Substrate cleaning method and a substrate cleaning apparatus
Номер патента: US5862823A
Опубликовано: 26-01-1999
Автор(ы): Naoki Shindo, Yuji Kamikawa
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-01-1999
Автор(ы): Naoki Shindo, Yuji Kamikawa
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning method, and substrate processing apparatus
Номер патента: US20120298132A1. Автор: Shigeru Kawamura,Teruyuki Hayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-11-29.