Short-Gate Tunneling Field Effect Transistor Having Non-Uniformly Doped Vertical Channel and Fabrication Method Thereof
Номер патента: US20160020306A1
Опубликовано: 21-01-2016
Автор(ы): Chao Wang, Chunlei Wu, Jiaxin Wang, Qianqian Huang, Ru Huang, Yangyuan Wang
Принадлежит: PEKING UNIVERSITY
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-01-2016
Автор(ы): Chao Wang, Chunlei Wu, Jiaxin Wang, Qianqian Huang, Ru Huang, Yangyuan Wang
Принадлежит: PEKING UNIVERSITY
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Short-gate tunneling field effect transistor having non-uniformly doped vertical channel and fabrication method thereof
Номер патента: US09508839B2. Автор: Chao Wang,Ru Huang,Jiaxin Wang,Qianqian Huang,Chunlei Wu,Yangyuan Wang. Владелец: PEKING UNIVERSITY. Дата публикации: 2016-11-29.