Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Plasma etching apparatus with focus ring and plasma etching method

Plasma etching apparatus with focus ring and plasma etching method

Номер патента: US6726799B2
Опубликовано: 27-04-2004
Автор(ы): Osamu Koike
Принадлежит: Semiconductor Leading Edge Technologies Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Focus ring for a plasma-based semiconductor processing tool

Номер патента: US20230386799A1. Автор: Jr-Sheng Chen,Sheng-Chieh Huang,Chih-Hsien Hsu,Chung-Hsiu Cheng,Chun Yan Chen,Chang Kuang TSO,Chou Feng LEE,Chin-Tai HUNG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Plasma etching method for semiconductor device and etching apparatus of the same

Номер патента: US20020137340A1. Автор: Kye-Hyun Baek,Kil-Ho Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-26.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US20120244709A1. Автор: Yoshiki Igarashi,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-09-27.

System, method and apparatus for ion milling in a plasma etch chamber

Номер патента: US09899227B2. Автор: Joydeep Guha,Aaron Eppler,Jun Hee Han,Butsurin JINNAI. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Method of Plasma Etching

Номер патента: US20230170188A1. Автор: Huma Ashraf,Janet Hopkins,Kevin RIDDELL,Alex Huw Wood. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Apparatus and methods for actively controlling rf peak-to-peak voltage in an inductively coupled plasma etching system

Номер патента: WO2001075930A3. Автор: Shu Nakajima. Владелец: Shu Nakajima. Дата публикации: 2002-05-23.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US5895551A. Автор: Chang Heon Kwon. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1999-04-20.

Apparatus and method for shielding a wafer from charged particles during plasma etching

Номер патента: EP1568061A2. Автор: Bomy Chen,Hongwen Yan,Siddhartha Panda,Richard Wise,Brian Ji. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2005-08-31.

Plasma processing tools dual-source plasma etchers, dual-source plasma etching methods, and methods of forming planar coil dual-source plasma etchers

Номер патента: US6136720A. Автор: Guy T. Blalock,Kevin G. Donohoe. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US20130019894A1. Автор: Shin Hiyama,Yutaka Kudou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-24.

Apparatus and method for shielding a wafer from charged particles during plasma etching

Номер патента: WO2004053922A2. Автор: Bomy Chen,Hongwen Yan,Siddhartha Panda,Richard Wise,Brian Ji. Владелец: Ibm United Kingdom Limited. Дата публикации: 2004-06-24.

Plasma etching chamber

Номер патента: WO2009061104A1. Автор: Hee-Se Lee,Seong-Hyun Chung,Se Mun Park. Владелец: Sosul Co., Ltd.. Дата публикации: 2009-05-14.

Etching method and etching system

Номер патента: RU2332749C1. Автор: Ясухиро МОРИКАВА,Тосио ХАЯСИ,Коукоу СУУ. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2008-08-27.

Gas etching method and apparatus

Номер патента: US4160690A. Автор: Takashi Yamazaki,Yasuhiro Horiike,Masahiro Shibagaki. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1979-07-10.

Plasma etching electrode

Номер патента: US5993597A. Автор: Kazuo Saito,Akira Yamaguchi,Yasushi Mochizuki. Владелец: Nisshinbo Industries Inc. Дата публикации: 1999-11-30.

Plasma etch apparatus with heated scavenging surfaces

Номер патента: US6083412A. Автор: Michael Rice,Jeffrey Marks,David W Groechel,Nicolas J Bright. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-07-04.

Cooling of a plasma electrode system for an etching apparatus

Номер патента: US4963713A. Автор: Takao Horiuchi,Izumi Arai,Yoshifumi Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1990-10-16.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US12020892B2. Автор: Yusuke Goki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Focus ring for improvement of semiconductor plasma etching process

Номер патента: US20220415621A1. Автор: Seung Ho Yang,Byeong Su An,Sung Dong Cho,Seong Wan BAE. Владелец: One Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

In-situ focus ring coating

Номер патента: US20240249921A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09922806B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Plasma etching method and apparatus, control program and computer-readable storage medium storing the control program

Номер патента: US20060289385A1. Автор: Akihiro Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-12-28.

Plasma etching systems and methods using empirical mode decomposition

Номер патента: US09548189B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Yassine Kabouzi,Jorge Luque,Luc Albarede. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Plasma etching apparatus and method of plasma etching a semiconductor substrate

Номер патента: EP3958288A1. Автор: Maxime Varvara,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2022-02-23.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20100133234A1. Автор: Hiroshi Suzuki,Tetsuo Yoshida,Ryoichi Yoshida,Michishige Saito,Akira Obi,Toshikatsu Wakaki,Hayato Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-06-03.

Plasma etching method

Номер патента: US09779962B2. Автор: Shinichi Kozuka,Takao FUNAKUBO,Yuta Seya,Aritoshi Mitani. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143017A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US20120309203A1. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-12-06.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US8252694B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Plasma Etching with Metal Sputtering

Номер патента: US20240249927A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma etching method

Номер патента: US7037843B2. Автор: Isamu Namose. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-05-02.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20210118690A1. Автор: Shuichi Kuboi,Seiya YOSHINAGA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Method of plasma etching

Номер патента: US20020011464A1. Автор: Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Mamoru Yakushiji. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-31.

Plasma etching method and storage medium

Номер патента: US09384999B2. Автор: Noriyuki Kobayashi,Naotsugu Hoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-05.

Plasma etching method using perfluoroisopropyl vinyl ether

Номер патента: US20230162972A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-05-25.

Plasma etching method using pentafluoropropanol

Номер патента: US20230178341A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2023-06-08.

Method of Plasma Etching

Номер патента: US20210193908A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Plasma etching unit

Номер патента: US20100024983A1. Автор: Masanobu Honda,Shoichiro Matsuyama,Kazuya Nagaseki,Koichiro Inazawa,Hisataka Hayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-02-04.

Magnetron-enhanced plasma etching process

Номер патента: US4668338A. Автор: Sasson Somekh,David Cheng,Dan Maydan,Mei Cheng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1987-05-26.

Apparatus and method for plasma etching

Номер патента: US20070199657A1. Автор: Hiroshi Akiyama,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-08-30.

Etching method

Номер патента: US09997374B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Sho TOMINAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20230386793A1. Автор: Kenji Maeda,Yosuke Kurosaki,Hiroto Otake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Etching method

Номер патента: US09530671B2. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

High capacity etching apparatus

Номер патента: CA1144517A. Автор: Martin P. Lepselter. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1983-04-12.

FOCUS RING REPLACEMENT METHOD AND PLASMA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20190122870A1. Автор: Ishizawa Shigeru. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-25.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US09583315B2. Автор: Tomoyuki Mizutani,Hiroshi Tsujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Precise etching apparatus for preparing recessed-gate enhancement device and etching method for the same

Номер патента: US20220157609A1. Автор: Guoqiang Li,Runze LI,Zhikun Liu,Dingbo Chen,Lijun Wan,Peiye SUN,Xianfeng QUE,Shunan YAO. Владелец: South China University of Technology SCUT. Дата публикации: 2022-05-19.

Plasma etching method

Номер патента: US09412607B2. Автор: Eiji Suzuki,Yuji Otsuka,Yutaka Osada,Akinori Kitamura,Masayuki Kohno,Hiroto Ohtake,Yusuke Takino,Tomiko Kamada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Plasma edge ring, plasma etching apparatus including the same, and plasma etching method using the same

Номер патента: US20230142436A1. Автор: Sang Ki Nam,Hyunjoo Lee,Young Hyun Jo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20050061447A1. Автор: Yong-Dae Kim,Do-hyeong Kim,Doo-Won Lee,Soon-Ho Yon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-24.

Inductively coupled plasma etching apparatus, and inductively coupled plasma etching method using same

Номер патента: US20240055226A1. Автор: Byung Jun Lee,Kwang Ho KWON,No Min LIM. Владелец: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION. Дата публикации: 2024-02-15.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US09653357B2. Автор: Junichi Arami,Kenji Okazaki. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Etch apparatus for compensating shifted overlayers

Номер патента: US12094691B2. Автор: Chun-Yen Chang,Ya-Hui Chang,Chih-Kai Yang,Shih-Ming Chang,Yu-Tien Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Etching method for substrate to be processed and plasma-etching device

Номер патента: US09721803B2. Автор: Hiroyuki Takaba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Plasma etching method of modulating high frequency bias power to processing target object

Номер патента: US09548214B2. Автор: Fumio Yamazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-17.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140141532A1. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150303069A1. Автор: Manabu Sato,Takanori Sato,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09412617B2. Автор: Manabu Sato,Takanori Sato,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Plasma etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130267094A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Hironobu Ichikawa,Jin KUDO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-10-10.

Plasma etching method

Номер патента: US8741166B2. Автор: Tomoyuki Watanabe,Tetsuo Ono,Mamoru Yakushiji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2014-06-03.

Plasma etching method

Номер патента: US20180240690A1. Автор: Kenta Chito. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Plasma etching tools and systems

Номер патента: WO2023239630A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma etching tools and systems

Номер патента: US20230395385A1. Автор: Andrew Metz,Minjoon PARK. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Method and apparatus for etching a semiconductor substrate in a plasma etch chamber

Номер патента: US20230402286A1. Автор: Li Ling,Daisuke Shimizu,Kenji Takeshita,Hikaru Watanabe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Method and apparatus for etching a semiconductor substrate in a plasma etch chamber

Номер патента: WO2023239400A1. Автор: Li Ling,Daisuke Shimizu,Kenji Takeshita,Hikaru Watanabe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma etch process using polymerizing etch gases with different etch and polymer-deposition rates in different radial gas injection zones with time modulation

Номер патента: US20070251918A1. Автор: Bryan Pu,Xiaoye Zhao,Daniel Hoffman,Paul Brillhart,Kallol Bera,Bruno Geoffrion,Kenny Doan,Ezra Gold. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-11-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200227270A1. Автор: Masahito Mori,Hayato Watanabe,Takao Arase,Taku Iwase,Satoshi Terakura. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Method for controlling etch rate when using consumable electrodes during plasma etching

Номер патента: US5955383A. Автор: Yuan-ko Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-09-21.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20030203640A1. Автор: Kazue Takahashi,Saburo Kanai,Toshio Masuda,Tetsunori Kaji,Mitsuru Suehiro. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-30.

Apparatus for controlling etch rate when using consumable electrodes during plasma etching

Номер патента: US6030489A. Автор: Yuan-ko Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-02-29.

Cyclical plasma etching

Номер патента: US20170069469A1. Автор: Michael J. Cooke,Andrew L. Goodyear. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2017-03-09.

Shadow ring kit for plasma etch wafer singulation process

Номер патента: EP4226414A1. Автор: Eng Sheng Peh,Sriskantharajah Thirunavukarasu,Michael Sorensen,Karthik Elumalai,Arunkumar Tatti. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-16.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US10297489B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-21.

Polarization-dependent laser-assisted plasma etching

Номер патента: US20190096684A1. Автор: David N. Ruzic,Jason A. Peck. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2019-03-28.

Polarization-dependent laser-assisted plasma etching

Номер патента: US10510550B2. Автор: David N. Ruzic,Jason A. Peck. Владелец: University of Illinois. Дата публикации: 2019-12-17.

End point detection method for plasma etching of semiconductor wafers with low exposed area

Номер патента: WO2006078851A3. Автор: Georges J Gorin,Sumer Johal,Barton Lane,Sylvia G J P Spruytte,Herve C Kieffel. Владелец: Herve C Kieffel. Дата публикации: 2009-04-30.

Focus ring and plasma treatment device

Номер патента: US20240258080A1. Автор: Masao Yoshida. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Atomic layer etching method

Номер патента: US20210193473A1. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Focus ring and substrate treating apparatus comprising the same

Номер патента: US20210027995A1. Автор: Sang-Kee Lee,Dongmok LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-28.

Moving focus ring for plasma etcher

Номер патента: US10847349B2. Автор: Yu-Chi Lin,Yi-Wei Chiu,Hung Jui Chang,Chin-Hsing Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-11-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11830751B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Takashi Nishijima,Shoichiro Matsuyama,Jinyoung Park,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Etching apparatus and methods of cleaning thereof

Номер патента: US12080582B2. Автор: Wei-Jen Lo,Lun-Kuang Tan,Yu-Chi Lin,Chih-Teng Liao,Huai-Tei Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Etching apparatus and methods of cleaning thereof

Номер патента: US20240355663A1. Автор: Wei-Jen Lo,Lun-Kuang Tan,Yu-Chi Lin,Chih-Teng Liao,Huai-Tei Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Atomic layer etching method

Номер патента: US11450531B2. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-20.

Semiconductor etching apparatus

Номер патента: US20240021460A1. Автор: Faming Zhang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Plasma reactor and etching method using the same

Номер патента: US20110155694A1. Автор: Sungyong KO,Hwankook CHAE,Keehyun KIM,Weonmook LEE,Kunjoo PARK,Minshik KIM,KwangMin Lee,Hyeokjin Jang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-06-30.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20240038494A1. Автор: Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Etching apparatus and etching method using the same

Номер патента: US20230386788A1. Автор: Jiwon Jung,Chin-Wook Chung. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2023-11-30.

Dry etching method using potential control of grid and substrate

Номер патента: US20220375761A1. Автор: Ki Hyun Kim,Hee Ju Kim,Geun Young Yeom,Ye Eun Kim,Doo San KIM,You Jin JI,Yun Jong JANG,You Jung GILL. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2022-11-24.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230317466A1. Автор: Masahito Yamaguchi,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US12062522B2. Автор: Fumiya Kobayashi,Maju TOMURA,Keiji Kitagaito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Etching gas and etching method

Номер патента: US09368363B2. Автор: Takefumi Suzuki. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2016-06-14.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20200402800A1. Автор: Sho Kumakura,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11139169B2. Автор: Sho Kumakura,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-05.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Single-wafer real-time etch rate and uniformity predictor for plasma etch processes

Номер патента: US09953886B2. Автор: Justin Hiroki Sato,Brian Dee Hennes,Yannick Carll Kimmel. Владелец: Microchip Technology Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Method and apparatus for real-time monitoring of plasma etch uniformity

Номер патента: US09847262B2. Автор: Jean-Francois De Marneffe,Vladimir Samara. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2017-12-19.

Method of plasma etching

Номер патента: EP4391023A1. Автор: Samira Binte KAZEMI. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Semiconductor device manufacturing method and plasma etching apparatus

Номер патента: US8772172B2. Автор: Eiichi Nishimura,Masato Kushibiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-07-08.

Method of Plasma Etching

Номер патента: US20240213030A1. Автор: Binte Kazemi Samira. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Method of high density plasma etching for semiconductor manufacture

Номер патента: US5783100A. Автор: Guy Blalock,Kevin Donohoe. Владелец: Micron Display Technology Inc. Дата публикации: 1998-07-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11875978B2. Автор: Atsushi Sekiguchi,Miyako Matsui,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Tsubasa Okamoto,Naohiro Kawamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Etching method

Номер патента: US20140011363A1. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-01-09.

Thermal spray material, thermal spray coating, method for forming thermal spray coating, and component for plasma etching device

Номер патента: US20240043982A1. Автор: Hiroaki Mizuno,Kensuke Taguchi,Takaya MASUDA,Tatsuo Suidzu,Yasuhiro Shiojiri. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US11456183B2. Автор: Masahito Mori,Toru Ito,Tadamitsu Kanekiyo. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-09-27.

Plasma processing method and plasma ashing apparatus

Номер патента: US20200043744A1. Автор: Masahito Mori,Toru Ito,Tadamitsu Kanekiyo. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Temperature adjusting apparatus and method for a focus ring

Номер патента: US20170186590A1. Автор: Bryan Pu,Lei Wu,Rubin Ye. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Shanghai. Дата публикации: 2017-06-29.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240339303A1. Автор: Makoto Kato,Takashi Kanazawa,Shin Yamaguchi,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Etching method using plasma, and method of fabricating semiconductor device including the etching method

Номер патента: US09865474B2. Автор: Sangheon Lee,Xinglong Chen,Gon-Jun KIM,In-Ho Choi,Vladimir Volynets,Sang-jin An,Hee-jeon Yang,Sung-keun Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-09.

Etching method

Номер патента: US09812292B2. Автор: Hidekazu Iida. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Etching method

Номер патента: US09786512B2. Автор: Daisuke Tamura,Ryuuu ISHITA,Yu NAGATOMO,Kousuke KOIWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Etching method

Номер патента: US09779961B2. Автор: Wataru TAKAYAMA,Yuki Kaneko,Sho TOMINAGA,Yusuke Saitoh,Yu NAGATOMO,Hayato Hishinuma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20180342401A1. Автор: Kosuke Koiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Focus ring and apparatus for processing a substrate including the same

Номер патента: US20240371610A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-11-07.

Focus ring and apparatus for processing a substrate including a focus ring

Номер патента: US12094692B2. Автор: Dongmok LEE,Yeonghun WI,Jinhyeok KIM,Yonghyun HAM,Yeonggyo JEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Focus ring and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240038503A1. Автор: Eun Young Lee,Je Guen YU,Aran AN,Wang Ki CHOI. Владелец: HANA MATERIALS Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Alignment and transport of substrate and focus ring

Номер патента: US12131936B2. Автор: Keisuke Yoshino,Tatsuyuki URATA. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Focus ring, apparatus and method for processing semiconductor wafer

Номер патента: US20240096686A1. Автор: Chia-Jen Chang,Hsin-Chung Ho. Владелец: Hon Young Semiconductor Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Allignment and transport of substrate and focus ring

Номер патента: US20220059384A1. Автор: Keisuke Yoshino,Tatsuyuki URATA. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2022-02-24.

Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and semiconductor fabrication method using the same

Номер патента: EP4307339A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-17.

Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and semiconductor fabrication method using the same

Номер патента: US20240021417A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-18.

Focus ring, plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20060102288A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Daiki Satoh,Masato Horiguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-05-18.

Focus ring, plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US8192577B2. Автор: Hideyuki Kobayashi,Daiki Satoh,Masato Horiguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-06-05.

Method of controlling plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240055229A1. Автор: Jung Hwan Lee,Min Keun Bae,Aixian Zhang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09728418B2. Автор: Hiroshi Tsujimoto,Keigo TOYODA,Masaru ISAGO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140073113A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-13.

Plasma processing apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200286737A1. Автор: Toshifumi Nagaiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09530666B2. Автор: Hideki Mizuno,Kumiko Yamazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Plasma etching method

Номер патента: US09978566B2. Автор: Akihiro Yokota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Etsuji Ito,Tatsuro Ohshita,Shu KUSANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09887109B2. Автор: Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Plasma etching method, and production method for semiconductor element

Номер патента: US20220068652A1. Автор: Yoshimasa Inamoto. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200312622A1. Автор: SATOSHI Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Plasma Etching Method

Номер патента: US20120052688A1. Автор: Shoichi Murakami,Akimitsu Oishi,Masayasu Hatashita. Владелец: Sumitomo Precision Products Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Plasma etching method and semiconductor device fabrication method including the same

Номер патента: US12020903B2. Автор: Yonghee Kim,Minjae Lee,Dougyong Sung,SeungBo SHIM,Myungsun Choi,Byunghun Han,Donghyeon NA,Minyoung HUR,Hyeongmo KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-25.

Plasma etching method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20150187588A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

High-purity fluorinated hydrocarbon, use as a plasma etching gas, and plasma etching method

Номер патента: US09984896B2. Автор: Tatsuya Sugimoto. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Plasma etching method

Номер патента: US09793136B2. Автор: Kosei Ueda,Yoshinobu Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Multilayer magnetic tunnel junction etching method and MRAM device

Номер патента: US12063866B2. Автор: Lu Chen,Ziming Liu,Dongdong HU,Kaidong Xu,Hushan Cui,Dongchen CHE,Juebin WANG,Zhongyuan Jiang,Dajian HAN,Zhiwen ZOU. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Plasma etching method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US10529582B2. Автор: Mitsunari Horiuchi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2020-01-07.

Plasma etching method

Номер патента: US20190096689A1. Автор: Go Matsuura. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Method of determining plasma etching parameters

Номер патента: RU2686579C1. Автор: Владимир Иванович АНИСИМКИН,Наталья Владимировна Воронова,Геннадий Николаевич Галанов,Нелли Владимировна Воронова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова Российской академии наук. Дата публикации: 2019-04-29.

Plasma etching apparatus component for manufacturing semiconductor comprising composite sintered body and manufacturing method therefor

Номер патента: US20240055266A1. Автор: Young Jo Park,Jae Woong Ko,Ha Neul Kim,Mi Ju KIM,Hyeon Myeong OH. Владелец: Korea Institute of Materials Science KIMS. Дата публикации: 2024-02-15.

Plasma etching apparatus and method for operating the same

Номер патента: US12046451B2. Автор: Ju Ho Lee,Seung Bo SHIM,Doug Yong SUNG,Nam Kyun Kim,Seung Han BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20190006186A1. Автор: Hiroki Sato,Hisashi Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-03.

Integrated laser and plasma etch dicing

Номер патента: WO2024163214A1. Автор: Cheng Sun,Clinton Goh,Jonathan Bryant MELLEN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Integrated laser and plasma etch dicing

Номер патента: US20240266220A1. Автор: Cheng Sun,Clinton Goh,Jonathan Bryant MELLEN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Method of anisotropic plasma etching of silicon microstructures in a cyclic two-step oxidation-etching process

Номер патента: RU2691758C1. Автор: Владимир Федорович Лукичев,Константин Васильевич Руденко,Юрий Федорович Семин,Сергей Николаевич Аверкин,Андрей Валерьевич Мяконьких,Александр Павлович Антипов,Алексей Анатольевич Рылов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технологический институт имени К.А. Валиева Российской академии наук (ФТИАН им К.А. Валиева РАН). Дата публикации: 2019-06-18.

Plasma etching gas

Номер патента: US20030017708A1. Автор: Ming-Chung Liang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2003-01-23.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US10872779B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Masaru Izawa,Kohei Kawamura,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Kazumasa Ookuma,Yutaka Kouzuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-12-22.

Plasma etching method

Номер патента: EP3989682A1. Автор: Daisuke Sato,Yuki Oka,Kaoru Kaibuki. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-04-27.

Etching methods with alternating non-plasma and plasma etching processes

Номер патента: WO2024091612A1. Автор: Xiangyu GUO,Nathan Stafford. Владелец: L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2024-05-02.

Etching methods with alternating non-plasma and plasma etching processes

Номер патента: US20240162042A1. Автор: Xiangyu GUO,Nathan Stafford. Владелец: American Air Liquide Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143028A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Method for plasma etching of Ir-Ta-O electrode and for post-etch cleaning

Номер патента: US20020187645A1. Автор: HONG Ying,Sheng Hsu,Fengyan Zhang,Jer-shen Maa. Владелец: Sharp Laboratories of America Inc. Дата публикации: 2002-12-12.

Plasma etching method and semiconductor device fabrication method including the same

Номер патента: US20210104382A1. Автор: Yonghee Kim,Minjae Lee,Dougyong Sung,SeungBo SHIM,Myungsun Choi,Byunghun Han,Donghyeon NA,Minyoung HUR,Hyeongmo KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-08.

Multiple-processing and contamination-free plasma etching system

Номер патента: CA1331163C. Автор: Arthur W. Zafiropoulo,Joseph A. Maher,E. John Vowles,Joseph D. Napoli,Mark W. Miller. Владелец: General Signal Corp. Дата публикации: 1994-08-02.

Multilayer magnetic tunnel junction etching method and mram device

Номер патента: US20210376232A1. Автор: Lu Chen,Ziming Liu,Dongdong HU,Kaidong Xu,Hushan Cui,Dongchen CHE,Juebin WANG,Zhongyuan Jiang,Dajian HAN,Zhiwen ZOU. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-02.

Metal-based liner protection for high aspect ratio plasma etch

Номер патента: US20230298896A1. Автор: Qing Xu,Eric A. Hudson,Amit Mukhopadhyay,Merrett Wong,Gregory Clinton Veber,Walter Thomas RALSTON,Taner OZEL,Shuang Pi. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Multiple-processing and contamination-free plasma etching system

Номер патента: US5344542A. Автор: Arthur W. Zafiropoulo,Joseph A. Maher,E. John Vowles,Joseph D. Napoli,Mark W. Miller. Владелец: General Signal Corp. Дата публикации: 1994-09-06.

Etching method using halogen fluoride and method for producing semiconductor

Номер патента: US20220051898A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-02-17.

Photoplasma etching apparatus having improved plasma-resistant and manufacturing method therefor using a thermal diffusion phenomenon of a rare-earth metal thin film

Номер патента: US11827975B2. Автор: Hyunchul Ko,Suntae Kim,Donghun Jeong. Владелец: Komico Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: EP3843126A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-30.

Method and Apparatus for Plasma Etching

Номер патента: US20210193471A1. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US11664232B2. Автор: Huma Ashraf,Kevin RIDDELL,Codrin Prahoveanu. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-05-30.

Dry etching method

Номер патента: US4406733A. Автор: Shinichi Tachi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1983-09-27.

Plasma etching method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20190080923A1. Автор: Mitsunari Horiuchi. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-14.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: CA1124208A. Автор: Cyril J. Mogab. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-05-25.

Plasma etching of silicon carbide

Номер патента: WO2002097852A3. Автор: Si Yi Li. Владелец: Si Yi Li. Дата публикации: 2003-04-03.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220285169A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Wafer dicing with wide kerf by laser scribing and plasma etching hybrid approach

Номер патента: US20140346641A1. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Madhava Rao Yalamanchili,Aparna Iyer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-11-27.

Plasma etch process for single-crystal silicon with improved selectivity to silicon dioxide

Номер патента: WO1985002818A1. Автор: Mammen Thomas,Atiye Bayman. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 1985-07-04.

Method of plasma etching

Номер патента: US9040427B2. Автор: Huma Ashraf,Anthony Barker. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Plasma etching of additive-containing aln

Номер патента: EP4199687A1. Автор: Huma Ashraf,Alex WOOD,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-06-21.

Wafer dicing using hybrid laser scribing and plasma etch approach with mask plasma treatment for improved mask etch resistance

Номер патента: US20150214109A1. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Jungrae Park. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-07-30.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: CA1121305A. Автор: William R. Harshbarger,Hyman J. Levinstein,Cyril J. Mogab,Roy A. Porter. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-04-06.

Improvements relating to plasma etching

Номер патента: EP1188180A1. Автор: Srinivasan Anand,Carl-Fredrik Carlstrom,Gunnar Landgren. Владелец: Surface Technology Systems Ltd. Дата публикации: 2002-03-20.

Non-plasma etch of titanium-containing material layers with tunable selectivity to alternate metals and dielectrics

Номер патента: US20210057213A1. Автор: Subhadeep Kal,Daisuke Ito,Shinji Irie,Aelan Mosden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Plasma etching apparatus component and manufacturing method for the same

Номер патента: US20130251949A1. Автор: Michio Sato,Takashi Hino,Takashi Rokutanda,Masashi Nakatani. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2013-09-26.

Hybrid wafer dicing approach using a rectangular laser spot-based laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: US20240363412A1. Автор: Karthik Balakrishnan,Zavier Tan,Praveen Choragudi,Ananth Jupudi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Plasma Etching

Номер патента: US20230197457A1. Автор: Huma Ashraf,Alex WOOD,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Anisotropic plasma etching of trenches in silicon by control of substrate temperature

Номер патента: GB2341348A. Автор: Franz Laermer,Andrea Schilp,Volker Becker. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2000-03-15.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: US4208241A. Автор: William R. Harshbarger,Hyman J. Levinstein,Cyril J. Mogab,Roy A. Porter. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1980-06-17.

Laser scribing trench opening control in wafer dicing using hybrid laser scribing and plasma etch approach

Номер патента: US20240079273A1. Автор: James S. Papanu,Karthik Balakrishnan,Wei-Sheng Lei,Jungrae Park,Zavier Zai Yeong Tan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Laser scribing trench opening control in wafer dicing using hybrid laser scribing and plasma etch approach

Номер патента: US11854888B2. Автор: James S. Papanu,Karthik Balakrishnan,Wei-Sheng Lei,Jungrae Park,Zavier Zai Yeong Tan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Non-corrosive cleaning composition and method for removing photoresist and/or plasma etching residues

Номер патента: US6103680A. Автор: Kenji Honda,Eugene F. Rothgery. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2000-08-15.

Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230143327A1. Автор: Sang Ki Nam,Kyung-Sun Kim,Kangmin JEON,Nam Kyun Kim,Kuihyun YOON,Seunghan BAEK,Dongseok Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20220399204A1. Автор: Nobuhiro Takahashi,Ken NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-15.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09396968B2. Автор: Kazuhiro Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Lower electrode and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150206722A1. Автор: Takashi Yamamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Component for film formation apparatus or etching apparatus

Номер патента: US20230223241A1. Автор: Koji Kawahara,Tomonori Ogawa. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Focus ring, plasma apparatus and voltage-adjusting method using the same

Номер патента: US20190131114A1. Автор: Chia-Hao Chang,Kuan-Chou Chen,Kuan-Yu Lin,Chia-Ming Chen,Chih-Hung Liu,Jhih-Ren Lin. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2019-05-02.

Etching method of etching apparatus

Номер патента: US20220359173A1. Автор: Shih-Chieh Lin,Shuen-Hsiang Ke. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Dry etching method and apparatus for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US5990016A. Автор: Byong-dong Kim,Jung-kyu Lee,Sung-il Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-11-23.

Edge ring, dry etching apparatus having the same, and operation method of etching apparatus

Номер патента: US20240071732A1. Автор: Sungil Cho,Jinyoung Bang,Hyun-Sik HWANG,JungHwan UM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-29.

Etching apparatus and method for fabricating alternating phase shift mask using the same

Номер патента: US20110159415A1. Автор: Sang Jin Jo. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2011-06-30.

Manufacturing method of semiconductor device and dry etching apparatus for the same

Номер патента: US20140273482A1. Автор: Masaki Matsui,Yoshinori Tsuchiya,Shinichi Hoshi. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2014-09-18.

Multi-step local dry etching method for SOI wafer

Номер патента: US20040063329A1. Автор: Yasuhiro Horiike,Kazuyuki Tsuruoka,Michihiko Yanagisawa. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-01.

Etching method and semiconductor element manufacturing method

Номер патента: EP4181176A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-05-17.

Etching method

Номер патента: US09911617B2. Автор: Jinbiao Liu,Junfeng Li,Xiaobin He,Junjie Li,Qinghua Yang. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2018-03-06.

Etching method, method for producing dielectric film of low dielectric constant, method for producing porous member, etching system and thin film forming equipment

Номер патента: EP1881525A1. Автор: Hitoshi MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES LTD SAKAMOTO,Chikako HITEC Co. Ltd. KOBAYASHI. Владелец: Phyzchemix Corp. Дата публикации: 2008-01-23.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US20190333739A1. Автор: Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-10-31.

Etching method, etching apparatus, manufacturing method of semiconductor device, and manufacturing method of template

Номер патента: US20230307233A1. Автор: Hideaki Sakurai,Noriko Sakurai,Takeharu Motokawa. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Semiconductor device and etching method

Номер патента: US20240213086A1. Автор: Akiko Hirata,Masanaga Fukasawa. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11710644B2. Автор: Takahiro Yokoyama,Masanori Hosoya,Hiroie MATSUMOTO,Taihei MATSUHASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Etching method

Номер патента: US20150170932A1. Автор: Kazuhiro Kubota,Masanobu Honda,Fumiya Kobayashi,Hikaru Watanabe,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-18.

Etching method

Номер патента: US20190074190A1. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-07.

Etching method

Номер патента: US20160260624A1. Автор: Hidekazu Iida. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2016-09-08.

Etching method

Номер патента: US09735025B2. Автор: Yuki Kaneko,Masayuki Sawataishi,Tomonori Miwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Etching method

Номер патента: US09735021B2. Автор: Masayuki Sawataishi,Tomonori Miwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Etching method

Номер патента: US09613824B2. Автор: Hironobu Ichikawa,Isao Tafusa,Yusuke Saitoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate etching method

Номер патента: US09478439B2. Автор: Zhongwei Jiang. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210159084A1. Автор: Yoshihide Kihara,Sho Kumakura,Maju TOMURA,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11380555B2. Автор: Yoshihide Kihara,Sho Kumakura,Maju TOMURA,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-05.

Etching apparatus and etching method technical field

Номер патента: WO2014010751A1. Автор: Isao Yamada,Koji Yamashita,Kenichi Hara,Koji Kasuga,Noriaki Toyoda. Владелец: University of Hyogo. Дата публикации: 2014-01-16.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210082709A1. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11495468B2. Автор: Masanobu Honda,Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-08.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210066089A1. Автор: Masanobu Honda,Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Etching method, etching apparatus, and storage medium

Номер патента: US9449844B2. Автор: Isao Yamada,Kenichi Hara,Takashi Hayakawa,Noriaki Toyoda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20200234963A1. Автор: Sho Kumakura,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-23.

Etching method

Номер патента: US12020942B2. Автор: Kenta Doi,Toshiyuki Nakamura,Yasuhiro Morikawa,Taichi Suzuki. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Etching method

Номер патента: US20210028356A1. Автор: Jun Sato,Kiyoshi Maeda,Ken Ando,Shigeru Tahara,Hiroki Maehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-28.

Etching method for semiconductor device

Номер патента: EP1511067A3. Автор: Fujio Masuoka,Takashi Yokoyama,Shinji Horii,Takuji Tanigami. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2005-08-31.

Etching method for semiconductor device

Номер патента: US20050037621A1. Автор: Fujio Masuoka,Takashi Yokoyama,Shinji Horii,Takuji Tanigami. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2005-02-17.

Polysilicon etching method

Номер патента: US20190385864A1. Автор: Hongkun SONG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-12-19.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230251567A1. Автор: Yoshihide Kihara,Jaeyoung Park,Maju TOMURA,Taiki Miura,Ryutaro Suda,Yusuke FUKUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09524876B2. Автор: Masanobu Honda,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Plasma etching method

Номер патента: US09966273B2. Автор: Yoshiki Igarashi,Wataru TAKAYAMA,Sho TOMINAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma etching method

Номер патента: US09680090B2. Автор: Kentaro Yamada,Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Daisuke Fujita. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150332929A1. Автор: Masanobu Honda,Toru Hisamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-11-19.

Dry etching method

Номер патента: US09905431B2. Автор: Masahito Mori,Takao Arase,Satoshi Terakura,Ryuta Machida. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: EP1729978A2. Автор: Jennifer Wang. Владелец: Northrop Grumman Corp. Дата публикации: 2006-12-13.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: WO2005079476B1. Автор: Jennifer Wang. Владелец: Northrop Grumman Corp. Дата публикации: 2006-07-27.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: US20050178740A1. Автор: Jennifer Wang. Владелец: Northrop Grumman Space and Mission Systems Corp. Дата публикации: 2005-08-18.

Method of dry plasma etching semiconductor materials

Номер патента: WO2005079476A2. Автор: Jennifer Wang. Владелец: NORTHROP GRUMMAN CORPORATION. Дата публикации: 2005-09-01.

Metal-based passivation-assisted plasma etching of iii-v semiconductors

Номер патента: US20180323074A1. Автор: Rebecca J. Nikolic,Qinghui Shao,Lars Voss,Sara Elizabeth Harrison,Clint Frye. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2018-11-08.

Single-wafer etching method for wafer and etching apparatus thereof

Номер патента: MY147183A. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2012-11-14.

Single Wafer Etching Apparatus and Single Wafer Etching Method

Номер патента: US20070175863A1. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2007-08-02.

Anisotropic etching method

Номер патента: EP1096553B1. Автор: Hiroyuki Mitsubishi Materials Silicon Corp. OI. Владелец: Mitsubishi Materials Silicon Corp. Дата публикации: 2010-12-29.

Etching method, etching apparatus, and storage medium

Номер патента: US09887092B2. Автор: Hideaki Sato,Takahiro Furukawa,Hiromi Hara,Takami Satoh,Toshiyuki Shiokawa,Takahiro Kawazu,Yusuke FUTAMATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Etching composition for metal nitride layer and etching method using the same

Номер патента: US12031077B2. Автор: Hyeon Woo PARK,Myung Ho Lee,Myung Geun Song,Seok Hyeon NAM. Владелец: ENF Technology CO Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Etching methods and methods of manufacturing semiconductor devices using the same

Номер патента: US09812332B2. Автор: DongSuk Shin,Hanjin Lim,Moonhan Park,Hyun-Kwan Yu,Woonki SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-07.

Etching apparatus and method

Номер патента: US20080017611A1. Автор: Yong-Woo Kim,Ho-Geun Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-01-24.

Etching method, method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor device

Номер патента: US20050118818A1. Автор: Tomoya Nishida. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-06-02.

Etching method, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20210202260A1. Автор: Masanobu Honda,Shinya Ishikawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

Etching method

Номер патента: US6844265B2. Автор: Masahiko Ouchi. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2005-01-18.

Etching method, method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor device

Номер патента: US7153710B2. Автор: Tomoya Nishida. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2006-12-26.

Chemical etching method using a metal catalyst

Номер патента: US20240203746A1. Автор: Kyung Hwan Kim,Min Young Kim,Hang Lim LEE,Jung Woo OH,Sun Hae CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Etching method

Номер патента: US12125708B2. Автор: Yu Zhao,Hiroyuki Kobayashi,Takashi Hattori,Hiroto Otake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Etching method, and method of producing semiconductor substrate product and semiconductor device using the same

Номер патента: US09558953B2. Автор: Tadashi Inaba,Tetsuya Kamimura,Naotsugu Muro,Takahiro Watanabe,Kee Young PARK. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Wafer etching apparatus and method for controlling etch bath of wafer

Номер патента: US20150380323A1. Автор: Tai-I Yang,Tien-Lu Lin,Chih-shen Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-12-31.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US09460897B2. Автор: Takayuki Katsunuma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Plasma etching apparatus and plasma cleaning method

Номер патента: US09659756B2. Автор: Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Method and Apparatus for Plasma Etching Dielectric Substrates

Номер патента: US20240212998A1. Автор: Andrew RUBIN,Nicolas Launay,Kevin RIDDELL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Method of controlling plasma etch process

Номер патента: US20030153102A1. Автор: Hsien-Kuang Chiu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-08-14.

Plasma etching apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20080110569A1. Автор: Junichi Tanaka,Hiroshi Akiyama,Naoshi Itabashi,Kouhei Satou,Go Miya,Seiichiro Kanno. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-05-15.

Plasma etching process

Номер патента: US5405491A. Автор: Iraj E. Shahvandi,Carol Gelatos,Leroy Grant, Jr.. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Photomask plasma etching apparatus, etching method, and photomask forming method

Номер патента: US20060292727A1. Автор: Takeharu Motokawa,Junichi Tonotani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Construction of a chamber casing in a plasma etching system

Номер патента: US5720846A. Автор: Whikun Yi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1998-02-24.

Method and apparatus for plasma etching dielectric substrates

Номер патента: EP4391010A1. Автор: Andrew RUBIN,Nicolas Launay,Kevin RIDDEL. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Baffle plate and plasma etching device having same

Номер патента: WO2003098669A1. Автор: Moon Hwan Kim,Jeung Woo Lee,Young Jae Moon. Владелец: Tokyo Electron Korea Ltd.. Дата публикации: 2003-11-27.

Apparatus and method for plasma etching

Номер патента: US20240258084A1. Автор: Jongwoo SUN,Jewoo HAN,Haejoong Park,Kyohyeok KIM,Taehwa Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2024-08-01.

Process for cleaning an electrostatic chuck of a plasma etching apparatus

Номер патента: US5746928A. Автор: Po-Tao Chu,Kuang-Hui Chang,Shih Kuei Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1998-05-05.

Plasma etching device

Номер патента: US20040134612A1. Автор: Takeomi Numata. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2004-07-15.

Apparatus and method for plasma etching

Номер патента: US11984304B2. Автор: Jongwoo SUN,Jewoo HAN,Haejoong Park,Kyohyeok KIM,Taehwa Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-14.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US4595452A. Автор: Richard F. Landau,Henry A. Majewski. Владелец: Oerlikon Buhrle USA Inc. Дата публикации: 1986-06-17.

Ring mechanism, and plasma processing device using the ring mechanism

Номер патента: US7882800B2. Автор: Mitsuru Hashimoto,Hideaki Tanaka,Akira Koshiishi,Shigeru Tahara,Kunihiko Hinata,Jun Ooyabu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-02-08.

Substrate support assembly, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20230298865A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Masashi Ikegami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Local etching apparatus

Номер патента: US6302995B1. Автор: Michihiko Yanagisawa,Chikai Tanaka. Владелец: SpeedFam-IPEC Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-16.

Local etching apparatus and local etching method

Номер патента: US20010036741A1. Автор: Michihiko Yanagisawa,Chikai Tanaka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Ion beam etching apparatus

Номер патента: US11120975B2. Автор: Jin Woo Park,Ki Hyun Kim,Ki Seok Kim,Geun Young Yeom,Kyung Chae YANG,Da In SUNG,Doo San KIM,You Jin JI,Jong Sik OH,Won Oh Lee,Mu Kyeom MUN,Ji Soo OH. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2021-09-14.

Anisotropic etch apparatus with local etch direction adjustment capability and methods for operating the same

Номер патента: US20210391154A1. Автор: Shigehiro Fujino,Shoichi Murakami,Yusuke Osawa,Masaaki Higashitani,Syo FUKATA,Shigeru NAKATSUKA. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2021-12-16.

Ring assembly, substrate support apparatus and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US12068141B2. Автор: Sungki Lee,Jonggun YOON,Sungkyu CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-20.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US12094696B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282460A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282461A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US11990323B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

FOCUS-RING CONVEYING MEMBER AND PLASMA PROCESSING DEVICE INCLUDING FOCUS-RING CONVEYING MEMBER

Номер патента: US20210159056A1. Автор: MUNEISHI Takeshi. Владелец: . Дата публикации: 2021-05-27.

FOCUS RING REPLACEMENT METHOD AND PLASMA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20180019107A1. Автор: Ishizawa Shigeru. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-18.

FOCUS RING REPLACEMENT METHOD AND PLASMA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20200035470A1. Автор: Ishizawa Shigeru. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-30.

FOCUS RING REPLACEMENT METHOD AND PLASMA PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20200035471A1. Автор: Ishizawa Shigeru. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-30.

Plasma etching method

Номер патента: US20170372915A1. Автор: Hirotoshi Inui. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2017-12-28.

Plasma generation and pulsed plasma etching

Номер патента: US09793127B2. Автор: yu chao Lin,Chao-Cheng Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

In-situ sequential silicon containing hard mask layer/silicon layer plasma etch method

Номер патента: US6069091A. Автор: Ming-Yeon Hung,Fa-Yuan Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-05-30.

Plasma etching techniques

Номер патента: WO2022173633A1. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-08-18.

Plasma etching techniques

Номер патента: US20220254645A1. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Dry etching method and dry etching agent

Номер патента: US9929021B2. Автор: Akifumi YAO,Hiroyuki Oomori. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Dry Etching Method and Dry Etching Agent

Номер патента: US20170084467A1. Автор: Akifumi YAO,Hiroyuki Oomori. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-23.

Multi-layer mask including non-photodefinable laser energy absorbing layer for substrate dicing by laser and plasma etch

Номер патента: US09620379B2. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Madhava Rao Yalamanchili,Todd Egan,Mohammad Kamruzzaman CHOWDHURY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-11.

Device fabrication by plasma etching with lessened loading effect

Номер патента: CA1124207A. Автор: Cyril J. Mogab. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-05-25.

Plasma etching method

Номер патента: US20190228983A1. Автор: Takaaki Sakurai,Hirotoshi Inui. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-07-25.

Etch mask for hybrid laser scribing and plasma etch wafer singulation process

Номер патента: SG11201809012PA. Автор: AJAY Kumar,James S Papanu,Brad Eaton,Prabhat Kumar,Wenguang Li,Alexander N Lerner,Ramesh Krishnamurthy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Process for plasma etching of vias

Номер патента: US5514247A. Автор: Robert Wu,Hongching Shan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-05-07.

Method of planarizing an upper surface of a semiconductor substrate in a plasma etch chamber

Номер патента: US20150249016A1. Автор: Yoshie Kimura,Harmeet Singh,Yifeng Zhou,Meihua Shen,Baosuo Zhou,John Hoang,Monica TITUS,Gowri Kamarthy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-09-03.

Plasma etching techniques

Номер патента: US11538690B2. Автор: Aelan Mosden,Pingshan Luan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-27.

Dry-etching method

Номер патента: US20170162397A1. Автор: Kenichi Kuwahara,Syuji ENOKIDA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-06-08.

Hybrid wafer dicing approach using a spatially multi-focused laser beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: EP4010919A1. Автор: James S. Papanu,Jungrae Park,Zavier Zai Yeong Tan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-06-15.

Process for developing fine openings in a flexible electronic component with a plasma-etching technique

Номер патента: US20240071824A1. Автор: Gurinder S. Saini,David J. Crary. Владелец: Tech Etch Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: US4226665A. Автор: Cyril J. Mogab. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1980-10-07.

Dry-etching method

Номер патента: US10192749B2. Автор: Kenichi Kuwahara,Syuji ENOKIDA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-29.

Wafer dicing using hybrid laser scribing and plasma etch approach with intermediate breakthrough treatment

Номер патента: WO2020055523A1. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-03-19.

Hybrid wafer dicing approach using a rotating beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: US9852997B2. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Jungrae Park. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Hybrid wafer dicing approach using a rotating beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: WO2017165706A1. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Jungrae Park. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-09-28.

Hybrid wafer dicing approach using a uniform rotating beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: EP4014251A1. Автор: James S. Papanu,Karthik Balakrishnan,Jungrae Park. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-06-22.

Hybrid wafer dicing approach using a uniform rotating beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: US20210050263A1. Автор: James S. Papanu,Karthik Balakrishnan,Jungrae Park. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-18.

Hybrid wafer dicing approach using a spatially multi-focused laser beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: US20210043515A1. Автор: James S. Papanu,Jungrae Park,Zavier Zai Yeong Tan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-11.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09991138B2. Автор: Akifumi YAO,Mitsuhiro Tachibana,Koji Takeya,Tatsuo Miyazaki,Kunihiro Yamauchi,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US12142495B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Toshiki KANAKI,Megumi UMEMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Single wafer etching apparatus

Номер патента: MY148161A. Автор: Takeo Katoh,Tomohiro Hashii,Katsuhiko Murayama,Sakae Koyata,Kazushige Takaishi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2013-03-15.

Metal removal method, dry etching method, and production method for semiconductor element

Номер патента: US20220325418A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-10-13.

Dry etching method, method for producing semiconductor element, and cleaning method

Номер патента: US20240282583A1. Автор: Kazuma Matsui,Jumpei Iwasaki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Selective Etching Method and Method for Forming an Isolation Structure of a Memory Device

Номер патента: US20100167494A1. Автор: Dae Jin Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-07-01.

Wet etch apparatus

Номер патента: US20210391189A1. Автор: Han-Wen LIAO,Hong-Ting LU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-16.

Etching method and apparatus for semiconductor wafers

Номер патента: US20040157452A1. Автор: Yoshihiro Ogawa,Hiroshi Tomita,Hisashi Okuchi,Hiroyasu Iimori. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-12.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US8283254B2. Автор: Takahito Mukawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-10-09.

Dry etching method, method for manufacturing semiconductor device, and etching device

Номер патента: US20220056593A1. Автор: Akifumi YAO,Kunihiro Yamauchi,Yuuta TAKEDA. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-24.

Etching method and method for producing semiconductor element

Номер патента: US20240249952A1. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Etching gas, etching method, and method for producing semiconductor device

Номер патента: US20230386851A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Etching gas, etching method, and method for producing semiconductor element

Номер патента: EP4231332A1. Автор: Atsushi Suzuki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-08-23.

Sputter etch methods

Номер патента: US20040266190A1. Автор: Jae Han. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-12-30.

Gold or gold alloy etching solution composition and etching method

Номер патента: EP4283014A1. Автор: Yuki Yoshida,Koichi Inoue,Iori KAWASHIMA,Itsuki KASHIWAGI. Владелец: Kanto Chemical Co Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Etching method, method of manufacturing article, and etching solution

Номер патента: US09701902B2. Автор: Yusaku Asano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Etching method and photomask blank processing method

Номер патента: EP2251741A3. Автор: Hideo Kaneko,Hiroki Yoshikawa,Shinichi Igarashi,Yukio Inazuki,Yoshinori Kinase. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-19.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20190304801A1. Автор: Susumu Yamauchi,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-10-03.

Plasma etching method and apparatus, and method of manufacturing liquid ejection head

Номер патента: US20120175061A1. Автор: Shuji Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-07-12.

Plasma control method and plasma control apparatus

Номер патента: US20060110933A1. Автор: Makoto Shimosawa. Владелец: Fuji Electric Holdings Ltd. Дата публикации: 2006-05-25.

Etching apparatus and methods

Номер патента: US09640370B2. Автор: Oliver James Ansell. Владелец: SPTS Technologies Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Plasma etching apparatus, plasma etching method, and semiconductor device fabrication method including the plasma etching method

Номер патента: US20220020597A1. Автор: Dougyong Sung,SeungBo SHIM,Myungsun Choi,Nam Kyun Kim,Kyuho Kim,Sungjun ANN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-01-20.

Focus ring heating method, plasma etching apparatus, and plasma etching method

Номер патента: US20130299455A1. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Jun Yamawaku,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-11-14.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20150206715A1. Автор: Takayuki Ishii,Ryoichi Yoshida,Ken Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20140076848A1. Автор: Yoichi Nakahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-03-20.

Plasma etching method

Номер патента: US09437450B2. Автор: Tetsuro Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-06.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US11637020B2. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-25.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20220051902A1. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-17.

Etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20230245897A1. Автор: Koki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Plasma etching apparatus, plasma etching method using the same, and semiconductor fabrication method using the same

Номер патента: US20230187186A1. Автор: Jongchul Park,Sanghyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-15.

Dual mode plasma etching system and method of plasma endpoint detection

Номер патента: US5242532A. Автор: John L. Cain. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1993-09-07.

Plasma etching method

Номер патента: US20240006186A1. Автор: Jun-Hyun Kim,Chang-Koo Kim,Sang-Hyun YOU. Владелец: Ajou University Industry Academic Cooperation Foundation. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma etching of ni-containing materials

Номер патента: WO2003065419A3. Автор: Lee Chen. Владелец: Lee Chen. Дата публикации: 2003-11-13.

Plasma etching method using gas molecule containing sulfur atom

Номер патента: EP3813097A1. Автор: Yoshinao Takahashi,Korehito Kato,Yoshihiko IKETANI,Mitsuharu SHIMODA. Владелец: Kanto Denka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-28.

Plasma etching of porous substrates

Номер патента: US9595422B2. Автор: Mikhaïl Baklanov,Liping Zhang,Jean-Francois De Marneffe. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2017-03-14.

Plasma etching system and faraday shielding apparatus which can be used for heating

Номер патента: US20230207283A1. Автор: Jun Zhang,Haiyang Liu,Xiaobo Liu,Chengyi Wang,Song Guo,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu. Владелец: Beijing Leuven Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230230815A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Jinyeong Yun,Jang-Yeob LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Tunable focus ring for plasma processing

Номер патента: WO2002025695A3. Автор: Wayne L Johnson. Владелец: Wayne L Johnson. Дата публикации: 2002-06-13.

Dry etching apparatus with diluted anhydrous hydrogen fluoride gas generator

Номер патента: US5100495A. Автор: Tadahiro Ohmi,Masahiro Miki,Matagoro Maeno,Hirohisa Kikuyama. Владелец: Hashimoto Chemical Industries Co Ltd. Дата публикации: 1992-03-31.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US09659789B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US20240355635A1. Автор: Kazuhiko Tonari. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Focus ring and plasma processing apparatus

Номер патента: US20180240651A1. Автор: Nobuyuki Nagayama,Masahiko Oka,Yasuyuki Matsuoka,Naoyuki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12020909B2. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Jinyeong Yun,Jang-Yeob LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-25.

Etching method with metal hard mask

Номер патента: US12100601B2. Автор: Yu Zhang,Zhaocheng LIU,Aki AKIBA. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US20220208554A1. Автор: Kazuhiko Tonari. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2022-06-30.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230402289A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA,Noriyoshi ARIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Etching method

Номер патента: US12119233B2. Автор: Kazuma Matsui. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Etching method

Номер патента: US09543164B2. Автор: Ryoichi Yoshida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20190237332A1. Автор: KATSUNORI Tanaka,Hotaka Maruyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-08-01.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234163A1. Автор: Shoi Suzuki,Taku GOHIRA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20160268140A1. Автор: Shunichi Mikami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-15.

Plasma etching method, plasma etching apparatus, control program and computer-readable storage medium

Номер патента: US20080190892A1. Автор: Sung Tae Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-08-14.

Etching method

Номер патента: US09472736B2. Автор: Toshiyuki Kondo,Atsushi Suzuki,Midori Mori,Koichi Naniwae,Fumihara Teramae. Владелец: EL Seed Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Plasma etching apparatus and operating method thereof

Номер патента: US20240128056A1. Автор: SeungBo SHIM,Changho Kim,Kyungsun Kim,Minyoung HUR,Yoonbum Nam,Hyeontae Kim,Juneeok Leem. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-18.

Plasma etching method and plasma etching apparatus

Номер патента: US20080179283A1. Автор: Hiroyuki SHIBAMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-07-31.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US20170207066A1. Автор: Yongsun Ko,Kijong Park,Taeheon Kim,Kyunghyun Kim,Jun-youl Yang,Jae Jin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-20.

Method and apparatus for plasma etching

Номер патента: US20180102235A1. Автор: Yongsun Ko,Kijong Park,Taeheon Kim,Kyunghyun Kim,Jun-youl Yang,Jae Jin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-12.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20050211380A1. Автор: Takayoshi Sawayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-29.

Plasma etching method

Номер патента: US09960014B2. Автор: Masatoshi Miyake,Nobuyuki Negishi,Ken'etsu Yokogawa,Naoyuki Kofuji,Masami Kamibayashi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma etching method

Номер патента: US09449842B2. Автор: Takahiro Abe,Takeshi Shimada,Masato Ishimaru,Makoto Suyama. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Plasma etching apparatus

Номер патента: US20020014308A1. Автор: Takayoshi Sawayama. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2002-02-07.

Improved endpoint detection system and method for plasma etching

Номер патента: WO1991005367A1. Автор: Calvin Gabriel,Jim Nulty. Владелец: Vlsi Technology, Inc.. Дата публикации: 1991-04-18.

Semiconductor device manufactured using an improved plasma etch process for a fully silicided gate flow process

Номер патента: WO2008118837A1. Автор: Frank S. Johnson,Freidoon Mehrad,Jinhan Choi. Владелец: TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED. Дата публикации: 2008-10-02.

Plasma etching methods

Номер патента: US6010967A. Автор: Kevin G. Donohoe,Richard L. Stocks. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-01-04.

Plasma etching apparatus and method of etching wafer

Номер патента: WO2009008659A3. Автор: Jung Hee Lee,Kwan Goo Rha,Chul Hee Jang,Young Ki Han,Gil Hun Lee. Владелец: Gil Hun Lee. Дата публикации: 2009-03-12.

Plasma etching apparatus and semiconductor processing system

Номер патента: US20230078095A1. Автор: Sejin Oh,Dougyong Sung,Byeongsang KIM,Youngdo Kim,Sungho Jang,Yunhwan Kim,Jungmo YANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-16.

Formation of removable shroud by anisotropic plasma etch

Номер патента: US20050287762A1. Автор: John Lee,Barbara Haselden. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2005-12-29.

Method and apparatus to improve plasma etch uniformity

Номер патента: WO2006041634A2. Автор: David Johnson,Russell Westerman. Владелец: Unaxis Usa Inc.. Дата публикации: 2006-04-20.

Method and apparatus to improve plasma etch uniformity

Номер патента: EP1797578A2. Автор: David Johnson,Russell Westerman. Владелец: Unaxis USA Inc. Дата публикации: 2007-06-20.

Method of plasma etching thin films of difficult to dry etch materials

Номер патента: WO2001020655A1. Автор: Martin Gutsche,Satish D. Athavale. Владелец: Infineon Technologies North America Corp.. Дата публикации: 2001-03-22.

Method for selectivity enhancement during dry plasma etching

Номер патента: US09666447B2. Автор: Vinayak Rastogi,Alok Ranjan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma etch singulated semiconductor packages and related methods

Номер патента: US09559007B1. Автор: Darrell Truhitte. Владелец: Semiconductor Components Industries LLC. Дата публикации: 2017-01-31.

Radio frequency electron cyclotron resonance plasma etching apparatus

Номер патента: US5401351A. Автор: Seiji Samukawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1995-03-28.

Plasma etching method and plasma etching device

Номер патента: US20240096596A1. Автор: Hee Ju Kim,Ji Eun Kang,Jong Woo HONG,Geun Young Yeom,Wonjun CHANG,Soo NAM GOONG. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2024-03-21.

Integration of vapor deposition process into plasma etch reactor

Номер патента: US20230260759A1. Автор: Eric A. Hudson,Ramesh Chandrasekharan,Andrew Clark SERINO,Alan M. Schoepp,Thad NICHOLSON. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Method for manufacturing electronic device by forming a hole in a multilayer insulator film by plasma etching

Номер патента: US09530664B2. Автор: Shingo Kitamura,Aiko Kato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Method and system for facilitating the determination of the end point in plasma etching processes

Номер патента: WO2006106556A1. Автор: Roberto Colombo,Giuseppe Fazio,Diego Zappa. Владелец: STMICROELECTRONICS S.R.L.. Дата публикации: 2006-10-12.

Selective silicon nitride plasma etching

Номер патента: US5188704A. Автор: Bang C. Nguyen,Kenneth L. Devries,Wayne T. Babie,Chau-Hwa J. Yang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1993-02-23.

Damage free gate dielectric process during gate electrode plasma etching

Номер патента: US5843835A. Автор: Ming-Hsi Liu. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 1998-12-01.

Plasma etching method

Номер патента: US5928963A. Автор: Akira Koshiishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-07-27.

Plasma etching method

Номер патента: US20170084430A1. Автор: Masatoshi Miyake,Nobuyuki Negishi,Ken'etsu Yokogawa,Naoyuki Kofuji,Masami Kamibayashi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-03-23.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: US20190013209A1. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-01-10.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321562A1. Автор: Yoshihide Kihara,Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: US09934984B2. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Plasma etching method

Номер патента: US20100264116A1. Автор: Tatsuya Sugimoto,Masahiro Nakamura,Takefumi Suzuki. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2010-10-21.

Inductively coupled plasma etching apparatus

Номер патента: WO2001075931A3. Автор: Shu Nakajima. Владелец: Shu Nakajima. Дата публикации: 2002-03-21.

Inductively coupled plasma etching apparatus

Номер патента: EP1269513A2. Автор: Shu Nakajima. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-01-02.

Plasma etching reactor with reduced plasma potential

Номер патента: CA1219975A. Автор: Charles J. Hendricks,Brian H. Desilets,Thomas A. Gunther,John H. Keller. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1987-03-31.

Method for etching oxide film in plasma etching system

Номер патента: US6103137A. Автор: Jae-Hyun Park. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2000-08-15.

Two step plasma etching

Номер патента: CA1191479A. Автор: Steven F. Bergeron,Bernard F. Duncan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1985-08-06.

In situ declogging in plasma etching

Номер патента: WO2023239617A1. Автор: Ji Zhu,Zhongkui Tan,Xiaofeng Su,Qiang Ma,Mark Naoshi Kawaguchi,Gowri Channa KAMARTHY,Priyadarsini SUBRAMANIAN,Wenchi Liu. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-12-14.

Method of plasma etching

Номер патента: US12087593B2. Автор: Shih Pin KUO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

System and method for plasma etching endpoint detection

Номер патента: US5405488A. Автор: Samuel V. Dunton,Calvin T. Gabriel,Dimitrios Dimitrelis. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Plasma etch chamber and method of plasma etching

Номер патента: EP3465727A1. Автор: Mohamed Elghazzali,Ben CURTIS,Frantisek Balon. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2019-04-10.

Plasma etch chamber and method of plasma etching

Номер патента: US20190304757A1. Автор: Mohamed Elghazzali,Ben CURTIS,Frantisek Balon. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2019-10-03.

Microwave plasma etching apparatus

Номер патента: US4559100A. Автор: Shigeru Nishimatsu,Keizo Suzuki,Yoshifumi Ogawa,Sadayuki Okudaira,Ken Ninomiya. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1985-12-17.

Method and system for reducing polymer build up during plasma etch of an intermetal dielectric

Номер патента: US20020158247A1. Автор: Mohammad Massoodi,Mehrdad Mahanpour,Jose Hulog. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-31.

Two step plasma etching

Номер патента: US4457820A. Автор: Steven F. Bergeron,Bernard F. Duncan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-07-03.

Method of producing polysilicon structures in the 1 um range on substrates containing integrated semiconductor circuits by plasma etching

Номер патента: CA1165724A. Автор: Barbara Hasler,Willy Beinvogel. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1984-04-17.

Hard mask for copper plasma etch

Номер патента: US20010035582A1. Автор: Peter D. Nunan,Mark Richard Tesauro. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2001-11-01.

Reactive ion etch method for forming vias through nitrogenated silicon oxide layers

Номер патента: US5904566A. Автор: Chia-Shiung Tsai,Hun-Jan Tao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-05-18.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: US20180122649A1. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Hydrofluorocarbon gas-assisted plasma etch for interconnect fabrication

Номер патента: WO2017044154A1. Автор: Eric A. Joseph,Takefumi Suzuki,Robert L. Bruce,Joe Lee. Владелец: ZEON CORPORATION. Дата публикации: 2017-03-16.

Anisotropic polysilicon plasma etch using fluorine gases

Номер патента: US5453156A. Автор: Ming-Shry Cher,Chung-Hsing Shan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1995-09-26.

Photo CVD apparatus with a glow discharge system

Номер патента: US5183511A. Автор: Shunpei Yamazaki,Shigenori Hayashi,Naoki Hirose,Takashi Inujima. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1993-02-02.

Process for the plasma etching of materials not containing silicon

Номер патента: US7071110B2. Автор: Josef Mathuni,Günther Ruhl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-07-04.

Method of manufacturing a ferroelectric device using a plasma etching process

Номер патента: US5443688A. Автор: Steven R. Collins,Abron S. Toure,Bruce W. LeBlanc. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 1995-08-22.

Enhanced plasma etching

Номер патента: US4985112A. Автор: Walter E. Mlynko,Frank D. Egitto. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1991-01-15.

Plasma etching of dielectric layer with etch profile control

Номер патента: US20030045114A1. Автор: Lumin Li,Tuqiang Ni. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-06.

Method of plasma etching

Номер патента: US20230411164A1. Автор: Shih Pin KUO. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Electrode for plasma etching

Номер патента: US6007672A. Автор: Kazuo Saito,Akira Yamaguchi,Yasushi Mochizuki. Владелец: Nisshinbo Industries Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

Etching apparatus and method for semiconductor device

Номер патента: US20080248650A1. Автор: Tae-yong Kwon,Kyung Hyun Han,Kyung Chun Lim,Sang Min Jeong,Dong Yong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-10-09.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20240203694A1. Автор: Masahiro Yamamoto,Masaki Hosono,Kyohei Noguchi,Takuji Sako,Julen AROZAMENA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11764070B2. Автор: Satoshi TODA,Naoki Shindo,Gen You,Haruna Suzuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Etching apparatus and etching method

Номер патента: US09934941B2. Автор: Yasuyuki Sonoda. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Method of monitoring output intensity of laser beam in bevel etching apparatus

Номер патента: US09905485B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Wet etching apparatus

Номер патента: US20200075359A1. Автор: Jin Woo Lee,Seung Min Shin,Yong Jun Choi,Seok Hoon Kim,Ji Hoon Cha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-03-05.

Dry etching methods for reducing fluorocarbon-containing gas emissions

Номер патента: US20240212988A1. Автор: Chun-Chieh Wang,Tzu-Ming Ou Yang,Yuan-Hao Su. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Etching method and manufacturing method of a semiconductor memory device

Номер патента: US20240321570A1. Автор: Tsubasa IMAMURA,Ayata Harayama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Etching method and method of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US09972696B2. Автор: Sang Won Bae,Hoyoung Kim,Wonsang Choi,Jae-Jik Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-15.

Method of selectively removing silicon nitride and etching apparatus thereof

Номер патента: US09799530B2. Автор: Chi-Ming Yang,Ying-Hsueh CHANGCHIEN,Yu-Ming Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Etching method and storage medium

Номер патента: US09613823B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Kenshirou ASAHI,Kimihiko DEMICHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Via-hole etching method

Номер патента: US09564354B2. Автор: Donghua Jiang,Wuyang ZHAO,Chundong LI,Byung Chun Lee,Yongyi FU. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Method for manufacturing touch screen panels using a dry etching apparatus

Номер патента: US09552122B2. Автор: Bong-Sub Song,Soung-Chang Ku. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Thin film etching method and semiconductor device fabrication using same

Номер патента: SG153733A1. Автор: Cong Hai,HU Xiang,Zhou Mei Sheng,Pradeep Yelehanka. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2009-07-29.

Dry Etching Method, Semiconductor Device Manufacturing Method, and Chamber Cleaning Method

Номер патента: US20190355590A1. Автор: Akifumi YAO,Shoi Suzuki. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Etching composition for selectively etching silicon nitride, etching method, and manufacturing method of semiconductor device using the same

Номер патента: US20240014044A1. Автор: Hyun Goo Kang,Young Mee Kang,Eun Seok Oh,Sang Woo LIM,Tae Gun Park,Go Un KIM. Владелец: University Industry Foundation UIF of Yonsei University. Дата публикации: 2024-01-11.

Semiconductor device and etching method

Номер патента: US20220375763A1. Автор: Akiko Hirata,Masanaga Fukasawa. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2022-11-24.

Wet etching method and method of fabricating semiconductor device by using the same

Номер патента: US20230230843A1. Автор: Taeheon Kim,Kyunghyun Kim,Sanghoon JEONG,ChangSup Mun,Seungcheol Chae,Junyoul Yang,Yongsik Chung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Etching method, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US12112954B2. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Kenta Ono,Maju TOMURA,Yusuke Takino,Hironari SASAGAWA,Tomohiko Niizeki,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Etching method for selectively etching silicon oxide with respect to silicon nitride

Номер патента: US09754797B2. Автор: Akihiro Tsuji,Hikaru Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Dry etching method

Номер патента: US09728422B2. Автор: Hiroyuki Oomori,Akiou Kikuchi. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Etching method of semiconductor substrate, and method of producing semiconductor device

Номер патента: US09514958B2. Автор: Tadashi Inaba,Atsushi Mizutani,Tetsuya Kamimura,Yoshinori Nishiwaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US11791175B2. Автор: Takayuki Suga,Jun Lin,Yoshiki Igarashi,Satoru KIKUSHIMA,Chengya CHU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20210090898A1. Автор: Satoshi TODA,Naoki Shindo,Ryo Kuwajima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-25.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20240006187A1. Автор: Hiroyuki Abe,Reiko SASAHARA,Teppei Okumura,Seungmin Kim,Toshinori Debari,Woonghyun JEUNG,Kenshiro ASAHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20230395400A1. Автор: Takayuki Suga,Jun Lin,Yoshiki Igarashi,Satoru KIKUSHIMA,Chengya CHU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Flow guide plate, lower electrode assembly for dry etching apparatus, and dry etching apparatus

Номер патента: US20190043696A1. Автор: ZHONG YANG,Kai Jiang,Xiaofeng Yang,Shihong Chen,Zelin Chen,Mingzhi Chai. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-07.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20230290653A1. Автор: Masaki Inaba,Yuya Akanishi,Kazuki Nishihara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Etching method and etching apparatus

Номер патента: US20230290644A1. Автор: Yuya Akanishi,Kazuki Nishihara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Focus ring and plasma etching device including same

Номер патента: US20240030007A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Focus ring and plasma etching apparatus comprising the same

Номер патента: EP4322200A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-14.

Focus ring and plasma etching apparatus comprising the same

Номер патента: US20240055238A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Method for detecting etching endpoint, and etching apparatus and etching system using the method thereof

Номер патента: US6669810B1. Автор: Hiroyuki Tanaka,Toshiyuki Nakamura,Toshiya Miyazaki,Toshihiro Hayami,Tadao Nakatsuka. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2003-12-30.

Display panel, plasma etching method and system

Номер патента: US20210119128A1. Автор: Pengbin ZHANG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Focus ring and plasma etching device including same

Номер патента: EP4310886A1. Автор: Yongsoo Choi,Sungsic Hwang,Kyungin Kim,Jungkun Kang,Kyungyeol Min,Su Man Chae. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-24.

Etching method for a structure pattern layer having a first material and second material

Номер патента: US09697990B2. Автор: Akiteru Ko,Satoru Nakamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Plasma etching method

Номер патента: US20190027368A1. Автор: Go Matsuura. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2019-01-24.

Display panel, plasma etching method and system

Номер патента: US11189797B2. Автор: Pengbin ZHANG. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

Etching apparatus

Номер патента: US20210111056A1. Автор: Jewoo HAN,Jaehak LEE,Jongkeun LEE,Yunhwan Kim,Kuihyun YOON,Kyohyeok KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-04-15.

Bottom electrode assembly, plasma processing apparatus, and method of replacing focus ring

Номер патента: US12094693B2. Автор: Zengdi LIAN,Rason Zuo,Dee Wu,Jiangtao PEI. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Carbon doped metal oxyfluoride (c:m-0-f) layer as protection layer in fluorine plasma etch processes

Номер патента: US20230383396A1. Автор: Siegfried Krassnitzer,Julien Keraudy,Sebastien Guimond,Matthew Paul KIRK,John CONIFF. Владелец: Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon. Дата публикации: 2023-11-30.

Focus ring inspection device and focus ring inspection method

Номер патента: US20240159590A1. Автор: Sun Il Kim,Ki Ryong Lee,Dong Mok Lee,Jin Il SUNG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Cooled focus ring for plasma processing apparatus

Номер патента: WO2019055162A1. Автор: Martin L. Zucker. Владелец: MATTSON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2019-03-21.

Radio frequency electrode assembly for plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US11875970B2. Автор: Jie Liang,Weina Wang,Leyi Tu,Longbao Chen. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-01-16.

Focus ring and manufacturing method therefor

Номер патента: US20110315318A1. Автор: Yoshiyuki Kobayashi,Jun Watanabe,Takuya Okada,Tomoyuki Nara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-12-29.

System and method for transferring a focus ring into processing apparatus

Номер патента: US11869752B2. Автор: Kenji Nagai,Kippei Sugita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Multi-layer focus ring for plasma semiconductor processing

Номер патента: WO2024040526A1. Автор: Yulin Peng,Jinrong ZHAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-02-29.

Plasma processor and plasma processing method

Номер патента: US09728381B2. Автор: Yuichiro Sakamoto,Takehiro Ueda,Akihiro Kikuchi,Kaoru Oohashi,Munehiro Shibuya,Kimihiro Higuchi,Satoshi Kayamori,Shinya Shima,Tadashi Gondai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Systems and methods for fixed focus ring processing

Номер патента: US20210202295A1. Автор: Huan-Lisng Tzeng,Chen-Chun Yan,Yao-Pin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

Systems and methods for fixed focus ring processing

Номер патента: US20190164804A1. Автор: Huan-Lisng Tzeng,Chen-Chun Yan,Yao-Pin Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-30.

Segmented focus ring for plasma semiconductor processing and processing tool configured to use the segmented focus ring

Номер патента: WO2024040520A1. Автор: Yulin Peng,Jinrong ZHAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-02-29.

Apparatus for processing substrate and method for detecting a presence of a focus ring on a stage

Номер патента: US20200303235A1. Автор: Kenji Nagai,Takashi Taira,Hideaki Nagasaki,Takaharu MIYADATE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Focus ring unit and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230317426A1. Автор: Su Ryong BANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Apparatus for processing substrate and method for detecting a presence of a focus ring on a stage

Номер патента: US11264267B2. Автор: Kenji Nagai,Takashi Taira,Hideaki Nagasaki,Takaharu MIYADATE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-01.

Focus ring, chuck assembly for securing a substrate and plasma treatment apparatus having the same

Номер патента: US20210305021A1. Автор: Masayuki Tomoyasu,Hongmin Yoon,Jihyun LIM,Incheol SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-09-30.

Focus ring, chuck assembly for securing a substrate and plasma treatment apparatus having the same

Номер патента: US11817298B2. Автор: Masayuki Tomoyasu,Hongmin Yoon,Jihyun LIM,Incheol SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-14.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US11798791B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Shingo Koiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Etching apparatus

Номер патента: US09691643B2. Автор: Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Etching method

Номер патента: US09396962B2. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Keiji Kitagaito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-19.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234097A1. Автор: Atsushi Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Cleaning method for plasma etching chamber, and application thereof

Номер патента: EP4403270A1. Автор: FENG LIANG,Jiahe LI,Xuedong Li,Xiaobo Liu,Kaidong Xu,Yuxin Yang,Taiyan PENG. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Ion beam etching method and ion beam etching apparatus

Номер патента: US09966092B2. Автор: Kiyotaka Sakamoto,Yasushi Kamiya,Hiroshi Akasaka. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma etching method, plasma etching device, plasma processing method, and plasma processing device

Номер патента: US09837251B2. Автор: Naoki Moriguchi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Plasma etching of mask materials

Номер патента: EP4330769A1. Автор: Madhava Rao Yalamanchili,Toi Yue Becky Leung,Madhavi Rajaram Chandrachood. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Vacuum loadlock ultraviolet bake for plasma etch

Номер патента: US20020046809A1. Автор: Mark Tesauro. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Quartz glass member for plasma etching

Номер патента: US20110232847A1. Автор: Tatsuhiro Sato,Kyoichi Inaki. Владелец: Shin Etsu Quartz Products Co Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Plasma etching method and method for manufacturing semiconductor element

Номер патента: US20240038546A1. Автор: Kazuma Matsui,Yuki Oka. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2024-02-01.

Etching method for magnetic tunnel junction

Номер патента: US11963455B2. Автор: Lu Chen,Dongdong HU,Kaidong Xu,Dongchen CHE. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Laser and plasma etch wafer dicing with partial pre-curing of uv release dicing tape for film frame wafer application

Номер патента: WO2014062582A1. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Madhava Rao Yalamanchili,Todd Egan,Mohammad Kamruzzaman CHOWDHURY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-04-24.

Plasma etching of mask materials

Номер патента: US11915932B2. Автор: Madhava Rao Yalamanchili,Toi Yue Becky Leung,Madhavi Rajaram Chandrachood. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Plasma etching method using faraday cage

Номер патента: EP3712927A1. Автор: So Young Choo,Eun Kyu Her,Jeong Ho Park,Bu Gon Shin,Chung Wan Kim,Song Ho Jang,Jung Hwan Yoon. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Plasma etching method and plasma etching system for carrying out the same

Номер патента: US6159388A. Автор: Shinya Iida,Yasuhiro Horiike,Michihiko Yanagisawa. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2000-12-12.

Plasma passivation technique for the prevention of post etch corrosion of plasma-etched aluminum films

Номер патента: CA1151106A. Автор: Christopher H. Galfo,Ashok L. Nalamwar. Владелец: Fairchild Camera and Instrument Corp. Дата публикации: 1983-08-02.

Plasma etching method using faraday cage

Номер патента: US20200365379A1. Автор: So Young Choo,Eun Kyu Her,Jeong Ho Park,Bu Gon Shin,Chung Wan Kim,Song Ho Jang,Jung Hwan Yoon. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Laser and plasma etch wafer dicing with a double sided uv-curable adhesive film

Номер патента: WO2014004917A1. Автор: AJAY Kumar,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Madhava Rao Yalamanchili,Todd Egan,Mohammad Kamruzzaman CHOWDHURY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-01-03.

Method of reducing dielectric damage from plasma etch charging

Номер патента: US5843827A. Автор: Richard William Gregor,Chung Wai Leung. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 1998-12-01.

Device fabrication by plasma etching of aluminum rich surfaces

Номер патента: CA1121306A. Автор: David N. Wang,Hyman J. Levinstein. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1982-04-06.

Device fabrication by plasma etching

Номер патента: US4256534A. Автор: David N. Wang,Hyman J. Levinstein. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1981-03-17.

Etching method and bevel etching apparatus

Номер патента: US09623516B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Etching method of glass substrate and wet etching apparatus thereof

Номер патента: US09676661B2. Автор: JIA Li. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Semiconductor apparatus with transportable edge ring for substrate transport

Номер патента: US09741600B2. Автор: Chih-Chang Hsieh,Kai Lo,Hsu-Shui Liu,Chih-Ping Chen,Chung-Chieh Hsu,Wei-Ting Hsiao,Yung-Kai Lin,Chih-Kuo Chang,Chian-Kun Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Semiconductor apparatus with transportable edge ring for substrate transport

Номер патента: US09425077B2. Автор: Chih-Chang Hsieh,Kai Lo,Hsu-Shui Liu,Chih-Ping Chen,Chung-Chieh Hsu,Wei-Ting Hsiao,Yung-Kai Lin,Chih-Kuo Chang,Chian-Kun Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.

Substrate etching apparatus and substrate etching method

Номер патента: US20240242980A1. Автор: Yonghyun KIM,Kyu-Bum Kim,Jungwoo CHOI,Yeongmin Kim,Seung Ho MYOUNG,Ju Yeong YUN. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Electrostatic chuck, focus ring, support base, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US12046457B2. Автор: Yohei Uchida,Yasuharu Sasaki,Shoichiro Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Electrostatic chuck, focus ring, support base, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20240347322A1. Автор: Yohei Uchida,Yasuharu Sasaki,Shoichiro Matsuyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Etching apparatus for use in manufacture of flat panel display device and manufacturing method using the same

Номер патента: US20070151950A1. Автор: Chun Il Kim. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-05.

Etching apparatus for use in manufacture of flat panel display device and manufacturing method using the same

Номер патента: US7807018B2. Автор: Chun Il Kim. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-05.

Suction-extraction apparatus for treatment fluid and etching apparatus containing the same

Номер патента: MY188634A. Автор: Jürgen Haungs,Stefan Rapp. Владелец: Gebr Schmid GmbH. Дата публикации: 2021-12-22.

Thickness measuring apparatus, thickness measuring method, and wet etching apparatus and wet etching method utilizing them

Номер патента: EP1258916A1. Автор: Hidenori Takahashi,Teruo c/o Hamamatsu Photonics K.K. TAKAHASHI,Motoyuki C/O Hamamatsu Photonics K.K. Watanabe. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 2002-11-20.

Carrying device, wet etching apparatus and usage method thereof

Номер патента: US20170202091A1. Автор: Zhiyuan Lin,Yinhu HUANG. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-13.

Overlapping substrate supports and pre-heat rings, and related process kits, processing chambers, methods, and components

Номер патента: WO2024167634A1. Автор: TAO Sheng,Hui Chen,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Chen-ying WU,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Overlapping substrate supports and pre-heat rings, and related process kits, processing chambers, methods, and components

Номер патента: US20240274463A1. Автор: TAO Sheng,Hui Chen,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Chen-ying WU,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Vacuum processing apparatus with low particle generating wafer clamp

Номер патента: US5820329A. Автор: Senia L. Derbinski,Richard Fred Parker. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1998-10-13.

Substrate Placing Table, Plasma Processing Apparatus Provided With Same, And Plasma Processing Method

Номер патента: US20210265141A1. Автор: Yasuyuki Hayashi. Владелец: SPP Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-26.

Etching method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09882124B2. Автор: Akitaka Shimizu,Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Jet etch method for decapsulation of molded devices

Номер патента: US4384917A. Автор: Ben L. Wensink. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-05-24.

Laser etching apparatus and laser etching method using the same

Номер патента: US20230294209A1. Автор: HeungYeol Na,Jungwoo CHOI,Yoonchul KIM,Seong Jin YEON. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Wet etching apparatus

Номер патента: US20200365423A1. Автор: Jianfeng Chen. Владелец: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Semiconductor apparatus with an alignment moat

Номер патента: US20230377928A1. Автор: Andrew D. Carswell. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Spin etching method for semiconductor wafer

Номер патента: US20090209110A1. Автор: Osamu Nagai,Ayumu Okano. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2009-08-20.

Hybrid wafer dicing approach using a split beam laser scribing process and plasma etch process

Номер патента: US09972575B2. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Jungrae Park. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Irregular-surface forming method using plasma-etching process, and electrode member

Номер патента: US20130008697A1. Автор: Takeshi Kondo,Satoshi Naganawa. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2013-01-10.

Method for fabricating semiconductor thin film using substrate irradiated with focused light, apparatus for fabricating semiconductor thin film using substrate irradiated with focused light, method for selectively growing semiconductor thin film using substrate irradiated with focused light, and semiconductor element using substrate irradiated with focused light

Номер патента: US20120001302A1. Автор: Hisashi Matsumura,Kazuyoshi Itoh,Shunro Fuke,Yasuo Kanematsu. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2012-01-05.

Antenna focusing ring

Номер патента: US09595760B2. Автор: James Charles McCown. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-14.

Etching method of material on basis of silicon with formation of silicon columns and lithium rechargeable battery with anode made from material etched with use of this method

Номер патента: RU2429553C2. Автор: Майно ГРИН,Фенгминг ЛИУ. Владелец: Нексеон Лтд.. Дата публикации: 2011-09-20.

Etching apparatus for substrate and method of etching using the same

Номер патента: US09524887B2. Автор: Min-Kyu Shin,Jung-Kun Shin,Hae-Young YOO,Pyoung-Kyu PARK,Woo-Youl PARK. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Liquid composition used in etching copper- and titanium-containing multilayer film, etching method in which said composition is used, method for manufacturing multilayer-film wiring, and substrate

Номер патента: US09365934B2. Автор: Satoshi Tamai,Kunio Yube,Tomoyuki Adaniya. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2016-06-14.

Laminating apparatus with lower and upper heating system with flat heaters

Номер патента: US20240208195A1. Автор: Domenico Sartore,Eugenio GONZATO,Guido PASTORE,Nicola ANDRETTA. Владелец: Ecoprogetti Srl. Дата публикации: 2024-06-27.

Display apparatus with detection device

Номер патента: US20210175282A1. Автор: Masanobu Ikeda,Yasuhiro Kanaya. Владелец: Japan Display Inc. Дата публикации: 2021-06-10.

Magnetic apparatus with integrated pins and metallization pins, power module, and method of making

Номер патента: US20240250044A1. Автор: Yayu Li,Jianhong Zeng,Xiangfei KANG. Владелец: Shanghai Metapwr Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Solar power generation apparatus with non-equidirectional solar tracking stages

Номер патента: US09608560B2. Автор: Chia Ching Luo. Владелец: Bit Sun Energy Technology Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Thermal management in electronic apparatus with phase-change material and silicon heat sink

Номер патента: US09502740B2. Автор: Gerald Ho Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-22.

Substrate etching apparatus and substrate etching method

Номер патента: US20090020503A1. Автор: Seung-lyong Bok,Jung-Sub KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-01-22.

Trenched mosfet with guard ring and channel stop

Номер патента: US20100038711A1. Автор: Fu-Yuan Hsieh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-02-18.

Stiffener ring and surface packaging assembly

Номер патента: US20230066053A1. Автор: Li Fan,GE ZHANG,Junwei MU,Chuncheng GONG,Weijin PAN. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Stiffener ring and surface packaging assembly

Номер патента: EP4135023A1. Автор: Li Fan,GE ZHANG,Junwei MU,Chuncheng GONG,Weijin PAN. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-15.

Etching method of copper-molybdenum film and array substrate

Номер патента: US11756797B2. Автор: Yuan Mei. Владелец: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Compound, method of synthesizing compound with pyridine ring and light-emitting element

Номер патента: US20200331906A1. Автор: Yi-Hsin Lin,Chao-Wei Huang,Tzu-Hsien Yen. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2020-10-22.

Etching method for single-isolated magnetic tunnel junction

Номер патента: US20210399215A1. Автор: Lu Chen,Ziming Liu,Hongyue Sun,Dongdong HU,Kaidong Xu,Hushan Cui,Dongchen CHE,Juebin WANG,Zhongyuan Jiang,Huiqun REN. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-23.

Electronic apparatus with heat-dissipation system and heat-dissipation device thereof

Номер патента: US20190171260A1. Автор: Chien-Chung Chang,Te-Lung Wu,Ying Tzu Chou. Владелец: Wistron Corp. Дата публикации: 2019-06-06.

Semiconductor apparatus with isolation portion between vertically adjacent elements, and electronic device

Номер патента: US20220352310A1. Автор: Huilong Zhu. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2022-11-03.

Electronic device apparatus with multiple thermally conductive paths for heat dissipation

Номер патента: US20200152546A1. Автор: Gamal Refai-Ahmed,Suresh Ramalingam,Hui-Wen LIN,Henley Liu,Ho Hyung Lee. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 2020-05-14.

Silicon part for plasma etching apparatus and method of producing the same

Номер патента: US09472380B2. Автор: Yoshinobu Nakada,Fumitake Kikuchi. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Sealing surfaces of components used in plasma etching tools using atomic layer deposition

Номер патента: US20230215703A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Robin Koshy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-07-06.

Plasma etch-resistant film and a method for its fabrication

Номер патента: US20210115555A1. Автор: Pekka J. Soininen,Mohammad Ameen,Vasil Vorsa. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2021-04-22.

A plasma etch-resistant film and a method for its fabrication

Номер патента: US20200080197A1. Автор: Pekka J. Soininen,Mohammad Ameen,Vasil Vorsa. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2020-03-12.

A plasma etch-resistant film and a method for its fabrication

Номер патента: EP3423610A1. Автор: Pekka J. Soininen,Mohammad Ameen,Vasil Vorsa. Владелец: BENEQ OY. Дата публикации: 2019-01-09.

Plasma etching using improved electrode

Номер патента: US4297162A. Автор: Randall S. Mundt,Timothy A. Wooldridge,Thomas O. Blasingame. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1981-10-27.

System of inspecting focus ring and method of inspecting focus ring

Номер патента: US09841395B2. Автор: Tomohide Minami,Kippei Sugita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Apparatus with a rotationally driven body in a fluid-filled housing

Номер патента: US20040264645A1. Автор: Peter Schardt,Jörg FREUDENBERGER. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-12-30.

Method for fabricating micro-structures with various surface properties in multilayer body by plasma etching

Номер патента: CA2399027C. Автор: Walter Schmidt,Frederic Reymond,Joel S. Rossier. Владелец: DiagnoSwiss SA. Дата публикации: 2010-06-22.

Solid polymer electrolyte composite membrane comprising plasma etched porous support

Номер патента: WO2006036957A2. Автор: HAN Liu,Anthony B. LaConti. Владелец: GINER ELECTROCHEMICAL SYSTEMS, LLC. Дата публикации: 2006-04-06.

Microwave wireless charger device with focusing of microwave field

Номер патента: RU2643177C1. Автор: Михаил Николаевич Макурин,Артем Рудольфович Виленский,Сон Бом ПАК. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2018-01-31.

Apparatus with a measuring transducer and overvoltage protection apparatus

Номер патента: RU2762341C1. Автор: Андреас КЛЯЙНШМИДТ,Штефан БОЙТЕЛЬ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2021-12-20.

Automatic balance apparatus with double-moving-contact spring leaf

Номер патента: US11348743B2. Автор: Feng Zhao,Xiaobo Zheng,Jiangang Chen. Владелец: Jiangsu Barep Intelligence Technology Co ltd. Дата публикации: 2022-05-31.

Magnetic apparatus with symmetric quadruple or octuple winding arrangement, power module, power conversion device, and dc-dc conversion device

Номер патента: US20240275294A1. Автор: Jianhong Zeng. Владелец: Shanghai Metapwr Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Rotor with a backplane bus having electrical connection elements to make electrical contact with electrical components in a medical apparatus, as well as rotating unit and medical apparatus with such a rotor

Номер патента: US09888886B2. Автор: Hans-Juergen Mueller,Friedrich Distler,Sultan Haider. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2018-02-13.

Modular electric apparatus with connecting lever to control lever of auxiliary modular electric apparatus

Номер патента: RU2524161C2. Автор: Андреа ЧИРОЛИНИ,Лука ДЗИЛИО. Владелец: Бтичино С.П.А.. Дата публикации: 2014-07-27.

Electrotechnical steel strip with the oriented structure continuous electrolytic etching method and device for the electrotechnical steel strip with the oriented structure continuous electrolytic etching

Номер патента: RU2676816C1. Автор: Кэндзи МАЦУДА. Владелец: ДжФЕ СТИЛ КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2019-01-11.

High voltage apparatus with ceramic spacers and its application

Номер патента: RU2747859C1. Автор: Себастьян МЮЛЛЕР,Роберт ГЁПФЕРТ. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2021-05-17.

Magnetic apparatuses with two-surface conductive contacts, power modules, multiple-switch encapsulations, and power supply systems

Номер патента: US20240242871A1. Автор: Jianhong Zeng. Владелец: Shanghai Metapwr Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Electric display apparatus with a lighting system

Номер патента: US20150059160A1. Автор: Ho Yeung Yuen. Владелец: DONGGUAN HENGLONG FIXTURE Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

Automatic balance apparatus with double-moving-contact spring leaf

Номер патента: US20210313123A1. Автор: Feng Zhao,Xiaobo Zheng,Jiangang Chen. Владелец: Jiangsu Barep Intelligence Technology Co ltd. Дата публикации: 2021-10-07.

Electronic Apparatus with an Antenna

Номер патента: US20080150813A1. Автор: Lin Yung-Sen. Владелец: Acer Inc. Дата публикации: 2008-06-26.

An apparatus with a millimeter wave antenna module structured to enable end-fire radiation

Номер патента: WO2024153307A1. Автор: Resti Montoya Moreno,Janne ILVONEN. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-07-25.

Electrical apparatus with a filter for suppressing interference signals

Номер патента: US09559664B2. Автор: Heinz Lange,Bernd Trageser. Владелец: Continental Automotive GmbH. Дата публикации: 2017-01-31.

Dry etching method

Номер патента: US20060108323A1. Автор: Shuichi Okawa. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2006-05-25.

Ground ring and enclosure in an electric motor

Номер патента: US09917491B2. Автор: David M. Lyle,Timothy J. Druhe,Joel W. Northwall,Kenneth R. Theis. Владелец: Nidec Motor Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Slip ring and slip ring electrical system

Номер патента: US09465076B2. Автор: Shuuichi Sato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Apparatus with ultraviolet discharge lamp and one or more reflectors and systems which determine operating parameters and disinfection schedules for germicidal devices

Номер патента: RU2661926C2. Автор: Марк Эндрю СТИБИК,Джеймс Блейн УОЛФОРД,Александр Натан ГАРФИЛД,Мартин РЭТГЕБЕР,Эрик Мартин ФРЮДЕНДАЛЛЬ. Владелец: ЗИНИКС ДИЗИНФЕКШН СЕРВИСИЗ, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2018-07-23.

Apparatus with ultraviolet discharge lamp and one or more reflectors and systems which determine operating parameters and disinfection schedules for germicidal devices

Номер патента: RU2682667C2. Автор: Марк Эндрю СТИБИК,Джеймс Блейн УОЛФОРД,Александр Натан ГАРФИЛД,Мартин РЭТГЕБЕР,Эрик Мартин ФРЮДЕНДАЛЛЬ. Владелец: ЗИНИКС ДИЗИНФЕКШН СЕРВИСИЗ, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2019-03-20.

Display apparatus with integrated antenna

Номер патента: EP3674862A2. Автор: Youngsung Cho,Byeong-Seong SO. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-01.

Button apparatus with a complex elastic unit

Номер патента: US20030136658A1. Автор: Chien-Shih Hsu,Yai-Kun Tsai. Владелец: Darfon Electronics Corp. Дата публикации: 2003-07-24.

Cable television apparatus with screwless clamping connector structure

Номер патента: US12027808B2. Автор: Cheng-Wei Kuo,Chien-Chung Lee,Yu-An Chen. Владелец: Cable Vision Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Electronic apparatus with television box equipped plate antenna

Номер патента: US20060187136A1. Автор: Shih-Pin Lo,Li-Hsiang Liao,Chin-Yi Wu,Chun-Kai Chan. Владелец: ASUSTeK Computer Inc. Дата публикации: 2006-08-24.

Plasma etching method

Номер патента: US8293127B1. Автор: Joseph F. Rypl. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2012-10-23.

Plasma etching of solder resist openings

Номер патента: US20170273187A1. Автор: SHENG Li,Rahul Jain,Robert Alan May,Sri Ranga Sai Boyapati,Kristof Darmawikarta. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-09-21.

Plasma etching of solder resist openings

Номер патента: WO2017160459A1. Автор: SHENG Li,Rahul Jain,Robert Alan May,Sri Ranga Sai Boyapati,Kristof Darmawikarta. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-09-21.

Plasma etching of solder resist openings

Номер патента: US09820386B2. Автор: SHENG Li,Rahul Jain,Robert Alan May,Sri Ranga Sai Boyapati,Kristof Darmawikarta. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

Ultrasonic wave-driven triboelectric generator with self-gap formed using plasma etching

Номер патента: US20230135593A1. Автор: Sangwoo Kim,Young Jun Kim,Joon Ha Hwang,Young Wook CHUNG. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-05-04.

Plasma Etched Catalytic Laminate with Traces and Vias

Номер патента: US20190014666A1. Автор: Konstantine Karavakis,Kenneth S. Bahl. Владелец: Sierra Circuits Inc. Дата публикации: 2019-01-10.

Imaging apparatus with focus assist function

Номер патента: US9402022B2. Автор: Kazumasa Motoda. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-26.

Imaging apparatus with focus assist function

Номер патента: US20160028937A1. Автор: Kazumasa Motoda. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-28.

Camera module with focus adjustment structure and systems and methods of making the same

Номер патента: US7330211B2. Автор: Richard L. Baer,Dietrich W. Vook. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2008-02-12.

Method and apparatus for uniformly focused ring light

Номер патента: US20140132793A1. Автор: Tzyy-Shuh Chang,Hsun-Hau Huang,Changhung Lin. Владелец: OG TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2014-05-15.

Method and apparatus for uniformly focused ring light

Номер патента: US09594293B2. Автор: Tzyy-Shuh Chang,Hsun-Hau Huang,Changhung Lin. Владелец: OG TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Electronic apparatus with rotationally-operated member

Номер патента: US09948836B2. Автор: Takashi Yoshida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Focus ring-controlled focusing servo

Номер патента: US8654239B2. Автор: Katrin Strandemar,Ove Gustafsson,Rune Bergqvist. Владелец: FLIR Systems AB. Дата публикации: 2014-02-18.

Automated apparatus to obtain images in incremental focal-distance steps using either focus ring rotation or linear translation methods

Номер патента: US20210218904A1. Автор: Rheal P. Turcotte. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-07-15.

Auxiliary device for securing electric apparatus with direct clamp in wiring duct base

Номер патента: RU2291534C2. Автор: Марк ДЕСТРЮЭЛЬ,Жан-Клод МАРКУ,Дидье КУЗИНЕ. Владелец: Плане Ваттом. Дата публикации: 2007-01-10.

Installation electric apparatus with charging device for mobile telephone

Номер патента: RU2535921C2. Автор: Кристиан ХАЙТЕ. Владелец: Абб Аг. Дата публикации: 2014-12-20.

Cooking apparatus with induction heating

Номер патента: RU2303337C2. Автор: Кодзи НИИЯМА,Наоаки ИСИМАРУ,Масайо ХАДЗИ,Хирофуми ИНУИ. Владелец: МАЦУСИТА ЭЛЕКТРИК ИНДАСТРИАЛ КО., ЛТД.. Дата публикации: 2007-07-20.

Brewing apparatus with inductive heating and operation method for the apparatus

Номер патента: RU2321189C2. Автор: Ый Сун КИМ,Ый Сун КИМ (KR). Владелец: Эл Джи Электроникс Инк.. Дата публикации: 2008-03-27.

Apparatus with flow-through capacitors for the purification of a liquid and process for the purification of said liquid

Номер патента: EP2920860A1. Автор: Tullio SERVIDA. Владелец: Idropan dellorto Depuratori SRL. Дата публикации: 2015-09-23.

Apparatus with flow-through capacitors for the purification of a liquid and process for the purification of said liquid

Номер патента: US20150315040A1. Автор: Tullio SERVIDA. Владелец: Idropan dellorto Depuratori SRL. Дата публикации: 2015-11-05.

Axle driving apparatus with electric motor for work vehicle

Номер патента: US20240333110A1. Автор: Shunichi Okamoto,Kentaku JO. Владелец: Kanzaki Kokyukoki Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Determining a restricted apparatus with respect to a location

Номер патента: US09728051B2. Автор: Ahamed Jalaldeen,Shihabudheen V. Kavungathodika. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Food preparation apparatus with protection device against overheating

Номер патента: AU2023200812A1. Автор: Torsten Lang,Wenjie Yan,Stefan Kraut-Reinkober,Sebastian Tietz,Gereon Feckler. Владелец: Vorwerk and Co Interholding GmbH. Дата публикации: 2023-10-12.

Food preparation apparatus with protection device against overheating

Номер патента: US20230304670A1. Автор: Torsten Lang,Wenjie Yan,Stefan Kraut-Reinkober,Sebastian Tietz,Gereon Feckler. Владелец: Vorwerk and Co Interholding GmbH. Дата публикации: 2023-09-28.

Electronic apparatus with a rotatable hanger for fixing

Номер патента: US7388754B2. Автор: Yi Jen Chen. Владелец: ASUSTeK Computer Inc. Дата публикации: 2008-06-17.

Image capture apparatus with a protection flip cover that clips leaf-like objects

Номер патента: US20040201776A1. Автор: Ong Soon Teong,Weng Hsiung. Владелец: Inventec Multimedia and Telecom Corp. Дата публикации: 2004-10-14.

Method and apparatus with battery short circuit detection

Номер патента: US12111361B2. Автор: Jinho Kim,Young Hun Sung,Youngjae Kim,Tae Won Song,Ju Wan Lim,Terrance Christopher HUANG,Myeongjae LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-08.

Image pickup apparatus with forced air-cooling structure

Номер патента: US09973644B2. Автор: Hideki Toichi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Apparatus with a rotatable MEMS device

Номер патента: US09664897B1. Автор: Arnon Hirshberg. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Internal frame structure with heat isolation effect and electronic apparatus with the internal frame structure

Номер патента: US09578791B1. Автор: Ching-Hang Shen. Владелец: Asia Vital Components Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

System, apparatus, and method for broadcasting and receiving content in real time from wearable apparatuses with controlled delay and maintained content quality

Номер патента: RU2758501C1. Автор: Александр Андреевич Пестряев,Юрий Александрович Буссель. Владелец: МоушнРей Инк.. Дата публикации: 2021-10-29.

Charging station for aerosol-generating apparatus with electric heating

Номер патента: RU2749737C2. Автор: Маркус Карл-Вальтер ЗАУДЕР. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2021-06-16.

Aerosol-generating apparatus with a heater

Номер патента: RU2748414C1. Автор: Тхэ Хун КИМ,Чон Хо ХАН,Хен Иль ЛИМ,Сан Кю ПАК. Владелец: Кейтиэндджи Корпорейшн. Дата публикации: 2021-05-25.

Apparatus with sliding housing parts

Номер патента: WO2010072885A1. Автор: Nikolaj Bestle,Morten Christensen. Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2010-07-01.

Dual transmissive/reflective image scanning apparatus with protective apparatus

Номер патента: US20020063857A1. Автор: Jih-Yung Lu,Jung-Ying Tu. Владелец: Acer Communications and Multimedia Inc. Дата публикации: 2002-05-30.

Explosion-proof apparatus with a flameproof gas flow path and heat sink

Номер патента: US12029001B2. Автор: Jürgen Schmitt,Bernd Limbacher,Elena Kondrus. Владелец: R Stahl Schaltgeraete GmbH. Дата публикации: 2024-07-02.

Method and apparatus with provider information access authorization

Номер патента: CA3077870A1. Автор: Xiang Shen,Joseph Matthew CAPERN,Ashraf Magdi METWALLI,Ashleigh Anne Mansfield BLAIN,Mahendra Chhotubhai RAWAL. Владелец: Toronto Dominion Bank. Дата публикации: 2021-10-03.

Recording/reproducing apparatus with two systems

Номер патента: US20040013410A1. Автор: Hiroyuki Miyazaki,Eiichirou Takinami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-22.

Biometric recognition apparatus with reflection-shielding electrode

Номер патента: US9785822B2. Автор: Hsiang-Yu Lee,Shang CHIN,Ping-Tsun Lin. Владелец: SuperC-Touch Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Communication apparatus with dial-up function

Номер патента: EP1331774A3. Автор: Atsushi c/o Kabushiki Kaisha Toshiba Koyanagi,Koichi c/o Kabushiki Kaisha Toshiba Kaji. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2004-06-02.

3d image capture apparatus with depth of field extension

Номер патента: WO2015175205A1. Автор: Zhisheng Yun,Paul A. Sevcik,David B. Stegall,Shannon D. SCOTT,James L. Ii Graham. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2015-11-19.

Electronic apparatus with the function of switching between wired and wireless connection

Номер патента: US20140329466A1. Автор: Yuan-Jung Chang. Владелец: Dexin Corp. Дата публикации: 2014-11-06.

3d image capture apparatus with depth of field extension

Номер патента: EP3143453A1. Автор: Zhisheng Yun,Paul A. Sevcik,David B. Stegall,Shannon D. SCOTT,James L. Ii Graham. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2017-03-22.

Apparatus with acoustic enhancement and method for the same

Номер патента: US20200359126A1. Автор: Jiaqi WANG,Kok Huan Ong,Wei-Peng Renny LIM. Владелец: CREATIVE TECHNOLOGY LTD. Дата публикации: 2020-11-12.

Refilling image-forming apparatus with consumable material

Номер патента: US20240295998A1. Автор: Kosuke Ogawa,Yusuke Sakamoto,Masaki Tani,Marehiko Hirajima. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

A stator assembly with an overmolding that secures magnets to a flux ring and the flux ring to a stator housing

Номер патента: EP1588469A2. Автор: Hung Du,Earl M. Ortt,Michael J. Agnes. Владелец: Black and Decker Inc. Дата публикации: 2005-10-26.

Condensation Compound Between Fluorinated Cyclopentane Ring and Aromatic Ring, and Process for Producing the Same

Номер патента: US20080207922A1. Автор: Yutaka Ie,Yoshio Aso. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-28.

Condensation compound between fluorinated cyclopentane ring and aromatic ring, and process for producing the same

Номер патента: US20110213162A1. Автор: Yutaka Ie,Yoshio Aso. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-09-01.

Condensation compound between fluorinated cyclopentane ring and aromatic ring, and process for producing the same

Номер патента: US20110282073A1. Автор: Yutaka Ie,Yoshio Aso. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-17.

Sporting Apparatus With Monitoring Device

Номер патента: US20240207694A1. Автор: Michael J. Kline,Keith DOLEZEL,Scott Carlyle. Владелец: Dunlop Sports Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Method and work apparatus with sound adaptation

Номер патента: US20220314421A1. Автор: Sebastian JUNKER,Sid TOSSENBERGER. Владелец: Andreas Stihl AG and Co KG. Дата публикации: 2022-10-06.

Display apparatus with integrated touch screen and method of manufacturing the same

Номер патента: US12061757B2. Автор: Sungjin Kim,Hyangmyoung GWON,Minjoo KIM,Jaehyung Jang. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

3D image capture apparatus with depth of field extension

Номер патента: US09967543B2. Автор: Zhisheng Yun,Paul A. Sevcik,David B. Stegall,Shannon D. SCOTT,II James L. Graham. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2018-05-08.

Etching adhesive tape, method of manufacturing the same and etching method

Номер патента: US09909037B2. Автор: Ming Zhang,Jing Wang,Min He,Xiaodong Xie. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Lens driving apparatus with closed-loop anti-shake structure

Номер патента: US09885880B2. Автор: Chao-Chang Hu,Cheng-Kai YU,Shu-Shan Chen,Bing-Ru SONG. Владелец: TDK Taiwan Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Overcharge protection apparatus with minimized power consumption

Номер патента: US09768627B2. Автор: Yun Nyoung Lee,Jeong Woon KO. Владелец: SK Innovation Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Fabricating a liquid-cooling apparatus with coolant filter

Номер патента: US09763357B2. Автор: Levi A. Campbell,Richard C. Chu,Michael J. Ellsworth, Jr.,Madhusudan K. Iyengar,Roger R. Schmidt,Robert E. Simons,Milnes P. DAVID. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Sporting apparatus with monitoring device

Номер патента: US09731172B2. Автор: Michael J. Kline,Keith DOLEZEL,Scott Carlyle. Владелец: Dunlop Sports Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Electromagnetic shielding optical window based on array of rings and sub-rings having triangular and orthogonal mixed distribution

Номер патента: US09668391B2. Автор: Jiubin Tan,Zhengang Lu. Владелец: Harbin Institute of Technology. Дата публикации: 2017-05-30.

3D image capture apparatus with depth of field extension

Номер патента: US09591286B2. Автор: Zhisheng Yun,Paul A. Sevcik,David B. Stegall,Shannon D. SCOTT,II James L. Graham. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2017-03-07.

Switch type DC electric machine having auxiliary excitation winding and conduction ring and brush

Номер патента: US09419547B2. Автор: Tai-Her Yang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-08-16.

Laser etching apparatus and laser etching method using the same

Номер патента: US11786990B2. Автор: Gyoowan Han,Yoongyeong Bae,Jooseob Ahn,Taekil OH,Yeonghwan KO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Laser etching apparatus and laser etching method using the same

Номер патента: US20200230740A1. Автор: Gyoowan Han,Yoongyeong Bae,Jooseob Ahn,Taekil OH,Yeonghwan KO. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-23.

Etching method for manufacturing substrate structure having thick electrically conductive layer, and substrate structure having thick electrically conductive layer

Номер патента: US11895778B2. Автор: Tze-Yang Yeh,Shih-Hsi Tai,Tung-Ho Tao. Владелец: Amulaire Thermal Tech Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

Etching method for manufacturing substrate structure having thick electrically conductive layer, and substrate structure having thick electrically conductive layer

Номер патента: US20230199969A1. Автор: Tze-Yang Yeh,Shih-Hsi Tai,Tung-Ho Tao. Владелец: Amulaire Thermal Tech Inc. Дата публикации: 2023-06-22.

Removing Ringing and Blocking Artifacts from JPEG Compressed Document Images

Номер патента: US20090214113A1. Автор: Reiner Eschbach,Zhigang Fan,Amal Z. Malik,Basak Oztan. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2009-08-27.

Fan arrangement with fan and toothed ring, and converter motor with fan arrangement

Номер патента: US20190379256A1. Автор: Josef Schmidt,Thomas Zöller,Jens Schäfer,Matthias Hauck,Christian Schumann,Firat Altan. Владелец: SEW Eurodrive GmbH and Co KG. Дата публикации: 2019-12-12.

Scanning apparatus with different resolutions

Номер патента: US20090040566A1. Автор: Chien-Kuo Kuan,Hsi-Yu Chen. Владелец: Primax Electronics Ltd. Дата публикации: 2009-02-12.

Stator for disk motor, stator supporting ring and compressor

Номер патента: US20230299624A1. Автор: Yan Lin,Li Yao,Wanzhen Liu,Yusong Sun. Владелец: Danfoss Tianjin Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Isolated conversion apparatus with magnetic bias balance control and method of controlling the same

Номер патента: US20220239230A1. Автор: Yi-Ping Hsieh,Hung-Yu Huang,Hung-Chieh Lin,Chih-Hsien LI,Ciao-Yin PAN. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Display apparatus with integrated touch screen

Номер патента: US12032765B2. Автор: Tae-Kyung Kim,Wonyeol CHOI. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Information recording and reproducing apparatus with a ring buffer and method for monitoring ring buffer

Номер патента: US20020057896A1. Автор: Tsutomu Takahashi,Masayoshi Murayama,Masaaki Saito,Hiroshi Kida,Ichiro Miyake,Yasuyuki Noda,Kazutomo Watanabe,Kenichiro Tada,Tsutomu Ohtani,Gaku Yamamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-16.

Information recording and reproducing apparatus with a ring buffer and method for monitoring ring buffer

Номер патента: US7142773B2. Автор: Tsutomu Takahashi,Masayoshi Murayama,Masaaki Saito,Hiroshi Kida,Ichiro Miyake,Yasuyuki Noda,Kazutomo Watanabe,Kenichiro Tada,Tsutomu Ohtani,Gaku Yamamura. Владелец: Pioneer Display Products Corp. Дата публикации: 2006-11-28.

Isolated conversion apparatus with magnetic bias balance control and method of controlling the same

Номер патента: US11811328B2. Автор: Yi-Ping Hsieh,Hung-Yu Huang,Hung-Chieh Lin,Chih-Hsien LI,Ciao-Yin PAN. Владелец: Delta Electronics Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Display apparatus and processing method for display apparatus with camera

Номер патента: US12028617B2. Автор: Jin Cheng,Xusheng Wang,Luming YANG,Dayong Wang,Jiayi DING,Le Ma,Wenqin YU. Владелец: Hisense Visual Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Network apparatus with fax function

Номер патента: US20130057907A1. Автор: Yun-Chung Lin. Владелец: Cal Comp Electronics and Communications Co Ltd. Дата публикации: 2013-03-07.

Video content recording apparatus with card-slot-specific recording and method for use therewith

Номер патента: WO2008042065A1. Автор: Matthijs C. Hutten. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2008-04-10.

Network apparatus with shared coefficient update processor and method thereof

Номер патента: US20090109834A1. Автор: Shieh-Hsing Kuo,Liang-Wei Huang,Chih-Yung Shih. Владелец: Realtek Semiconductor Corp. Дата публикации: 2009-04-30.

Video recording apparatus with pre-event circulation recording function

Номер патента: US20170309307A1. Автор: Jin Hui Park. Владелец: IDIS Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-26.

Communication method, communication apparatus and apparatus with a storage function

Номер патента: WO2019061787A1. Автор: Xin Xia. Владелец: HUIZHOU TCL MOBILE COMMUNICATION CO.,LTD. Дата публикации: 2019-04-04.

Silicon focus ring

Номер патента: US20160152479A1. Автор: Kosuke Imafuku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-02.

Silicon component for plasma etching apparatus

Номер патента: US9290391B2. Автор: Kosuke Imafuku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-22.

Method of recycling silicon component for plasma etching apparatus and silicon component for plasma etching apparatus

Номер патента: US20110076221A1. Автор: Kosuke Imafuku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-03-31.

Method and apparatus for micromachining using a magnetic field and plasma etching

Номер патента: US20030040178A1. Автор: Neal Rueger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-27.

Device for fabricating a mask by plasma etching a semiconductor substrate

Номер патента: US20060148274A1. Автор: Michel Puech,Martial Chabloz. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2006-07-06.

Apparatus with focused laser irradiation for cutting out part of tissue

Номер патента: RU2480189C2. Автор: Кристоф ДОНИЦКИ,Кристиан ВЮЛЛЬНЕР. Владелец: Уэйвлайт Гмбх. Дата публикации: 2013-04-27.

Pulsating apparatus with a two-stepped pulsing tube

Номер патента: RU2660150C1. Автор: Руфат Шовкет оглы Абиев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный технологический институт (технический университет)". Дата публикации: 2018-07-05.

Membranous apparatus with a pulse mode of filtration

Номер патента: RU2238794C1. Автор: С.В. Востриков,И.Т. Кретов,А.И. Ключников,Д.В. Ключникова. Владелец: Государственное образовательное учреждение Воронежская государственная технологическая академия. Дата публикации: 2004-10-27.

Manufacturing Method of Optical Film with Focusing Function and Backlight Module using the Optical Film

Номер патента: US20090067177A1. Автор: Shin- Ping Kung. Владелец: CORE-FLEX OPTICAL (SUZHOU)CO Ltd. Дата публикации: 2009-03-12.

Device for extracorporeal treatment of pelvic diseases with focused ultrasound

Номер патента: RU2741721C1. Автор: Хонбин ХУ,Фанвэй Е,Бин ФУ,Чжэнмин ЧЕН,Ин ЦЗО,Хонцзюнь ВЭНЬ,Ксяобин ВУ,Лиан ХУ,Хаорань ХУАН,Цзюнь СУНЬ,Чжень ХУ,Вэньин МА. Владелец: Чунцин Хайфу Медикал Текнолоджи Ко., Лтд.. Дата публикации: 2021-01-28.

Camera with focus and hand trembling detecting apparatus

Номер патента: US5194888A. Автор: Akira Akashi,Yukio Odaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1993-03-16.

Device and process for machining the cornea of a human eye with focused pulsed laser radiation

Номер патента: US09877869B2. Автор: Christof Donitzky,Mathias Woelfel,Johannes Krause. Владелец: WaveLight GmbH. Дата публикации: 2018-01-30.

Intelligent and Adjustable Boring and Separating Apparatus with A Cage Structure for Sandy Soil

Номер патента: US20190307051A1. Автор: Man Ho WONG. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-10-10.

Ultrasonic transducer and apparatus for treatment with focused ultrasound

Номер патента: RU2753279C1. Автор: Фанвэй Е,Гуйхуа СЮЙ,Гуанжон ЛЭЙ,Дань СОН,Хуавей ЛЮ,Саньён ЛИ. Владелец: Чунцин Хайфу Медикал Текнолоджи Ко., Лтд.. Дата публикации: 2021-08-12.

Method for treating erectile and sexual dysfunction with focused extracorporeal shockwave therapy

Номер патента: US11819689B1. Автор: Richard Gaines,Vincent Liguori. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-11-21.

Digital microscopy with focus grading in zones distinguished for comparable image structures

Номер патента: WO2012071448A1. Автор: Dashan Gao,Vipul A. Baxi,Dirk r. Padfield,Richard R. McKay,Michael C. Montalto. Владелец: Omnyx LLC. Дата публикации: 2012-05-31.

Browser frame with focusing on website

Номер патента: RU2595920C2. Автор: Мирко МАНДИК,Джейн Т. КИМ,Мэри-Линн УИЛЛЬЯМС,Джес С. ХОЛБРУК,Мартин Дж. ХОЛЛ,Сара Дж. БАУЭРЗ,Уоррен Г. СТИВЕНС,Брюс А. МОРГАН,Лаура Дж. ГЕРИНГ,Александер Х. МАЛЕК. Владелец: МАЙКРОСОФТ ТЕКНОЛОДЖИ ЛАЙСЕНСИНГ, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2016-08-27.

Device and process for machining the cornea of a human eye with focused pulsed laser radiation

Номер патента: AU2011359147B2. Автор: Christof Donitzky,Theo Seiler,Mathias Woelfel. Владелец: Alcon Inc. Дата публикации: 2014-11-20.

Ald apparatus with o-ring protected by purge gas

Номер патента: WO2013188202A1. Автор: Teruo Sasagawa. Владелец: QUALCOMM MEMS Technologies, Inc.. Дата публикации: 2013-12-19.

Device and process for machining the cornea of a human eye with focused pulsed laser radiation

Номер патента: US09968484B2. Автор: Christof Donitzky,Theo Seiler,Mathias Woelfel. Владелец: WaveLight GmbH. Дата публикации: 2018-05-15.

Lift apparatus with bearing retainer

Номер патента: US20200216123A1. Автор: Blake C. Gettig,Jason R. DEHNKE,Chirag Sheth,Vinodkumar Tangudu,Suyash Sidhaye. Владелец: Deere and Co. Дата публикации: 2020-07-09.

Lift apparatus with bearing retainer

Номер патента: AU2019203543A1. Автор: Blake C. Gettig,Jason R. DEHNKE,Chirag Sheth,Vinodkumar Tangudu,Suyash Sidhaye. Владелец: Deere and Co. Дата публикации: 2020-07-23.

Microscopy optoelectronic device with focus scanning

Номер патента: EP2740001A1. Автор: Andrea Azelio Mencaglia,Salvatore Siano,Ilaria Cacciari. Владелец: Consiglio Nazionale delle Richerche CNR. Дата публикации: 2014-06-11.

Rolling bearing device apparatus with seal and bypass device

Номер патента: US20240280144A1. Автор: Sebastian Giehl. Владелец: Schaeffler Technologies AG and Co KG. Дата публикации: 2024-08-22.

Rotating pumping apparatus with seal mechanism

Номер патента: US09638328B2. Автор: Takeshi Fuchida,Yoshitake Hisada. Владелец: Advics Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Surgical apparatus with possibility of recording

Номер патента: RU2464944C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Джон Н. АУВЕРКЕРК,Юджин Л. ТИМПЕРМАН. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2012-10-27.

Pneumatically driven surgical cutting and fixing apparatus with executing device on distal end

Номер патента: RU2478347C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Джером Р. МОРГАН,Юджин Л. ТИМПЕРМАН,Лесли М. ФУДЖИКАВА. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2013-04-10.

Surgical sewing apparatus with diverting shooting

Номер патента: RU2493789C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Марк С. ОРТИЗ,Стивен Г. ХОЛЛ,Рэндалл Дж. ТАНГУЭЙ,Джеффри Д. МЕССЕРЛИ,Гэйлен К. РОБЕРТСОН,Эндрю М. ЗВОЛИНСКИ,Джеффри К. ХЬЮЭЛ,Дуглас Б. ХОФФМАН,Патрик А. ВЕЙЗМАН,Дин Б. БРЮВЕР,Грегори Б. БЛЭР. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2013-09-27.

Surgical cutting and fixing apparatus with mechanism of closing lever fixation

Номер патента: RU2449751C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Кевин Р. ДОЛЛ. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2012-05-10.

Pneumatically driven surgical cutting and fixing apparatus with increased in volume storage capacity

Номер патента: RU2477087C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Джером Р. МОРГАН. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2013-03-10.

Pouring apparatus with cartridge holder, system and method for preparing beverage

Номер патента: RU2755088C1. Автор: Марк КРЮГЕР,Гюнтер ЭМПЛЬ,Даниэль ФИШЕР. Владелец: Фризио Аг. Дата публикации: 2021-09-14.

Mobile fire-extinguishing apparatus with two-phase sprayer

Номер патента: RU2645501C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2018-02-21.

Pneumatic surgical cutoff and fixation apparatus with distal pneumatic rotating drive element

Номер патента: RU2469665C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Джером Р. МОРГАН,Юджин Л. ТИМПЕРМАН,Лесли М. ФУДЖИКАВА. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2012-12-20.

Torque limiting apparatus with three bridges

Номер патента: RU2744944C2. Автор: Хидеки ШИМАХАРА,Эрих ИНФАНГЕР. Владелец: Хильти Акциенгезельшафт. Дата публикации: 2021-03-17.

Sealing testing apparatus with legs with anchoring

Номер патента: RU2632247C1. Автор: Маттиас ШТЕНДЕР,Марк ФИШЕР,Оливер ПАЗЕМАНН. Владелец: Детвилер Силинг Текнолоджис Дойтчланд Гмбх. Дата публикации: 2017-10-03.

Protective apparatus with poppet valves

Номер патента: RU2761125C1. Автор: Андрей Геннадьевич Архангелов. Владелец: ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ КАЗЕННОЕ ВОЕННОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "Военная академия Ракетных войск стратегического назначения имени Петра Великого" МИНИСТЕРСТВА ОБОРОНЫ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ. Дата публикации: 2021-12-06.

Solvent apparatus with a stirring device

Номер патента: RU2731698C1. Автор: Александр Павлович Евтушенко,Вера Александровна Иванова,Николай Александрович Науменко,Ульяна Сергеевна Никулина,Андрей Владимирович Гонцов. Владелец: Акционерное общество "Высокотехнологический научно-исследовательский институт неорганических материалов имени академика А.А. Бочвара". Дата публикации: 2020-09-08.

Method for increasing strength of welded seam of heat exchange pipe with tube plate of heat exchange apparatus with liquid metal heat exchange medium

Номер патента: RU2654221C2. Автор: Сергей Леонидович Лякишев,Андрей Андреевич Халутин. Владелец: Сергей Леонидович Лякишев. Дата публикации: 2018-05-17.

Skin treatment apparatus with adaptive motion feedback

Номер патента: RU2664595C2. Автор: Алексей Анатольевич Харин,Тесс СПЕЛПЕННИНГ,Генриетта Кристин Мари ХОНХАУТ,ВЕЛЬДЕ Март Корнелис-Ян ТЕ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2018-08-21.

Torque limiting apparatus with fixating grabs

Номер патента: RU2745053C2. Автор: Хидеки ШИМАХАРА,Эрих ИНФАНГЕР. Владелец: Хильти Акциенгезельшафт. Дата публикации: 2021-03-18.

Film evaporating apparatus with climbing film

Номер патента: RU2354429C1. Автор: Николай Александрович Войнов,Александр Николаевич Войнов,Денис Викторович Тароватый. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирский государственный технологический университет". Дата публикации: 2009-05-10.

Power plant of underwater apparatus with electro-chemical generator

Номер патента: RU2267836C2. Автор: Владимир Филиппович Челяев,Андрей Николаевич Щербаков,Борис Александрович Соколов,Игорь Николаевич Глухих,ев Владимир Филиппович Чел,Алексей Викторович Кошелев,Олег Александрович Барсуков,Виталий Иванович Корольков,Сергей Петрович Мельничук. Владелец: Открытое акционерное общество "Ракетно-космическая корпорация "Энергия" им. С.П. Королева". Дата публикации: 2006-01-10.

Fish protection apparatus with fish diversion device

Номер патента: RU2536631C1. Автор: Валерий Вильгельмович Петрашкевич,Евгений Николаевич Беллендир,Александр Валерьевич Петрашкевич,Петр Федорович Собкалов. Владелец: Открытое акционерное общество "Всероссийский научно-исследовательский институт гидротехники имени Б.Е. Веденеева". Дата публикации: 2014-12-27.

Discharge tube for a local etching apparatus and a local etching apparatus using the discharge tube

Номер патента: US6429399B2. Автор: Michihiko Yanagisawa,Tadayoshi Okuya. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-06.

Discharge tube for a local etching apparatus and a local etching apparatus using the discharge tube

Номер патента: US20010019040A1. Автор: Michihiko Yanagisawa,Tadayoshi Okuya. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2001-09-06.

Method of forming metal powders for additive technologies in plasma generator apparatus with sorting by weight in electric field

Номер патента: RU2745551C2. Автор: Александр Александрович Иванченко,Владимир Сергеевич Балахнин,Иван Николаевич Корепин,Антон Анатольевич Ващилло,Роман Андреевич Кузьменко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Ботлихский радиозавод". Дата публикации: 2021-03-26.

Inflatable apparatus with deepened fluid control means and control panel

Номер патента: RU2271129C2. Автор: Роберт Б. ШАФФЕ. Владелец: Роберт Б. ШАФФЕ. Дата публикации: 2006-03-10.

Suction apparatus with sound reflecting device

Номер патента: RU2662024C2. Автор: Флориан ЭБЕРТ,Феликс БЕНЗИНГ,Зебастиан ЮНКЕР. Владелец: Альфред Кэрхер Гмбх Унд Ко. Кг. Дата публикации: 2018-07-23.

Membrane apparatus with inflatable sleeves

Номер патента: RU2680061C1. Автор: Сергей Васильевич Шахов,Андрей Иванович Ключников,Андрей Иванович Потапов,Вячеслав Олегович Веников,Надежда Николаевна Корышева,Валентин Владимирович Колядин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Воронежский государственный университет инженерных технологий" (ФГБОУ ВО "ВГУИТ"). Дата публикации: 2019-02-14.

Aerodynamic wing of the flying apparatus with adaptive variable surface

Номер патента: RU2660191C2. Автор: Константин Сергеевич Амелин,Олег Николаевич Граничин,Наталья Олеговна Амелина. Владелец: Олег Николаевич Граничин. Дата публикации: 2018-07-05.

Elektro-baromembrane apparatus with flat coolers

Номер патента: RU2624695C1. Автор: Сергей Владимирович Ковалев,Сергей Иванович Лазарев,Владимир Юрьевич Богомолов,Сергей Александрович Вязовов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ТМБ-Технологии". Дата публикации: 2017-07-05.

Vapor-liquid device to distribute straight two-phase flow in apparatus with descending flow and reactor equipped therewith

Номер патента: RU2481150C2. Автор: Клаус РИСБЬЕРГ ЯРЛКОВ. Владелец: ХАЛЬДОР ТОПСЕЭ А/С. Дата публикации: 2013-05-10.

Aerosol-generating apparatus with adaptable tactile feedback

Номер патента: RU2753566C1. Автор: Грегори Андре КРИСТИАН. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2021-08-17.

Method of reconstructing a low-temperature gas separation apparatus with preventing the formation of flare gases

Номер патента: RU2718073C1. Автор: Андрей Владиславович Курочкин. Владелец: Андрей Владиславович Курочкин. Дата публикации: 2020-03-30.

Air cooling heat exchange apparatus with integrated and mechanised preliminary air cooling system

Номер патента: RU2766163C2. Автор: Том БИРН. Владелец: Эвапко, Инк.. Дата публикации: 2022-02-08.

Image forming apparatus with department management function, network printer with department management function, department management method of image forming apparatus and department management method of network printer

Номер патента: US20080192282A1. Автор: Hiroyuki Nakaota. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2008-08-14.

Locking apparatus with spectacle structure

Номер патента: US20030123021A1. Автор: Michael Hoi Ying Ng. Владелец: Arts Optical Manufactory Ltd. Дата публикации: 2003-07-03.

System, method and apparatus with environmental noise cancellation

Номер патента: US20120045074A1. Автор: Hua Gao,Yuepeng Li,Fenghai Qiu. Владелец: C Media Electronics Inc. Дата публикации: 2012-02-23.

Locking apparatus with spectacle structure

Номер патента: US6655801B2. Автор: Michael Hoi Ying Ng. Владелец: Arts Optical Manufactory Ltd. Дата публикации: 2003-12-02.

Apparatus with induction heating for making candy floss

Номер патента: IL247670B. Автор: Anatoliovych Krylatyi Gennadii. Владелец: Anatoliovych Krylatyi Gennadii. Дата публикации: 2021-12-01.

Method for modifying the compatibility of an audio precision analyzing apparatus with an application program

Номер патента: US20070019814A1. Автор: Ai-Min Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-25.

Ice fishing apparatus with audible and visual bite indicator

Номер патента: US20240164360A1. Автор: Dennis Platz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-23.

Additive manufacturing apparatus with assembled and disassembled feature

Номер патента: US09694543B2. Автор: YANG Shen,Zhihong Li,Gen LI,Wenjuan CHEN. Владелец: Shenzhen Weistek Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Fluid pressure pulse generating apparatus with pressure compensation device and pulser assembly housing

Номер патента: US09464521B2. Автор: Aaron W. LOGAN,Justin C. LOGAN. Владелец: Evolution Engineering Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Device to connect radial brackets with round ring and turbomachine

Номер патента: RU2492331C2. Автор: Себастьен Жан Лоран ПРЕСТЕЛЬ,Жан-Люк СУПИЗОН,Годфруа Франсис Фредерик ДРЕЛОН. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2013-09-10.

Gas turbine ring fastening device, assembly comprising turbine ring and device for its fastening, turbine and turbomotor

Номер патента: RU2538988C2. Автор: Фредерик Филипп Жан-Жак ПАРДО,Кристоф-Оливье МОРЕН. Владелец: Турбомека. Дата публикации: 2015-01-10.

Quiet bouncer pile driver method and apparatus with annular air storage chamber encircling & traveling with bouncing piston weight

Номер патента: CA1145961A. Автор: Stephen V. Chelminski. Владелец: Bolt Associates Inc. Дата публикации: 1983-05-10.

Preparation of mixture of flavonoids with free b-ring and flavans as therapeutic agent

Номер патента: RU2379031C2. Автор: Ци ДЗЯ. Владелец: Юниджен Фармасьютиклз, Инк.. Дата публикации: 2010-01-20.

Detachable appliance and manipulation apparatus with detachable appliance

Номер патента: RU2753935C1. Автор: Кристоф ВЮРТЕНБЕРГЕР. Владелец: Швамборн Герейтебау Гмбх. Дата публикации: 2021-08-24.

Electronic apparatus with touch panel and method for updating touch panel

Номер патента: US20180011593A1. Автор: Hui-Hung Chang,Meng-Hsiu Wu. Владелец: NOVATEK MICROELECTRONICS CORP. Дата публикации: 2018-01-11.

Fine particle measurement apparatus with exhaust purification function

Номер патента: US20070216895A1. Автор: Kenji Watanabe. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-09-20.

Patient Support Apparatus With Hydraulic Oscillation Dampening

Номер патента: US20210196542A1. Автор: Joshua Alan Mansfield,Ross Timothy Lucas,Craig Lear. Владелец: Stryker Corp. Дата публикации: 2021-07-01.

Electron beam irradiating apparatus with monitoring device

Номер патента: US20110062351A1. Автор: Takayuki Suzuki,Isao Hashimoto,Nobuyasu Harada,Shigekatsu Sato,Tomoyuki Hikosaka,Shiro Eguchi,Satoru Gohzaki. Владелец: Japan AE Power Systems Corp. Дата публикации: 2011-03-17.

Electrochemical etching apparatus

Номер патента: US20150191842A1. Автор: Shu-Jen Han,Xuesong Li,Lian GUO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2015-07-09.

Display apparatus with image-capturing function, image processing apparatus, image processing method, and image display system

Номер патента: US20150116359A1. Автор: Masahiro Suzuki,Takuya Tsujimoto,Akihiro Katayama,Shinji Uchiyama,Yoshiki Kajita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2015-04-30.

Display apparatus with image-capturing function, image processing apparatus, image processing method, and image display system

Номер патента: US9390480B2. Автор: Masahiro Suzuki,Takuya Tsujimoto,Akihiro Katayama,Shinji Uchiyama,Yoshiki Kajita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-07-12.

Respiratory apparatus with multiple power supplies

Номер патента: US20230302243A1. Автор: Adam PANARELLO. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Sliding-type electronic apparatus with strengthening force structure

Номер патента: US20140055938A1. Автор: An-Szu Hsu,Hsiu-Fan Ho,Way-Han Dai. Владелец: First Dome Corp. Дата публикации: 2014-02-27.

Treatment apparatus with an ophthalmological laser and at least two focus adjusting devices

Номер патента: US20240261148A1. Автор: Samuel Arba Mosquera,Mario SHRAIKI,Luise Krüger. Владелец: Schwind Eye Tech Solutions GmbH. Дата публикации: 2024-08-08.

Electronic apparatus with touch panel and method for updating touch panel

Номер патента: US20190073082A1. Автор: Hui-Hung Chang,Meng-Hsiu Wu. Владелец: NOVATEK MICROELECTRONICS CORP. Дата публикации: 2019-03-07.

Control system for refrigerated equipment and apparatus with advanced energy saving features

Номер патента: WO2014057331A1. Автор: Paolo CHIARAMONTE,Manlio POTO,Roberto DI TOMMASO. Владелец: Dixell, S.R.L.. Дата публикации: 2014-04-17.

Goods Propulsion Apparatus With A Reducer

Номер патента: US20240188730A1. Автор: Lilin Wu. Владелец: Dongguan Yongsheng Spring Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

C-arm x-ray apparatus with surgical positioning and linear navigation function

Номер патента: US20180092614A1. Автор: Bin He,Liping Shen,Shigui Yan,Shuogui XU. Владелец: Hangzhou Santan Medical Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Patty-forming apparatus with a splittable mold for molding non-fluid sticky minces

Номер патента: US20240156146A1. Автор: Sergey Logunov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-16.

Drinking apparatus with amusement feature

Номер патента: US20240245240A1. Автор: Vladislav Kopman,Angela Yuan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-25.

Apparatus with gas detection function

Номер патента: US20230243796A1. Автор: Takaaki Furuya,Naoya UGOMORI. Владелец: Asahi Kasei Microdevices Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Patient support apparatus with hydraulic oscillation dampening

Номер патента: US12090104B2. Автор: Joshua Alan Mansfield,Ross Timothy Lucas,Craig Lear. Владелец: Stryker Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Smoking apparatus with quick-seal attachment assembly

Номер патента: US11666087B2. Автор: Vick Touzjian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-06-06.

Electrochemical etching apparatus

Номер патента: US09994968B2. Автор: Shu-Jen Han,Xuesong Li,Lian GUO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Display apparatus with touch detection functions and with driving electrodes shared by two more pixels in the same column, driving method for same, and mobile device with same

Номер патента: US09927937B2. Автор: Koji Noguchi,Yoshitoshi Kida. Владелец: Japan Display Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Image forming apparatus with detachable fixing device

Номер патента: US09857762B2. Автор: Hirotomo Tanaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-01-02.

Mobile apparatus with transaction information

Номер патента: US09852415B2. Автор: Kristian Luoma,Jussi Juntunen,Tuomas Jomppanen. Владелец: OP-Palvelut Oy. Дата публикации: 2017-12-26.

Collapsible support apparatus with hinged multi-tier shelves and separable buckle hinges

Номер патента: US09820570B1. Автор: Harry Kai Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-11-21.

Image forming apparatus with detachable fixing device

Номер патента: US09817363B2. Автор: Hirotomo Tanaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-11-14.

Opening and closing apparatus with lock

Номер патента: US09759004B2. Автор: Takeshi Masuda,Hiroki Uno. Владелец: Nabtesco Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Electrochemical etching apparatus

Номер патента: US09738987B2. Автор: Shu-Jen Han,Xuesong Li,Lian GUO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Brake pedal apparatus with variable pedal ratio

Номер патента: US09689478B2. Автор: Myung Seo JUNG. Владелец: Hyundai Motor Co. Дата публикации: 2017-06-27.

Coffee making apparatus with a froth spoon and at least one impeller

Номер патента: US09648979B1. Автор: Harry Ryan. Владелец: Ryan Brothers Coffee Of San Diego Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Door inside handle apparatus with pull handle

Номер патента: US09587418B2. Автор: Dong Wuk Choi. Владелец: Hyundai Motor Co. Дата публикации: 2017-03-07.

HMD apparatus with adjustable eye tracking device

Номер патента: US09535251B2. Автор: Daniel Dreyer,Franz Kocvara,Stephan Liesecke. Владелец: Airbus Defence and Space GmbH. Дата публикации: 2017-01-03.

Image forming apparatus with detachable fixing device, control method therefor, and storage medium storing control program therefor

Номер патента: US09507317B2. Автор: Hirotomo Tanaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-11-29.

Fluid pressure pulse generating apparatus with primary seal assembly, back up seal assembly and pressure compensation device and method of operating same

Номер патента: US09476296B2. Автор: David A. Switzer,Aaron W. LOGAN,Justin C. LOGAN. Владелец: Evolution Engineering Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Flat panel display apparatus with touch function and touch panel

Номер патента: US20120001864A1. Автор: Tzu-Wei Liu. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2012-01-05.

Hardening method of rolling bearing rings, and rolling bearing

Номер патента: RU2493269C2. Автор: Эдуард Альфредович Симсон,Анатолий Моисеевич Гиршфельд,Иван Дмитриевич Прево,Юрий Васильевич Проценко. Владелец: Частное Акционерное Общество "У.П.Э.К.". Дата публикации: 2013-09-20.

Surgical fixation and cutoff apparatus with one wire rope drive

Номер патента: RU2445930C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Марк С. ОРТИЗ,Юджин Л. ТИМПЕРМАН,Стефен Дж. БЭЙЛЕК. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2012-03-27.

Refrigerant apparatus with a container

Номер патента: RU2624662C2. Автор: Маркус МАЙЕР,Юрген ФИНК,Михаэль Крапп,Герберт ЦИЦИК,Мариетта БОРМАНН,Бернд ИЛЛЕНБЕРГЕР,Томас КИНЦЛЕР,Роберт ШТАЛЬ. Владелец: Бсх Хаусгерете Гмбх. Дата публикации: 2017-07-05.

Systems and methods for assessing three-dimensional position of an oral hygiene apparatus with visible markers

Номер патента: RU2754316C1. Автор: Томас СЕРВАЛЬ,Янн НИКОЛЯ,Винсан ЭЛЬ КУБИ-БЕНИШУ,Оливье ЖИРУ. Владелец: КОЛГЕЙТ-ПАЛМОЛИВ КОМПАНИ. Дата публикации: 2021-09-01.

Surgical stapling apparatus with staple height adjuster

Номер патента: RU2508912C2. Автор: Честер О. БАКСТЕР III,Джеймс Дж. БЕДИ. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2014-03-10.

Cooling apparatus with fan

Номер патента: RU2579361C1. Автор: Микаэла МАЛИЗИ,Ренате ПРАДЕЛЬ,Александр КОХ. Владелец: Бсх Хаусгерете Гмбх. Дата публикации: 2016-04-10.

Dialysis apparatus with dialyzer

Номер патента: RU2661275C2. Автор: Оливер ГОТТШАЛЬК. Владелец: Нифро-Солюшнз Аг. Дата публикации: 2018-07-13.

Multi-chamber furnace for vacuum cementation and hardening of gears, shafts, rings and similar treated workpieces

Номер патента: RU2639103C2. Автор: Мацей КОРЕЦКИЙ,Веслав ФУЯК,Юзеф ОЛЕЙНИК,Марек СТАНКЕВИЧ,Эмилия ВОЛОВЕЦ-КОРЕЦКАЯ. Владелец: Секо/Варвик С.А.. Дата публикации: 2017-12-19.

Method of performing a universal led bulb lamp and led lamp bulb type with stopping ring and led lamp

Номер патента: RU2627731C2. Автор: Цзицян ЧЖАН,Чжэюань ЧЖАН. Владелец: Гуйчжоу Гзгпс Ко., Лтд. Дата публикации: 2017-08-11.

Refrigerating apparatus with pullout container

Номер патента: RU2517230C2. Автор: Мариетта БОРМАНН,Мартин АЙХЛЕР. Владелец: Бсх Бош Унд Сименс Хаусгерете Гмбх. Дата публикации: 2014-05-27.

Hub for propeller with polygonal reinforced ring and turbomachine equipped by such hub

Номер патента: RU2559904C2. Автор: Филипп Жерар Эдмон ЖОЛИ,Эрик Жак БОСТОН,Мишель Андре БУРЮ,Лоран ЯБЛОНСКИ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2015-08-20.

Pp pipe welding machine with special safety ring and welding adapter with said special safety ring

Номер патента: RU2548080C2. Автор: Самет САМЕДИ. Владелец: Новапласт Пластик Санайи Ве Тикарет А.С. Дата публикации: 2015-04-10.

Derivative with articulated rings and method for preparation thereof, intermediate compound, pharmaceutical composition and application thereof

Номер патента: RU2683566C1. Автор: Нун ЧЖАН,Цинжуй СУНЬ,Цзушэнг СЮЙ,Тяньчжи У. Владелец: Шанхай Инли Фармасьютикал Ко., Лтд. Дата публикации: 2019-03-29.

Method for reconstruction of inguinal canal deep ring and back wall

Номер патента: RU2630616C1. Автор: Магомед Расулович Иманалиев,Магомед Курбанович Абдулжалилов,Магомед Хабибович Исаев,Хабиб Магомедрасулович Исаев. Владелец: Государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Дагестанская государственная медицинская академия" Министерства здравоохранения РФ. Дата публикации: 2017-09-11.

Method for manufacturing molded ring and ring material for manufacturing such a ring

Номер патента: RU2679677C2. Автор: Хидео ТАКИДЗАВА,Дзюн ОСОНЭ,Масаюки ВАТАНАБЭ. Владелец: Ниппон Институт Оф Текнолоджи. Дата публикации: 2019-02-12.

Sterile connector with non-sterile bending ring and method

Номер патента: RU2537781C2. Автор: Дэниел ПАЙ. Владелец: Дэниел ПАЙ. Дата публикации: 2015-01-10.

Double mechanical seal, its stationary sliding ring and pump housing in centrifugal pump

Номер патента: RU2695171C1. Автор: Юкка ВАЙНИКАЙНЕН. Владелец: Зульцер Мэнэджмент Аг. Дата публикации: 2019-07-22.

Sliding element, in particular piston ring, and combination of sliding element with companion working element

Номер патента: RU2531220C2. Автор: Маркус КЕННЕДИ,Михаэль ЦИННАБОЛЬД. Владелец: Федерал-Могул Буршайд Гмбх. Дата публикации: 2014-10-20.

Gas turbine engine turbine ring sector, turbine ring, turbine containing such ring, and gas turbine engine containing such turbine

Номер патента: RU2372495C2. Автор: Эрван БОТРЕЛЬ,Клер Дорин ДОРЭН. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2009-11-10.

Method for determining indications for performing computed tomography of patients with pubic bone fractures to detect undiagnosed damages of the front semi-ring and the middle part of the pelvic ring

Номер патента: RU2737686C1. Автор: Никита Николаевич Заднепровский,Павел Анатольевич Иванов,Леонид Сергеевич Коков,Иван Михайлович Скоробогач,Фаат Абдул-Каюмович Шарифуллин. Владелец: Государственное бюджетное учреждение здравоохранения города Москвы «Научно-исследовательский институт скорой помощи им. Н.В. Склифосовского Департамента здравоохранения города Москвы» (ГБУЗ "НИИ СП ИМ. Н.В.СКЛИФОСОВСКОГО ДЗМ"). Дата публикации: 2020-12-02.

Refrigerating apparatus with circulation air cooling

Номер патента: RU2392550C2. Автор: Ханс ИЛЕ,Александер ГЁРЦ,Ральф ШПИЛЛЕР,Ханс ИЛЕ (DE),Александер ГЁРЦ (DE),Ральф ШПИЛЛЕР (DE). Владелец: Бсх Бош Унд Сименс Хаусгерете Гмбх. Дата публикации: 2010-06-20.

Bucket, clamping ring and method of assembling bucket with clamping ring

Номер патента: RU2665419C1. Автор: ОСТЕН Андрис ВАН. Владелец: Ардаг Мп Груп Недерландс Б.В.. Дата публикации: 2018-08-29.

Water treatment apparatus with easy filter replacement construction

Номер патента: US7918998B2. Автор: Chih-Hao Tsai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-04-05.

Membrane valve without support ring and support plate

Номер патента: RU2724425C1. Автор: Ян ГРЕБЕ,Кай ВЕРНЕР. Владелец: Кнорр-Бремзе Зюстеме Фюр Нутцфарцойге Гмбх. Дата публикации: 2020-06-23.

Apparatus with a microfluid chip for measuring the optical strength and imaging cells using the microfluid chip configuration and dynamics

Номер патента: RU2764676C1. Автор: Шон ХАРТ,Колин ХЕБЕРТ,Кристофер ФИЛД,Швета КРИШНАН. Владелец: ЛУМАСАЙТ ЭлЭлСи. Дата публикации: 2022-01-19.

Brass for synchroniser rings and method for manufacturing preforms

Номер патента: RU2763371C2. Автор: Александр Сергеевич Овчинников,Алексей Владимирович Святкин. Владелец: Акционерное общество «АВТОВАЗ». Дата публикации: 2021-12-28.

Stent graft assembly with attached security rings and method of use

Номер патента: CA2515019A1. Автор: Michi E. Garrison,Leon V. Rudakov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-08.

Stent graft assembly with attached security rings and method of use

Номер патента: EP1585459A1. Автор: Michi E. Garrison,Leon V. Rudakov. Владелец: CardioVasc Inc. Дата публикации: 2005-10-19.

Breathing assistance apparatus with serviceability features

Номер патента: AU2022202559B2. Автор: Kevin Peter O'donnell,Christopher Simon James Quill,Samuel Robertson Frame,Christopher Malcolm Crone,John Han,Jack Che-Wei HSU. Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Method and apparatus with flash memory control

Номер патента: EP4216221A1. Автор: Sang Joon Kim,Seok Ju Yun,Daekun YOON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-26.

Method and apparatus with flash memory control

Номер патента: US20230298675A1. Автор: Sang Joon Kim,Seok Ju Yun,Daekun YOON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-21.

Interchangeable and changeable slider blade dispensing apparatus with adjustable saw tooth trough tray

Номер патента: US20150008239A1. Автор: Jeffrey Michael Perkins. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-01-08.

Portable apparatus with classified clean area

Номер патента: WO2024144511A1. Автор: Elif SERT,Nihat CÖCE. Владелец: Eczacibaşi Monrol Nükleer Ürünler Sanayi̇ Ve Ti̇caret Anoni̇m Şi̇rketi̇. Дата публикации: 2024-07-04.

Sealing ring and sealed structure including same

Номер патента: EP4361473A1. Автор: Hideya Watanabe. Владелец: Nok Corp. Дата публикации: 2024-05-01.

Air compressing apparatus with dry-air internal-emission trap unit

Номер патента: US11927182B2. Автор: Minsoo Kim. Владелец: Turbowin Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-12.

Tethered resistance swim training apparatus with smart pulley

Номер патента: US11759691B2. Автор: Charles Destro. Владелец: Destro Machines LLC. Дата публикации: 2023-09-19.

Shear transfer ring and clamp

Номер патента: US11286632B1. Автор: Mohammad R Ehsani,Saeed Towfighi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-29.

Sucking apparatus with hair filter

Номер патента: WO1996026641A1. Автор: Jaap Van Der Kamp. Владелец: Kamp Jaap V D. Дата публикации: 1996-09-06.

Positioning cushion for a medical imaging examination, and medical imaging apparatus with a positioning cushion

Номер патента: US20160367167A1. Автор: Wolfgang Kraus,Thomas Kundner,Stephan Zink,Daniel Driemel,Hubertus Fischer,Yvonne Candidus,Martin Zigann,Lukas Endner. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2016-12-22.

No delivery apparatus with manual ventilation system

Номер патента: AU2023201384A1. Автор: Frederic Marchal. Владелец: Inosystems SA. Дата публикации: 2023-09-28.

Apparatus with automatic belt tensioning

Номер патента: US10118786B2. Автор: Meng-Bin Qiu,Ming-Ta Chiu. Владелец: Maintek Computer Suzhou Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-06.

Hall sensor apparatus with temperature measurement function and current sensor apparatus with the same function

Номер патента: US20190113550A1. Автор: Ki Chul Hong. Владелец: Itx-M2m Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-18.

Exercise apparatus with divergent/convergent motion along the symmetrical semi elliptical routes

Номер патента: WO2018187853A1. Автор: Ali Kiani. Владелец: Ali Kiani. Дата публикации: 2018-10-18.

Gaming Apparatus with Bi-Directional Reels

Номер патента: CA2072701A1. Автор: Raymond Heidel,Robert M. Dickenson. Владелец: Bally Manufacturing Corp. Дата публикации: 1993-02-27.

Patient Transport Apparatus With Ski Assemblies

Номер патента: US20240269020A1. Автор: Christopher Gentile,Shawn Trimble,Joshua Buck. Владелец: Stryker Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

Patient Support Apparatus With Ramp Transition Detection

Номер патента: US20240293278A1. Автор: Richard A. Derenne,Gary L. Bartley,Anish Paul. Владелец: Stryker Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Vacuum Sizing Apparatus with Controlled Vacuum

Номер патента: CA2123197A1. Автор: Robert H. Bessemer,Ernest J. Preiato,Marion M. Meetze,Mark S. Hoopes. Владелец: Conair Group Inc. Дата публикации: 1995-01-20.

Air compressing apparatus with dry-air internal-emission trap unit

Номер патента: US20230058866A1. Автор: Minsoo Kim. Владелец: Turbowin Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Modular configurable mobile transport apparatus with adjustable folding legs

Номер патента: US12043298B2. Автор: Robert James Suhling. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-23.

Pressing ring and lens module

Номер патента: US20200041753A1. Автор: Hailong Wang. Владелец: AAC Technologies Pte Ltd. Дата публикации: 2020-02-06.

Apparatus with the multi-stage power shifting means applied to a machine tool

Номер патента: US20160169328A1. Автор: Chao-Kun Hsia,Chien-Jen Ho. Владелец: HUA YONG MACHINE INDUSTRY Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-16.

Method and apparatus with neural network control

Номер патента: US20230244910A1. Автор: Jongseok Kim,Hyun Oh Song,Yeonwoo JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-03.

Apparatus with additionally installable equipment

Номер патента: US7577376B2. Автор: Takashi Kobayashi. Владелец: Oki Data Corp. Дата публикации: 2009-08-18.

Apparatus with additionally installable equipment

Номер патента: US20050208843A1. Автор: Takashi Kobayashi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-22.

An apparatus with detachable grating means and/or sharpening means

Номер патента: WO2019082070A1. Автор: Mercy MANOHARAN. Владелец: Manoharan Mercy. Дата публикации: 2019-05-02.

Weathering test apparatus with real-time color measurement

Номер патента: EP2144048A3. Автор: Christopher Waas,Kurt P. Scott. Владелец: Atlas Material Testing Technology LLC. Дата публикации: 2011-08-03.

Apparatus with Interchangeable Panels for Varying Acoustic and Esthetic Treatments or Effects

Номер патента: US20230203805A1. Автор: Calum W. Smeaton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-06-29.

Electronic apparatus with alarm function and method thereof

Номер патента: US20110050420A1. Автор: Peng Li. Владелец: Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-03.

Napkin having an integrated ring and method of making the same

Номер патента: US20110311766A1. Автор: Michelle Edgemont. Владелец: Ex Cell Home Fashions Inc. Дата публикации: 2011-12-22.

MRI apparatus with improved thermal control system and method for operating said thermal control system

Номер патента: US20240241198A1. Автор: Vincenzo Punzo,GIUSEPPE SALVO,Paolo Iaia. Владелец: Esaote SPA. Дата публикации: 2024-07-18.

Showering apparatus with spray holes each accommodating multiple spray patterns

Номер патента: US20240189836A1. Автор: Xiaoling Yan. Владелец: Xiamen Galenpoo Kitchen and Bathroom Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Degassing apparatus with a bubble breaker

Номер патента: US20240109004A1. Автор: Ram Kumar Upadhyay,Shatil Sinha,James Duvall Bollacker. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-04-04.

Modular configurable mobile transport apparatus with adjustable folding legs

Номер патента: US20220081016A1. Автор: Robert James Suhling. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-17.

Direction control apparatus with sensor, and method and system for determining driver status using the same

Номер патента: US20190241191A1. Автор: Sung-Han WU. Владелец: PixArt Imaging Inc. Дата публикации: 2019-08-08.

Mri apparatus with improved thermal control system and method for operating said thermal control system

Номер патента: EP4403945A1. Автор: Vincenzo Punzo,GIUSEPPE SALVO,Paolo Iaia. Владелец: Esaote SPA. Дата публикации: 2024-07-24.

An end ring for a sleeve, a sleeve adapted to receive such an end ring, and a sleeve assembly incorporating such an end ring

Номер патента: EP4426559A1. Автор: Gary Carmichael. Владелец: SANDON GLOBAL ENGRAVING TECHNOLOGY LTD. Дата публикации: 2024-09-11.

Ultrasonic electronic rhinitis therapeutic apparatus with far-infrared atomized coconut essential oil

Номер патента: US12090265B2. Автор: Hongjun Yang,Rong Wang,Fujun YANG,Xiaoqi DU. Владелец: Cartean Henan Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Method and apparatus with navigation path generation

Номер патента: US20240310846A1. Автор: Seunghwan Park,Seung Min Choi,Jae Ho Lim,Jae-Yeong Lee,Seohyun JEON,Seung-lk Lee. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2024-09-19.

Bicycle apparatus with controllable load

Номер патента: WO2009061178A9. Автор: Bastiaan Andreas d'Herripon,Gijsbertus Cornelis Fransciscus Roovers. Владелец: Spinpower B.V.. Дата публикации: 2009-10-01.

Multi-chamber furnace for vacuum carburizing and quenching of gears, shafts, rings and similar workpieces

Номер патента: US09989311B2. Автор: Maciej Korecki,Jozef Olejnik,Wieslaw FUJAK,Marek STANKIEWICZ,Emilia Wolowiec-Korecka. Владелец: Seco/Warwick SA. Дата публикации: 2018-06-05.

Seal ring and coupling sleeve assembly

Номер патента: US09982814B1. Автор: Kenneth J. Carstensen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-05-29.

Three-dimensional depth perception method and apparatus with an adjustable working range

Номер патента: US09959626B2. Автор: Chenyang Ge,Yanhui Zhou. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-05-01.

Probehead of an NMR-MAS apparatus with a device for determining the angle between the MAS rotor and the static magnetic field

Номер патента: US09945654B2. Автор: Nicolas Freytag. Владелец: Bruker Biospin SAS. Дата публикации: 2018-04-17.

Fluid pressure pulse generating apparatus with primary seal assembly, back up seal assembly and pressure compensation device and method of operating same

Номер патента: US09915146B2. Автор: David A. Switzer,Aaron W. LOGAN,Justin C. LOGAN. Владелец: Evolution Engineering Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Apparatus with facing bell members for modified-atmosphere packaging of products contained in trays

Номер патента: US09902509B2. Автор: Massimiliano Vaccari,Andrea Schiavina. Владелец: Gruppo Fabbri Vignola SpA. Дата публикации: 2018-02-27.

Tennis ball retrieval apparatus with enhanced ball retention capability

Номер патента: US09878215B1. Автор: David Lee Stanford. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-01-30.

Disk management in distributed storage system including grouping disks into cold and hot data disk rings and reducing a spinning rate of disks storing cold data

Номер патента: US09875050B2. Автор: Li Chen,Lei Chen,Jun Wei Zhang,Xiaoyang Yang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Steering apparatus with forward extended fork legs

Номер патента: US09815515B2. Автор: Shinji Marui. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-11-14.

Apparatus with timed color change indication

Номер патента: US09810671B2. Автор: Gregory Lee Heacock,Louis Ellen Culham. Владелец: SENSOR INTERNATIONAL LLC. Дата публикации: 2017-11-07.

Display apparatus with touch detection functions and with driving electrodes shared by two more pixels in the same column, driving method for same, and mobile device with same

Номер патента: US09804711B2. Автор: Koji Noguchi,Yoshitoshi Kida. Владелец: Japan Display Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Wind turbine having a plurality of airfoil rings and counter rotating generators

Номер патента: US09803616B2. Автор: Ryan Port,Laurance Jay Scheib. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-10-31.

Spray atomizing ozone water generating apparatus with gas storage ability

Номер патента: US09757697B2. Автор: Maxwell Hsu,Gavin Hsu. Владелец: Yantai United Ozonetec Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Apparatus with variable compression ratio and variable expansion ratio

Номер патента: US09726078B2. Автор: Dazi SHEN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-08.

Display apparatus with touch detection function and electronic apparatus

Номер патента: US09721536B2. Автор: Koji Ishizaki,Hayato Kurasawa. Владелец: Japan Display Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Water based pet cremation basket apparatus with enhanced strength

Номер патента: US09700477B1. Автор: Alec John Franks,Jeffrey Alan Franks. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-07-11.

Electronic apparatus with fingerprint sensing function, driving circuit, and method for driving electronic apparatus with fingerprint sensing function

Номер патента: US09697345B2. Автор: Jie Liu,Zhi Liu,Lianghua Mo. Владелец: FocalTech Systems Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Image forming apparatus with detachable fixing device, control method therefor, and storage medium storing control program therefor

Номер патента: US09665051B2. Автор: Yukiyoshi Hikichi,Yoshiro Tachibana. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Display apparatus with touch detection function, drive circuit, method of driving display apparatus with touch detection function, and electronic devices

Номер патента: US09619069B2. Автор: Takayuki Nakanishi,Hiroshi Mizuhashi. Владелец: Japan Display Inc. Дата публикации: 2017-04-11.

Item pusher apparatus with channel-based shuttle displacement detection and associated methods

Номер патента: US09576417B2. Автор: David P. Christianson. Владелец: Checkpoint Systems Inc. Дата публикации: 2017-02-21.

Fluid hose apparatus with integrated nozzle and related systems and methods

Номер патента: US09561393B2. Автор: Stephen D. Shoap. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-02-07.

Vacuum-cleaning apparatus with vacuum-cleaner unit and filter bag

Номер патента: US09554681B2. Автор: Jan Schultink,Ralf Sauer. Владелец: Eurofilters Holding NV. Дата публикации: 2017-01-31.

Fluid pressure pulse generating apparatus with primary seal assembly, back up seal assembly and pressure compensation device and method of operating same

Номер патента: US09528370B2. Автор: David A. Switzer,Aaron W. LOGAN,Justin C. LOGAN. Владелец: Evolution Engineering Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Toy launch apparatus with open top dart drum

Номер патента: US09513075B2. Автор: David Michael Nugent,John Paul Lallier,Tadeusz W Keska,Katherine A Mermelstein. Владелец: Hasbro Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Tolerance ring and assembly with deformable projections

Номер патента: US09505091B2. Автор: Andrew Robert Slayne. Владелец: Saint Gobain Performance Plastics Rencol Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Infant care apparatus with multiple user interfaces

Номер патента: US09486377B2. Автор: Melwyn Dominic Dmello,Meenakshisundaram Ramkumar. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2016-11-08.

Subdermal lighting apparatus with enhanced biological compatibility and safety

Номер патента: US09424957B1. Автор: Luke Adam Williams. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-08-23.

Filter apparatus with filter cleaning arrangement

Номер патента: US09422738B2. Автор: Ulrich Hegi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-08-23.

Input apparatus with force feedback

Номер патента: US09417718B2. Автор: Hajime Suzuki,Shinji Ishikawa,Yoshiyuki Iwasaki,Hiroshi Wakuda,Yukiharu Hayashi,Tomohiro Shiine. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Lighting apparatus with a light source comprising light emitting diodes

Номер патента: US09416952B2. Автор: Gary Robert Allen,Ashfaqul Islam Chowdhury,Jeyachandrabose Chinniah,Jeremias Anthony Martins,Anthony Rotella. Владелец: GE LIGHTING SOLUTIONS LLC. Дата публикации: 2016-08-16.

Interchangeable and changeable slider blade dispensing apparatus with adjustable saw tooth trough tray

Номер патента: US09412215B2. Автор: Jeffrey Michael Perkins. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-08-09.

Seal ring and method of its fabrication

Номер патента: RU2478855C2. Автор: Жиль БОРДЕНЕ,Янн ПОНТ. Владелец: Джи Эм Глоубал Текнолоджи Оперейшнз, Инк.. Дата публикации: 2013-04-10.

Sliding element, particularly, coated piston ring, and method of its fabrication

Номер патента: RU2520245C2. Автор: Маркус КЕННЕДИ. Владелец: Федерал-Могул Буршайд Гмбх. Дата публикации: 2014-06-20.

Packing segment for packing ring and a unit of packing ring

Номер патента: RU2303732C2. Автор: Джордж Хорнер КИРБИ III,Ричард Джон ШЕВРЕТТ,Мэттью Патрик БЁСПФЛУГ. Владелец: Дженерал Электрик Компани. Дата публикации: 2007-07-27.

Production of piston ring and compression piston ring

Номер патента: RU2559209C2. Автор: Петер-Клаус ЭССЕР,Юрген ГИЛЛЕН. Владелец: Федерал-Моугал Буршайд Гмбх. Дата публикации: 2015-08-10.

Method of manufacturing closed metal ring and device for removing polymers from closed metal ring

Номер патента: RU2627829C2. Автор: Мицуэ КОГА,Томохико НИСИЯМА. Владелец: Тойота Дзидося Кабусики Кайся. Дата публикации: 2017-08-11.

Clamper with clamping ring and location part

Номер патента: RU2477209C2. Автор: Николя РИГОЛЛЕ,Фабрис ПРЕВО,Эрик МЕНАР. Владелец: Этаблиссман Кайо. Дата публикации: 2013-03-10.

Hollow geared ring and method of its manufacturing

Номер патента: RU2567758C2. Автор: Баочжу ЛЯН,Патрик ДАЛЬМАН. Владелец: Актиеболагет Скф. Дата публикации: 2015-11-10.

Sound generating apparatus with sealed air chamber between two sounding plates

Номер патента: US4700177A. Автор: Toru Nakashima,Haruhiko Inoue,Sigeki Furuta. Владелец: NipponDenso Co Ltd. Дата публикации: 1987-10-13.

Auxiliary tool for dismantling a guide ring and application method of the same

Номер патента: US20030097742A1. Автор: Sam Hu,Po-Chung Chian,Stanley Sung. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2003-05-29.

Etching method for making fluid bearings

Номер патента: US6905617B2. Автор: Hung-Kuang Hsu,Kuang-Hsien Chang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2005-06-14.

Etching method for making fluid bearings

Номер патента: US20040060905A1. Автор: Hung-Kuang Hsu,Kuang-Hsien Chang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2004-04-01.

Multi-stage resin surface etching method, and plating method on resin using same

Номер патента: EP3633066A1. Автор: Hiroshi Ishizuka,Miyoko IZUMITANI,Yasuyuki Kuramochi. Владелец: JCU Corp. Дата публикации: 2020-04-08.

Method of manufacturing a part of a color ring and a part of a color ring

Номер патента: EP2649151A1. Автор: Peter Josef Schmidt,Uwe Mackens,Johannes Baier,Ulrich Weichmann,Joachim Opitz,Yuri Aksenov,Jan Renier Marie Hochstenbach. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2013-10-16.

Absolute isolated light path structure, and seat ring and toilet deat using asbolute isolated light path structure

Номер патента: US20230157641A1. Автор: Pei Wang,Jinhe Luo. Владелец: Guangzhou Eaphonetech Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Sight mount with diagonally split rings and attachments for accessories

Номер патента: EP2478324A1. Автор: Håkan Spuhr. Владелец: Spuhr Hakan. Дата публикации: 2012-07-25.

Method of stabilizing a closet ring and tool therefor

Номер патента: US8336127B1. Автор: Ronald I. Butcher. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-12-25.

Hanger floating ring and seal assembly system and method

Номер патента: WO2010122485A3. Автор: Lim Haw Keat,Joseph Chan. Владелец: Cameron International Corporation. Дата публикации: 2011-05-05.

Ring and traveller for ring spinning machines and the like

Номер патента: US3621645A. Автор: Stefan Furst. Владелец: REINERS AND FURST. Дата публикации: 1971-11-23.

Pipe welding ring and pipe welding method using the same

Номер патента: US20220288717A1. Автор: Do Hyung Kim,Bong Ju KIM,Sung Mok Ryu. Владелец: Hwasung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-15.

Piston rings and/or a piston in an internal combustion engine of the diesel type and a method of running-in of a diesel engine

Номер патента: WO1998019084A1. Автор: Lech Moczulski. Владелец: Man B & W Diesel A/S. Дата публикации: 1998-05-07.

Vacuum insulated glass (vig) window unit including pump-out tube protection ring and/or cap and methods for making same

Номер патента: EP2847409A1. Автор: Jeffrey A. Jones. Владелец: Guardian Industries Corp. Дата публикации: 2015-03-18.

Swim ring and swimming aid

Номер патента: US20120015571A1. Автор: Michaela Warmuth-Rued. Владелец: FREDS Swim Academy GmbH. Дата публикации: 2012-01-19.

Sealing ring and sealed structure including same

Номер патента: US20240288074A1. Автор: Hideya Watanabe. Владелец: Nok Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Photomask etching method for chemical vapor deposition film

Номер патента: US20110027719A1. Автор: Pei-Chang Wang. Владелец: United Radiant Tech Corp. Дата публикации: 2011-02-03.

Bearing assembly with inner rings and method of alignment

Номер патента: CA3080890A1. Автор: Michel Jean,Cédric Poirier,Marc-Andre PELLETIER. Владелец: Pratt and Whitney Canada Corp. Дата публикации: 2020-11-17.

Vented ring and method

Номер патента: US20180271233A9. Автор: Peter Mark Goodwin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-09-27.

Vented ring and method of manufacturing the same

Номер патента: US20180206604A1. Автор: Peter Mark Goodwin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-07-26.

Customized wedding ring and process for customizing

Номер патента: US20180201053A1. Автор: Roberto Graziano. Владелец: Mg Gold Da Amazonia Ltda. Дата публикации: 2018-07-19.

Substituted phenoxyethyl (isopropyl) acyloxyalkyl phosphonate comprising phosphorusheterocyclic ring and having herbicidal activity, and preparation therefor

Номер патента: US9029542B2. Автор: Hao Peng,Wei Wang,Xijun SHENG,Hongwu He,Xiaosong Tan,Na Zuo. Владелец: CENTRAL CHINA NORMAL UNIVERSITY. Дата публикации: 2015-05-12.

Quick-Mounting Structure, Adaptor Ring and Filter

Номер патента: US20220206240A1. Автор: Xiuzhi YU,Guangshan WANG,Dashan SI. Владелец: Pgytech Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Snap ring and bearing assembly including a snap ring

Номер патента: US20210301876A1. Автор: Wolfgang Runge,Sebastian Dinkel,Johannes Ruopp. Владелец: SKF AB. Дата публикации: 2021-09-30.

Snap ring and bearing assembly including a snap ring

Номер патента: US11542984B2. Автор: Wolfgang Runge,Sebastian Dinkel,Johannes Ruopp. Владелец: SKF AB. Дата публикации: 2023-01-03.

Method and assembly unit for mounting an elastic ring and ring mounting device

Номер патента: US12042892B1. Автор: Coelestin Ohrmann. Владелец: Ohrmann Gmbh. Дата публикации: 2024-07-23.

Electro-etching method for an area-selective treatment of a substrate

Номер патента: WO2024153798A1. Автор: Harald Okorn-Schmidt,Herbert Ötzlinger,Marianne KOLITSCH-MATALN,Manuel REICHENPFADER,Alexander PÖCHEIM. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2024-07-25.

Electro-etching method for an area-selective treatment of a substrate

Номер патента: EP4403676A1. Автор: Harald Okorn-Schmidt,Herbert Ötzlinger,Marianne KOLITSCH-MATALN,Manuel REICHENPFADER,Alexander PÖCHEIM. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2024-07-24.

Method of manufacturing a part of a color ring and a part of a color ring

Номер патента: US8998455B2. Автор: Peter Josef Schmidt,Uwe Mackens,Johannes Baier,Ulrich Weichmann,Joachim Opitz,Yuri Aksenov,Jan Renier Marie Hochstenbach. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2015-04-07.

Double row tapered roller bearing, bearing ring, and method for producing double row tapered roller bearing

Номер патента: US20180347005A1. Автор: Michio Hori,Hiroshi Yuki,Chikara Ohki,Kazuhiro Yagita,Hideto Torisawa. Владелец: NTN Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Computer program product and a carrier for supporting a user designing a hydraulic cylinder by indicating preferred components of seals, rings and bearings

Номер патента: US20020186227A1. Автор: Jurgen Scholer,Niclas Hansson,Roland Spanner,Tage Staflund. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-12.

Combination of piston rings, and combination structure of piston and piston rings

Номер патента: US12117084B2. Автор: Hiroyuki Nagakura,Akira Hikone,Shuichi Inamori. Владелец: TPR Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Piston ring and booster pump

Номер патента: US20240337316A1. Автор: Hideaki Asai,Jun Fukada,Kenji Nakamichi,Kimihiko Mitsuda,Yuichi Kihara,Daisuke Hirayama,Motoshi Harada. Владелец: Riken Corp. Дата публикации: 2024-10-10.

Fingerprint sensing apparatus with in-sensor fingerprint enrollment and verification

Номер патента: US20210295012A1. Автор: Marcia Tsuchiya,Ramakrishna Kakarala,Kio KIM. Владелец: Synaptics Inc. Дата публикации: 2021-09-23.

Convenient-to-adjust extension ring and camera lens filter bracket

Номер патента: US09983379B2. Автор: Guokui Yuan. Владелец: ZHUHAI CHUANFU OPTICAL TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Turbine ring and turbomachine

Номер патента: US09963993B2. Автор: Manfred Feldmann. Владелец: MTU Aero Engines AG. Дата публикации: 2018-05-08.

Multilayer multi-element composite hard pvd coating on the surface of a piston ring, a piston ring and a preparation process

Номер патента: US09927029B2. Автор: Bo Zhang,Yingxue WU,Qianxi LIU. Владелец: Asimco Shuanghuan Piston Ring Yizheng Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Joining mechanism for jewelry ring and band set

Номер патента: US09918529B2. Автор: Bliss Lau. Владелец: Simply Bliss Inc. Дата публикации: 2018-03-20.

Heart valve sizing ring and method

Номер патента: US09889009B2. Автор: Nikola Dobrilovic. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-02-13.

Coupling system, applicator tool, attachment ring and method for connecting a conduit to biological tissue

Номер патента: US09848870B2. Автор: J. Donald Hill,Carine Hoarau,George Hsu,Steven H. Reichenbach,Andrew R. Miller,Philip Haarstad,Olga M. Stanescu,Shuo-Hsiu Chang,James Badia,Nina Boiadjieva,Stephen Kenneth Sundquist. Владелец: Thoratec LLC. Дата публикации: 2017-12-26.

Sealing ring and preparation method thereof

Номер патента: US09765887B2. Автор: Xuemin Chen,Ming Yin,Qingdong Ye,Liping Hu,Jimin Yuan. Владелец: Shenzhen Sunxing Light Alloy Materials Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Expandable annuloplasty ring and associated ring holder

Номер патента: US09757231B2. Автор: Trong Tin Nguyen,Anthony Paolitto,Valerio Valentini,Emmanuel Lansac,Jonathan Paquette,Neil Bulman-Fleming,Adrian Ranga. Владелец: Coroneo Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Anti-jamming device for printing apparatuses with stacker

Номер патента: US09751339B2. Автор: Alberto Campanini. Владелец: Custom SpA. Дата публикации: 2017-09-05.

Vacuum insulated glass (VIG) window unit including pump-out tube protection ring and/or cap and methods for making same

Номер патента: US09695628B2. Автор: Jeffrey A. Jones. Владелец: Guardian Industries Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Compressor comprising a stator vane assembly having an inner ring and a seal carrier secured thereto with a clamping element

Номер патента: US09624833B2. Автор: Juergen Kraus,Felix Kern. Владелец: MTU AERO ENGINES GMBH. Дата публикации: 2017-04-18.

Apparatus with both touch sensing and electrical field sensing functions and interactive apparatus using the same

Номер патента: US09454276B2. Автор: Tung-Tsai Liao,Li Sheng Lo. Владелец: Generalplus Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-27.

Pulsation apparatus with the two-stepped pulse tube and with the additional nozzle section

Номер патента: RU2664917C1. Автор: Руфат Шовкет оглы Абиев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный технологический институт (технический университет)". Дата публикации: 2018-08-23.

Surgical cutting and fixing apparatus with drive from engine and adaptive feedback with user

Номер патента: RU2449748C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Джером Р. МОРГАН,Джон Н. АУВЕРКЕРК. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2012-05-10.

Surgical cutting and fixing apparatus with drive from engine and mechanical closing system

Номер патента: RU2449750C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Кристоф Л. ДЖИЛЛУМ. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2012-05-10.

Surgical suturing apparatus with mechanism of launching, sensitive to loading

Номер патента: RU2499567C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Марк С. ОРТИЗ,Джеффри К. ХЬЮЭЛ,Дуглас Б. ХОФФМАН,Патрик А. ВЕЙЗМАН,Дин Б. БРЮВЕР,Грегори Б. БЛЭР,Чэд П. БУДРО. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2013-11-27.

Surgical cutting and fixing apparatus with drive from engine and mechanical closing system

Номер патента: RU2449747C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Кристоф Л. ДЖИЛЛУМ. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2012-05-10.

Surgical apparatus with detachable battery

Номер патента: RU2449745C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Джеффри С. СВЭЙЗИ,Кевин Р. ДОЛЛ,Юджин Л. ТИМПЕРМАН. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2012-05-10.

Spent gas exhaust apparatus with a turbocharger

Номер патента: RU2765398C2. Автор: Томас ЛЯЙТЕЛ,Доминик ПОЛЬСТЕР. Владелец: Ман Трак Унд Бас Аг. Дата публикации: 2022-01-28.

Apparatus with heat exchange jacket

Номер патента: RU2727403C1. Автор: Владимир Олегович Яблонский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ). Дата публикации: 2020-07-21.

Piston ring and piston compressor with dry running

Номер патента: RU2176043C2. Автор: Норберт ФАЙСТЕЛ. Владелец: Машиненфабрик Зульцер-Буркхардт АГ. Дата публикации: 2001-11-20.

Aerosol-generating apparatus with feedback control

Номер патента: RU2765362C2. Автор: Мишель БЕССАН,Риккардо РИВА РЕДЖОРИ,Ана Исабель ГОНСАЛЕС ФЛОРЕС. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2022-01-28.

Liner hanger/packer apparatus with pressure balance feature on anchor slips to facilitate removal

Номер патента: CA2896520C. Автор: Andy Tom. Владелец: Baker Hughes Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Orbiting member fluid displacement apparatus with rotation preventing mechanism

Номер патента: US5435706A. Автор: Yuji Yoshii,Norio Kitano,Yasuomi Matsumoto. Владелец: Sanden Corp. Дата публикации: 1995-07-25.

Sheet Feeding Apparatus with Buffer System

Номер патента: US20070228645A1. Автор: Seung-Kyoon Noh. Владелец: KRCD Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-04.

Resin composition, anti-etching layer and etching method

Номер патента: US20230212414A1. Автор: Hui-Ju Chen,Yu-Ning Chen,Shao-Li Ho,Jia Jheng Lin. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2023-07-06.

Method and apparatus with artificial network generation and/or implementation corresponding to a natural neural network

Номер патента: US20230056865A1. Автор: Donhee Ham,Hongkun Park,Sang Joon Kim,Renjing XU,Seijoon KIM. Владелец: Harvard College. Дата публикации: 2023-02-23.

Developing device and image forming apparatus with the same

Номер патента: US20090175659A1. Автор: So won Sheen. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-07-09.

Comprehensive physical exercising apparatus with running exercising function and strength exercising function

Номер патента: US11998795B2. Автор: Jun Lu,Yuanwen Zhu. Владелец: Shenzhen Yuanzhichuang Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Training apparatus with adjustable travel distance

Номер патента: US20170182345A1. Автор: Zong-Huan WU. Владелец: Rexon Industrial Corp Ltd. Дата публикации: 2017-06-29.

Method and apparatus with cosmic ray fault protection

Номер патента: US20230076106A1. Автор: Seongbeom Kim,Jaehyung Ahn,Wooseok CHANG,Junyeon Lee,Byungwoo BANG,Uiseok Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-09.

Fire pit conversion ring and method

Номер патента: US20230266013A1. Автор: Amos A. Stoltzfus,Jonathan C. Miller,Omar G. Stoltzfus. Владелец: Breeo LLC. Дата публикации: 2023-08-24.

Pump apparatus with switching valve and driving power transmission device

Номер патента: US20150114790A1. Автор: Motoyasu Yamamori. Владелец: JTEKT Corp. Дата публикации: 2015-04-30.

Fire pit conversion ring and method

Номер патента: CA3137872A1. Автор: Amos A. Stoltzfus,Jonathan C. Miller,Omar G. Stoltzfus. Владелец: Breeo LLC. Дата публикации: 2022-10-30.

Tone ring and attachment structure

Номер патента: US20200096066A1. Автор: Jay D. White,Matthew P. Karich,Dhawal P. DHARAIYA. Владелец: HENDRICKSON USA LLC. Дата публикации: 2020-03-26.

Gasket ring and flange connection using such gasket ring

Номер патента: US11846353B2. Автор: Alexander Riedl. Владелец: Fh Muenster University Of Applied Sciences. Дата публикации: 2023-12-19.

Electronic audio playing apparatus with an interactive function and method thereof

Номер патента: US20100174530A1. Автор: Chuan-Hong Wang,Hsiao-Chung Chou,Li-Zhang Huang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2010-07-08.

Display apparatus with scent disperse device

Номер патента: US7757965B2. Автор: Stephen Tsai,Ming-Chun Lee,Guan-De Liou,Chia-Pine Huang,Li-Li Lai. Владелец: Hannspree Inc. Дата публикации: 2010-07-20.

Expansion apparatus with power management function

Номер патента: US20230288981A1. Автор: Ying-Chao Lin. Владелец: Atemitech Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Method for the selective cleavage of a compound comprising an aromatic ring and a c-o-c linkage

Номер патента: US20240043626A1. Автор: Stéphane Streiff,Dan Wu,Andrei Khodakov,Vitaly ORDOMSKY,Jianxia ZHENG. Владелец: Ecole Centrale de Lille. Дата публикации: 2024-02-08.

Apparatus for inspecting defect of rubbing cloth and rubbing apparatus with the same

Номер патента: US20080002196A1. Автор: Yong-Chul Yoo. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2008-01-03.

Smart gesture interactive display apparatus with holographic effect

Номер патента: US20240211052A1. Автор: Wenli Yang,Guanglei Zhou. Владелец: Shenzhen Shenkun Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Direct atomic layer deposition and/or etching method

Номер патента: WO2023079030A3. Автор: Mette Funding La Cour,Maksym PLAKHOTNYUK,Ivan KUNDRATA,Julien Bachmann,Philipp Wiesner,Matthias CARNOY. Владелец: Atlant 3D Nanosystems. Дата публикации: 2023-07-20.

Direct atomic layer deposition and/or etching method

Номер патента: WO2023079030A2. Автор: Mette Funding La Cour,Maksym PLAKHOTNYUK,Ivan KUNDRATA,Julien Bachmann,Philipp Wiesner,Matthias CARNOY. Владелец: Atlant 3D Nanosystems. Дата публикации: 2023-05-11.

Information processing apparatus with transferable display device on front thereof

Номер патента: US20040062174A1. Автор: Masakazu Ogasawara. Владелец: Pioneer Corp. Дата публикации: 2004-04-01.

Method and apparatus with artificial network generation and/or implementation corresponding to a natural neural network

Номер патента: EP4137998A2. Автор: Donhee Ham,Hongkun Park,Sang Joon Kim,Renjing XU,Seijoon KIM. Владелец: Harvard College. Дата публикации: 2023-02-22.

Patient Transport Apparatus With Asymmetric Throttle Assembly

Номер патента: US20240248507A1. Автор: Richard A. Derenne,Anish Paul,Tyler Ethen. Владелец: Stryker Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Line marking apparatus with paint fill level and/or paint nozzle control

Номер патента: WO2024079065A1. Автор: Peter Jensen,Rudi HANSEN,Jens Peder Kvols KRISTENSEN,Christoffer MOSE. Владелец: Tinymobilerobots Aps. Дата публикации: 2024-04-18.

Microelectromechanical sensing apparatus with calibration function

Номер патента: US12025588B2. Автор: Chung-Yuan Su,Chin-Fu Kuo,Chao-Ta Huang,Liang-Ying LIU. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2024-07-02.

Light apparatus with enlightened pattern

Номер патента: US20190316739A1. Автор: Hongkui JIANG,Yanzeng Gao,Juncheng Che. Владелец: Xiamen Eco Lighting Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-17.

Method and apparatus with image processing

Номер патента: US20230029073A1. Автор: Minsub Kim,Moon Gi Kang,Sangyoon Lee,Seunghoon JEE,Soonyoung Hong. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Yonsei University. Дата публикации: 2023-01-26.

Method and apparatus with artificial network generation and/or implementation corresponding to a natural neural network

Номер патента: EP4137998A3. Автор: Donhee Ham,Hongkun Park,Sang Joon Kim,Renjing XU,Seijoon KIM. Владелец: Harvard College. Дата публикации: 2023-03-29.

Membrane emulsification apparatus with refiner and method of preparing a refined emulsion

Номер патента: US20230285913A1. Автор: Bruce Williams,Sam TROTTER. Владелец: Micropore Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Quick-release anchoring apparatus with acceleration damping

Номер патента: WO2023132973A1. Автор: Israel Zimmerman. Владелец: Israel Zimmerman. Дата публикации: 2023-07-13.

Quick-release anchoring apparatus with acceleration damping

Номер патента: US20230091926A1. Автор: Israel Harry Zimmerman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-23.

Germicidal lighting apparatus with visible glare

Номер патента: US12036332B2. Автор: CHUN-TE YU,Chia-Yiu Maa. Владелец: Aleddra Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

PLASMA ETCHING METHOD

Номер патента: US20120003838A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Composition of gas mixture to form tantalum nitride metal gate by plasma etch chemistry

Номер патента: RU2450385C1. Автор: Геннадий Яковлевич Красников,Олег Павлович Гущин,Андрей Владимирович Данила,Михаил Родионович Бакланов,Денис Георгиевич Шамирян. Владелец: Открытое акционерное общество "НИИ молекулярной электроники и завод "Микрон". Дата публикации: 2012-05-10.

Device for plasma etch chemistry

Номер патента: RU2529633C1. Автор: Данил Геннадьевич Челапкин,Владимир Евгеньевич Белецкий. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ЭСТО-Вакуум". Дата публикации: 2014-09-27.

Method and apparatus for measuring the wafer etch rate and etch depth in a plasma etch process.

Номер патента: IES20070301A2. Автор: Stephen Daniels,Shane Glynn,Felipe Soberon,Maria Tipaka. Владелец: Lexas Res Ltd. Дата публикации: 2008-04-02.

Apparatus for ion-plasma etching and depositing thin films

Номер патента: RU2540318C2. Автор: Алексей Алексеевич Исаев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное предприятие "Исток" (ФГУП "НПП "Исток"). Дата публикации: 2015-02-10.

Septate waveguide with focusing magnetic field

Номер патента: RU2567741C1. Автор: Владимир Иванович Турчин,Сергей Валентинович Плотников. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт" "Государственный научный центр Российской Федерации - Институт Теоретической и Экспериментальной Физики". Дата публикации: 2015-11-10.

Device to model three-phase power transmission line with focused parameters

Номер патента: RU2469393C1. Автор: Александр Сергеевич Гусев,Юрий Сергеевич Боровиков,Алмаз Омурзакович Сулайманов,Николай Юрьевич Рубан,Алексей Федорович Прутик,Михаил Владимирович Андреев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет". Дата публикации: 2012-12-10.

Method for geo-electro-surveying with focusing of electric current (variants)

Номер патента: RU2279106C1. Автор: Николай Иванович Рыхлинский. Владелец: Николай Иванович Рыхлинский. Дата публикации: 2006-06-27.

INTERACTIVE APPARATUS WITH RECORDING AND PLAYBACK CAPABILITY USABLE WITH ENCODED WRITING MEDIUM

Номер патента: US20120004750A1. Автор: . Владелец: LeapFrog Enterprises, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Induction heating apparatus with sectional inductor

Номер патента: RU2256303C2. Автор: А.В. Осипов,С.К. Земан. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью (ООО) "Магнит". Дата публикации: 2005-07-10.

Side lobe suppression apparatus with pulsed compression of multi-phase codes (versions)

Номер патента: RU2515768C1. Автор: Владимир Яковлевич Архипкин,Евгений Ильич Кренгель,Павел Викторович Иванов. Владелец: Закрытое акционерное общество "Современные беспроводные технологии". Дата публикации: 2014-05-20.

Flower and plant accommodation apparatus with illumination devices (versions)

Номер патента: RU2281645C2. Автор: Сергей Николаевич Киприянов,нов Сергей Николаевич Кипри. Владелец: Сергей Николаевич Киприянов. Дата публикации: 2006-08-20.

Bubbling-vortex apparatus with adjustable lobes

Номер патента: RU2234358C1. Автор: В.М. Титов,А.В. Воронин,А.Т. Гареев,С.И. Байбулатов,А.К. Панов,В.А. Романчук,Р.Р. Усманова. Владелец: Открытое акционерное общество "Сода". Дата публикации: 2004-08-20.

Apparatus with rotating drum and built-in pneumatic tube

Номер патента: RU2528599C2. Автор: Валентин Валентинович Федоренко. Владелец: Валентин Валентинович Федоренко. Дата публикации: 2014-09-20.

Bubbling-swirling apparatus with parabolic swirler

Номер патента: RU2382680C2. Автор: Владимир Сергеевич Жернаков,Александр Константинович Панов,Регина Равилевна Усманова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Уфимский государственный авиационный технический университет. Дата публикации: 2010-02-27.

Bubbling-swirling apparatus with conical swirler

Номер патента: RU2403951C2. Автор: Александр Константинович Панов,Регина Равилевна Усманова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Уфимский государственный авиационный технический университет. Дата публикации: 2010-11-20.

Drying apparatus with inert head for suspended layer

Номер патента: RU2313744C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов,Мари Олеговна Кочетова,Мария Олеговна Кочетова,Сергей Савельевич Кочетов,Сергей Сергеевич Кочетов,Геннадий Васильевич Львов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2007-12-27.

Regular adapter for heat- and mass-exchange apparatuses with intermittent irrigation

Номер патента: RU2515330C1. Автор: Артем Викторович Бадеников,Алексей Валерьевич Бальчугов,Игорь Евгеньевич Кузора,Михаил Шакиржанович Залилеев. Владелец: ФГБОУ ВПО Ангарская государственная техническая академия. Дата публикации: 2014-05-10.

Protective apparatus with self-testing

Номер патента: RU2279730C2. Автор: Игорь Григорьевич Стрижков,Антон Евгеньевич Усков,Александр Николаевич Трубин. Владелец: Кубанский государственный аграрный университет. Дата публикации: 2006-07-10.

Membrane apparatus with the toroidal vortex generators

Номер патента: RU2269373C1. Автор: Иван Тихонович Кретов,Андрей Иванович Ключников,Иван Тихонович Кретов (RU),Андрей Иванович Ключников (RU). Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Воронежская государственная технологическая академия. Дата публикации: 2006-02-10.

Method for producing of common dry bread-rings and common dry bread-rings produced by method

Номер патента: RU2259732C1. Автор: . Владелец: Фокин Владимир Павлович. Дата публикации: 2005-09-10.

Improvements in Links, Rings and Loops in connection with Hauling, Shipping and other Tackle, for Jewellery, Harness, Saddlery and the Leather Trades generally, and the like

Номер патента: GB190726221A. Автор: John Tibbitts. Владелец: Individual. Дата публикации: 1908-11-27.

Method for pretreatment in metathesis apparatus with formation of octene

Номер патента: RU2460713C1. Автор: Стивен Л. КРУПА,Джил М. МАЙСТЕР. Владелец: Юоп Ллк. Дата публикации: 2012-09-10.

Deep-etching method

Номер патента: RU2464646C2. Автор: Виктор Эдуардович Гюнтер,Раис Габбасович Хафизов,Фаниля Асгатовна Хафизова,Руслан Марсельевич Миргазизов,Марсель Закиевич Миргазизов,Фарид Амирович Хайруллин,Дмитрий Эдуардович Цыплаков,Айгуль Корбановна Козлова. Владелец: Марсель Закиевич Миргазизов. Дата публикации: 2012-10-20.

Bubbling vortex apparatus with axial-flow sprinkler

Номер патента: RU2316383C1. Автор: Владимир Сергеевич Жернаков,Александр Константинович Панов,Регина Равилевна Усманова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Уфимский государственный авиационный университет. Дата публикации: 2008-02-10.

Intracapsular ring and method for implanting it by means of injector

Номер патента: RU2266084C1. Автор: А.Г. Гринев. Владелец: Свердловский областной клинический психоневрологический госпиталь для ветеранов войн. Дата публикации: 2005-12-20.

Metal or alloy laser etching method

Номер патента: RU2460619C2. Автор: Сергей Георгиевич Горный,Дмитрий Викторович Соколов,Михаил Иванович Патров,Константин Владимирович Юдин,Александр Геннадьевич Валиулин,Сергей Евгеньевич Попков,Юрий Борисович Гречко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Лазерный Центр". Дата публикации: 2012-09-10.

Biogas apparatus with metered microwave heating

Номер патента: RU2490322C1. Автор: Сергей Петрович Игнатьев,Сергей Валентинович Петров,Владимир Вениаминович Касаткин,Анастасия Геннадьевна Кудряшова,Ирина Валентиновна Решетникова,Вячеслав Сергеевич Вохмин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ижевская государственная сельскохозяйственная академия". Дата публикации: 2013-08-20.

Roller bench for alignment of shell rings and shell rings with bottom

Номер патента: RU2541215C1. Автор: Наиль Габдулбариевич Ибрагимов,Михаил Викторович Швецов,Шамиль Мансурович Талыпов,Александр Николаевич Меньшаев,Борис Николаевич Абрамов,Светлана Васильевна Мальцева. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" им. В.Д. Шашина. Дата публикации: 2015-02-10.

Display apparatus with best character identification

Номер патента: RU2460151C1. Автор: Альберт Владимирович Патраль. Владелец: Альберт Владимирович Патраль. Дата публикации: 2012-08-27.

Improvements in Machines for the Electric Welding of Chains, Rings, and the like.

Номер патента: GB190602317A. Автор: Oscar Kueppers. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-04-26.

Improvements in Apparatus for Re-inforcing the Insulation of Electrical Apparatus with Lacquer or Varnish

Номер патента: GB190809090A. Автор: Joseph Fitzalan Simpson,Arthur Whitten Brown. Владелец: Individual. Дата публикации: 1909-05-27.

Improvements in and connected with Rings and the like for Ring-spinning, Doubling, and like Machinery

Номер патента: GB190300908A. Автор: George Paley. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-01-14.

Air Circulation Apparatus with Light

Номер патента: AU2020201110A1. Автор: Inoshita Tsukasa. Владелец: Iconic Fan Co Pty Ltd. Дата публикации: 2020-10-15.

Method of producing piston rings and cylinder sleeve billets

Номер патента: RU2427444C1. Автор: Лев Матвеевич Дуковский. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Российские Железные Дороги". Дата публикации: 2011-08-27.

Dna polymerase theta inhibitors containing non-saturated 5-membered heterocyclic rings and use thereof

Номер патента: WO2024147972A2. Автор: Richard T. POMERANTZ,Mercy Ramanjulu. Владелец: Recombination Therapeutics, Llc. Дата публикации: 2024-07-11.

Display screen for breathing apparatus with electronic icon

Номер патента: CA154465S. Автор: . Владелец: Fisher and Paykel Healthcare Ltd. Дата публикации: 2014-09-17.

Improvements in Safety-hooks, Rings and the like.

Номер патента: GB189915981A. Автор: Horace George Woodford. Владелец: Individual. Дата публикации: 1900-07-07.

Improvements in Ring and Traveller Spinning Frames.

Номер патента: GB190409122A. Автор: Joel Hayden. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-06-30.

New or Improved Combined Curtain Rings and Safety Pins for Suspending Curtains and the like from Curtain Rods or Poles.

Номер патента: GB190425766A. Автор: Horace Austin Wilkinson Lines. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-09-28.

Improvements in Rings and Travellers for Spinning and Analogous Machines.

Номер патента: GB190419430A. Автор: . Владелец: J & T Boyd Ltd. Дата публикации: 1905-08-24.

Improvements in and connected with Ring Spinning and Ring and Flyer Doubling Frames.

Номер патента: GB190516332A. Автор: Henry Bibby Reynolds. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-01-18.

Improvements in or relating to Ring and Traveller Spindles

Номер патента: GB190206018A. Автор: Gustav Adolf Walser. Владелец: Individual. Дата публикации: 1902-05-08.

Improved Manufacture of Wedding Rings and Similar Plain Hoop Rings.

Номер патента: GB189804629A. Автор: Wilhelm Schwahn. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-12-17.

Surgical cutting and fixing apparatus with drive from engine and system of feedback with user

Номер патента: RU2449746C2. Автор: Фредерик Э. ШЕЛТОН IV,Джером Р. МОРГАН,Джон Н. АУВЕРКЕРК. Владелец: Этикон Эндо-Серджери, Инк.. Дата публикации: 2012-05-10.

Semiconductor chemical etching method

Номер патента: RU2524137C1. Автор: Тагир Абдурашидович Исмаилов,Бийке Алиевна Шангереева,Суйкум Алиевна Шангереева. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Дагестанский Государственный Технический Университет" (Дгту). Дата публикации: 2014-07-27.

Backwashing-type filtering apparatus with filter support grid of ring-like segments

Номер патента: CA1217148A. Автор: Wendell R. Miller,Alphonso L. Martinez. Владелец: Quantum Systems Corp. Дата публикации: 1987-01-27.

Entry checking apparatus with anti-theft alarm

Номер патента: CA188805S. Автор: . Владелец: Gunnebo Gateway Ab. Дата публикации: 2020-06-19.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.