. Автор: Eva Schneider,Maike Lorenz,Tim Hoffmann,Vladimir MITEV,Ruediger MACK,Johannes Schurer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-07.

Euv collector for use in an euv projection exposure apparatus

Номер патента: US20190033723A1. Автор: Johannes Zellner,Holger Kierey. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-01-31.

Mirror, more particularly for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180039001A1. Автор: Anastasia Gonchar. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-02-08.

System and projection exposure apparatus

Номер патента: US20230408934A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-12-21.

Assembly in an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20220214627A1. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-07-07.

Optical element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3559749A1. Автор: Holger Kierey,Georgo Metalidis,Florian Herold,Ralf Moser,Wolfgang Merkel,Arno Schmittner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-10-30.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4168857A1. Автор: Toralf Gruner,Daniel Golde,Kerstin Hild,Vitaliy Shklover,Hans Michael Stiepan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-04-26.

Method for aligning a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20190049853A1. Автор: Rolf Freimann,Jochen Hetzler,Bernd Doerband. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-02-14.

Optical system, microlithographic projection exposure apparatus, method for heating an optical element and method for producing an optical fibre arrangement

Номер патента: WO2023083568A1. Автор: Markus Hauf,Stefan Bleil,Carsten Marzok,Torsten Steinbrueck. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-05-19.

Projection objective for microlithography

Номер патента: US20180164474A1. Автор: Toralf Gruner,Aurelian Dodoc,Hans-Juergen Mann,Daniel Kraehmer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-06-14.

Projection objective with decentralized control

Номер патента: WO2007071307A1. Автор: Torsten Gross. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2007-06-28.

Projection objective for a microlithography apparatus with improved imaging properties and method for improving the imaging properties of the projection objective

Номер патента: WO2008037496A3. Автор: Armin Schoeppach,Toralf Gruner,Mariella Beckenbach,Klaus Rief,Andreas Bertele,Benjamin Sigel,Sascha Bleidistel,Wolfgang Hummel,Andreas Frommeyer,Jochen Schwaer,Baerbel Schwaer,Thomas Schletterer,Artur Hoegele. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-06-19.

Projection objective with obscurated pupil for microlithography

Номер патента: EP2191331A1. Автор: Toralf Gruner,Aurelian Dodoc,Hans-Juergen Mann,Daniel Kraehmer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-06-02.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: US11698590B2. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-11.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: EP4145223A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-08.

Collector mirror and apparatus for creating extreme ultraviolet light including the same

Номер патента: US20230071131A1. Автор: Injae Lee,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Hoseok SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-09.

Projection system and mirror and radiation source for a lithographic apparatus

Номер патента: US10732511B2. Автор: Erik Roelof Loopstra,Hans Butler,Marcus Adrianus Van De Kerkhof,Anton Bernhard Van Oosten,Koen Jacobus Johannes Maria Zaal,Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-08-04.

Deflection Mirror and Projection Exposure Apparatus for Microlithography Comprising Such a Deflection Mirror

Номер патента: US20140022525A1. Автор: Endres Martin,ENKISCH Hartmut,MUELLENDER Stephan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-01-23.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: KR101166658B1. Автор: 만 한스-쥐르겐,시그너 울프강. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2012-07-18.

Optical arrangement in a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9086561B2. Автор: Alexander Epple,Hans-Juergen Rostalski,Tilman Schwertner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-07-21.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: US7869138B2. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-01-11.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: US8810927B2. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-08-19.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: US20110063596A1. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-17.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: TW200741244A. Автор: Wolfgang Singer,Hans-Juergen Mann. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2007-11-01.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: TWI456250B. Автор: Mann Hans-Juergen,Singer Wolfgang. Владелец: Zeiss Carl Smt Gmbh. Дата публикации: 2014-10-11.

Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil

Номер патента: KR101144492B1. Автор: 만 한스-쥐르겐,시그너 울프강. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2012-05-14.

Image display apparatus and projection optical system

Номер патента: US11528458B2. Автор: Jun Nishikawa,Naoko Edamitsu. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2022-12-13.

Projection optical system and projection display device

Номер патента: US10466578B2. Автор: Masaru Amano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-11-05.

Projection optical system and projection display device

Номер патента: US20190056647A1. Автор: Masaru Amano. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-02-21.

Ultra-short focus projection lens and projection device

Номер патента: US20240134170A1. Автор: Wei-Ting Wu,Ching-Chuan Wei,You-Da Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Attachment optical system and projection display system

Номер патента: US20220317428A1. Автор: Hirotaka Yanagisawa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2022-10-06.

Attachment optical system and projection display system

Номер патента: US20220326491A1. Автор: Hirotaka Yanagisawa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2022-10-13.

Projection optical system and projection apparatus that enlarge and project an image displayed on a display

Номер патента: US20210026229A1. Автор: Atsushi Matsuura,Kazuhiko Inoue,Atsuo Masui. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-01-28.

Projection optical system and projection apparatus

Номер патента: US20180307041A1. Автор: Atsushi Matsuura,Kazuhiko Inoue,Atsuo Masui. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2018-10-25.

Projection device and projection system

Номер патента: US20170059836A1. Автор: Yohei Takano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-02.

Projection device and projection system

Номер патента: US9690084B2. Автор: Yohei Takano. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Projection device and projection system

Номер патента: US09690084B2. Автор: Yohei Takano. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Projection device and projection system

Номер патента: US09523842B2. Автор: Yohei Takano. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Alignment exposure method and method of fabricating display substrate

Номер патента: US09715173B2. Автор: Bin Wu,Kun Li,Xuequan Yu,Wenjun Shen,Lizhi Ren,Yadong Gao. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Exposure method for liquid crystal display device

Номер патента: US20030124443A1. Автор: Hun Jeoung. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2003-07-03.

Projection objective for a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2004010224A2. Автор: Wolfgang Singer,Johannes Wangler,Hans-Jürgen Mann,Wilhelm Ulrich. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2004-01-29.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20090284831A1. Автор: Karl-Heinz Schuster,Toralf Gruner,Heiko Feldmann,Olaf Dittmann,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Wilfried Clauss,Susanne Beder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-11-19.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: CN101467090A. Автор: S·贝德,D·克雷默,T·格鲁纳,W·克劳斯,K-H·舒斯特,H·费尔德曼,M·托采克,O·迪特曼. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-06-24.

Projection objective for a projection exposure apparatus

Номер патента: EP2341391A3. Автор: Wolfgang Singer,Johannes Wangler,Hans-Jürgen Mann,Wilhelm Ulrich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-08-17.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20110235013A1. Автор: Karl-Heinz Schuster,Toralf Gruner,Heiko Feldmann,Olaf Dittmann,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Wilfried Clauss,Susanne Beder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-09-29.

Proximity exposure method by oblique irradiation with light

Номер патента: US20020030165A1. Автор: Shinji Suzuki. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2002-03-14.

Projection exposure method, projection exposure apparatus, laser radiation source and bandwidth narrowing module for a laser radiation source

Номер патента: US20110304837A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-12-15.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09977338B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-22.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09588445B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Projection Objective For a Microlithographic Projection Exposure Apparatus

Номер патента: US20080123069A1. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-05-29.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09910359B2. Автор: Markus Deguenther,Frank Schlesener,Thomas Korb,Vladimir Davydenko,Stefanie Hilt,Wolfgang Hoegele. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-06.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09500954B2. Автор: Markus Deguenther,Frank Schlesener,Thomas Korb,Vladimir Davydenko,Stefanie Hilt,Wolfgang Hoegele. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-22.

Imaging optical system and projection exposure system including the same

Номер патента: US9285515B2. Автор: Stephan Muellender,Hans-Juergen Mann,Hartmut Enkisch,Wilheim Ulrich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-03-15.

Exposure method, exposure device, and method of manufacturing optically-anisotropic layer

Номер патента: US20240248405A1. Автор: Hirotoshi Ando,Satoshi Nagano,Yasuhiro Sekizawa,Takehiko Harasawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Exposure method, exposure device, and method of forming optically-anisotropic layer

Номер патента: US20240288678A1. Автор: Hirotoshi Ando,Satoshi Nagano,Yasuhiro Sekizawa,Takehiko Harasawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Exposure method of photoalignment layer

Номер патента: US20240045334A1. Автор: Hiroshi Sato,Takashi Yonemoto,Katsumi SASATA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Exposure method of photoalignment layer

Номер патента: US20240045335A1. Автор: Hiroshi Sato,Takashi Yonemoto,Katsumi SASATA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Mask plate, exposure device, and exposure method

Номер патента: US20180203343A1. Автор: Yan Zhang,Dong Wang,Yanping Wang,Xibin Shao,Changjun Zha,Jianfeng Yuan,Pengyu QI,Yangchen Guo,Jintao XIAO. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-19.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2005081067A1. Автор: Wolfgang Singer,Toralf Gruner,Alexander Epple,Norbert Wabra,Susanne Beder,Bernhard Kneer. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-09-01.

Exposure apparatus, exposure method using the same, and method of manufacture of circuit device

Номер патента: US20010043321A1. Автор: Kenji Nishi,Toru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-11-22.

Projection exposure apparatus and stage unit, and exposure method

Номер патента: US20110019170A1. Автор: Yasunaga Kayama,Dai Arai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-01-27.

Projection exposure apparatus which determines the minimum number of shots to optimially expose the substrate surface

Номер патента: US5654792A. Автор: Masami Yonekawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-08-05.

Method for producing or setting a projection exposure apparatus

Номер патента: US20220043358A1. Автор: Rolf Freimann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-02-10.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5677757A. Автор: Naomasa Shiraishi,Tetsuo Taniguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-10-14.

Projection exposure apparatus having a filter arranged in its projection optical system and method for protecting circuit patterns

Номер патента: US6118516A. Автор: Nobutaka Magome,Shigeru Hirukawa,Naomasa Shiraishi,Yasuaki Tanaka,Nobuyuki Irie. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-09-12.

Projection exposure apparatus and method for measuring a projection lens

Номер патента: EP3423902A1. Автор: Frank Schadt,Eugen Foca,Uwe Hempelmann,Frank Schleicher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-01-09.

Projection exposure apparatus and method which uses multiple diffraction gratings in order to produce a solid state device with fine patterns

Номер патента: US5715039A. Автор: Hiroshi Fukuda,Rudolf Murai von Bunau. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1998-02-03.

Exposure mask, method of designing and manufacturing the same, exposure method and apparatus, pattern forming method, and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171A1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-05.

Method of designing an exposure mask, exposure method, pattern forming method and device manufacturing method

Номер патента: EP1642171B1. Автор: Takako Yamaguchi,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-06-15.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device production method

Номер патента: EP1544895A3. Автор: Shigeru Moriya. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2007-01-17.

X-ray exposure method and semiconductor device manufactured using this X-ray exposure method as well as X-ray mask, X-ray exposure unit and resist material

Номер патента: US20030174805A1. Автор: Hiroshi Watanabe,Kenji Itoga. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-09-18.

Exposure apparatus, exposure method, and exposure mask

Номер патента: EP1782456A4. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2008-07-30.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US09500955B2. Автор: CAN Wang,Jianwei Yu. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Position measurement method, position control method, measurement method, loading method, exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US9298108B2. Автор: Masahiko Yasuda,Taro Sugihara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2016-03-29.

Mask plate, mask exposure device and mask exposure method

Номер патента: US20170090280A1. Автор: Song Zhang,Tao Wang,Seiji Fujino,Jing Gao,Xiaobo Du. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Exposure method, exposure equipment and 3-d structure

Номер патента: US20170293226A1. Автор: Yu-Hsuan Ho. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2017-10-12.

Scanning exposure method and apparatus

Номер патента: US6154270A. Автор: Ken Ozawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-11-28.

Exposure apparatus, exposure method, and exposure mask

Номер патента: EP1782456A1. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2007-05-09.

Exposure method, exposure mask, and exposure apparatus

Номер патента: WO2004023211A3. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 2004-10-14.

Exposure method, exposure mask, and exposure apparatus

Номер патента: WO2004023211A2. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2004-03-18.

Exposure method, exposure mask, and exposure apparatus

Номер патента: EP1535113A2. Автор: Natsuhiko Mizutani,Ryo Kuroda,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-06-01.

Mirror for the EUV wavelength range, substrate for such a mirror, projection objective for microlithography comprising such a mirror or such a substrate, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: US09494718B2. Автор: Stephan Muellender,Aurelian Dodoc,Gerhard Braun,Wilfried Clauss,Christoph Zaczek,Hans-Jochen Paul,Sascha Migura,Gisela von Blanckenhagen,Joern Weber,Roland Loercher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-15.

Method of forming photoresist pattern and projection exposure apparatus

Номер патента: US20230185201A1. Автор: Kanyu Cao. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Optical system e.g. projection objective, for microlithography projection exposure system, has module insertable and removable as unit into system, and concave curved optical surface for capping cavity during operation of exposure system

Номер патента: DE102005024163A1. Автор: Sascha Bleidistel,Aurelian Dodoc,Albrecht Ehrmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2006-11-30.

Mirror for the euv wavelength range, substrate for such a mirror, projection objective for microlithography comprising such a mirror or such a substrate, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: WO2011072953A1. Автор: Stephan Muellender,Aurelian Dodoc,Gerhard Braun,Wilfried Clauss,Christoph Zaczek,Hans-Jochen Paul,Sascha Migura,Gisela von Blanckenhagen,Joern Weber,Roland Loercher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-06-23.

Mirror for the EUV wavelength range, substrate for such a mirror, projection objective for microlithography comprising such a mirror or such a substrate, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: CN102713690B. Автор: S.米古拉,J.韦伯,S.马伦德,W.克劳斯,H-J.保罗,G.布朗,A.多多克,C.扎克泽克,G.范布兰肯哈根,R.勒歇尔. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-05-06.

Reticle transmittance measurement method, projection exposure method using the same, and projection exposure device

Номер патента: US09904170B2. Автор: Michihiro Murata,Yutaka Gomi. Владелец: Ablic Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Reticle transmittance measurement method, and projection exposure method using the same

Номер патента: US09733567B2. Автор: Michihiro Murata,Yutaka Gomi. Владелец: Ablic Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20180373155A1. Автор: Wabra Norbert,Eder Robert. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-27.

Method of operating a microlithographic projection exposure apparatus and projection objective of such an apparatus

Номер патента: KR101679136B1. Автор: 홀거 발터,보리스 비트너. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2016-11-23.

Projection objective for microlithographic projection exposure apparatus, has optical subsystem that projects intermediate image into image-plane with image-plane side projection ratio of specific value

Номер патента: DE102006038454A1. Автор: Heiko Feldmann,Susanne Beder,Daniel Krähmer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-07-05.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US7710640B2. Автор: Heiko Feldmann,Daniel Kraehmer,Susanne Beder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-05-04.

Method of operating a microlithographic projection exposure apparatus and projection objective of such an apparatus

Номер патента: US9164402B2. Автор: Boris Bittner,Holger Walter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-10-20.

Projection exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, illumination optical system, and polarization unit

Номер патента: KR101514104B1. Автор: 나오마사 시라이시. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2015-04-22.

Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

Номер патента: US9182684B2. Автор: Hiroyuki Nagasaka,Yasufumi Nishii. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-11-10.

EUV microlithography projection exposure apparatus with a heat light source

Номер патента: US09588435B2. Автор: Damian Fiolka. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-07.

Method and apparatus for projection exposure

Номер патента: US5329335A. Автор: Toshio Wada,Hiroyuki Inoue,Kouhei Eguchi. Владелец: Nippon Steel Corp. Дата публикации: 1994-07-12.

Projection Exposure System, Beam Delivery System and Method of Generating a Beam of Light

Номер патента: US20120013878A1. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Vladimir Davydenko,Gerd Reisinger,Matthias Kuss. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-19.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09678438B2. Автор: Michael Patra,Markus Schwab. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-13.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09348232B2. Автор: Jan Horn,Christian Kempter,Wolfgang Fallot-Burghardt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-05-24.

Optical arrangement, in particular projection exposure apparatus for EUV lithography, as well as reflective optical element with reduced contamination

Номер патента: US8585224B2. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Stephan Muellender,Thomas Stein,Johannes Hubertus Josephina Moors,Bastiaan Theodoor Wolschrijn,Dieter Kraus,Richard Versluis,Marcus Gerhardus Hendrikus Meijerink. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2013-11-19.

Exposure method, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Номер патента: US20190041759A1. Автор: Tadao Nakamura,Ryo Koizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-02-07.

Exposure method, exposure apparatus and cleaning method

Номер патента: US20130201460A1. Автор: Yasuhisa Tani. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2013-08-08.

Exposure method, exposure apparatus and method of manufacturing article

Номер патента: US20180364607A1. Автор: Yoshio Goto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-12-20.

Exposure method, exposure system, and method for manufacturing electronic devices

Номер патента: US12105425B2. Автор: Koichi Fujii,Osamu Wakabayashi,Toshihiro OGA. Владелец: GIGAPHOTON INC. Дата публикации: 2024-10-01.

Exposure method, exposure apparatus, and article manufacturing method

Номер патента: US09891525B2. Автор: Nobuhiko Yabu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-13.

Exposure method and exposure device

Номер патента: US09568843B2. Автор: Song WANG,Hongjiang Wu,Changgang HUANG,Jiyu Wan,Gyuhyun Lee. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Exposure method and exposure mask

Номер патента: US20130059234A1. Автор: Takashi Kamo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-03-07.

Fast scan exposure method based on dmd

Номер патента: EP3722878A1. Автор: Hongfei BIAN. Владелец: Circuit Fabology Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-14.

Exposure method and exposure apparatus

Номер патента: US20120249993A1. Автор: Koichi Kajiyama,Toshinari ARAI. Владелец: V Technology Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-04.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US10134565B2. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-20.

Exposure method

Номер патента: US20020025019A1. Автор: Mitsuaki Amemiya,Shunichi Uzawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

Exposure device and exposure method

Номер патента: US09523920B2. Автор: Haitao Ma,Haisheng ZHAO. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Overlay correction method, and exposure method and semiconductor device manufacturing method including overlay correction method

Номер патента: US20240160115A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Dohun KIM,Wooyong Jung,Joonhyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Optical exposure method

Номер патента: US5465220A. Автор: Hiroyuki Tanaka,Kenji Nakagawa,Masao Taguchi,Satoru Asai,Tamae Haruki,Isamu Hanyu. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1995-11-07.

Exposure apparatus, exposure method, method for manufacturing device

Номер патента: US20110235006A1. Автор: Yoshitomo Nagahashi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-09-29.

Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US20090305150A1. Автор: Kenichi Shiraishi,Tomoharu Fujiwara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-12-10.

Exposure method, exposure device, and device manufacturing method

Номер патента: EP1632991A1. Автор: Hiroyuki c/o NIKON CORPORATION NAGASAKA. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-03-08.

Extreme ultraviolet exposure apparatus and method, and method of manufacturing semiconductor device by using the exposure method

Номер патента: US10969691B2. Автор: Seung-Yoon Lee,Doo-gyu LEE,Chan-sam Chang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-06.

Exposure Method, Exposure Apparatus, Light Converging Pattern Formation Member, Mask, and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20120176590A1. Автор: Michio Noboru. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-07-12.

Peripheral exposure method and apparatus therefor

Номер патента: US9268230B2. Автор: Minoru Kubota,Kenichi Miyamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-02-23.

Exposure method, exposure apparatus and device manufacturing method

Номер патента: WO2008123535A2. Автор: Michio Noboru. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2008-10-16.

Maskless exposure method, maskless exposure apparatus and method of manufacturing a semiconductor device using the same

Номер патента: US20190146347A1. Автор: Sang-hyun Park,Sang-min Lee,Won-Don JOO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-05-16.

Peripheral exposure method and apparatus therefor

Номер патента: US20130224639A1. Автор: Minoru Kubota,Kenichi Miyamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-08-29.

Peripheral Exposure Method and Apparatus Therefor

Номер патента: US20160124324A1. Автор: Minoru Kubota,Kenichi Miyamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-05.

Advanced exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US5691803A. Автор: Jae-Kwan Song,Jeong-Kon Kim,Kyoung-Shin Park,Kyung-sung Bae. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1997-11-25.

Exposure method and exposure apparatus

Номер патента: US5573877A. Автор: Takashi Inoue,Hiroyuki Nagano,Yoshimichi Ishii. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1996-11-12.

Proximity exposure method

Номер патента: US20200026192A1. Автор: Tomonori Harada,Takumi TOGASHI. Владелец: V Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Exposure machine and exposure method

Номер патента: US11852976B2. Автор: Bin Zou. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Multi charged particle beam exposure method and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20180166254A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2018-06-14.

Exposure device and exposure method

Номер патента: US20160238940A1. Автор: Haitao Ma,Haisheng ZHAO. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-18.

Optical system, in particular an illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2008074673A3. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-09-12.

Projection exposure apparatus with multiple sets of piezoelectric elements moveable in different directions and related method

Номер патента: US9110388B2. Автор: Sascha Bleidistel,Bernhard Geuppert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-08-18.

Projection exposure apparatus with at least one manipulator

Номер патента: US09846367B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-19.

Illumination method, illumination apparatus and projection exposure apparatus

Номер патента: US5302999A. Автор: Yoshitada Oshida,Yukihiro Shibata,Tsuneo Terasawa,Makoto Murayama,Minori Noguchi,Shigemi Ishii,Tutomu Tawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-04-12.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US12117731B2. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-10-15.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09810993B2. Автор: Peter Huber. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-07.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240192605A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-13.

Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024125829A1. Автор: Erik Loopstra,Eric Eva,Christoph Zaczek,Matthew Lipson,Moshe Shemesh,Drew CHIEDA,Victor PEREZ-FALCON. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-20.

Mirror, projection objective with such mirror, and projection exposure apparatus for microlithography with such projection objective

Номер патента: US09575224B2. Автор: Rolf Freimann,Norman Baer,Gero Wittich,Guido Limbach,Thure Boehm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-02-21.

Mirror, projection objective comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: WO2012041697A1. Автор: Rolf Freimann,Norman Baer,Gero Wittich,Guido Limbach,Thure Boehm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Catadioptric projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: US9081295B2. Автор: Yasuhiro Omura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-07-14.

Deflection mirror and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a deflection mirror

Номер патента: WO2012126867A1. Автор: Stephan Muellender,Martin Endres,Hartmut Enkisch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-09-27.

Exposure device using a catadioptric projection system

Номер патента: DE69321814D1. Автор: Kazuhiro Takahashi,Masato Muraki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-12-03.

Method for producing a reflective optical element of a projection exposure system and reflective optical element for a projection exposure system, projection objective and projection exposure system

Номер патента: DE102018211596A1. Автор: Matthias Käs,Steffen Bezold,Matthias Manger,Christoph Petri,Pavel Alexeev,Walter Pauls. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-01-16.

Mirror, projection objective with such mirror, and projection exposure apparatus for microlithography with such projection objective

Номер патента: US20130286471A1. Автор: Rolf Freimann,Norman Baer,Gero Wittich,Guido Limbach,Thure Boehm. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-10-31.

Mirror for the euv wavelength range, projection objective for microlithography comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: WO2010118928A1. Автор: Aurelian Dodoc,Gerhard Braun,Christoph Zaczek,Hans-Jochen Paul,Sascha Migura. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-10-21.

Mirror for the euv wavelength range, projection objective for microlithography comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: WO2011003676A1. Автор: Aurelian Dodoc,Gerhard Braun,Christoph Zaczek,Hans-Jochen Paul,Sascha Migura. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-01-13.

Mirror for the EUV wavelength range, projection objective for microlithography with such a mirror and projection exposure apparatus for microlithography with such a projection objective

Номер патента: DE102009017095A1. Автор: Gerhard Braun,Aurelian Dr. Dodoc,Hans-Jochen Paul,Sascha Dr. Migura,Christoph Dr. Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-10-28.

Mirror for the euv wavelength range, projection objective for microlithography comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: KR101679893B1. Автор: 아우렐리안 도독,한스-요헨 파울,게르하르트 브라운,자샤 미구라,크리스토프 착첵. Владелец: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하. Дата публикации: 2016-11-25.

Mirror for the EUV wavelength range, projection objective for microlithography with such a mirror and projection exposure apparatus for microlithography with such a projection objective

Номер патента: DE102009032779A1. Автор: Gerhard Braun,Aurelian Dr. Dodoc,Hans-Jochen Paul,Sascha Dr. Migura,Christoph Dr. Zaczek. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-01-13.

EUV wavelength region mirror, microlithographic projection objective lens including the mirror, and microlithography projection exposure apparatus including the objective lens

Номер патента: JP5509326B2. Автор: ポール ハンス−ヨッヒェン,ブラウン ゲルハルト,ミグラ サッシャ,ドドク アウレリアン,ツァツェック クリストフ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-06-04.

Mirror for the euv wavelength range, projection objective for microlithography comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: EP2419769A1. Автор: Aurelian Dodoc,Gerhard Braun,Christoph Zaczek,Hans-Jochen Paul,Sascha Migura. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-02-22.

Mirror for the euv wavelength range, projection objective for microlithography comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection objective

Номер патента: EP2452229A1. Автор: Aurelian Dodoc,Gerhard Braun,Christoph Zaczek,Hans-Jochen Paul,Sascha Migura. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-05-16.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus designed for EUV and a method of optically adjusting a projection objective

Номер патента: US20130242278A1. Автор: Mann Hans-Juergen,FREIMANN Rolf,ENKISCH Hartmut,MUELLENDER Stephan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

Illuminating method and illuminating apparatus for carrying out the same, and projection exposure method and projection exposure apparatus for carrying out the same

Номер патента: US5016149A. Автор: Minoru Tanaka,Yoshitada Oshida,Tetsuzo Tanimoto,Yasuhiro Yoshitake. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1991-05-14.

Illumination apparatus, projection exposure apparatus, and device fabricating method

Номер патента: US20060164622A1. Автор: Shinichi Hara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-07-27.

Microlithography projection objective and projection exposure apparatus

Номер патента: KR100749015B1. Автор: 딩어우도. Владелец: 칼 짜이스 에스엠테 아게. Дата публикации: 2007-08-13.

Optical System, in particular an illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: KR101474035B1. Автор: 다미안 피올카,닐스 디에크만. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-12-17.

Diffractive optical element, method of fabricating the element, illumination device provided with the element, projection exposure apparatus, exposure method, optical homogenizer, and method of fabricating the optical homogenizer

Номер патента: US6836365B2. Автор: Akihiro Goto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-12-28.

Optical system, in particular an illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2008074673A2. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-06-26.

Illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20090195766A1. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-08-06.

Projection objective lens of microlithography projection exposure apparatus

Номер патента: JP5069232B2. Автор: ハウフ，マルクス,コンラディ，オラルフ,ビットナー，ボリス,ブライジイステル，サシャ,フメル，ヴォルフガング,カツィ，アリフ,トロスバッハ，ベアベル,ウェーバー，ヨッヘン,ホルデーラー，フーベルト,タエバチ，パヤン. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2012-11-07.

Projection objective for a microlithographic EUV projection exposure apparatus

Номер патента: TW201126275A. Автор: Mann Hans-Juergen,Thomas Schicketanz,Siegfried Rennon. Владелец: Zeiss Carl Smt Gmbh. Дата публикации: 2011-08-01.

Projection objective for microlithography, microlithography projection exposure apparatus with said projection objective, microlithographic manufacturing method for components, as well as a component manufactured with said method

Номер патента: WO2008145296A9. Автор: Aksel Goehnermeier,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-01-14.

Projection objective for microlithography, microlithography projection exposure apparatus with said projection objective, microlithographic manufacturing method for components, as well as a component manufactured with said method

Номер патента: EP2165241A1. Автор: Aksel Goehnermeier,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-03-24.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP2198344A1. Автор: Arif Kazi,Sascha Bleidistel,Aurelian Dodoc,Olaf Conradi. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-06-23.

Microlithographic exposure method as well as a projection exposure system for carrying out the method

Номер патента: US20110069296A1. Автор: Johannes Wangler,Damian Fiolka,Aksel Goehnermeier,Markus Brotsack,Toralf Gruner,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Nils Dieckmann,Markus Schwab,Markus Zenzinger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-24.

Projection objective for microlithography, microlithography projection exposure apparatus with said projection objective, microlithographic manufacturing method for components, as well as a component manufactured with said method

Номер патента: WO2008145295A9. Автор: Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-01-14.

Projection objective for microlithography, microlithography projection exposure apparatus with said projection objective, microlithographic manufacturing method for components, as well as a component manufactured with said method

Номер патента: WO2008145295A1. Автор: Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimir Kamenov. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-12-04.

Projection exposure method and apparatus in which scanning exposure is performed in accordance with a shot layout of mask patterns

Номер патента: US5793471A. Автор: Yuichi Yamada,Shigeyuki Uzawa,Tsuneo Kanda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-08-11.

Projection exposure device and projection exposure method

Номер патента: US20230359126A1. Автор: Yoshiyuki Enomoto. Владелец: V Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: WO2008047818A1. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2008-04-24.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: US7871744B2. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-01-18.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: US20090311631A1. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-17.

Near-field exposure apparatus and near-field exposure method

Номер патента: WO2008047818A8. Автор: Toshiki Ito,Natsuhiko Mizutani,Yasuhisa Inao. Владелец: Yasuhisa Inao. Дата публикации: 2008-06-19.

Method for stress-adjusted operation of a projection exposure system and corresponding projection exposure system

Номер патента: US09696631B2. Автор: Markus Deguenther,Toralf Gruner,Bernhard Kneer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-04.

Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method

Номер патента: EP1622191A1. Автор: Hironori Ikezawa,Yasuhiro Omura,Kumiko Ishida. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-02-01.

Projection objective for microlithography

Номер патента: US20100079741A1. Автор: Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Vladimer Kamenov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-04-01.

Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same

Номер патента: US9964859B2. Автор: Wilhelm Ulrich,Norbert Wabra,Daniel Kraehmer,Ulrich Loering,Vladan Blahnik. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-08.

Blocking element for protecting optical elements in projection exposure apparatuses

Номер патента: US09684243B2. Автор: Joachim Hartjes,Guenther Dengel,Bernhard Sitek,Maik-René Piatkowski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-20.

Projection exposure apparatus comprising a manipulator, and method for controlling a projection exposure apparatus

Номер патента: US09760019B2. Автор: Boris Bittner,Holger Walter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-12.

Method for stress-adjusted operation of a projection exposure system and corresponding projection exposure system

Номер патента: WO2011104389A3. Автор: Markus Deguenther,Toralf Gruner,Bernhard Kneer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-10-20.

Projection exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20020039180A1. Автор: Gerd FÜRTER. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2002-04-04.

Scanning projection exposure apparatus and aligning method therefor

Номер патента: US20010026897A1. Автор: Shinichi Shima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-04.

Blocking element for protecting optical elements in projection exposure apparatuses

Номер патента: US20150177626A1. Автор: Joachim Hartjes,Guenther Dengel,Bernhard Sitek,Maik-René Piatkowski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-06-25.

Optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP3482257A1. Автор: Hartmut Enkisch,Thomas Schicketanz,Oliver Dier,Matus Kalisky. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-05-15.

Immersion type projection exposure apparatus

Номер патента: US5610683A. Автор: Kazuo Takahashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

Projection exposure apparatus and method

Номер патента: US5751403A. Автор: Hideo Mizutani,Tohru Kawaguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-05-12.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4370054A. Автор: Hironori Yamamoto,Junji Isohata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1983-01-25.

Optical system for a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240012333A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-11.

Optical system for a lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP4314949A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-02-07.

Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180217507A1. Автор: Hartmut Enkisch,Oliver Dier,Kerstin Hild,Matus Kalisky. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-08-02.

Near-field exposure method and apparatus, near-field exposure mask, and device manufacturing method

Номер патента: WO2005015311A2. Автор: Natsuhiko Mizutani. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2005-02-17.

Semiconductor exposure method and method of controlling semiconductor exposure apparatus

Номер патента: US20070182948A1. Автор: Benjamin Szu-Min Lin,Sho-Shen Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-08-09.

Proximity exposure device and exposure method thereof

Номер патента: US20180275522A1. Автор: Shirong YU,Qingyong Meng,Shengchao Jiang. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.

Exposure control in photolithographic direct exposure methods for manufacturing circuit boards or circuits

Номер патента: US20230333492A1. Автор: Steffen RÜCKER,Stefan Heinemann,Holger Wagner,Jonas BURGHOFF,Christian Schwarz,Frank Jugel. Владелец: Laser Imaging Systems GmbH. Дата публикации: 2023-10-19.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20130141705A1. Автор: Jingfeng Xue,Minghung Shih,Jehao Hsu. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2013-06-06.

Exposure method and exposure device

Номер патента: US20090252422A1. Автор: Yasuo Minami,Daisuke Fuse,Shouichi Ogata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-10-08.

Near-field exposure method and apparatus, near-field exposure mask, and device manufacturing method

Номер патента: US20060160036A1. Автор: Natsuhiko Mizutani. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-07-20.

Exposure method

Номер патента: US5448333A. Автор: Hiroki Tateno,Yoshichika Iwamoto. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1995-09-05.

Exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US20120013876A1. Автор: Hong-Suk Yoo,Chang-Hoon Kim,Bo-Kyoung Ahn,Gug-Rae Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-01-19.

Catadioptric projection objective

Номер патента: WO2005069055A2. Автор: Hans-Jürgen Mann,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Rudolf Von Bünau,Alexander Epple. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-07-28.

Catadioptric projection objective

Номер патента: KR101417706B1. Автор: 한스-위르겐 만,빌헬름 울리히,알렉산더 에플레,데이빗 쉐퍼,아우렐리안 도도크,루돌프 폰 뷔나우. Владелец: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하. Дата публикации: 2014-07-08.

Catadioptric projection objective

Номер патента: KR101204114B1. Автор: 한스-위르겐 만,빌헬름 울리히,알렉산더 에플레,데이빗 쉐퍼,아우렐리안 도도크,뷔나우 루돌프 폰. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2012-11-23.

Catadioptric projection objective

Номер патента: CN102169226B. Автор: D·谢弗,W·乌尔里希,A·多多克,R·冯比瑙,H·-J·曼,A·埃普勒. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-04-23.

Catadioptric projection objective

Номер патента: US20050190435A1. Автор: David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Rudolf Von Buenau. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2005-09-01.

Catadioptric projection objective

Номер патента: CN102207609B. Автор: D.谢弗,A.埃普勒,A.多多克,W.乌尔里希,R.冯比瑙,H.-J.曼. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-03-20.

Catadioptric projection objective

Номер патента: EP2006739A3. Автор: Hans-Jürgen Mann,David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Rudolf Von Bünau,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-06-26.

Catadioptric projection objective

Номер патента: KR101309242B1. Автор: 한스-위르겐 만,빌헬름 울리히,알렉산더 에플레,데이빗 쉐퍼,아우렐리안 도도크,루돌프 폰 뷔나우. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2013-09-16.

Catadioptric projection objective

Номер патента: TW201037349A. Автор: David Shafer,Wilhelm Ulrich,Aurelian Dodoc,Alexander Epple,Hans-Juergen Mann,Buenau Rudolf Von. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2010-10-16.

Image displaying apparatus with catadioptric projection system

Номер патента: EP2587311A3. Автор: Makoto Hirakawa,Kiichiro Nishina,Yasuyuki Shibayama,Takanobu Osaka,Hibiki Tatsuno. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-07.

Projection exposure method, system and objective

Номер патента: US09678440B2. Автор: Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-06-13.

Method of operating a projection exposure tool for microlithography

Номер патента: US09442381B2. Автор: Ralf Mueller,Christian Wald,Michael Totzeck,Ulrich Loering,Olaf Conradi,Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-09-13.

Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041461A2. Автор: Toralf Gruner,Sascha Bleidistel,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-04-05.

Projection exposure method and apparatus

Номер патента: US20020196417A1. Автор: Hiroyoshi Kubo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-26.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US09665006B2. Автор: Volker Graeschus,Toralf Gruner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-05-30.

Projection exposure methods and systems

Номер патента: US09885958B2. Автор: Paul Graeupner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-02-06.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US09817316B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-11-14.

Projection objective and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20100085644A1. Автор: Hans-Juergen Rostalski. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-04-08.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20190204756A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-07-04.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20200096877A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-03-26.

Lithographic projection objective

Номер патента: US09494868B2. Автор: Thomas Petasch,Boris Bittner,Olaf Rogalsky,Jochen Haeussler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-15.

Reticle for exposure, exposure method and production method of semiconductor wafer

Номер патента: US20130101925A1. Автор: Hironobu Shimizu. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2013-04-25.

Projection exposure apparatus and method for controlling a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013185919A1. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-12-19.

Projection exposure method and apparatus to determine optical performance of reticle

Номер патента: US5686984A. Автор: Akiyoshi Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-11-11.

Projection exposure methods and systems

Номер патента: US20090280437A1. Автор: Paul Graeupner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-11-12.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20090015845A1. Автор: Toralf Gruner,Joerge Tschischgale. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-01-15.

Production control method for a projection exposure apparatus, projection exposure apparatus, and projection exposure method

Номер патента: WO2024099795A1. Автор: Martin Leuermann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-16.

Method of setting up a projection exposure system, a projection exposure method and a projection exposure system for microlithography

Номер патента: US20230367231A1. Автор: Toralf Gruner,Eva Schneider,Timur Tudorovskiy. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-11-16.

Method for maintaining a projection exposure apparatus, service module and arrangement for semiconductor lithography

Номер патента: EP4154063A1. Автор: Jens Kugler,Marwene Nefzi,Dirk Ehm,Benjahman Julius Modeste. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-03-29.

Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic exposure

Номер патента: WO2012041458A3. Автор: Helmut Haidner,Markus GÖPPERT,Carmen Hettich. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-11-08.

Measuring an optical symmetry property on a projection exposure apparatus

Номер патента: US09703205B2. Автор: Frank Schlesener,Jens Timo NEUMANN. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-11.

Optical system for a microlithographic projection exposure apparatus and microlithographic exposure method

Номер патента: US20110063597A1. Автор: Markus Mengel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-03-17.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: US20180136565A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-17.

Projection exposure apparatus comprising a manipulator system

Номер патента: WO2024088904A1. Автор: Sebastian Fuchs,Uwe Schellhorn,Ferdinand DJURIC-RISSNER,Malte Langenhorst,Martin Leuermann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-02.

Projection exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US5539497A. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-07-23.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: WO2015049319A1. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Martin von Hodenberg. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-04-09.

Control apparatus and method for controlling a manipulator in respect of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20200225587A1. Автор: Christian Wald,Bjoern Butscher. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-07-16.

Module for a projection exposure apparatus, method, and projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024153656A1. Автор: Matthias Manger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-07-25.

Photomask and projection exposure mechanism using the same

Номер патента: US5441835A. Автор: Katsuhiko Harazaki. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1995-08-15.

Method for maintaining a projection exposure apparatus, service module and arrangement for semiconductor lithography

Номер патента: US20230072843A1. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Jens Kugler,Marwene Nefzi,Benjahman Julius Modeste. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-03-09.

Projection exposure apparatus including at least one mirror

Номер патента: US09910364B2. Автор: Boris Bittner,Norbert Wabra,Sonja Schneider,Stefan Rist,Ricarda Schoemer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-06.

Microlithography projection exposure apparatus having at least two operating states

Номер патента: US09529276B2. Автор: Winfried Kaiser,Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-27.

Projection exposure apparatus and method involving variation and correction of light intensity distributions, detection and control of imaging characteristics, and control of exposure

Номер патента: US6078380A. Автор: Nobutaka Magome,Naomasa Shiraishi,Tetsuo Taniguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-06-20.

Reticle for projection exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US20090225294A1. Автор: Daisuke Okano. Владелец: Seiko Instruments Inc. Дата публикации: 2009-09-10.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4780747A. Автор: Hideo Mizutani,Kazuaki Suzuki,Hidemi Kawai. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-10-25.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20180299787A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-10-18.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US09915871B2. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-13.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus and method of reducing image placement errors

Номер патента: US09785052B2. Автор: Dirk Hellweg,Joerg Zimmermann,Johannes Ruoff,Jens Timo NEUMANN,Dirk Juergens. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-10-10.

Projection exposure apparatus for microlithography for the production of semiconductor components

Номер патента: US09513562B2. Автор: Armin Schoeppach,Juergen Huber,Juergen Fischer,Norbert Muehlberger,Armin Werber,Matthias Orth,Thorsten Rassel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-06.

Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility

Номер патента: US09423696B2. Автор: Boris Bittner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-23.

Projection exposure apparatus having an alignment sensor for aligning a mask image with a substrate

Номер патента: US5654553A. Автор: Masahiko Okumura,Masaharu Kawakubo. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-08-05.

Optical system in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2013060561A1. Автор: Ingo Sänger,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-02.

Method for examining a wafer with regard to a contamination limit and EUV projection exposure system

Номер патента: US7955767B2. Автор: Stefan Schmidt,Andreas Dorsel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-06-07.

Focus test mask for projection exposure system, focus monitoring system using the same, and focus monitoring method

Номер патента: US6088113A. Автор: Young-Chang Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-07-11.

Measuring an optical symmetry property on a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014139651A1. Автор: Frank Schlesener,Jens Timo NEUMANN. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-09-18.

Method of manufacturing a projection objective and projection objective

Номер патента: US20090207487A1. Автор: Toralf Gruner,Alexander Epple,Heiko Feldmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-08-20.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9013680B2. Автор: Damian Fiolka,András G. MAJOR,Ralf Mueller. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2015-04-21.

Stop apparatus for delimiting a beam path between a light source and an illumination optical unit of a projection exposure apparatus for projection lithography

Номер патента: NL2029213B1. Автор: Patra Michael. Владелец: Zeiss Carl Smt Gmbh. Дата публикации: 2023-09-15.

Projection exposure apparatus, method for operating the projection exposure apparatus

Номер патента: WO2023072745A1. Автор: Matthias Hillenbrand,Dirk Ehm,Tobias Härter,Heiner Zwickel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-05-04.

Projection exposure apparatus with manipulators

Номер патента: WO2024110341A1. Автор: Stratis Tzoumas,Malte Langenhorst,Jonas Umlauft,Christian LUTZWEILER. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-30.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4891663A. Автор: Ryusho Hirose. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1990-01-02.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5317450A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-05-31.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5576801A. Автор: Kazuo Ushida,Masaomi Kameyama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1996-11-19.

Residual gas analyser, projection exposure apparatus comprising a residual gas analyser and method of residual gas analysis

Номер патента: WO2024017606A1. Автор: Kai Kroll,Thorsten Benter,Hendrik Kersten,Achim SCHOELL,Marco Thinius. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-25.

Illumination system for a microlithography projection exposure apparatus and projection exposure

Номер патента: WO2007137763A3. Автор: Alexander Kohl. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-05-02.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20140009764A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-01-09.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography having a connecting element

Номер патента: US20240168396A1. Автор: Rodolfo Guglielmi Rabe,Timo Speidel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography

Номер патента: WO2024013177A1. Автор: Carlos Alberto Jansen,Alexander Fritzkowski,Eric van Rijen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Assembly for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024099636A1. Автор: Thomas Monz,Julian Zips. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-16.

Euv optics module for an euv projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024104849A1. Автор: Udo Dinger,Moritz Becker,Stephanus Fengler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-23.

Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus

Номер патента: US20160011520A1. Автор: Dirk Hellweg,Wolfgang Emer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-01-14.

Method for distortion correction in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US7605905B2. Автор: Hans-Jürgen Mann,Bernhard Kneer,Andreas Kirchner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2009-10-20.

Optical component group, in particular for use in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20240255856A1. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-01.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09983483B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Stig Bieling,Markus Schwab,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-05-29.

Projection exposure apparatus with at least one manipulator

Номер патента: US09927714B2. Автор: Boris Bittner,Stefan Rist. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-03-27.

Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic imaging

Номер патента: US09709902B2. Автор: Aksel Goehnermeier,Jochen Hetzler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-18.

Illumination system for lithographic projection exposure step-and-scan apparatus

Номер патента: US09709896B2. Автор: Liqun Chen,Huijie Huang,Aijun ZENG,Ruifang FANG. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2017-07-18.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09703206B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-11.

Damping arrangement for dissipating oscillating energy of an element in a system, more particularly in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09593733B2. Автор: Markus Hauf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-03-14.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09477157B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra,Stig Bieling,Markus Schwab,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-10-25.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09341957B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-05-17.

Arrangement for actuating an element in a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09304404B2. Автор: Ulrich Schoenhoff,Bernhard Geuppert,Hans Butler,Juergen Fischer,Robertus Johannes Marinus De Jongh. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-04-05.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20100321661A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-12-23.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5719704A. Автор: Yuji Kudo,Naomasa Shiraishi,Saburo Kamiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-02-17.

Illuminating optical system for use in projecting exposure device

Номер патента: US5695274A. Автор: Hitoshi Ohashi,Yasuhiro Kamihara. Владелец: Olympus Optical Co Ltd. Дата публикации: 1997-12-09.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2014114494A1. Автор: Ingo Sänger,Christoph Hennerkes. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-07-31.

Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9405202B2. Автор: Christoph Hennerkes,Ingo Saenger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-02.

Focusing device for projection exposure apparatus

Номер патента: US4952815A. Автор: Kenji Nishi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1990-08-28.

Illumination system and polarizer for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US7408622B2. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Axel Scholz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-08-05.

Illumination system and polarizer for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20080239273A1. Автор: Damian Fiolka,Manfred Maul,Axel Scholz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-10-02.

Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2005103826A1. Автор: Wolfgang Singer,Johannes Wangler. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2005-11-03.

Imaging device in a projection exposure machine

Номер патента: US7710542B2. Автор: Michael Mühlbeyer,Johannes Lippert,Jochen Weber,Klaus Rief,Wolfgang Hummel,Erich Merz,Alexander Kohl,Ulrich Weber,Hubert Holderer,Jürgen Fischer,Thorsten Rassel,Karl-Eugen Aubele,Markus Neumaier,Raoul Reiner,Stefan Schöngart,Bärbel Trossbach. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-05-04.

Projection exposure system for microlithography and method of monitoring a lateral imaging stability

Номер патента: US9720328B2. Автор: Ulrich Mueller,Matthias Manger,Armin Rauthe-Schoech. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-08-01.

Microlithographic Projection Exposure Apparatus

Номер патента: US20080192224A1. Автор: Markus DEGÜNTHER,Toralf Gruner,Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-08-14.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4965630A. Автор: Koichi Matsumoto,Kazuo Ushida,Kyoichi Suwa,Kinya Kato,Toshiyuki Namikawa,Koichi Ohno. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1990-10-23.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5300967A. Автор: Kazuya Kamon. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1994-04-05.

Projection exposure apparatus

Номер патента: WO2012028569A9. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Oliver Dier,Stefan-Wolfgang Schmidt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-06-07.

Facet mirror, illumination optical unit, arrangement of a facet mirror, projection exposure apparatus and method for producing a nanostructured component

Номер патента: WO2024061733A1. Автор: Martin Endres. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-28.

Projection exposure apparatus and device manufacturing method using the same

Номер патента: US20020097758A1. Автор: Masakatsu Ota,Naoto Sano. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20130258303A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-10-03.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20160077444A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-03-17.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US20180024439A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-01-25.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2009106217A1. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2009-09-03.

Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US8467033B2. Автор: Oliver Natt,Frank Schlesener. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-06-18.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device fabricated with the exposure method

Номер патента: US6717652B2. Автор: Toshifumi Suganaga. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2004-04-06.

Exposure apparatus, exposure method and semiconductor device fabricated with the exposure method

Номер патента: US20020072000A1. Автор: Toshifumi Suganaga. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2002-06-13.

Exposure method, exposure quantity calculating system using the exposure method and semiconductor device manufacturing method using the exposure method

Номер патента: US20040253553A1. Автор: Takashi Sato,Shoji Mimotogi,Shigeru Hasebe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-16.

Exposure method, mask data producing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US8142960B2. Автор: Satoshi Nagai,Kazuya Fukuhara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-03-27.

Exposure method, method of manufacturing plate for flat panel display, and exposure apparatus

Номер патента: WO2008149756A1. Автор: Naomasa Shiraishi. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2008-12-11.

Exposure method, exposure quantity calculating system using the exposure method and semiconductor device manufacturing method using the exposure method

Номер патента: US7118834B2. Автор: Takashi Sato,Shoji Mimotogi,Shigeru Hasebe. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2006-10-10.

Exposure method, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US8390809B2. Автор: Nozomu Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2013-03-05.

Photomask for double exposure and double exposure method using the same

Номер патента: US7807322B2. Автор: Chan Ha Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-10-05.

Exposure method, exposure apparatus, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20210294205A1. Автор: Manabu Takakuwa,Hayato Terai. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Exposure method, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US09541845B2. Автор: Yoshihiro Omameuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: US09513564B2. Автор: Kazuyoshi Ozawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Exposure mask and exposure method using the same

Номер патента: US20090297958A1. Автор: Su Woong Lee,Sang Yoon Paik. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2009-12-03.

Exposure method and apparatus

Номер патента: US20060268255A1. Автор: Yoshihiro Shiode,Seiya Miura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-30.

Exposure method, exposure device, and micro device manufacturing method

Номер патента: US20090280441A1. Автор: Kei Nara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2009-11-12.

Exposure method, manufacturing method of device, and thin film sheet

Номер патента: US10054856B2. Автор: Kentaro Matsunaga,Kazuhiro Segawa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-08-21.

Charged particle beam exposure method and apparatus therefor

Номер патента: US5981960A. Автор: HIROSHI Yasuda,Hitoshi Tanaka,Akio Yamada,Yoshihisa Ooaeh. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1999-11-09.

Pellicle Frame, Pellicle, Exposure Original Plate with Pellicle and Exposure Method, and Method for Manufacturing Semiconductor Device or Liquid Crystal Display Board

Номер патента: US20230135575A1. Автор: Yu Yanase. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Pellicle Frame, Pellicle, Pellicle-Attached Exposure Original Plate, Method for Manufacturing Semiconductor, Method for Manufacturing Liquid Crystal Display Plate, and Exposure Method

Номер патента: US20230236497A1. Автор: Yu Yanase. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Mask, exposure method and touch display panel

Номер патента: US20200103750A1. Автор: Lei Zhang,Tong Chen,Chunjian Liu,Jian Tian,Zouming Xu,Guiyu ZHANG,Qitao ZHENG,Xintao Wu. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Exposure method, exposure apparatus, and method for manufacturing article

Номер патента: US20240142879A1. Автор: Jun Moizumi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Phase-shifting mask, exposure method and method for measuring amount of spherical aberration

Номер патента: US5935738A. Автор: Shinji Ishida,Tadao Yasuzato. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1999-08-10.

Exposure method, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Номер патента: US20090219533A1. Автор: Nozomu Hayashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-09-03.

Exposure method and method of making a semiconductor device

Номер патента: US20110207053A1. Автор: Seiji Makino,Noboru Sugiyama,Kozo Ogino,Kanji Takeuchi,Masahiko Minemura. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2011-08-25.

Exposure method, exposure apparatus, and method for manufacturing article

Номер патента: US20240142880A1. Автор: Jun Moizumi,Jinnai Watanabe. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Exposure method

Номер патента: US20060119831A1. Автор: Yoji Okazaki. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-08.

Exposure method using reticle remount for temperature influence correction

Номер патента: US6103433A. Автор: Yukio Tokuda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-08-15.

Exposure method and apparatus

Номер патента: US6163366A. Автор: Hiroki Okamoto,Masaharu Kawakubo,Shinji Mizutani. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-12-19.

Exposure method

Номер патента: US20100009294A1. Автор: Chiang-Lin Shih,Kuo-Yao CHO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2010-01-14.

Exposure method

Номер патента: US20180335688A1. Автор: Kento ARIMATSU. Владелец: Tokai Rika Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-22.

Exposure method and exposure apparatus

Номер патента: US20040141164A1. Автор: Toshihiko Tsuji,Takaaki Kimura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2004-07-22.

Maskless exposure method

Номер патента: US20090262319A1. Автор: Seiji Ishikawa,Toshimasa Ishigaki,Hiroyasu Matsuura,Tadamichi Wachi. Владелец: Hitachi Displays Ltd. Дата публикации: 2009-10-22.

Photolithographic exposure method for memory

Номер патента: US20220399356A1. Автор: Lei Wang. Владелец: Shanghai Huahong Grace Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2022-12-15.

Catadioptric projector, catadioptric projection system and process

Номер патента: CA2013070A1. Автор: Helene H. Jones,Eric C. Haseltine. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1990-11-03.

Method for producing a reflective optical component for an EUV projection exposure apparatus and component of this type

Номер патента: US09541685B2. Автор: Holger Kierey,Heiko Siekmann,Andre Bresan. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-01-10.

Microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09767068B2. Автор: Christian Kempter. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-19.

Deflecting mirror adjusting device for an image forming apparatus

Номер патента: US5963240A. Автор: Nobuo Iwata,Toshiya Sato,Yutaka Shio,Tomonori Yabuta,Tadashi Shinohara,Mitsugu Sugiyama. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 1999-10-05.

Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure apparatus for euv microlithography

Номер патента: WO2010037453A1. Автор: Martin Endres,Adrian Staicu. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-04-08.

Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure apparatus for euv microlithography

Номер патента: WO2010037453A8. Автор: Martin Endres,Adrian Staicu. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2010-09-16.

Projection system and method with fold mirror and integrating rod adjustment

Номер патента: US20230393452A1. Автор: Nathan Shawn Wainwright,Darren HENNIGAN,John David Jackson. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Light source device and projection image display device

Номер патента: US20230280643A1. Автор: Michihiro Okuda,Takanori YOGO. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Projection system and method with fold mirror and integrating rod adjustment

Номер патента: EP4232863A1. Автор: Nathan Shawn Wainwright,Darren HENNIGAN,John David Jackson. Владелец: Dolby Laboratories Licensing Corp. Дата публикации: 2023-08-30.

Light source device with light splitting mirror and reflection mirror for reducing influence on uniformity of intensity distribution of beam flux, and projection device

Номер патента: US09977319B2. Автор: Hiroshi Ogino. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Light source apparatus and projection display apparatus

Номер патента: US09645481B2. Автор: Takaaki Tanaka,Michihiro Okuda. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Weight-balanced polygonal mirror, light scanning unit using the polygonal mirror, and image forming apparatus

Номер патента: US09429748B2. Автор: Ho-Hyun Hwang,Jae-Hwan Yoo,Heon-Hee LIM,Jin-kwon CHUN,Won-Young CHO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-30.

Optical element and projection display apparatus

Номер патента: US20120188520A1. Автор: Makoto Maeda,Sosuke Otani. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-26.

Mirror system and projection device

Номер патента: US09885866B2. Автор: Simon Armbruster,Frank Schatz,Stefan Leidich,Jochen Franz,Helmut Grutzeck,Zoltan Lestyan,Rainer Straub,Kerrin DOESSEL,Joerg Muchow,Frederic Njikam Njimonzie,Johannes Baader. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2018-02-06.

Exposure method of holographic grating and exposure light path

Номер патента: US10146179B2. Автор: Hao Dong,Jinchao Zhang,Qian Zhou,Mingfei Xu,Rui Tian,Kai Ni,Jinchao PANG. Владелец: Shenzhen Graduate School Tsinghua University. Дата публикации: 2018-12-04.

Exposure method of holographic grating and exposure light path

Номер патента: US20160320750A1. Автор: Hao Dong,Jinchao Zhang,Qian Zhou,Mingfei Xu,Rui Tian,Kai Ni,Jinchao PANG. Владелец: Shenzhen Graduate School Tsinghua University. Дата публикации: 2016-11-03.

Near eye display with a spherical mirror and a decoupled aspherical element

Номер патента: WO2016022732A1. Автор: Steven John Robbins,Scott McEldowney,Yarn Chee Poon,R. Andrew Wall,Joshua A. HUDMAN. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2016-02-11.

Projector optical system, projector optical engine, and projection method

Номер патента: US20200382751A1. Автор: Hanwen Guo. Владелец: Nanhua Intelligent Precision Machine Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-03.

Offset optical system including primary mirror and positionally-offset sub-mirror

Номер патента: US20230251476A1. Автор: Eiji Asari. Владелец: Hokkaido Laboratory For Research In Environment And Energy LLC. Дата публикации: 2023-08-10.

Image exposure device, image exposure method, and program

Номер патента: US20220171274A1. Автор: Shinichiro Sonoda,Hirotoshi YOSHIZAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-06-02.

Image exposure device, image exposure method, and program

Номер патента: EP4036645A1. Автор: Shinichiro Sonoda,Hirotoshi YOSHIZAWA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-08-03.

Near eye display with a spherical mirror and a decoupled aspherical element

Номер патента: EP3177958A1. Автор: Steven John Robbins,Scott McEldowney,Yarn Chee Poon,R. Andrew Wall,Joshua A. HUDMAN. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2017-06-14.

Reflective polarization valve engine and projection display using the same

Номер патента: US20050024591A1. Автор: Jan-Tian Lian,June-Jei Huang. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2005-02-03.

Illumination system, method and projection device for controlling light emitted during spoke time period

Номер патента: RU2463730C2. Автор: ГРАФ Ян ДЕ,ДЕР ЛУББЕ Марселлус Й. Й. ВАН,Даниель А. БЕНУА,Мартинус П. Й. ПЕТЕРС,Эльвира Й. М. ПАУЛЮССЕН,ГРАФ Ян ДЕ (NL),Мартинус П. Й. ПЕТЕРС (NL),ДЕР ЛУББЕ Марселлус Й. Й. ВАН (NL),Эльвира Й. М. ПАУЛЮССЕН (NL),Даниель А. БЕНУА (NL). Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2012-10-10.

Holographic full color data retrieval and projection system

Номер патента: US5011244A. Автор: Ronald T. Smith,Ronald G. Hegg. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1991-04-30.

Holographic full color data retrieval and projection system

Номер патента: CA2002990A1. Автор: Ronald T. Smith,Ronald G. Hegg. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1990-06-16.

Projecting unit and projecting device using the same

Номер патента: US20180196270A1. Автор: Zheng-Rong Zou. Владелец: Inventec Appliances Jiangning Corp. Дата публикации: 2018-07-12.

Wheel and projection device

Номер патента: US20230168570A1. Автор: I-Hua Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-06-01.

Fixing structure and projection apparatus using the same

Номер патента: US20220221679A1. Автор: Ming-Chen Liu,Hung-Lin Lee. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-07-14.

Optical Projection Device and Projecting Method Thereof

Номер патента: US20110032485A1. Автор: Chien-Chih Hsiung. Владелец: Asia Optical Co Inc. Дата публикации: 2011-02-10.

Projecting optical unit and projecting type image display apparatus therewith

Номер патента: US20060227432A1. Автор: Tetsu Ohishi,Koji Hirata,Hiroki Yoshikawa,Naoyuki Ogura,Takanori Hisada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-12.

Interference lens and projection ambient lamp

Номер патента: US11762266B2. Автор: Gang Wang,Yong Huang,Kexian Liu. Владелец: Zhongshan Bo Long Electronic Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Light source system and projection system

Номер патента: US20170019645A1. Автор: Yi Li,Hong Ye,Zeqin Wang. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2017-01-19.

Wheel and projection device

Номер патента: US11953817B2. Автор: I-Hua Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Projection optical system and projection apparatus

Номер патента: US20210003913A1. Автор: Kazuhiko Inoue,Atsuo Masui. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-01-07.

Single panel illumination system and projection display apparatus using the same

Номер патента: US20050286021A1. Автор: Jong Park. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2005-12-29.

Projection Device and Projection System

Номер патента: US20190086784A1. Автор: Chih-Hsien Tsai,Haw-Woei Pan,Yi-Hsuang Weng,Chi-Tang Hsieh,Jo-Han Hsu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Optical assembly and projection devices using the same

Номер патента: EP4336256A1. Автор: Shi-Kai Huang. Владелец: Hong Fu Tai Precision Electrons Yantai Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-13.

Optical assembly and projection devices using the same

Номер патента: US20240080415A1. Автор: Shi-Kai Huang. Владелец: Hong Fu Tai Precision Electrons Yantai Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Wavelength conversion device, light source system and projection system

Номер патента: US20170167710A1. Автор: Yanzheng Xu,Zifeng TIAN,Yusan CHEN,Xiliang WU,Dayan Dai. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2017-06-15.

Projection optical system and projection apparatus

Номер патента: US11409191B2. Автор: Kazuhiko Inoue,Atsuo Masui. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2022-08-09.

Projection device, interface device, and projection method

Номер патента: US20210216001A1. Автор: Satoshi Komatsu,Fujio Okumura,Satoshi KYOSUNA,Hirofumi TSUDA. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

Projection optical system and projection-type image display apparatus using it

Номер патента: US6903881B2. Автор: Tomoyuki Baba. Владелец: Fujinon Corp. Дата публикации: 2005-06-07.

Illumination system and projection apparatus with same

Номер патента: US20150338061A1. Автор: June-Jei Huang. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2015-11-26.

Display processing device and projection type image display device

Номер патента: US20170045809A1. Автор: Jun Nishikawa,Yukihiro Sasazaki. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-02-16.

Mountable clear displays and projection systems

Номер патента: US09971151B1. Автор: Omar Sze Leung,Eric Gifford Marason,Robert Arthur Sprague,Miguel Virgen,Suchit Shreyas Shah. Владелец: Amazon Technologies Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Wavelength conversion device, light source system and projection system

Номер патента: US09897303B2. Автор: Yanzheng Xu,Zifeng TIAN,Yusan CHEN,Xiliang WU,Dayan Dai. Владелец: Appotronics Corp Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Infrared interactive remote control device and projection system using same

Номер патента: US09891440B2. Автор: Yan Huang,Haixiang Wang,Qinglin Na,Haohuang Mai. Владелец: PIQS TECHNOLOGY (SHENZHEN) Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: KR101492266B1. Автор: 노르베르트 바브라,로베르트 에데르. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2015-02-11.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: EP1754110A1. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2007-02-21.

PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE DEVICE

Номер патента: DE602005008591D1. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-09-11.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US8064041B2. Автор: Norbert Wabra,Robert Eder. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-11-22.

Circuit pattern design method,exposure method, charged-particle beam exposure system

Номер патента: US20020010906A1. Автор: Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-01-24.

Illumination optical system, alignment apparatus, and projection exposure apparatus using the same

Номер патента: US5797674A. Автор: Tadashi Nagayama. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-08-25.

Photosensitive resin composition for projection exposure, photosensitive element, method for forming resist pattern, process for producing printed wiring board and process for producing lead frame

Номер патента: US09989854B2. Автор: masakazu Kume,Momoko MUNAKATA. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Photosensitive resin composition for projection exposure, photosensitive element, method for forming resist pattern, process for producing printed wiring board and process for producing lead frame

Номер патента: MY182915A. Автор: KUME Masakazu,MUNAKATA Momoko. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-05.

Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus having a temperature control device

Номер патента: US09523922B2. Автор: Severin Waldis,Florian Bach,Armin Werber,Berndt Warm,Daniel Benz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-12-20.

Mask, exposure method and production method of semiconductor device

Номер патента: US7517618B2. Автор: Shigeru Moriya. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2009-04-14.

Exposure system and exposure method

Номер патента: US6974960B2. Автор: Shinichi Mizuno. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-12-13.

Exposure method for correcting line width variation in a photomask

Номер патента: US20030061595A1. Автор: Won-tai Ki,Seung-hune Yang,Ji-hyeon Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-03-27.

Electron beam exposure method

Номер патента: US20140120475A1. Автор: Masahiro Takizawa,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2014-05-01.

Electron beam exposure method

Номер патента: US20150243482A1. Автор: Masahiro Takizawa,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2015-08-27.

Electron beam exposure method

Номер патента: US9116434B2. Автор: Masahiro Takizawa,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2015-08-25.

Exposure method, manufacturing method of device, and thin film sheet

Номер патента: US20160240423A1. Автор: Kentaro Matsunaga,Kazuhiro Segawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-08-18.

Pre-exposure method for increased sensitivity in high contrast resist development

Номер патента: CA1285418C. Автор: Robert A. Owens,James M. Lewis,Susan A. Ferguson,Roland L. Chin. Владелец: MicroSi Inc. Дата публикации: 1991-07-02.

Exposure method

Номер патента: USH1733H. Автор: Kei Nara,Nobutaka Fujimori,Masaichi Murakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1998-06-02.

Large-size glass substrate for photomask and making method, computer-readable recording medium, and mother glass exposure method

Номер патента: MY142230A. Автор: Yukio Shibano,Shuhei Ueda,Atsushi Watabe,Daisuke Kusabiraki. Владелец: Shinetsu Chemical Co. Дата публикации: 2010-11-15.

Asymmetric uv exposure method

Номер патента: US20240152054A1. Автор: JIANG Liu,Jun Wang,Tengwei HUANG,Jonathan Jiang. Владелец: Flextouch Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Mask, exposure method and production method of semiconductor device

Номер патента: EP1562076A3. Автор: Shigeru Moriya. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2006-05-03.

Exposure system and exposure method

Номер патента: US20050116185A1. Автор: Shinichi Mizuno. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-02.

Wafer edge exposure method, wafer edge exposure device and mask

Номер патента: US20220317582A1. Автор: Chi-Nan Chen. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Multiple exposure method

Номер патента: US20020127889A1. Автор: Jih-Chang Lien. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2002-09-12.

Light pattern exposure method, halftone phase shift mask, and halftone phase shift mask blank

Номер патента: EP2594991A2. Автор: Takashi Haraguchi,Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Yukio Inazuki,Ryuji Koitabashi,Yosuke Kojima,Tomohito Hirose. Владелец: Toppan Printing Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-22.

Electron beam exposure method

Номер патента: US9213240B2. Автор: Masahiro Takizawa,Shinichi Hamaguchi,Masaki Kurokawa. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2015-12-15.

Projection device for irradiating a light to a display device and optically magnifying and projecting a reflection light therefrom

Номер патента: US4818074A. Автор: Takamichi Enomoto,Kenya Yokoi,Takaaki Miyashita,Haruo Iimura,Akihiko Kanemoto,Fuyuhiko Matsumoto,Toru Miyabori,Wasaburo Ohta. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 1989-04-04.

Cloaking devices constructed from reflection boundaries and half-mirrors and vehicles comprising the same

Номер патента: US20190146196A1. Автор: Debasish Banerjee,Kyu-Tae Lee,Songtao Wu,Chengang Ji. Владелец: Toyota Motor Engineering and Manufacturing North America Inc. Дата публикации: 2019-05-16.

Optical scanning device that includes mirrors and optical waveguide region

Номер патента: US20190146209A1. Автор: Akira Hashiya,Yasuhisa Inada,Taku Hirasawa. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-16.

Micro-mirror and micro-mirror array using the same

Номер патента: US8289612B2. Автор: Dae-Hyun Kim,Min-Woo Kim,Jun-Bo Yoon,Jin-Wan Jeon. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2012-10-16.

Micro mirror and micro mirror array using the same

Номер патента: US20090097099A1. Автор: Dae-Hyun Kim,Min-Woo Kim,Jun-Bo Yoon,Jin-Wan Jeon. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2009-04-16.

Delay mirror and delay mirror system

Номер патента: EP4102271A1. Автор: Muneo Sugiura. Владелец: Tokai Optical Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-14.

Projection exposure mask, projection exposure mask manufacturing method, projection exposure apparatus, and projection exposure method

Номер патента: JP4280509B2. Автор: 信義 田中,純二 磯端,和央 飯塚. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-06-17.

Projection exposure mask, projection exposure apparatus, and projection exposure method

Номер патента: US7030962B2. Автор: Nobuyoshi Tanaka,Junji Isohata,Kazuo Iizuka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-04-18.

Projection exposure mask, scan type projection exposure apparatus, and scan type projection exposure method

Номер патента: KR100609943B1. Автор: 이이즈카카즈오,이소하타준지,타나카노부요시. Владелец: 캐논 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-08-08.

Measuring system for the optical measurement of projecting object lens of micro-lithography projection exposure system

Номер патента: CN101833247B. Автор: A·厄尔曼,M·门格尔,U·维格曼,W·埃默,R·克莱门特,L·马蒂杰森. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-11-06.

Projection exposure device and projection exposure method thereof

Номер патента: SG11201810475VA. Автор: Hideto Kotani,Takamasa Oba,Ryowa Tanaka. Владелец: CERMA PRECISION Inc. Дата публикации: 2018-12-28.

In particular an optical system which is an illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: JP5461387B2. Автор: ミハエル トーツェック,トラルフ グルナー,ダミアン フィオルカ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-04-02.

Optical system, in particular illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: KR101450362B1. Автор: 다미안 피올카,토랄프 그루너,미카엘 토트젝크. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-10-14.

Optical system, in particular illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: WO2008119794A1. Автор: Damian Fiolka,Toralf Gruner,Michael Totzeck. Владелец: Carl Zeiss Smt Ag. Дата публикации: 2008-10-09.

Projection objective lens of microlithography projection exposure apparatus

Номер патента: JP5863974B2. Автор: ルドルフ ギュンター,ツェルナー ヨハネス,ビトナー ボリス,ワブラ ノルベルト,フォン ホーデンベルク マルティン,フォン ホーデンベルク マルティン,シュナイダー ソニヤ,シュナイダー リカルダ,ショブ アルネ,グラツケ アレクザンダー,アントン モファット ブライス,アントン モファット ブライス. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2016-02-17.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: KR101693950B1. Автор: 귄터 루돌프,보리스 비트너,리카르다 슈나이더,노르베르트 바브라,요하네스 첼너,마르틴 폰 호덴베르크,조냐 슈나이더,아르네 쇼브,알렉산더 그라츠케,브라이스 안톤 모파트. Владелец: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하. Дата публикации: 2017-01-06.

RETICLE TRANSMITTANCE MEASUREMENT METHOD, PROJECTION EXPOSURE METHOD USING THE SAME, AND PROJECTION EXPOSURE DEVICE

Номер патента: US20170351180A1. Автор: MURATA Michihiro,GOMI Yutaka. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-07.

Projection objective, projection exposure apparatus, and projection exposure method for microlithography

Номер патента: JP5462791B2. Автор: アクセル ゲーネルマイアー,ウルリッヒ レーリンク,ゲルト ライジンガー,フランツ ヨーゼフ シュティッケル,ゾーニャ シュナイダー,ヨハン トレンクラー,シュテファン クラウス,ゴルドン デーリンク. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-04-02.

Projection objective for microlithography, projection exposure apparatus, projection exposure method and optical correction plate

Номер патента: KR101428136B1. Автор: 요한 트렌클러,울리히 뢰링크,게르트 라이징거,프란쯔-요제프 스티켈,손야 쉬나이더,스테판 크라우스,고르돈 되링크,악셀 괴흐너마이어. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-08-07.

Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: TW200831943A. Автор: Johannes Ruoff,Daniel Kraehmer. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2008-08-01.

Mirror for the EUV wavelength range, method for producing such a mirror, and projection exposure apparatus comprising such a mirror

Номер патента: US09696632B2. Автор: Peter Huber,Gisela von Blanckenhagen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-07-04.

Illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US9274435B2. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-03-01.

Optical system, in particular illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: DE102007027985A1. Автор: Damian Fiolka,Nils Dieckmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-06-26.

Process for projection exposure of a workpiece with back alignment marks

Номер патента: US5874190A. Автор: Yoneta Tanaka. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 1999-02-23.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4739373A. Автор: Kenji Nishi,Nobutaka Magome. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-04-19.

Method for operating a projection exposure tool and control apparatus

Номер патента: WO2012031765A2. Автор: Toralf Gruner,Michael Gerhard,Bernd DÖRBRAND. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-03-15.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5272501A. Автор: Kenji Nishi,Naomasa Shiraishi,Saburo Kamiya. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1993-12-21.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5365051A. Автор: Hiroyuki Suzuki,Osamu Furukawa. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1994-11-15.

Illumination system for an EUV projection lithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US09851641B2. Автор: Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-12-26.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4814829A. Автор: Akiyoshi Suzuki,Masao Kosugi,Masao Totsuka,Kazuhito Outsuka,Hideki Ina,Fumio Sakai,Shigeki Ogawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1989-03-21.

Alignment device in an IC projection exposure apparatus

Номер патента: US4390279A. Автор: Kyoichi Suwa. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1983-06-28.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US5323207A. Автор: Hideki Ina. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1994-06-21.

Projection exposure apparatus

Номер патента: US4758864A. Автор: Kazumasa Endo,Yasuhisa Matsumoto. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1988-07-19.

Exposure method for correcting dimension variation in electron beam lithography, and recording medium for recording the same

Номер патента: US20030027064A1. Автор: Won-tai Ki. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-02-06.

Exposure methods using e-beams and methods of manufacturing masks and semiconductor devices therefrom

Номер патента: US09671686B2. Автор: Sang-Hee Lee,Jin Choi,In-kyun Shin,Byoung-Sup Ahn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-06-06.

Exposure method using electron beam and substrate manufacturing method using the same

Номер патента: US09709893B2. Автор: SHUICHI TAMAMUSHI,Jin Choi,Inkyun Shin,So-Eun Shin,Sook Hyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-18.

Circuit pattern exposure method and mask

Номер патента: US20070160918A1. Автор: Tadao Yasuzato,Nobue Kosa. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2007-07-12.

Resist material and exposure method

Номер патента: US20030128802A1. Автор: Nobuyuki Matsuzawa. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2003-07-10.

Method of producing mask data for partial one-shot transfer exposure and exposure method

Номер патента: GB2363643A. Автор: Kenichi Kawakami. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2002-01-02.

Exposure mask, method of manufacturing the same, and exposure method using the same

Номер патента: US5234780A. Автор: Makoto Nakase,Akihiro Nitayama,Kouji Hashimoto,Hirotsugu Wada. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Phase shift mask, and exposure method and device manufacturing method using the same

Номер патента: US20040053144A1. Автор: Kenji Yamazoe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-03-18.

Pattern exposure method and apparatus

Номер патента: US6653644B1. Автор: Ken Nakajima. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2003-11-25.

Exposure method and apparatus

Номер патента: US7106419B2. Автор: Hideki Ina. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-09-12.

Z-stage with dynamically driven stage mirror and chuck assembly

Номер патента: US20130176548A1. Автор: Marek Zywno,Salam Harb,Kent Douglas,James Haslim,Jon Hamilton. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2013-07-11.

Catadioptric Projection Objective With Intermediate Images

Номер патента: US20150205084A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Epple Alexander,Dodoc Aurelian. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-23.

Projection lens, projection exposure apparatus and projection exposure method

Номер патента: WO2023144099A1. Автор: Alexander Epple. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-08-03.

Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography

Номер патента: TW201028799A. Автор: Tilmann Heil,Paul Graeupner,Heiko Feldmann,Joerg Zimmermann,Ulrich Gebhardt. Владелец: Zeiss Carl Smt Ag. Дата публикации: 2010-08-01.

Projection exposure apparatus and exposure method

Номер патента: TW512257B. Автор: Gerhard Fürter. Владелец: Zeiss Stiftung. Дата публикации: 2002-12-01.

Projection exposure method and projection exposure

Номер патента: TWI353490B. Автор: Tilmann Heil,Paul Graeupner,Heiko Feldmann,Joerg Zimmermann,Ulrich Gebhardt. Владелец: Zeiss Carl Smt Gmbh. Дата публикации: 2011-12-01.

Projection objective for microlithography, microlithography projection exposure apparatus having the projection objective, microlithography manufacturing method for components, and components manufactured using the method

Номер патента: JP4968558B2. Автор: ミハエル トーツェック,アクセル ゲーネルマイアー,ダニエル クレーマー,ウラディミル カメノフ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2012-07-04.

METHOD FOR IMPROVING AN OPTICAL IMAGING PROPERTY OF A PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20130114056A1. Автор: Graeupner Paul. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-09.

PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20140185024A1. Автор: Wabra Norbert,Zellner Johannes,Rudolph Guenter,Bittner Boris,MOFFAT Bryce Anton,GRATZKE Alexander,Schneider Sonja,Schneider Ricarda,von Hodenberg Martin,Schob Arne. Владелец: . Дата публикации: 2014-07-03.

Method for improving an optical imaging property of a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: US8237915B2. Автор: Paul Graeupner. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-08-07.

Projection objective for a microlithographic projection exposure apparatus

Номер патента: CN100592210C. Автор: S·贝德,W·辛格,B·尼尔,N·瓦布拉,T·格鲁纳,A·艾普勒. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2010-02-24.

A scanning type exposure apparatus, a scanning type exposure method, and a projection exposure apparatus

Номер патента: KR970012020A. Автор: 다니구찌 데스오. Владелец: 니콘 가부시키가이샤. Дата публикации: 1997-03-29.

Microlithographic exposure method as well as a projection exposure system for carrying out the method

Номер патента: US7408616B2. Автор: Johannes Wangler,Damian Fiolka,Aksel Goehnermeier,Markus Brotsack,Toralf Gruner,Daniel Kraehmer,Michael Totzeck,Nils Dieckmann,Markus Schwab,Markus Zenzinger. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-08-05.

Deflection mirror arrangement for optical measurement apparatus having drive unit between parallel transmitting mirrors and corresponding optical measurement apparatus

Номер патента: US09964758B2. Автор: Heiner Bayha,Thomas Schuler,Peter Horvath. Владелец: VALEO SCHALTER UND SENSOREN GMBH. Дата публикации: 2018-05-08.

Layout of deflecting mirrors for optic measuring device and corresponding measuring device

Номер патента: RU2564044C2. Автор: Петер ХОРВАТ,Хайнер БАЙХА,Томас ШУЛЕР. Владелец: Валео Шальтер Унд Сенсорен Гмбх. Дата публикации: 2015-09-27.

Optical deflecting mirror device having figure "8"-shaped rib and optical deflector

Номер патента: US20150077824A1. Автор: Yoshiaki Yasuda. Владелец: Stanley Electric Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-19.

Resonant mirror and method of manufacture

Номер патента: CA2084946C. Автор: William E. Nelson. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2003-03-18.

Deflection mirror and device for laser inscribing with the deflection mirror unit

Номер патента: SG176388A1. Автор: Kreuter Ruediger. Владелец: Nanosec Ges Fuer Nanotechnologie In Der Sicherheitstechnik Mbh. Дата публикации: 2011-12-29.

Apparatus and method for fabricating a deflection mirror tower

Номер патента: US5872663A. Автор: Amit Jain,Neville K. Lee,Roy E. Martin. Владелец: Quantum Corp. Дата публикации: 1999-02-16.

Laser COM with line deflection mirror inertia compensation

Номер патента: US4190867A. Автор: Masahiro Ohnishi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1980-02-26.

Apparatus and method for fabricating a deflection mirror tower

Номер патента: US5790327A. Автор: Amit Jain,Neville K. Lee,Roy E. Martin. Владелец: Quantum Corp. Дата публикации: 1998-08-04.

Projection optical system and projection exposure device which uses same

Номер патента: US6813088B2. Автор: Ryoko Otomo. Владелец: Fuji Photo Optical Co Ltd. Дата публикации: 2004-11-02.

Individual mirror of a pupil facet mirror and pupil facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus

Номер патента: WO2024052170A1. Автор: Markus Hauf,Martin Endres,Stefan Lippoldt. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-14.

Optical fiber, optical fiber scanner and projection apparatus

Номер патента: US11789257B2. Автор: CHAO Chen,Jiazhou Wang,Dawei Shen. Владелец: Chengdu Idealsee Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Optical fiber scanner and projection apparatus

Номер патента: US20220197017A1. Автор: CHAO Chen,Jiazhou Wang,Dawei Shen. Владелец: Chengdu Idealsee Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Monitoring of objects comprising switched optical devices and controllers

Номер патента: RU2684751C2. Автор: Дхайрия ШРИВАСТАВА,Стефен С. БРАУН,Виджай МАНИ. Владелец: Вью, Инк.. Дата публикации: 2019-04-12.

Backlight module, display screen, rearview mirror, and vehicle

Номер патента: US20240264359A1. Автор: Tao Liu,YU SONG,Hui Dong,Qiang Zhang,Haifeng Xu,Xiaojun Wu,Jinfeng Zhang,Wenda Yang. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Object comprising a region of its surface suitable for showing a plurality of images

Номер патента: US09682591B2. Автор: Julián Zamorano de Blas. Владелец: Fabrica Nacional de Moneda y Timbre. Дата публикации: 2017-06-20.

Luminescent object comprising aligned polymers having a specific pretilt angle

Номер патента: EP1854151B1. Автор: Michael J. Escuti,Carlos Universidad de Zaragoza SANCHEZ,M.G. Polymer Technology DEBIJE,C.W.M. Polymer Technology BASTIAANSEN,Dick J. Polymer Technology BROER. Владелец: Stichting voor de Technische Wetenschappen STW. Дата публикации: 2009-07-15.

Mirror and cabinet apparatus

Номер патента: EP4119841A1. Автор: Alexander LeTourneau,Douglas Diemel,Sandeep Pawar. Владелец: Kohler Co. Дата публикации: 2023-01-18.

Cloaking devices with fresnel mirrors and plane mirrors and vehicles comprising the same

Номер патента: US20200150321A1. Автор: Debasish Banerjee,Kyu-Tae Lee,Chengang Ji. Владелец: Toyota Motor Engineering and Manufacturing North America Inc. Дата публикации: 2020-05-14.

Safe and unbreakable pet film mirrors and preparation methods thereof

Номер патента: US20220091311A1. Автор: Robert Lee. Владелец: Shanghai Brisafe Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-24.

Mirror and cabinet apparatus

Номер патента: US12130004B2. Автор: Douglas J. Diemel, JR.,Alexander V. LeTourneau,Sandeep Pawar. Владелец: Kohler Co. Дата публикации: 2024-10-29.

Microscopy imaging structure with phase conjugated mirror and the method thereof

Номер патента: US09689797B2. Автор: Szu-Yu Chen,Ching-Cherng Sun,Yeh-Wei Yu,Che-Chu LIN. Владелец: National Central University. Дата публикации: 2017-06-27.

Optical device including movable mirror and first light passage

Номер патента: US12031863B2. Автор: Tatsuya Sugimoto,Tomofumi Suzuki,Kyosuke KOTANI. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2024-07-09.

Semitransparent mirror and methods for producing and operating such a mirror

Номер патента: US20040223243A1. Автор: Horst Theuss. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2004-11-11.

Molded dichroic mirror and method of manufacture thereof

Номер патента: US20140247479A1. Автор: Byron B. Taylor,W. Howard Poisl. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2014-09-04.

Vibrating mirror, optical scanner using vibrating mirror, and image reproducing and forming apparatus

Номер патента: US20050030606A1. Автор: Tomohiro Nakajima. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2005-02-10.

Display device comprising a depth perception adjusting unit that includes a directional mirror and a reflective polarizer

Номер патента: US09823485B2. Автор: Hee Seung Kim,Soo Yong Jung,Sei Hyoung Lee,Hyun Seo Kang. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2017-11-21.

Molded dichroic mirror and method of manufacture thereof

Номер патента: US09618756B2. Автор: Byron B. Taylor,W. Howard Poisl. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2017-04-11.

Device for adjusting curvature of mirror while avoiding movement of central point of mirror, and mirror adjustment system comprising same

Номер патента: US09435999B2. Автор: Kye Hwan Gil. Владелец: Academy Industry Foundation of POSTECH. Дата публикации: 2016-09-06.

Object comprising a region of its surface suitable for showing a plurality of images

Номер патента: CA2852605C. Автор: Julián Zamorano de Blas. Владелец: Fabrica Nacional de Moneda y Timbre. Дата публикации: 2017-12-05.

A hand mounted mirror and indicator device

Номер патента: GB2565792A. Автор: Stephen Tolley Paul. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-02-27.

Multifaceted mirror and assembly fixture and method of making such mirror

Номер патента: US4277141A. Автор: Joseph P. Kleiber. Владелец: Tropel Inc. Дата публикации: 1981-07-07.

Array of electrodisplacive actuated mirrors and method for the manufacture thereof

Номер патента: US5552923A. Автор: Yong-Ki Min. Владелец: Daewoo Electronics Co Ltd. Дата публикации: 1996-09-03.

Device for adjusting the magnification of a flexible mirror and a method of making the same

Номер патента: US5291337A. Автор: Jeff Greger,Charles Geltz. Владелец: Zenith Products Corp. Дата публикации: 1994-03-01.

Unidirectional perspective film, single-sided mirror and preparation method therefor, and electronic device

Номер патента: AU2022333104A1. Автор: YUAN Li,Chao Li,Yuyang Liu,Jihou WANG,Xinhai PENG. Владелец: BYD Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Deformable mirror and capacitive actuator array controller

Номер патента: US20170371106A1. Автор: Pedro Godoy Cruz. Владелец: Conquerab Inc. Дата публикации: 2017-12-28.

Deformable mirror and capacitive actuator array controller

Номер патента: US10509176B2. Автор: Pedro Godoy Cruz. Владелец: Teilch LLC. Дата публикации: 2019-12-17.

Dimming mirror and method for manufacturing same, and dimming apparatus

Номер патента: US20210124193A1. Автор: Yanzhao Li,Yongchun Tao,Jingwen GUO. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Fast steering monolithic dual axis mirror and method for manufacturing

Номер патента: US11822146B2. Автор: Richard Joseph Ready. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 2023-11-21.

Film mirror and process for production thereof, and reflection device for solar power generation purposes

Номер патента: EP2518535A4. Автор: Shuji Murakami. Владелец: Konica Minolta Advanced Layers Inc. Дата публикации: 2013-08-14.

Polygon mirror and method of manufacturing the same, optical scanner and electrophotograph

Номер патента: US20050002077A1. Автор: Hideyuki Hatakeyama,Yasuhiro Matsuo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2005-01-06.

Thermoplastic resin substrate for curved mirror and method for preparing the same

Номер патента: US20230104677A1. Автор: JIA Yang,Tianxiao Ren,Yuelin Shi. Владелец: Covestro Deutschland AG. Дата публикации: 2023-04-06.

Tunable fabry-perot cavity device having movable mirror and manufacturing method therefor

Номер патента: US20230324670A1. Автор: Bin Guo,Jinbiao Huang. Владелец: Shenzhen Hypernano Optics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Dichroic mirror and shortpass filter for in-situ reflectometry

Номер патента: US20240141551A1. Автор: TAO Sheng,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Khokan C. PAUL. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Mirror support for a composite optical mirror and method for its production

Номер патента: US11971605B2. Автор: Stefan Risse,Jan KINAST. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2024-04-30.

Unidirectional perspective film, single-sided mirror and preparation method therefor, and electronic device

Номер патента: EP4345516A1. Автор: YUAN Li,Chao Li,Yuyang Liu,Jihou WANG,Xinhai PENG. Владелец: BYD Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-03.

Exposure method for color filter substrate

Номер патента: US20120300323A1. Автор: Keiichi Tanaka,Takenori Yoshizawa,Kohei Matsui,Ryosuke Yasui. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2012-11-29.

Intelligent mirror and intelligent mirror awakening method

Номер патента: US20240054808A1. Автор: Dianmeng Li. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Waveguide mirror and method of fabricating a waveguide mirror

Номер патента: WO2019185928A1. Автор: John Paul Drake,Damiana Lerose,Amit Singh Nagra,Henri NYKÄNEN,Evie KHO,Sanna Leena MÄKELÄ. Владелец: Rockley Photonics Limited. Дата публикации: 2019-10-03.

Smart mirror and hidden compartment assembly for a vehicle

Номер патента: US20210114523A1. Автор: William Rodriguez,John Bullock,Stephen Spencer,Joshua Tatum. Владелец: Gulfstream Aerospace Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Polygon mirror and method of manufacturing the same, optical scanner and electrophotograph

Номер патента: US20020080503A1. Автор: Hideyuki Hatakeyama,Yasuhiro Matsuo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-27.

Polygon mirror and method of manufacturing the same, optical scanner and electrophotograph

Номер патента: US6648482B2. Автор: Hideyuki Hatakeyama,Yasuhiro Matsuo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2003-11-18.

Varifocal mirror and camera module comprising the same

Номер патента: US20080225419A1. Автор: Chang-Hyeon Ji,Jong-Uk Bu,Sang-Cheon Kim,Hee-Jong Moon. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2008-09-18.

Waveguide mirror and method of fabricating a waveguide mirror

Номер патента: US20200264372A1. Автор: John Paul Drake,Damiana Lerose,Amit Singh Nagra,Henri NYKÄNEN,Evie KHO,Sanna Leena MÄKELÄ. Владелец: Rockley Photonics Ltd. Дата публикации: 2020-08-20.

Waveguide mirror and method of fabricating a waveguide mirror

Номер патента: US20190302366A1. Автор: John Paul Drake,Damiana Lerose,Amit Singh Nagra,Henri NYKÄNEN,Evie KHO,Sanna Leena MÄKELÄ. Владелец: Rockley Photonics Ltd. Дата публикации: 2019-10-03.

Dichroic mirror and shortpass filter for in-situ reflectometry

Номер патента: WO2024091416A1. Автор: TAO Sheng,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Khokan C. PAUL. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Polygon mirror and mems interconnect with multiple turns

Номер патента: US11604263B2. Автор: Michael Girgel,Ronen ESHEL. Владелец: INNOVIZ TECHNOLOGIES LTD. Дата публикации: 2023-03-14.

Monolithic mirror and method for designing same

Номер патента: EP4248246A1. Автор: Antonio Ignacio LUQUE LOPEZ. Владелец: Silbat Energy Storage Solutions SL. Дата публикации: 2023-09-27.

Monolithic mirror and method for designing same

Номер патента: US20230418051A1. Автор: Antonio Ignacio LUQUE LOPEZ. Владелец: Silbat Energy Solutions SL. Дата публикации: 2023-12-28.

Fiber optic conduit for conveying and projecting laser light

Номер патента: CA1317578C. Автор: Edwin W. Morley,Harry M. Assenheim. Владелец: AlliedSignal Inc. Дата публикации: 1993-05-11.

Stereoscopic viewing and projection system

Номер патента: US4422720A. Автор: Elliot A. Rudell,David M. Sheiman. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-12-27.

Projection lens, and projection display apparatus and rear projection display apparatus using the projection lens

Номер патента: CA2540516C. Автор: Mitsuhiro Wada. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-02-09.

Imaging Assembly, Illumination and Projection Apparatus, and Courtesy Lamp

Номер патента: US20230168465A1. Автор: Yi Sun,Jianfeng YANG,Xingxu Zhang,Chen Tu,Qinghong Ma. Владелец: Huizhou Star Poly Yu Intelligent Technololgy Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Projection module and signalling and projection assembly

Номер патента: EP4321797A1. Автор: Ernest Corull Massana,Juan Carlos Moron Morte,Xavier Pique Cosconera. Владелец: SEAT SA. Дата публикации: 2024-02-14.

Catadioptric projection objective with pupil mirror, projection exposure apparatus and method

Номер патента: KR101367074B1. Автор: 알렉산더 에플레. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2014-02-24.

Projection exposure apparatus, projection exposure method and method of manufacturing the projection exposure apparatus

Номер патента: US20020180942A1. Автор: Kenji Suzuki,Takashi Mori. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-12-05.

Reticle for projection exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: TW200947109A. Автор: Daisuke Okano. Владелец: Seiko Instr Inc. Дата публикации: 2009-11-16.

Projection exposure apparatus or projection exposure method, device manufacturing method using the projection exposure method, and device manufactured by the device manufacturing method

Номер патента: JP3068785B2. Автор: 恭一 諏訪,敏男 松浦,一明 鈴木,宏一 松本. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-07-24.

Illumination apparatus, projection exposure apparatus including the illumination apparatus, projection exposure method using the illumination apparatus, and adjustment method of the projection exposure apparatus

Номер патента: JP4065923B2. Автор: 秀基 小松田. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-03-26.

Mask and projection exposure method

Номер патента: US5633101A. Автор: Yuji Imai. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1997-05-27.

PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20150055109A1. Автор: Wabra Norbert,Eder Robert. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-26.

PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20160195817A1. Автор: Mann Hans-Juergen,FREIMANN Rolf,ENKISCH Hartmut,MUELLENDER Stephan. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-07.

PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20170227853A1. Автор: Wabra Norbert,Eder Robert. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-10.

METHOD OF OPERATING A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND PROJECTION OBJECTIVE OF SUCH AN APPARATUS

Номер патента: US20140327892A1. Автор: Bittner Boris,Walter Holger. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-06.

PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20160282729A1. Автор: Wabra Norbert,Eder Robert. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-29.

Optical assembly, projection exposure apparatus and projection objective

Номер патента: US20080316621A1. Автор: Markus Hauf,Ole Fluegge,Jochen Weber,Erich Merz,Kai-Uwe Berroth,Cornelia Buehler. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2008-12-25.

Projection exposure apparatus, projection exposure method, optical cleaning method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US6492649B1. Автор: Masahiro Nei,Taro Ogata. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-12-10.

Optical system, in particular illumination device or projection objective for a microlithography projection exposure apparatus

Номер патента: JP4421604B2. Автор: パツィディス アレクサンドラ,ツァチェク クリストフ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー. Дата публикации: 2010-02-24.

Mask for microlithography and scanning projection exposure method utilizing the mask

Номер патента: US09423686B2. Автор: Markus Deguenther,Michael Patra. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-08-23.

Projection exposure method

Номер патента: US20090244504A1. Автор: Masaki Satake,Kazuya Fukuhara,Yosuke Kitamura,Shoji Mimotogi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-10-01.

Projection exposure apparatus for microlithography comprising an optical distance measurement system

Номер патента: US09759550B2. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-09-12.

Projection exposure apparatus for microlithography comprising an optical distance measurement system

Номер патента: WO2014012641A2. Автор: Toralf Gruner,Joachim Hartjes,Markus Schwab,Alexander Wolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-01-23.

Means for operating mirror and diaphragm preset device in a single lens reflex camera

Номер патента: US3829872A. Автор: H Ueda,K Nishitani. Владелец: Minolta Co Ltd. Дата публикации: 1974-08-13.

Exposure method

Номер патента: US20070081137A1. Автор: Chun-Yu Lin. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2007-04-12.

Photoemission monitoring of EUV mirror and mask surface contamination in actinic EUV systems

Номер патента: US09453801B2. Автор: LI Wang,Daimian WANG,Yanwei Liu,Alan Michael Aindow. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Light source device and projection device

Номер патента: US20230088006A1. Автор: Takeshi Miyazaki. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-23.

Light source device for emitting white light and projection display device using the same

Номер патента: US09500937B2. Автор: Takaaki Tanaka. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Improvements in and relating to Mirrors and Screens for use in connection with Advertising, Entertaining or like purposes.

Номер патента: GB190901166A. Автор: . Владелец: ZOTOS Ltd. Дата публикации: 1909-09-30.

SLR Mirror and shutter rebound prevention mechanism

Номер патента: US4245904A. Автор: Mitsuo Satoh. Владелец: Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1981-01-20.

Light source device and projection display device

Номер патента: US20140293232A1. Автор: Takaaki Tanaka. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2014-10-02.

Repositioning system for viewing and projection elements of a reproducing apparatus

Номер патента: CA1096434A. Автор: Paul Weinstein. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1981-02-24.

Improvements in or relating to Means for Taking and Projecting Images in Natural Colours.

Номер патента: GB191424276A. Автор: Louis Tissier. Владелец: Individual. Дата публикации: 1915-12-20.

Means for taking and projecting still or motion pictures in relief

Номер патента: GB399045A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1933-09-28.

Motion picture processing and projection system employing multipurpose cassette

Номер патента: US3597062A. Автор: Rogers B Downey. Владелец: Polaroid Corp. Дата публикации: 1971-08-03.

Projection method and projection apparatus

Номер патента: US20220053172A1. Автор: Zhiqiang Gao,Steve Yeung,Mingnei Ding,Wenxiang Li. Владелец: Iview Displays Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-17.

Display system and display method using imaging apparatus and projection video display apparatus

Номер патента: US20220191444A1. Автор: Ryosuke Nakagoshi. Владелец: JVCKenwood Corp. Дата публикации: 2022-06-16.

Projection method, projection device, and projection system

Номер патента: US11803109B2. Автор: Tetsuya Nishi,Yuki Hayashi,Keisuke Hara. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Projection device and projection method thereof

Номер патента: US20200244938A1. Автор: Jian-Jiun Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-07-30.

Projection adjustment program and projection adjustment method

Номер патента: US11743437B2. Автор: Ken Mashitani,Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Projection control method and projection control device

Номер патента: US20230353714A1. Автор: Ken Mashitani,Chiharu TSUBOTA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Projection system and projection method

Номер патента: US11506966B2. Автор: Chia-Keng Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-11-22.

Projection system and projection method

Номер патента: US20220082919A1. Автор: Chia-Keng Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2022-03-17.

Projection adjustment program and projection adjustment method

Номер патента: US20220360754A1. Автор: Ken Mashitani,Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Method and apparatus configured for combined vibratory and projection fuctions

Номер патента: US20170006267A1. Автор: Jiri Slaby,William R. Groves,Jason P. Wojack,David K. Lim. Владелец: MOTOROLA MOBILITY LLC. Дата публикации: 2017-01-05.

Motion picture processing and projection system employing multi-purpose cassette

Номер патента: US3782262A. Автор: R Downey. Владелец: Polaroid Corp. Дата публикации: 1974-01-01.

Light source heat-dissipating device and projection apparatus

Номер патента: US20200272037A1. Автор: Tsung-Ching Lin,Wen-Jui Huang,Chun-Lung Yen,Te-Tang Chen. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-08-27.

Projection system, projection device, and projection method

Номер патента: US20210235052A1. Автор: Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Projection system, projection device, and projection method

Номер патента: EP3796646A1. Автор: Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-24.

Projection system, projection adjustment program, and projection method

Номер патента: US11962947B2. Автор: Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Internal device for projecting images on polyhedrons with polarizable crystal faces and projection method

Номер патента: AU2003254514A1. Автор: Alfredo Gonzalez Colunga. Владелец: Mana Visual Audio S L. Дата публикации: 2004-02-25.

Projection system, projection adjustment program, and projection method

Номер патента: US20210274139A1. Автор: Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-02.

Color separation and synthesis systems, color separation systems and color synthesis systems, illumination optical systems, projection optical systems, and projection display devices using these systems

Номер патента: US7621642B2. Автор: Chikara Yamamoto. Владелец: Fujinon Corp. Дата публикации: 2009-11-24.

Display system and display method using imaging apparatus and projection video display apparatus

Номер патента: US12022242B2. Автор: Ryosuke Nakagoshi. Владелец: JVCKenwood Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Projection device and projection system

Номер патента: US12018803B2. Автор: BIN Li,Hai Huang,Jie Gao,Kun Xiao. Владелец: Savant Technologies Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Motion picture processing and projection system employing multi-purpose cassette

Номер патента: US3809104A. Автор: R Downey. Владелец: Polaroid Corp. Дата публикации: 1974-05-07.

Hybrid telecom network-structured architecture and system for digital image distribution, display and projection

Номер патента: WO2009103083A9. Автор: Sutherland Ellwood. Владелец: Photonica, Inc.. Дата публикации: 2010-11-25.

Projection device and projection system

Номер патента: US20230235867A1. Автор: BIN Li,Hai Huang,Jie Gao,Kun Xiao. Владелец: Savant Technologies Inc. Дата публикации: 2023-07-27.

Hybrid telecom network-structured architecture and system for digital image distribution, display and projection

Номер патента: WO2009103083A1. Автор: Sutherland Ellwood. Владелец: Photonica, Inc.. Дата публикации: 2009-08-20.

Heat conduction unit for light valve and projection device

Номер патента: US20240288757A1. Автор: Xianxiong Zhu,Chunrong Fan,Changzheng Xu. Владелец: Shenzhen Kejinming Electronic Co ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Method and apparatus for photographing and projecting moving images

Номер патента: EP2419791A1. Автор: Douglas H. Trumbull,Barnaby Jackson. Владелец: Showscan Digital LLC. Дата публикации: 2012-02-22.

Digital cinema projection method, optimization device and projection system

Номер патента: US09769466B2. Автор: Wei He,Minjie Lin. Владелец: CHINA FILM DIGITAL GIANT SCREEN (BEIJING) Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Hybrid telecom network-structured architecture and system for digital image distribution, display and projection

Номер патента: US09584778B2. Автор: Sutherland C. Ellwood, Jr.. Владелец: Photonica Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20160274343A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Dodoc Aurelian,Beder Susanne,Singer Wolfgang,Shafer David R.,Von Buenau Rudolf Murai. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-22.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20130242279A1. Автор: Epple Alexander,Gruner Toralf,KAMENOV Vladimir,SCHICKETANZ Thomas. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-19.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH PUPIL CORRECTION

Номер патента: US20140300957A1. Автор: Dodoc Aurelian. Владелец: . Дата публикации: 2014-10-09.

Catadioptric projector,catadioptric projection system and process

Номер патента: IL93922A0. Автор: . Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1990-12-23.

Electrochromic mirror and room mirror module for vehicle comprising the same

Номер патента: US09494840B2. Автор: Sang Young Park. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Electrode plate having a metal mesh pattern, and electrochromic plate, electrochromic mirror and display device using the same

Номер патента: US09857656B2. Автор: Young Dae Seo,Joo Hyun Hwang,Hyo Won Son. Владелец: LG Innotek Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Scanner including a switchable mirror and method for using same

Номер патента: US09842236B2. Автор: Steven Joel Hammer. Владелец: NCR Corp. Дата публикации: 2017-12-12.

Pixel structure and exposure method thereof

Номер патента: US20050146647A1. Автор: Seok-Lyul Lee,Po-Sheng Shih. Владелец: Hannstar Display Corp. Дата публикации: 2005-07-07.

Pixel Structure and Exposure Method Thereof

Номер патента: US20080013006A1. Автор: Seok-Lyul Lee,Po-Sheng Shih. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-01-17.

Electrochromic mirrors and other electrooptic devices

Номер патента: US09740074B2. Автор: Juan Carlos Lopez Tonazzi,Anoop Agrawal,John P. Cronin. Владелец: AJJER LLC. Дата публикации: 2017-08-22.

Exposure apparatus and exposure method using the same

Номер патента: US09733523B2. Автор: Tae-Jin Kim,Min-Soo Kim,Yeon-Jae LEE,Hee-Chang YANG,Eun-Ho JUNG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Electrochromic mirrors and devices

Номер патента: US5668663A. Автор: Ian A. Mccabe,Hamid Habibi,Desaraju V. Varaprasad,Niall R. Lynam. Владелец: Donnelly Corp. Дата публикации: 1997-09-16.

Electrochromic mirrors and devices

Номер патента: US5724187A. Автор: Ian A. Mccabe,Hamid Habibi,Desaraju V. Varaprasad,Niall R. Lynam,Mingtang Zhao,Craig A. Dornan. Владелец: Donnelly Corp. Дата публикации: 1998-03-03.

Switchable mirrors and retarders based on imbibed nano-column films

Номер патента: US20020154261A1. Автор: John Kralik. Владелец: AGILENT TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2002-10-24.

RETICLE TRANSMITTANCE MEASUREMENT METHOD, PROJECTION EXPOSURE DEVICE, AND PROJECTION EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20160091391A1. Автор: MURATA Michihiro,GOMI Yutaka. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-31.

Vehicle optical measuring apparatus having a deflection mirror arrangement, driver assistance device having such a measuring apparatus, and vehicle having a corresponding measuring apparatus

Номер патента: US09575181B2. Автор: Heiner Bayha,Jens Nicolai,Peter Horvath. Владелец: VALEO SCHALTER UND SENSOREN GMBH. Дата публикации: 2017-02-21.

Controlling project contribution, initiation, and/or distribution through data structuring of a contingent project object

Номер патента: US20240070789A1. Автор: Peter Jenson. Владелец: Neon Wind Ventures LLC. Дата публикации: 2024-02-29.

Method of printing a three-dimensional object comprising a plurality of discrete elements

Номер патента: US20230052977A1. Автор: Lior ELGALI,Naftali Emanuel EDER. Владелец: Stratasys Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Computer implemented method for the detection of defects in an imaging dataset of an object comprising integrated circuit patterns, computer-readable medium, computer program product and a system making use of such methods

Номер патента: WO2024160623A1. Автор: Jagdish Saraswatula,Alexander Freytag,Anna Alperovich,Bjoern FROEHLICH,Bjoern BARZ. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-08-08.

Method for providing adapted positioning information towards at least one consuming application regarding a plurality of objects comprising at least one specific object, system or telecommunications network for providing adapted positioning information, positioning information consuming application, program and computer-readable medium

Номер патента: EP4033727A1. Автор: Arndt Kadelka. Владелец: DEUTSCHE TELEKOM AG. Дата публикации: 2022-07-27.

Method for analysing an object comprising several superposed layers, by optical reflectance measurements

Номер патента: US20240210316A1. Автор: Anne Planat-Chretien. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2024-06-27.

Card-like object comprising a data-handling circuit

Номер патента: WO2001082220A1. Автор: Eric Codeville. Владелец: Schlumberger Systemes. Дата публикации: 2001-11-01.

Electronic device, method, and non-transitory computer-readable storage medium for displaying visual object comprising integrated information of plurality of electronic tickets

Номер патента: US20240312258A1. Автор: Sungman KIM,Chaekyung Lee,Leebin Kim,Choonsoo LIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-19.

Magneto-resistance effect element bar exposure method, magneto-resistance effect element bar formation method and magneto-resistance effect element bar

Номер патента: US20040160704A1. Автор: Tetsuya Kuwashima,Noriaki Kasahara,Hitoshi Hatate,Tsuneo Kagotani,Teruyo Kagotani. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2004-08-19.

Image exposure method and device, unmanned aerial vehicle

Номер патента: US12069376B2. Автор: Zhaozao Li. Владелец: Autel Robotics Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Michelson interferometer with oscillating mirrors and fourier spectrometer based thereon

Номер патента: RU2580211C2. Автор: Сергей Петрович Палто,Артур Рубенович Гейвандов,Виктор Сергеевич Палто. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Фурье фотоникс". Дата публикации: 2016-04-10.

Systems and methods for mirroring and transcoding media content

Номер патента: CA3241184A1. Автор: Jean-Francois Benjamin Grasset. Владелец: Rovi Guides Inc. Дата публикации: 2009-01-15.

Posture analysis system using smart mirror and camera

Номер патента: US20240119623A1. Автор: Mi Jin Kim,Jin wook Choi,Kyoung Dong Kim. Владелец: Mda Co ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Method, apparatus, and program for providing hybrid disk mirroring and striping

Номер патента: EP1399820A2. Автор: Jeffrey Jones,Douglas Rothert. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Mirrors, methods of fabricating mirrors, and fabry-pérot resonator

Номер патента: WO2024123386A2. Автор: Scott DIDDAMS,Prashanta KHAREL,Peter Rakich,Franklyn Quinlan. Владелец: Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of Commerce. Дата публикации: 2024-06-13.

Mirrors, methods of fabricating mirrors, and fabry-pérot resonator

Номер патента: WO2024123386A3. Автор: Scott DIDDAMS,Prashanta KHAREL,Peter Rakich,Franklyn Quinlan. Владелец: Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of Commerce. Дата публикации: 2024-08-29.

Integrated circuit for mirroring and amplifying a sensing current and operation method thereof

Номер патента: US09697904B2. Автор: Sung-Hoon AHN. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Card-like object comprising a data-handling circuit

Номер патента: EP1277169A1. Автор: Eric Codeville. Владелец: Schlumberger Systemes SA. Дата публикации: 2003-01-22.

Card-like object comprising a data-handling circuit

Номер патента: EP1277169B1. Автор: Eric Codeville. Владелец: Schlumberger Systemes SA. Дата публикации: 2003-09-10.

Separating a hybrid asymmetric mix of a RAID 1 mirror and a parity-based RAID array

Номер патента: US09740440B2. Автор: Gary D. Cudak,Lydia M. Do,Christopher J. Hardee,Adam Roberts. Владелец: Lenovo Enterprise Solutions Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Generation of a modified 3d image of an object comprising tool marks

Номер патента: CA2786818C. Автор: Danny Roberge,Benoit Perron,Alain Beauchamp. Владелец: ULTRA ELECTRONICS FORENSIC TECHNOLOGY Inc. Дата публикации: 2015-06-23.

Computer Implemented Method For Designing A Three-Dimensional Modeled Object Comprising A Curve And A Point Placed On The Curve

Номер патента: US20170221275A1. Автор: Laurent Bianchi,Pierre Voirin. Владелец: Dassault Systemes SE. Дата публикации: 2017-08-03.

Computer implemented method for designing a three-dimensional modeled object comprising a curve and a point place on the curve

Номер патента: US10497183B2. Автор: Laurent Bianchi,Pierre Voirin. Владелец: Dassault Systemes SE. Дата публикации: 2019-12-03.

Portable object comprising a rotating control stem whose actuation is detected by measuring magnetic induction

Номер патента: US20180157218A1. Автор: Pascal Meyer,Pascal Lagorgette,Raphaël Balmer,Vittorio ZANESCO,Damien Schmutz. Владелец: ETA SA Manufacture Horlogere Suisse. Дата публикации: 2018-06-07.

Position detection method and apparatus, exposure method, projection exposure apparatus, and element manufacturing method

Номер патента: JP3298212B2. Автор: 正紀 加藤,正弘 中川,玄 内田,綾子 菅谷. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-07-02.

Magneto-resistance effect element bar exposure method

Номер патента: US7192676B2. Автор: Tetsuya Kuwashima,Noriaki Kasahara,Hitoshi Hatate,Tsuneo Kagotani, deceased. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2007-03-20.

Exposure method and image sensing device using the same

Номер патента: US20200267322A1. Автор: Wei-Chih Chen,Shou-Te Wei,Jun-Hao Wu. Владелец: Lite On Technology Corp. Дата публикации: 2020-08-20.

Convex rearview mirror and monitor with reversible back/socket mount

Номер патента: US10870395B2. Автор: Benjamin Englander,Julian Serer,Peter PLATE,Gary BALSAM,Michael Lipani,John Polimeni. Владелец: Rosco Inc. Дата публикации: 2020-12-22.

Laser scanner with rotating mirror and housing

Номер патента: CA1323424C. Автор: Raymond T. Hebert,Paul A. Conrotto. Владелец: MICRO VIDEO Inc. Дата публикации: 1993-10-19.

Apparatus and method for characterizing the luminous intensity of a lamp using a curved mirror and curved screen

Номер патента: US5729336A. Автор: Keith N. Prettyjohns,Stephen L. Marcus,Kevin J. Garcia. Владелец: Photometrics Ltd. Дата публикации: 1998-03-17.

Network capability exposure method and device thereof

Номер патента: US11632713B2. Автор: Yu Liu,Luhan WANG,Yunan YAN,Keliang DU,Xiangming WEN,Zhaoming LU. Владелец: BEIJING UNIVERSITY OF POSTS AND TELECOMMUNICATIONS. Дата публикации: 2023-04-18.

Sample point interferometer for measuring changes in figure of a primary mirror and primary-secondary mirror spacing

Номер патента: US5467191A. Автор: Stanley J. Kishner. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1995-11-14.

Convex rearview mirror and monitor with reversible back/socket mount

Номер патента: US11919450B2. Автор: Benjamin Englander,Julian Serer,Peter PLATE,Gary BALSAM,Michael Lipani,John Polimeni. Владелец: Rosco Inc. Дата публикации: 2024-03-05.

Integrated mirror and graphics display system

Номер патента: EP2499631A2. Автор: Jacob J. Marantz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-09-19.

Artificial intelligence-type thermal imaging ultrasound scanner apparatus for breast cancer diagnosis using smart mirror, and breast cancer self-diagnosis method using same

Номер патента: US20240008839A1. Автор: Jae-chern Yoo. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2024-01-11.

X-ray mirror, method of producing the mirror, and x-ray apparatus

Номер патента: WO2011152437A1. Автор: Kohei Okamoto,Hirokatsu Miyata,Wataru Kubo,Atsushi Komoto. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2011-12-08.

Generating multi-halftone images and projecting with double modulation/laser projection with double modulation

Номер патента: RU2695300C2. Автор: Мартин Дж. РИЧАРДЗ,Джером ШИЛДС. Владелец: Долби Лэборетериз Лайсенсинг Корпорейшн. Дата публикации: 2019-07-22.

System and method for automatic alignment and projection mapping

Номер патента: US10574956B2. Автор: James Robinson,Kevin MOULE,Derek Scott,Nick WASILKA,Ian James FRASER. Владелец: Christie Digital Systems USA Inc. Дата публикации: 2020-02-25.

Animation Using Keyframing and Projected Dynamics Simulation

Номер патента: US20190197758A1. Автор: Jovan Popovic,Yunfei Bai,Daniel M. Kaufman. Владелец: Adobe Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Intelligent system for cooperative bid response and project plan generation

Номер патента: US20200387961A1. Автор: Abhishek Mitra,Shefali Bansal. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-12-10.

Intelligent system for cooperative bid response and project plan generation

Номер патента: US20200334604A1. Автор: Abhishek Mitra,Shefali Bansal. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-10-22.

Automated non-contact thickness inspection and projection system using color-coded based patterns

Номер патента: US11953309B2. Автор: Shane Whitaker,Jeffrey Drewett,Anthony Mann. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Projection system and projection method

Номер патента: US11812203B2. Автор: Tetsuya Nishi,Yuki Hayashi,Keisuke Hara. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Projection imaging system, measurement device, and projection imaging method

Номер патента: US11371837B2. Автор: Hideyuki Nakamura,Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-28.

E-commerce bid and project management system and method for the construction industry

Номер патента: WO2001055943A9. Автор: Larry Wares. Владелец: Buzzsaw Com. Дата публикации: 2002-10-24.

Projection method and projection system

Номер патента: US20200099904A1. Автор: Yu-Sheng Lin,Yaw-Huei Chiou. Владелец: ASUSTeK Computer Inc. Дата публикации: 2020-03-26.

Point determination and projection device

Номер патента: US20240133690A1. Автор: Michael J. Miller,Leonard Jay Wantz. Владелец: Groove Unlimited LLC. Дата публикации: 2024-04-25.

Display driving method and device, liquid crystal controller, display system and projection device

Номер патента: US11862123B1. Автор: Xianxiong Zhu,Chunrong Fan,Degang Lei. Владелец: Shenzhen Kejinming Electronic Co ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Generating and projecting a pseudo-random optical pattern of dots

Номер патента: WO2023242191A1. Автор: Olivier Francois,Martin BALIMANN,Moritz Schmidlin. Владелец: Nil Technology Aps. Дата публикации: 2023-12-21.

Handheld digital drawing and projection device

Номер патента: US20150294491A1. Автор: Gregory R. Nungester,Carl J. Kamph. Владелец: Crayola LLC. Дата публикации: 2015-10-15.

Career planning and project collaboration system for entertainment professionals

Номер патента: WO2020047009A1. Автор: Sumukha SOMASHEKAR. Владелец: Somashekar Sumukha. Дата публикации: 2020-03-05.

Projection imaging system, measurement device, and projection imaging method

Номер патента: US20210131799A1. Автор: Hideyuki Nakamura,Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Projection device and projecting method for selecting gamma correction curve

Номер патента: US11997433B2. Автор: Po-Yen Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2024-05-28.

Printing and project collaboration system and method

Номер патента: US20190347617A1. Автор: James J. Moore. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-11-14.

Time Tracking for Workflow and Project Management Applications

Номер патента: US20220083982A1. Автор: Michael Palandro,Christian Wiggerman,Solomon Baba. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-17.

Automated Non-Contact Thickness Inspection and Projection System

Номер патента: US20240210162A1. Автор: Shane Whitaker,Jeffrey Drewett,Anthony Mann. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Career planning and project collaboration system for entertainment professionals

Номер патента: CA3110887A1. Автор: Sumukha SOMASHEKAR. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-03-05.

Projection device and projecting method

Номер патента: US20230179750A1. Автор: Po-Yen Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Projection processing device, storage medium, and projection method

Номер патента: US20230090233A1. Автор: Naohiko Yasuda. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-23.

Automated Non-Contact Thickness Inspection and Projection System

Номер патента: US20230090145A1. Автор: Shane Whitaker,Jeffrey Drewett,Anthony Mann. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Grant and project management and administration system and methods

Номер патента: US20210092121A1. Автор: Destin Blais,Neil Blais. Владелец: Blais & Associates Inc. Дата публикации: 2021-03-25.

Projection system and projection method

Номер патента: US20200036949A1. Автор: Chien-Chun Peng,Yung-Chiao Liu,Hsun-Cheng Tu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Projection imaging system, measurement device, and projection imaging method

Номер патента: EP3637046A1. Автор: Hideyuki Nakamura,Ryuji Fuchikami. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-15.

Systems and Methods for Ambient Animation and Projecting Ambient Animation on an Interface

Номер патента: US20190096029A1. Автор: Gareth Webb,Cary HORVATH,Dustin Garrett. Владелец: Denso International America Inc. Дата публикации: 2019-03-28.

System for capturing and projecting images, use of the system and method for capturing, projecting and inserting images

Номер патента: US12101573B2. Автор: Alexandre Thadeu da Costa MARQUES ARRABAL,Rodolpho Barcelos XAVIER FILHO. Владелец: Globo Comunicacao E Participacoes SA. Дата публикации: 2024-09-24.

System for planning trips with estimated time of arrival (ETA) and projected time of availability (PTA) calculated for each stop

Номер патента: US09921070B1. Автор: William George Nimchuk,David Johnmichael McKinney. Владелец: Trimble Inc. Дата публикации: 2018-03-20.

Handheld digital drawing and projection device

Номер патента: US09756299B2. Автор: Gregory R. Nungester,Carl J. Kamph. Владелец: Crayola LLC. Дата публикации: 2017-09-05.

Volumetric and projection image generation

Номер патента: US09696452B2. Автор: Ram Naidu,Serge Savard,David Schafer. Владелец: Analogic Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Fluorescent image acquisition and projection apparatus and method for real-time visualization of invisible fluorescent signal

Номер патента: US09681810B2. Автор: Byeong-Il Lee,Jae-Seok Park,Joo-Beom Eom,Hyung-Ju Park,Seok-Ki Kim,In-Hee Shin. Владелец: Korea Photonics Technology Institute. Дата публикации: 2017-06-20.

Projection methods and projection devices

Номер патента: US09654749B2. Автор: Xiaoping Zhang,Zhepeng Wang,Yaqiang Wu,Lu CAO. Владелец: Lenovo Beijing Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Projection method and projection system

Номер патента: US12141912B2. Автор: Taisuke Yamauchi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-11-12.

Projection system and projection control method

Номер патента: US09591278B2. Автор: Wen-Chang Chien,Yu-Chi Wu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2017-03-07.

Precise location and projection by radio beacon signals

Номер патента: US09473901B1. Автор: Joseph Arnold White. Владелец: NCR Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Non-interfering viewing systems for use in catadioptric projection systems

Номер патента: IL97246A0. Автор: . Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1992-05-25.

Non-interfering viewing system for use in catadioptric projection systems

Номер патента: IL97246A. Автор: . Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1994-05-30.

Mirror for the EUV wavelength range, production method for such a mirror, projection objective for microlithography with such a mirror and microlithography projection exposure apparatus with such a projection objective

Номер патента: DE102011003357A1. Автор: Hartmut Enkisch,Jörn Weber,Stephan Müllender,Oliver Dier. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-08-02.

Deflection mirror and method for producing the deflection mirror

Номер патента: TW200500651A. Автор: Peter Reuter. Владелец: Durlum Leuchten. Дата публикации: 2005-01-01.

Catadioptric projection lantern.

Номер патента: EP0326596A4. Автор: Paul A Hoisington,Kenneth H Fischbeck. Владелец: Spectra Inc. Дата публикации: 1989-11-07.

Image printer having projection exposure means

Номер патента: CA2125321C. Автор: Masazumi Ishikawa,Toru Tanibata. Владелец: Noritsu Koki Co Ltd. Дата публикации: 1999-11-02.

Connecting part for installation of tab into slot and device for assembly of object comprising specified connecting part (versions)

Номер патента: RU2434114C2. Автор: Жозе МАРТЭН,Ноэль РОБЕР. Владелец: Гросфиллекс Сас. Дата публикации: 2011-11-20.

Multilayered composite material and objects comprising same

Номер патента: US20180015702A1. Автор: Holger Luehn. Владелец: Kautex Textron GmbH and Co KG. Дата публикации: 2018-01-18.

Apparatus for installation of palletising objects comprising a tray elevator and a laying apparatus

Номер патента: RU2688499C2. Автор: Питер Геррит ХАННЕССЕН. Владелец: Кимарокс Патентен Б.В.. Дата публикации: 2019-05-21.

Cryosurgical exposure method

Номер патента: RU2687652C1. Автор: Амиран Шотаевич Ревишвили,Дмитрий Игоревич Цыганов,Вадим Анатольевич Попов,Вячеслав Юрьевич Семенов,Наталья Владиславовна Морозова,Егор Сергеевич Малышенко,Магомед Гапизович Гасангусенов,Дмитрий Евгеньевич Пономарев,Наталья Викторовна Белозерова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Конструкторское бюро "Медицинская техника". Дата публикации: 2019-05-15.

Pathoanatomical exposure method

Номер патента: RU2734747C1. Автор: Тагир Исламнурович Мустафин,Наталья Владимировна Александрова,Влас Сергеевич Щекин,Артур Тагирович Мустафин,Сергей Витальевич Щекин,Алексей Андреевич Калинин,Арсен Алиханович Мунгиев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Башкирский государственный медицинский университет" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2020-10-22.

Method for manufacturing objects comprising beryllium

Номер патента: US20240101439A1. Автор: Andrew RUZEK. Владелец: Materion Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Exposure method

Номер патента: US20060046207A1. Автор: Chon-Shin Jou,Hsing Tsun Liu,Hsieh Hsin Huang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2006-03-02.

Network capability exposure method, apparatus, and system

Номер патента: EP4415404A1. Автор: Qianghua ZHU,Wenfu Wu,Wenzheng Li. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Mobile support unit for a conveyor for transferring objects, and conveyor for transferring objects comprising said mobile support unit

Номер патента: US09290326B2. Автор: Augusto Santicchi. Владелец: IMMOBILIARE METALPROGETTI SRL. Дата публикации: 2016-03-22.

Oral care device comprising mirror and light-distributing element and method of making such device

Номер патента: RU2614609C2. Автор: Брайан БЛОЧ. Владелец: КОЛГЕЙТ-ПАЛМОЛИВ КОМПАНИ. Дата публикации: 2017-03-28.

Three dimensional objects comprising robust alloys

Номер патента: US20240091855A1. Автор: Benyamin Buller,Kimon SYMEONIDIS,Tasso LAPPAS. Владелец: Velo3D Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Object comprising a sealing layer

Номер патента: WO2024023037A1. Автор: Li Yuan,Ling Fan,Nakul Ranade,Pei Sun,You Jun Wu. Владелец: Sabic Global Technologies B.V.. Дата публикации: 2024-02-01.

An object comprising a chromium-based coating on a substrate

Номер патента: AU2020243292A1. Автор: Jussi Raisa. Владелец: Savroc Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

An object comprising a chromium-based coating on a substrate

Номер патента: EP3938565A1. Автор: Jussi Raisa. Владелец: Savroc Ltd. Дата публикации: 2022-01-19.

An object comprising a chromium-based coating on a substrate

Номер патента: WO2020188145A1. Автор: Jussi Raisa. Владелец: Savroc Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Process for producing a coated object comprising coating layers having adjustable properties

Номер патента: WO2023180155A1. Автор: Christian Beckhaus,Matthijs Groenewolt,Pieter MOONEN. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2023-09-28.

Security item or assembly of the security item and of another object comprising a first and a second raster

Номер патента: AU2022233494A1. Автор: Marie Dejean. Владелец: OBERTHUR FIDUCIAIRE SAS. Дата публикации: 2023-09-28.

Object comprising a chromium-based coating with a high Vickers hardness, production method, and aqueous electroplating bath therefor

Номер патента: US12006586B2. Автор: Jussi Raisa,Arto Yli-Pentti. Владелец: Savroc Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Artistically stained glass copper foiled mirror and frame assembly

Номер патента: US5753341A. Автор: Jer-Jyh Peng. Владелец: Creative Design Co Ltd. Дата публикации: 1998-05-19.

Vehicle mirror and rear-facing devices and method of reducing drag

Номер патента: US20150353017A1. Автор: Malcolm Freeman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-12-10.

Titanium-tungsten alloy based mirrors and electrodes in bulk acoustic wave devices

Номер патента: WO2007021408A1. Автор: Sridhar Uppili,Guillaume Bouche,Ralph N. Wall. Владелец: MAXIM INTEGRATED PRODUCTS, INC.. Дата публикации: 2007-02-22.

Titanium-tungsten alloy based mirrors and electrodes in bulk acoustic wave devices

Номер патента: EP1915820A1. Автор: Sridhar Uppili,Guillaume Bouche,Ralph N. Wall. Владелец: Maxim Integrated Products Inc. Дата публикации: 2008-04-30.

Photographing exposure method and apparatus for self-walking device

Номер патента: US20240314445A1. Автор: Zhen Wu,Jiabo Chen. Владелец: Beijing Roborock Innovation Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

High-dynamic-range image automatic exposure method and unmanned aerial vehicle

Номер патента: US12126914B2. Автор: Zhaozao Li. Владелец: Autel Robotics Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Digital pixel exposure method by using multiple ramp voltage as reference voltage

Номер патента: US09986181B2. Автор: Jing Gao,Zaifeng Shi,Jiangtao Xu,Zhiyuan Gao,Suying Yao. Владелец: TIANJIN UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-05-29.

Combination mirror and camera device

Номер патента: US09924079B2. Автор: John Do. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-03-20.

Actuator mechanism for an adjustment device of a wing mirror and clutch assembly thereof

Номер патента: US09902324B2. Автор: Kyongchol Chong. Владелец: Dongguan Hao Yong Automotive Controls Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Exposure method using control of settling times and methods of manufacturing integrated circuit devices by using the same

Номер патента: US09583305B2. Автор: SHUICHI TAMAMUSHI,Sang-Hee Lee,Jin Choi,Yong-seok JUNG,In-kyun Shin,In-Hwan NOH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-02-28.

Structural adhesive sheet specifically for use in a mirror base of an automobile interior rear-view mirror and a method for producing the same

Номер патента: US09574120B2. Автор: Huan Wu,Deheng Zhang,Junshi KONG,Wenli LI,Yajuan YANG. Владелец: ZHENGZHOU ZHONGYUAN APPLIED TECHNOLOGY RESEARCH AND DEVELOPMENT Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Exposure method using charged particle beam

Номер патента: US20110033789A1. Автор: Kozo Ogino. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2011-02-10.

Exposure method using charged particle beam

Номер патента: US8158312B2. Автор: Kozo Ogino. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2012-04-17.

Ultrathin LED lamp mirror and mirror cabinet

Номер патента: US12104778B1. Автор: Qingyuan Chen,Qiang Chen,Xinwei Li,Chihsu Tu. Владелец: Lamxon Technology Building Materials Co ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Mask exposure method, transparent conductive metallization and pigment

Номер патента: US12128704B2. Автор: Winfried HOFFMÜLLER,Andreas Rauch,Michael Sobol. Владелец: Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH. Дата публикации: 2024-10-29.

Method for manufacturing objects comprising beryllium

Номер патента: WO2024064864A1. Автор: Andrew RUZEK. Владелец: MATERION CORPORATION. Дата публикации: 2024-03-28.

Object comprising a non-insulative coating

Номер патента: EP1799777A1. Автор: Jens Christoph THIES,Edwin Currie,Guido Jozefina Wilhelmus Meijers,Audrey Ulrich. Владелец: DSM IP ASSETS BV. Дата публикации: 2007-06-27.

Method for treating inflammatory and exchange-dystrophic diseases of musculoskeletal system by optimal combination of cryotherapy, physiotherapy and medical exposure methods (versions)

Номер патента: RU2633493C1. Автор: Любовь Альбертовна Пальчикова,Лариса Александровна Масленникова,Иван Юрьевич Пальчиков,Степан Юрьевич Пальчиков. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Детство". Дата публикации: 2017-10-12.

Exposure method and apparatus for picture tube

Номер патента: US6091191A. Автор: Masaru Togawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-07-18.

Charged particle beam exposure method and apparatus

Номер патента: US5099133A. Автор: Akio Yamada. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1992-03-24.

Electron beam exposure data processing method, electron beam exposure method and apparatus

Номер патента: US5210696A. Автор: Keiko Yano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1993-05-11.

Photographing exposure method and apparatus for self-walking device

Номер патента: EP4297395A1. Автор: Yang Yu,Zhen Wu,Jiabo Chen. Владелец: Beijing Roborock Innovation Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-27.

Automatic exposure method and electronic device

Номер патента: EP4258676A1. Автор: Tao SHAO. Владелец: Honor Device Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-11.

Charged particle beam exposure method and method for producing charged particle beam exposure data

Номер патента: US20030160192A1. Автор: Atsushi Ando,Ryoichi Inanami,Shunko Magoshi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-08-28.

Network capability exposure method, device, and storage medium

Номер патента: US20230370823A1. Автор: Qiang Huang. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Charged beam exposure method and apparatus as well as aperture stop and production method thereof

Номер патента: US5334845A. Автор: Shinji Okazaki,Fumio Murai,Hiroaki Wakabayashi,Yoshinori Nakayama. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-08-02.

Microlithographic exposure methods using a segmented reticle defining pattern elements exhibiting reduced incidence of stitching anomalies when imaged on a substrate

Номер патента: US20020150828A1. Автор: Tomoharu Fujiwara. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-10-17.

Two way mirror with dual functions of rear view mirror and video displayer

Номер патента: US5956181A. Автор: William Lin. Владелец: Lin; William. Дата публикации: 1999-09-21.

Method for producing dirt-free laser mirrors and for their passivation

Номер патента: RU2303317C2. Автор: Л. Карстен В. ЛИНДСТРЕМ,Петер Н. БЛИКСТ,Сванте Х. СЕДЕРХОЛЬМ,Ананд СРИНИВАСАН,Карл-Фредрик КАРЛЬСТРЕМ. Владелец: Комласе Аб. Дата публикации: 2007-07-20.

Gear operated remote control mirror and operative control

Номер патента: CA1212564A. Автор: Walter C. Bramer. Владелец: Lacks Industries Inc. Дата публикации: 1986-10-14.

Improvements in retaining devices for glass mirrors and the like

Номер патента: GB626601A. Автор: . Владелец: TREVOR BUSHELL KING. Дата публикации: 1949-07-18.

Rear view mirror system with elliptically curved mirror and flat mirror

Номер патента: US4110012A. Автор: Kenneth W. Jarvis. Владелец: Individual. Дата публикации: 1978-08-29.

Controlled-exposure method for preparing luminescent screens for colour-television picture tubes

Номер патента: GB1322441A. Автор: . Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1973-07-04.

Charged particle beam exposure method utilizing subfield proximity corrections

Номер патента: US6087052A. Автор: Yasuo Manabe,Hiromi Hoshino. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2000-07-11.

Improvements in Hinge or Pivot Movements of Swing Mirrors and other Pivoted Articles.

Номер патента: GB191422677A. Автор: . Владелец: Arthur Shaw & Co Ltd. Дата публикации: 1915-07-08.

Phase stabilization device for stimulated brillouin scattering phase conjugate mirrors and light amplification apparatus using the same

Номер патента: US8035890B2. Автор: Hong Jin Kong,Bong Ju Lee. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2011-10-11.

Method for manufacturing an electric heated mirror and the mirror thereof

Номер патента: EP1718116A3. Автор: Byoung-Chan Kim,Jae-Joon Ryou. Владелец: Shin Chung-kyun. Дата публикации: 2008-09-10.

Improvements relating to a combined toilet mirror and stand

Номер патента: GB736110A. Автор: . Владелец: HERBERT JULIUS LEITER. Дата публикации: 1955-08-31.

Adjustable mirror and sound system for a rear seat of a vehicle

Номер патента: US6679612B1. Автор: Robin J. West,Beatrice W. Yehudah. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-20.

Water repellent film for car side-view mirror, and molding apparatus therefor

Номер патента: US20220118660A1. Автор: Nam Il LIM. Владелец: Realook & Co Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Image sensor having current mirror and driving method thereof

Номер патента: WO2007052872A1. Автор: Hoon Kim,Kwang Sue Park. Владелец: Planet82 Inc.. Дата публикации: 2007-05-10.

Exposure apparatus and exposure method

Номер патента: US20160314934A1. Автор: Akio Yamada,Masahiro Seyama,Hideki Nasuno. Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 2016-10-27.

Method for designing distributed communication topology of micro-grid based on network mirroring and global propagation rates

Номер патента: US11588706B2. Автор: Wei Gu,Shanlin LI,Xiaoyu Jiang,Quan Yang,Guannan LOU,Yinqiu HONG,Lina SHENG. Владелец: SOUTHEAST UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-02-21.

Method for designing distributed communication topology of micro-grid based on network mirroring and global propagation rates

Номер патента: US20220094603A1. Автор: Wei Gu,Shanlin LI,Xiaoyu Jiang,Quan Yang,Guannan LOU,Yinqiu HONG,Lina SHENG. Владелец: SOUTHEAST UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-03-24.

Combination Mirror and Camera Device

Номер патента: US20160255250A1. Автор: John Do. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-09-01.

Mask exposure method, transparent conductive metallization and pigment

Номер патента: US20240042788A1. Автор: Winfried HOFFMÜLLER,Andreas Rauch,Michael Sobol. Владелец: Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH. Дата публикации: 2024-02-08.

Network information exposure method and apparatus, electronic device, and storage medium

Номер патента: US20230319689A1. Автор: Zhuoyun ZHANG. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Network information exposure method and apparatus, electronic device, and storage medium

Номер патента: US20230309002A1. Автор: Zhuoyun ZHANG. Владелец: Tencent Technology Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Tunable semiconductor laser having a cavity with wavelength selective mirror and mach-tehnder interferometer

Номер патента: WO2002054544A2. Автор: Alexander Ksendzov,Randy Dean May. Владелец: Fiberspace, Inc.. Дата публикации: 2002-07-11.

Multi charged particle beam exposure method, and multi charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20170352520A1. Автор: Hiroshi Matsumoto. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-12-07.

Method for manufacturing an electric heating mirror and the mirror thereof

Номер патента: US20080066296A1. Автор: Byoung-Chan Kim,Jae-Joon Ryou,Chung-kyun Shin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-03-20.

Current mirror and method for operating a current mirror

Номер патента: US20030071678A1. Автор: Christian Paulus. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-04-17.

Charged particle beam exposure method and charged particle beam exposure apparatus

Номер патента: US20020028398A1. Автор: Kozo Ogino. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2002-03-07.

Display control device for electronic mirror, and electronic mirror system including the same

Номер патента: US20210188177A1. Автор: Taichi Hasegawa,Akira Egashira,Goro Asai,Kunihiro Sugihara,Tomoaki Iida,Yuki Yamagami. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2021-06-24.

Auxiliary side view mirror and method of using the same

Номер патента: US20190299865A1. Автор: Richard N. Bergman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-10-03.

Discharge lamp apparatus including a high pressure discharge lamp, a concave reflection mirror, and a laser light source

Номер патента: US8779654B2. Автор: Takumi Sato,Yoshio Okazaki,Ai Okazaki. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2014-07-15.

Electrostatic sprayer of coating product and projection assembly comprising such sprayer

Номер патента: RU2656457C2. Автор: Дидье ШЕВРОН,Эрик ПРЮ. Владелец: Саме Кремлин. Дата публикации: 2018-06-05.

Draftsman{3 s aid for preparing axonometric drawings and projections

Номер патента: US3897633A. Автор: Minton E Whitt. Владелец: Individual. Дата публикации: 1975-08-05.

Hybrid framework consisting of metallic plate and projections made of synthetic resin

Номер патента: CA1090522A. Автор: Masanori Ohnishi. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1980-12-02.

Illumination device integrated into a projection type display, and projection type projector

Номер патента: US20050219475A1. Автор: Hisayuki Mihara. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-10-06.

Firearm Mounted Illumination and Projection System with Remote Power Supply

Номер патента: US20220057171A1. Автор: Peter Dorn Lindblom, JR.,Daniel Hincapie. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-02-24.

Screen Projection Method and Apparatus, and Project End

Номер патента: US20240015350A1. Автор: ZHIPENG Wu,Chong Zhu. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Photography and projection apparatus and light emitting and sensing module

Номер патента: US20130135507A1. Автор: Wen-Yung Yeh,Jui-Ying Lin,Chia-Hsin Chao,Ming-Hsien Wu,Mu-Tao Chu. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2013-05-30.

Transfer sheet for forming recessed and projecting shape, method of producing transfer sheet for forming recessed and projecting shape, and method of forming recessed and projecting shape

Номер патента: US20230321967A1. Автор: Ryoko SHINOHARA. Владелец: O Well Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Dry erasable and projection articles and methods of making the same

Номер патента: WO2001043961A1. Автор: LiJuan He,Seth Levenstein. Владелец: AVERY DENNISON CORPORATION. Дата публикации: 2001-06-21.

Room capture and projection

Номер патента: US20200195901A1. Автор: William J. Allen,Kieran Mccorry,Joshua Hailpern,James C. Cooper. Владелец: Ent Services Development Corp LP. Дата публикации: 2020-06-18.

Mems sound transducer having recesses and projections

Номер патента: US20230421947A1. Автор: Fabian LOFINK,Bernhard Wagner,Fabian STOPPEL,Malte Florian Niekiel. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2023-12-28.

Document processing device with picture-taking, video and audio recording, scanning and projecting functions

Номер патента: US20100290717A1. Автор: Chun Chieh Hsu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-11-18.

Projection device and projection setting adjustment method thereof

Номер патента: US20200396429A1. Автор: Tzu-Hai Chung. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-12-17.

Room capture and projection

Номер патента: EP3251343A1. Автор: Kieran Mccorry,Joshua Hailpern,William J ALLEN,James C COOPER. Владелец: Ent Services Development Corp LP. Дата публикации: 2017-12-06.

Projection method and projection system

Номер патента: US20240040092A1. Автор: Hiroyuki Ichieda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Projector, method for controlling the same, and projection system

Номер патента: US20190104292A1. Автор: Azusa Oka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-04-04.

Projection system and projection method

Номер патента: US20200280706A1. Автор: Chi-Wei Lin,Chien-Chun Peng,Hsun-Cheng Tu. Владелец: Coretronic Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Method and apparatus for photographing and projecting moving images in three dimensions

Номер патента: US20210051313A1. Автор: Douglas Trumbull. Владелец: Magi International LLC. Дата публикации: 2021-02-18.

Liquid crystal display element and projection type display device

Номер патента: US20050024578A1. Автор: Mieko Suzuki,Akiko Toriyama. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-02-03.

Method and apparatus for photographing and projecting moving images in three dimensions

Номер патента: US09848182B2. Автор: Douglas Trumbull. Владелец: Magi International LLC. Дата публикации: 2017-12-19.

Method and apparatus for a light collection and projection system

Номер патента: US09797571B2. Автор: Ronald G. Holder,Stephen P. Adams. Владелец: JST Performance LLC. Дата публикации: 2017-10-24.

Method and device for processing a projection image, and projection display system

Номер патента: US09743056B2. Автор: Dabo GUO,Jichen XIAO,Kunming Chen. Владелец: Hisense USA Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Solid-state imaging device including groove with recessed and projecting sidewalls

Номер патента: US12107106B2. Автор: Tomohiko Baba,Naoki Hideshima. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Modular portable writing and projection system having variable curvature

Номер патента: US09403400B2. Автор: Donald MacDonald,John Crowley,Stephen Spencer,Michael Mcmanus,Joseph Ballay. Владелец: Maya Design Inc. Дата публикации: 2016-08-02.

Charged-particle-beam projection-exposure method exhibiting aberration reduction through multiple deflector use

Номер патента: US6027841A. Автор: Shohei Suzuki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2000-02-22.

Elevator system comprising deflecting elements having different groove geometries

Номер патента: US11820628B2. Автор: Florian Dold,Oliver Berner. Владелец: INVENTIO AG. Дата публикации: 2023-11-21.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH PUPIL CORRECTION

Номер патента: US20120002273A1. Автор: Dodoc Aurelian. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20120002186A1. Автор: Omura Yasuhiro,Okada Takaya,Nagasaka Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120002185A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120002184A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

LOCAL EXPOSURE APPARATUS, LOCAL EXPOSURE METHOD AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002183A1. Автор: Tanaka Shigeki,Matsumura Yuki,Ota Yoshiharu,MORIYAMA Shigeru. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

Vertically emitting laser with bragg mirrors and intracavity metal contacts

Номер патента: RU2554302C2. Автор: Михаил Алексеевич Калитеевский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение высшего профессионального образования и науки Санкт-Петербургский Академический университет - научно-образовательный центр нанотехнологий Российской академии наук. Дата публикации: 2015-06-27.

Improvements in and relating to the Means of Fastening and Releasing Presses for Lawn Tennis Racquets and the like, also to the Means of Fastening and Releasing Swinging Mirrors and the like Articles.

Номер патента: GB190615471A. Автор: Douglas Delvallie Kennedy,Leonard Creighton Masters. Владелец: Individual. Дата публикации: 1907-04-11.

Improvements in Floral Decoration for Block Calendars, Mirrors, and similar Articles.

Номер патента: GB189714390A. Автор: Reinhold Seidel. Владелец: Individual. Дата публикации: 1897-07-17.

Method to monitor "blind area" of going ahead vehicle side mirrors and device for this method implementation

Номер патента: RU2542835C1. Автор: Константин Алексеевич Палагута,Ирина Сергеевна Шубникова,Андрей Игоревич Крюков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный индустриальный университет". Дата публикации: 2015-02-27.

Method for manufacturing of decorative mirrors and items from optically transparent materials

Номер патента: RU2390425C1. Автор: Андрей Августович Умблия,Даниил Сергеевич Семенов,Шамиль Мигдятович Неумянов,Егор Сергеевич Семенов. Владелец: Андрей Августович Умблия. Дата публикации: 2010-05-27.

Mirror and drawer stand

Номер патента: AU308957S. Автор: . Владелец: Arton Giftware Pty Ltd. Дата публикации: 2006-08-17.

Break-away rearview mirror and bracket

Номер патента: CA1173281A. Автор: Milfred W. Urban. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-08-28.

LIGHT SOURCE APPARATUS AND PROJECTION DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20120002172A1. Автор: . Владелец: SANYO ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING DEFLECTION MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE METHOD

Номер патента: US20120236277A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-09-20.

Catadioptric projection objective with pupil mirror, projection exposure apparatus and method

Номер патента: JP5462625B2. Автор: アレクサンダー エプレ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-04-02.

Catadioptric projection objective with pupil mirror, projection exposure apparatus and method

Номер патента: JP5462739B2. Автор: アレクサンダー エプレ. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-04-02.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH INTERMEDIATE IMAGES

Номер патента: US20120162625A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-06-28.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20120250147A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Shafer David,Dodoc Aurelian,Von Buenau Rudolf,Beder Susanne,Singer Wolfgang. Владелец: . Дата публикации: 2012-10-04.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20120274918A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-11-01.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20120274919A1. Автор: Ulrich Wilhelm,Mann Hans-Juergen,Epple Alexander,Shafer David,Dodoc Aurelian,Von Buenau Rudolf. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-11-01.

Catadioptric projection objective

Номер патента: JP5600128B2. Автор: マン ハンス・ユルゲン,ウルリッヒ ヴィルヘルム,エップル アレキサンダー,ドドック アウレリアン,シェイファー デイヴィッド,フォン・ビュナウ ルドルフ,ベーデル スザンネ,ズィンガー ヴォルフガング. Владелец: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー. Дата публикации: 2014-10-01.

CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE INCLUDING A REFLECTIVE OPTICAL COMPONENT AND A MEASURING DEVICE

Номер патента: US20120218536A1. Автор: ZACZEK Christoph,Gruner Toralf,Mueller Ralf,Bleidistel Sascha. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-08-30.

LARGE-FIELD UNIT-MAGNIFICATION CATADIOPTRIC PROJECTION SYSTEM

Номер патента: US20120063010A1. Автор: Mercado Romeo I.. Владелец: Coherent, Inc.. Дата публикации: 2012-03-15.

MIRROR FOR EUV WAVELENGTHS, PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY HAVING SUCH MIRROR AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS HAVING SUCH PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20120134015A1. Автор: ZACZEK Christoph,Dodoc Aurelian,Braun Gerhard,MIGURA Sascha,Paul Hans-Jochen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-05-31.

MIRROR FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE, PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY CROMPRISING SUCH A MIRROR, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20120212810A1. Автор: . Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-08-23.

Optical projection, exposure device and exposure method

Номер патента: TW200305791A. Автор: Takeshi Suzuki,Yasuhiro Omura,Hideki Komatsuda. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-11-01.

MIRROR FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE, SUBSTRATE FOR SUCH A MIRROR, PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A MIRROR OR SUCH A SUBSTRATE, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION OBJECTIVE

Номер патента: US20130038929A1. Автор: CLAUSS Wilfried,ZACZEK Christoph,Dodoc Aurelian,MUELLENDER Stephan,Braun Gerhard,WEBER Joern,MIGURA Sascha,von BLANCKENHAGEN Gisela,Paul Hans-Jochen,LOERCHER Roland. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-02-14.

PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120033296A1. Автор: Wabra Norbert,Eder Robert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-02-09.

OPTICAL ARRANGEMENT IN A PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120075602A1. Автор: Rostalski Hans-Juergen,Schwertner Tilman,Epple Alexander. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-03-29.

PROJECTION OBJECTIVE AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH NEGATIVE BACK FOCUS OF THE ENTRY PUPIL

Номер патента: US20120075608A1. Автор: Mann Hans-Juergen,Singer Wolfgang. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-03-29.

PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

Номер патента: US20120281196A1. Автор: Loering Ulrich,EHM Dirk Heinrich,SCHMIDT Stefan-Wolfgang,KAMENOV Vladimir,WURMBRAND Andreas,BECKER Moritz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-11-08.

Projection exposure apparatus, exposure method, semiconductor manufacturing method, and projection optical system adjustment method

Номер патента: JP3381256B2. Автор: 一雄 牛田,一正 遠藤,俊博 笹谷. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-02-24.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.