Method and device for transferring a pattern from a stamp to a substrate
Номер патента: WO2003099463A3
Опубликовано: 16-09-2004
Автор(ы): Bas J E Rens, Chris L J Janssen, Eerd Patrick P J Van, Marinus J J Dona, Martin H Blees, Michel M J Decre, Peter J Slikkerveer, Richard J M Schroerders, Teunis J A Heijmans
Принадлежит: Bas J E Rens, Chris L J Janssen, Eerd Patrick P J Van, Koninkl Philips Electronics Nv, Marinus J J Dona, Martin H Blees, Michel M J Decre, Peter J Slikkerveer, Richard J M Schroerders, Teunis J A Heijmans
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-09-2004
Автор(ы): Bas J E Rens, Chris L J Janssen, Eerd Patrick P J Van, Marinus J J Dona, Martin H Blees, Michel M J Decre, Peter J Slikkerveer, Richard J M Schroerders, Teunis J A Heijmans
Принадлежит: Bas J E Rens, Chris L J Janssen, Eerd Patrick P J Van, Koninkl Philips Electronics Nv, Marinus J J Dona, Martin H Blees, Michel M J Decre, Peter J Slikkerveer, Richard J M Schroerders, Teunis J A Heijmans
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Imprint system, substrate, imprint method, replica mold manufacturing method, and article manufacturing method
Номер патента: US20230415403A1. Автор: Hiroshi Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-28.