• Главная
  • LOW BAND GAP SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING REDUCED GATE INDUCED DRAIN LEAKAGE (GIDL) AND THEIR METHODS OF FABRICATION

LOW BAND GAP SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING REDUCED GATE INDUCED DRAIN LEAKAGE (GIDL) AND THEIR METHODS OF FABRICATION

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Semiconductor device having passing gate and method for fabricating the same

Номер патента: US09972627B2. Автор: Tae Su Jang,Jeong Seob KYE. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Semiconductor on insulator on wide band-gap semiconductor

Номер патента: US12009421B2. Автор: Christopher Boguslaw Kocon. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Gate trench power semiconductor devices having improved deep shield connection patterns

Номер патента: US11769828B2. Автор: Thomas E. Harrington, III,Sei-Hyung Ryu. Владелец: Wolfspeed Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

Semiconductor device having metal layer and method of fabricating same

Номер патента: US20160268403A1. Автор: Cheng-Chi Lin,Ching-Lin Chan,Yu-Chin CHIEN. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-15.

Power semiconductor devices including angled gate trenches

Номер патента: US12080790B2. Автор: Sei-Hyung Ryu,Daniel Jenner Lichtenwalner,Naeem ISLAM,Woongsun Kim. Владелец: Wolfspeed Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Devices and methods of improving device performance through gate cut last process

Номер патента: US09679985B1. Автор: Xusheng Wu,Haigou Huang. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

High density fin field effect transistor having low leakage current and method of manufacturing the finfet

Номер патента: KR100823874B1. Автор: 이종호. Владелец: 경북대학교 산학협력단. Дата публикации: 2008-04-21.

Transistors and methods of forming transistors using vertical nanowires

Номер патента: US20180233583A1. Автор: Alexander Reznicek,Dominic J. Schepis. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-08-16.

Wide band gap semiconductor device and manufacturing method

Номер патента: EP4258364A1. Автор: Hans-Joachim Schulze,Jens Peter Konrath,Rudolf Elpelt,Konrad Schraml. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2023-10-11.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20120282745A1. Автор: Hideo Yamamoto,Kei Takehara. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2012-11-08.

Semiconductor device and method of fabricating same

Номер патента: US20140021490A1. Автор: Hiroshi Watanabe,Kenichi Ohtsuka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2014-01-23.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20100273304A1. Автор: Hideo Yamamoto,Kei Takehara. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2010-10-28.

MOS-based power semiconductor device having increased current carrying area and method of fabricating same

Номер патента: US09997599B2. Автор: James A. Cooper. Владелец: PURDUE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2018-06-12.

Semiconductor device having buried region and method of fabricating same

Номер патента: US09761656B2. Автор: Ching-Lin Chan,Yu-Chin CHIEN. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Semiconductor on insulator on wide band-gap semiconductor

Номер патента: US20230178649A1. Автор: Christopher Boguslaw Kocon. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2023-06-08.

Asymmetric finfet in memory device, method of fabricating same and semiconductor device

Номер патента: US20200273863A1. Автор: Rongfu ZHU,Dingyou LIN. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2020-08-27.

MOS-Based Power Semiconductor Device Having Increased Current Carrying Area and Method of Fabricating Same

Номер патента: US20240282821A1. Автор: James A. Cooper. Владелец: PURDUE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2024-08-22.

Method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09660046B2. Автор: Katsumi Suzuki,Shoji Mizuno,Yukihiko Watanabe,Sachiko Aoi. Владелец: Toyota Central R&D Labs Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Wide band gap semiconductor device

Номер патента: US20160181415A1. Автор: Takeyoshi Masuda. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2016-06-23.

Wide band gap semiconductor device

Номер патента: US9691891B2. Автор: Takeyoshi Masuda. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20240266256A1. Автор: Sangmoon Lee,Jinbum Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-08.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: EP4432340A1. Автор: Taehyun Kim,Junggil YANG,Taewon HA. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-18.

III-V nitride semiconductor device having reduced contact resistance

Номер патента: US09978642B2. Автор: Tatsuo Nakayama,Hironobu Miyamoto. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US09859376B2. Автор: Jae-Young Park,Sun-Young Lee,Dong-Hun Lee,Bon-young Koo,Jae-jong Han,Han-Ki Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-02.

Methods of fabricating semiconductor devices

Номер патента: US09825142B2. Автор: Jooyoung Lee,Dongjin Jung,Hyeoungwon Seo,Ilgweon KIM,Daehyun Moon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-21.

Integrated electrostatic discharge (ESD) clamping for an LDMOS transistor device having a bipolar transistor

Номер патента: US09673188B2. Автор: Weize Chen,Patrice M. Parris. Владелец: NXP USA Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Wide band gap semiconductor device and manufacturing method

Номер патента: US20230317797A1. Автор: Hans-Joachim Schulze,Jens Peter Konrath,Rudolf Elpelt,Konrad Schraml. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2023-10-05.

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230378344A1. Автор: Kengo OMORI. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2023-11-23.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: EP4386844A2. Автор: Jeongho Lee,Junsun HWANG,Sewoong PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-19.

Vertical semiconductor device in narrow slots within trench

Номер патента: US20230178599A1. Автор: Mark I. Gardner,H. Jim Fulford. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210126092A1. Автор: Motoyoshi KUBOUCHI. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Gate Dielectric Of Semiconductor Device

Номер патента: US20140091400A1. Автор: Kuang-Yuan Hsu,Da-Yuan Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-04-03.

Semiconductor device with reduced gate height budget

Номер патента: US20190027575A1. Автор: Hui Zang,Haigou Huang. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2019-01-24.

Semiconductor device having ferroelectric material and method of fabricating the same

Номер патента: US20220123021A1. Автор: Jae Gil Lee,Se Ho LEE,Hyangkeun YOO. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2022-04-21.

Device having EPI film in substrate trench

Номер патента: US09647118B2. Автор: Jeff J. Xu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Field-Effect Semiconductor Device Having a Heterojunction Contact

Номер патента: US20180323189A1. Автор: Wolfgang Werner. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2018-11-08.

Wide band gap semiconductor device

Номер патента: US20230352520A1. Автор: Thomas Aichinger. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2023-11-02.

Metal gate structures for field effect transistors and method of fabrication

Номер патента: WO2014149128A1. Автор: Naomi Yoshida,Adam Brand. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-25.

Hetero-Junction Semiconductor Device And Method of Manufacturing a Hetero-Junction Semiconductor Device

Номер патента: US20160343841A1. Автор: Takashi Okawa. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2016-11-24.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20240313097A1. Автор: Taehyun Kim,Junggil YANG,Taewon HA. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-19.

Gate induced drain leakage reduction in finfets

Номер патента: US20210217876A1. Автор: Takashi Ando,Alexander Reznicek,Jingyun Zhang,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-07-15.

Gate induced drain leakage reduction in FinFETs

Номер патента: US11855180B2. Автор: Takashi Ando,Alexander Reznicek,Jingyun Zhang,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-12-26.

Gate induced drain leakage reduction in finfets

Номер патента: US20240097006A1. Автор: Takashi Ando,Alexander Reznicek,Jingyun Zhang,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Semiconductor devices and methods for fabricating the same

Номер патента: US20050139933A1. Автор: Young-Hun Seo. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-06-30.

Method of fabricating multi-fingered semiconductor devices on a common substrate

Номер патента: US20110171801A1. Автор: Akif Sultan. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2011-07-14.

Structure of semiconductor devices and the manufacturing method thereof

Номер патента: KR100223916B1. Автор: 이형주. Владелец: 엘지반도체주식회사. Дата публикации: 1999-10-15.

Fet device with reduced overlap capacitance and method of manufacture

Номер патента: CA1049157A. Автор: Ronald P. Esch. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1979-02-20.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20070069303A1. Автор: Takeshi Watanabe,Motoyuki Sato. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-29.

Method of fabricating self aligned schottky junctions for semiconductors devices

Номер патента: EP1958244A1. Автор: Markus Müller. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2008-08-20.

Method of fabricating high voltage semiconductor device

Номер патента: US6180471B1. Автор: Gary Hong,Peter Chang,Joe Ko. Владелец: United Semiconductor Corp. Дата публикации: 2001-01-30.

Transistor having reduced gate-induced drain-leakage current

Номер патента: US20190341488A1. Автор: Kangguo Cheng,ChoongHyun Lee. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-11-07.

Select gate gate-induced-drain-leakage enhancement

Номер патента: US11742380B2. Автор: Haitao Liu,Matthew J. King,Albert Fayrushin. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-08-29.

Dual work function recessed access device and methods of forming

Номер патента: US09543433B2. Автор: Sanh D. Tang,Venkatesan Anathan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Wide-band gap semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US20230261119A1. Автор: Wei-Fan Chen,Kuo-Chi Tsai. Владелец: Leap Semiconductor Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Semiconductor device having a breakdown voltage holding region

Номер патента: US09698216B2. Автор: Yuki Nakano. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2017-07-04.

Metal-oxide-semiconductor field-effect transistor and its method of fabrication

Номер патента: US5498556A. Автор: Gary Hong,Chen-Chung Hsu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1996-03-12.

Mis device having a trench gate electrode and method of making the same

Номер патента: EP1417717A2. Автор: Mohamed N. Darwish,Kyle Terrill,Kam Hong Lui,Kuo-In Chen,Frederick P. Giles. Владелец: Siliconix Inc. Дата публикации: 2004-05-12.

MOS transistor and method of manufacturing thereof

Номер патента: US5684317A. Автор: Hyun Sang Hwang. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 1997-11-04.

Semiconductor device having buried gate structure and method for fabricating the same

Номер патента: US11935939B2. Автор: Dong-Soo Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Semiconductor device having buried gate structure and method for fabricating the same

Номер патента: US20200395461A1. Автор: Dong-Soo Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2020-12-17.

Semiconductor device with low band-to-band tunneling

Номер патента: US09985099B2. Автор: Terence B. Hook,Nicolas Degors. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Semiconductor device with low band-to-band tunneling

Номер патента: US09673221B2. Автор: Terence B. Hook,Nicolas Degors. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Semiconductor Devices Having Improved Adhesion and Methods of Fabricating the Same

Номер патента: US20110266557A1. Автор: Van Mieczkowski,Helmut Hagleitner. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-11-03.

Hole pre-charge scheme using gate induced drain leakage generation

Номер патента: US20210408024A1. Автор: Yanli Zhang,Peng Zhang,Huai-Yuan Tseng,Sarath Puthenthermadam. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2021-12-30.

Methods of fabricating fully silicide gate and semiconductor memory device having the same

Номер патента: US20070077740A1. Автор: Han Lee. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2007-04-05.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: EP4456125A2. Автор: Jongryeol YOO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-30.

Non-planar semiconductor device having self-aligned fin with top blocking layer

Номер патента: US09780217B2. Автор: Walid M. Hafez,Chia-Hong Jan,Jeng-Ya D. YEH,Joodong Park. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US09685565B2. Автор: Masao Inoue,Hiroshi Umeda,Masaharu Mizutani,Masaru Kadoshima. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Semiconductor device having an air gap and method for fabricating the same

Номер патента: US11791390B2. Автор: Dong-Soo Kim,Se-Han Kwon. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Semiconductor device having nanosheet transistor and methods of fabrication thereof

Номер патента: US20220320283A1. Автор: Shu-Wen Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-10-06.

Semiconductor device having nanosheet transistor and methods of fabrication thereof

Номер патента: US20240250124A1. Автор: Shu-Wen Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Single poly plate low on resistance extended drain metal oxide semiconductor device

Номер патента: US20140332886A1. Автор: Shyi-Yuan Wu,Wing-Chor CHAN. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-13.

Single poly plate low on resistance extended drain metal oxide semiconductor device

Номер патента: US20150140764A1. Автор: Shyi-Yuan Wu,Wing-Chor CHAN. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-21.

Methods of Design and Use of High Mobility P-Type Metal Oxides

Номер патента: US20220115503A1. Автор: Suman Datta,Kyeongjae Cho,Darrell Galen Schlom,Yaoqiao Hu. Владелец: University of Notre Dame . Дата публикации: 2022-04-14.

Method of fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20110079852A1. Автор: Robert James Pascoe Lander. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2011-04-07.

Semiconductor device having nanosheet transistor and methods of fabrication thereof

Номер патента: US20230095479A1. Автор: Shu-Wen Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Confined epitaxial regions for semiconductor devices

Номер патента: US12094955B2. Автор: Tahir Ghani,Szuya S. LIAO,Michael L. Hattendorf. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Semiconductor device with reduced gate-overlap capacitance and method of forming the same

Номер патента: US7791133B2. Автор: Hiroyuki Fujimoto. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2010-09-07.

Wide band gap semiconductor device

Номер патента: US09761705B2. Автор: Naoki Kumagai. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Reliability in mergeable semiconductor devices

Номер патента: US09640635B2. Автор: Zhihong Zhang,Hongning Yang,Jiang-Kai Zuo,Daniel J. Blomberg. Владелец: NXP USA Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Power Semiconductor Devices Having Selectively Doped JFET Regions and Related Methods of Forming Such Devices

Номер патента: US20110101375A1. Автор: Qingchun Zhang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-05-05.

Wide-band gap semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US11955567B2. Автор: Wei-Fan Chen,Kuo-Chi Tsai. Владелец: Leap Semiconductor Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US20230292495A1. Автор: Dong Soo Kim,Tae Kyun Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Semiconductor device with low band-to-band tunneling

Номер патента: US20170133494A1. Автор: Terence B. Hook,Nicolas Degors. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-05-11.

Semiconductor device having a breakdown voltage holding region

Номер патента: US20160329397A1. Автор: Yuki Nakano. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2016-11-10.

Semiconductor device having a breakdown voltage holding region

Номер патента: US20160043167A1. Автор: Yuki Nakano. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2016-02-11.

Semiconductor device with low band-to-band tunneling

Номер патента: US20170133464A1. Автор: Terence B. Hook,Nicolas Degors. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-05-11.

Semiconductor device with low band-to-band tunneling

Номер патента: US20160260740A1. Автор: Terence B. Hook,Nicolas Degors. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-09-08.

Method of manufacturing wide-band gap semiconductor device

Номер патента: US20240170583A1. Автор: Wei-Fan Chen,Kuo-Chi Tsai. Владелец: Leap Semiconductor Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Wide band gap semiconductor device with surface insulating film

Номер патента: US20240234529A1. Автор: Yuki Nakano,Ryota Nakamura. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Nonplanar device with thinned lower body portion and method of fabrication

Номер патента: US09741809B2. Автор: Justin K. Brask,Brian S. Doyle,Uday Shah,Robert S. Chau,Thomas A. Letson. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US09564368B2. Автор: Jae-Ho Park,Sanghoon Baek,Sang-Kyu Oh,Seolun Yang,Taejoong Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-02-07.

Isolation Structures Of Semiconductor Devices

Номер патента: US20240250122A1. Автор: I-Sheng Chen,Chao-Ching Cheng,Tzu-Chiang CHEN,Hung-Li Chiang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

FinFET devices having fins with a tapered configuration and methods of fabricating the same

Номер патента: US09875905B2. Автор: Ruilong Xie,Min Gyu Sung,Catherine B. Labelle. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

High voltage junctionless field effect device and its method of fabrication

Номер патента: US09634151B1. Автор: Richard R. Chang,Deyuan Xiao. Владелец: Zing Semiconductor Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Wide band gap semiconductor electronic device having a junction-barrier Schottky diode

Номер патента: US11949025B2. Автор: Simone Rascuna. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2024-04-02.

Wide band gap semiconductor electronic device having a junction-barrier schottky diode

Номер патента: US20220020884A1. Автор: Simone Rascuna. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2022-01-20.

Wide band gap semiconductor electronic device having a junction-barrier schottky diode

Номер патента: US20240186424A1. Автор: Simone Rascuna. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2024-06-06.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20220059697A1. Автор: Ching-Chung Yang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2022-02-24.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20090197378A1. Автор: Satoru Shimada,Seiji Otake,Yasuhiro Takeda. Владелец: Sanyo Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2009-08-06.

Transistor of semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20120313183A1. Автор: Ki Bong Nam. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-12-13.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20200105765A1. Автор: Yoosang Hwang,Keunnam Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-04-02.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: EP4246592A1. Автор: Jaejin Lee,Youngjun Kim,Eun-Ok Lee,Taekyung Yoon,Hunyoung Bark,Dongju Chang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-20.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20110266634A1. Автор: Hae-Jung Lee,Yong-Tae Cho,Eun-Mi Kim,Kyeong-Hyo Lee. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2011-11-03.

Method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20020127785A1. Автор: Naoto Kusumoto,Hongyong Zhang. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2002-09-12.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US12132106B2. Автор: Shin-Hung Li. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US09972683B2. Автор: Dong-Kwon Kim,Ji-Hoon Cha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-15.

Semiconductor devices with wider field gates for reduced gate resistance

Номер патента: US09941377B2. Автор: Xiangdong Chen,Haining Yang. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2018-04-10.

Semiconductor devices and methods of fabricating the same

Номер патента: US09887194B2. Автор: Se-Wan Park,Jung-Gun You,Sug-Hyun Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-06.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US09673303B2. Автор: Donghyun Kim,Myeongcheol Kim,Cheol Kim,Daeyong Kim,Chulsung Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-06-06.

Semiconductor device and method of fabricating same

Номер патента: US09653600B2. Автор: Yang Zhou,Gangning Wang,Guangli Yang,Guohao Cao. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Semiconductor devices and methods of fabricating the same

Номер патента: US09634144B2. Автор: Gab-jin Nam,Tae-Hyun AN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-04-25.

Semiconductor device

Номер патента: US20070221953A1. Автор: Kozo Sakamoto. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2007-09-27.

Semiconductor devices having on-chip gate resistors

Номер патента: US20230420451A1. Автор: Jianwen Shao,Rahul R. Potera,Shadi Sabri,Roberto M. Schupbach,Prasanna Obala Bhuvanesh. Владелец: Wolfspeed Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Low on-resistance wide band gap semiconductor device and method for producing the same

Номер патента: US8564028B2. Автор: Noriyuki Iwamuro. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-22.

Semiconductor devices having on-chip gate resistors

Номер патента: WO2023249846A2. Автор: Jianwen Shao,Rahul R. Potera,Shadi Sabri,Roberto M. Schupbach,Prasanna Obala Bhuvanesh. Владелец: Wolfspeed, Inc.. Дата публикации: 2023-12-28.

Wide band gap semiconductor device and method for producing the same

Номер патента: US20130285072A1. Автор: Noriyuki Iwamuro. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-31.

Semiconductor device and method of forming thereof

Номер патента: EP4394856A1. Автор: Kang-ill Seo,Jongjin Lee,MyungHoon JUNG,Jaejik Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-03.

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US20060043418A1. Автор: Katsuyoshi Washio,Makoto Miura,Hiromi Shimamoto. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2006-03-02.

Methods of Fabricating Semiconductor Devices Including Support Patterns

Номер патента: US20180040483A1. Автор: Yong Sun Ko,Sang Jine Park,In Seak Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-08.

Passivation Layers For Semiconductor Devices

Номер патента: US20240243184A1. Автор: Ching-Hua Lee,Cheng-Yi Peng,Song-Bor Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20170092771A1. Автор: Chun-Yuan Wu,Chia-Fu Hsu,Zhibiao Zhou,Qinggang Xing,Xu Yang Shen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-03-30.

Semiconductor Device and Method of Fabricating the Same

Номер патента: US20090065864A1. Автор: Sang Yong Lee. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2009-03-12.

Method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20170323886A1. Автор: Wei Cheng Wu,Harry Hak-Lay Chuang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-09.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20230157001A1. Автор: Chih-Wei Huang,Hsu-Cheng Fan,En-Jui Li,Chih-Yu YEN. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-05-18.

Methods for fabricating semiconductor devices

Номер патента: US20120244674A1. Автор: Dong Hyuk Kim,DongSuk Shin,Myungsun Kim,Hoi Sung Chung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-09-27.

Semiconductor devices and methods of fabrication

Номер патента: US20210366931A1. Автор: Zhenyu Lu,Jie Sun,Gordon Haller,Randy J. Koval,Hongbin Zhu,John Hopkins. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2021-11-25.

Semiconductor device having reduced gate charge and reduced on resistance and method

Номер патента: US20070117305A1. Автор: Prasad Venkatraman,Irene Wan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-24.

Band gap engineered materials

Номер патента: CA3092233A1. Автор: Steven Michael Durbin,Robert A. Makin, Iii. Владелец: Western Michigan University. Дата публикации: 2021-03-04.

Semiconductor devices and methods of fabrication

Номер патента: US20200227427A1. Автор: Zhenyu Lu,Jie Sun,Gordon Haller,Randy J. Koval,Hongbin Zhu,John Hopkins. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2020-07-16.

Fin-shaped semiconductor device, fabrication method, and application thereof

Номер патента: US12040356B2. Автор: Zilan Li. Владелец: Guangdong Zhineng Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Methods of fabricating semiconductor devices and structures thereof

Номер патента: US09659778B2. Автор: Jin-Ping Han,Knut Stahrenberg. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-05-23.

Semiconductor device and methods for fabricating and operating the device

Номер патента: US20240224816A1. Автор: Pavel ASEEV. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2024-07-04.

Method of fabricating self-aligned silicon carbide semiconductor devices

Номер патента: US7508000B2. Автор: Bart J. Van Zeghbroeck,John T. Torvik. Владелец: Microsemi Corp. Дата публикации: 2009-03-24.

Semiconductor device and method of manufacturing same

Номер патента: US11887858B2. Автор: Shinji Nunotani,Shinji Onzuka. Владелец: Toshiba Electronic Devices and Storage Corp. Дата публикации: 2024-01-30.

Semiconductor device and method of manufacturing same

Номер патента: US20210066130A1. Автор: Shinji Nunotani,Shinji Onzuka. Владелец: Toshiba Electronic Devices and Storage Corp. Дата публикации: 2021-03-04.

Diverse band gap energy level semiconductor device

Номер патента: US7049678B2. Автор: Thomas H. Lee. Владелец: SanDisk 3D LLC. Дата публикации: 2006-05-23.

Diverse band gap energy level semiconductor device

Номер патента: US20030155569A1. Автор: Thomas Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-08-21.

Diverse band gap energy level semiconductor device

Номер патента: US20030164493A1. Автор: Thomas Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-04.

Semiconductor device, semiconductor module, and wireless communication apparatus

Номер патента: US20240234564A1. Автор: Kunihiko Tasai. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20140183749A1. Автор: SANGHOON Lee,Kyong-won An,Woosung Lee,Yongseok CHO,Hyunyong Go,Sunggil Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-07-03.

Semiconductor device and manufacturing method of the same

Номер патента: US20070166907A1. Автор: Youichi Momiyama. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-07-19.

Semiconductor device and manufacturing method of the same

Номер патента: US7531435B2. Автор: Youichi Momiyama. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2009-05-12.

Methods of fabricating a semiconductor device having a metal gate pattern

Номер патента: US20060270205A1. Автор: Chang-Won Lee,Sung-Man Kim,Sun-pil Youn,Ja-hum Ku,Seong-Jun Heo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-30.

Semiconductor device having high performance channel

Номер патента: WO2012118566A1. Автор: LIN Cheng,Sei-Hyung Ryu,Anant K. Agarwal,Sarit Dhar. Владелец: CREE, INC.. Дата публикации: 2012-09-07.

Semiconductor Device and Method for Manufacturing the same

Номер патента: KR101205143B1. Автор: 양희정. Владелец: 에스케이하이닉스 주식회사. Дата публикации: 2012-11-26.

Semiconductor Structure And Method of Making The Same

Номер патента: US20240234202A1. Автор: Jian Yang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Method of fabricating memory cell in semiconductor device

Номер патента: US20050189581A1. Автор: Tae Park. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-09-01.

Method of forming semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US8227356B2. Автор: Kouichi Muraoka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-07-24.

Semiconductor component and method of manufacture

Номер патента: WO2004023533A2. Автор: Karsten Wieczorek,Scott Luning,Thorsten Kammler. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2004-03-18.

Semiconductor device fabrication method and semiconductor device fabricated thereby

Номер патента: US20080203440A1. Автор: Masakatsu Tsuchiaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-08-28.

Methods of making lateral junction field effect transistors using selective epitaxial growth

Номер патента: EP2277195A2. Автор: Igor Sankin,Joseph Neil Merrett. Владелец: Semisouth Laboratories Inc. Дата публикации: 2011-01-26.

Semiconductor device having buried gate structure and method for fabricating the same

Номер патента: US20200395455A1. Автор: Dong-Soo Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2020-12-17.

Array substrate with double-gate TFT, method of fabricating the same, and display device

Номер патента: US9837480B2. Автор: Baoxia ZHANG,Cuili Gai,Danna SONG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Array substrate, method of fabricating the same, and display device

Номер патента: US20160307986A1. Автор: Baoxia ZHANG,Cuili Gai,Danna SONG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-20.

Semiconductor devices having a trench isolation layer and methods of fabricating the same

Номер патента: US8823131B2. Автор: Tai Ho Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2014-09-02.

Methods of fabricating a fully silicided gate and semiconductor memory device having the same

Номер патента: US20070077756A1. Автор: Han Lee. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2007-04-05.

Semiconductor devices having a trench isolation layer and methods of fabricating the same

Номер патента: US20140332921A1. Автор: Tai Ho Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2014-11-13.

Semiconductor device having high-k gate insulation films and fabricating method thereof

Номер патента: US20150325670A1. Автор: Young-hun Kim,Ju-youn Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2015-11-12.

Semiconductor device having groove and method of fabricating the same

Номер патента: US20030068875A1. Автор: Nak-Jin Son. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-04-10.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20140220752A1. Автор: Bo-Un Yoon,Jae-Young Park,Bon-young Koo,Jae-Jik Baek,Ji-Hoon Cha,Kang-Hun Moon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-08-07.

Semiconductor devices and methods of fabrication

Номер патента: US20180315766A1. Автор: Zhenyu Lu,Jie Sun,Gordon Haller,Randy J. Koval,Hongbin Zhu,John Hopkins. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-01.

Semiconductor devices and methods of fabrication

Номер патента: US20180108669A1. Автор: Zhenyu Lu,Jie Sun,Gordon Haller,Randy J. Koval,Hongbin Zhu,John Hopkins. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-04-19.

Semiconductor device having buried gate structure and method of fabricating the same

Номер патента: US09893069B2. Автор: Min-Hee Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-02-13.

GaN semiconductor device structure and method of fabrication by substrate replacement

Номер патента: US09818692B2. Автор: John Roberts,Greg P. KLOWAK,Cameron MCKNIGHT-MACNEIL. Владелец: GaN Systems Inc. Дата публикации: 2017-11-14.

Semiconductor device, method of fabricating the same, and apparatus used in fabrication thereof

Номер патента: US09735016B2. Автор: Choong-rae Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-08-15.

Semiconductor device and method for forming the same

Номер патента: KR101186011B1. Автор: 양희정. Владелец: 에스케이하이닉스 주식회사. Дата публикации: 2012-09-25.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR20130055981A. Автор: 장태수. Владелец: 에스케이하이닉스 주식회사. Дата публикации: 2013-05-29.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240071810A1. Автор: Hoon Han,Byung Keun Hwang,Young Hun Sung,Youn Joung CHO,Eun Hyea Ko. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-29.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US11107723B1. Автор: Long Wang,Chin-Chun Huang,Hailong Gu,Wen Yi Tan,Penghui LU,Zijun Sun. Владелец: United Semiconductor Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-31.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20210257249A1. Автор: Long Wang,Chin-Chun Huang,Hailong Gu,Wen Yi Tan,Penghui LU,Zijun Sun. Владелец: United Semiconductor Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-19.

Method of fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20230276718A1. Автор: Peter KROGSTRUP JEPPESEN,Amrita Singh,Elvedin MEMISEVIC. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2023-08-31.

Semiconductor Devices Having Reduced Noise

Номер патента: US20190140004A1. Автор: JHY-JYI SZE,Shou-Gwo Wuu,Feng-Chi Hung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Method for fabricating a semiconductor device including fin relaxation, and related structures

Номер патента: EP3140858A1. Автор: Pierre Morin,Frederic Allibert. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2017-03-15.

Semiconductor devices and methods of fabricating the same

Номер патента: US09911659B2. Автор: Chul Woong Lee,Youngmook Oh,Hanseung KWAK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-03-06.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US09842841B2. Автор: Ji Hun Kim,Wonseok Yoo,Jeonghoon Oh,Eun-Sun Lee,Ilgweon KIM,Junhwa SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-12-12.

Semiconductor device having a resistor structure

Номер патента: US09640529B2. Автор: Hyun-Seung Song,Hwi-Chan JUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-05-02.

Semiconductor devices having polysilicon gate patterns and methods of fabricating the same

Номер патента: US09553159B2. Автор: Young Jin Son,Yong Seok Eun,Kyong Bong Rouh. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20170025519A1. Автор: Yikun Chen,Duan Quan Liao,Ching Hwa Tey. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-01-26.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20140124834A1. Автор: Atsushi Nakamura,Dong-jun Lee,Keita Kato,Jae-ho Kim,Yool Kang,Hyung-Rae Lee,Si-Young Lee,Suk-Koo Hong. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-05-08.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20230223306A1. Автор: Wei-Lun Huang,Chia-Ling Wang,Ping-Hung Chiang,Ta-wei Chiu,Chia-Wen Lu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-07-13.

Semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US20010000914A1. Автор: Young Park,Jong Lee,Hyeok Lee. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2001-05-10.

Semiconductor devices and methods of fabricating the same

Номер патента: US20090035903A1. Автор: Chang-Woo Oh,Ki-whan Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-02-05.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20090130804A1. Автор: Chen-Pang Kung,Huai-Yuan Tseng,Ming-Hsien Lee,Horng-Chih Lin. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2009-05-21.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US12100624B2. Автор: Wei-Lun Huang,Chia-Ling Wang,Ping-Hung Chiang,Ta-wei Chiu,Chia-Wen Lu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Dual metal capped via contact structures for semiconductor devices

Номер патента: US12100745B2. Автор: Chung-Liang Cheng,Ziwei Fang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Dual metal capped via contact structures for semiconductor devices

Номер патента: US20240363708A1. Автор: Chung-Liang Cheng,Ziwei Fang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US09870996B1. Автор: Ching-Wen Hung,Chih-Sen Huang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Semiconductor device fabrication method and semiconductor device

Номер патента: US09853122B2. Автор: Masataka Yoshinari. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Semiconductor device having mirror-symmetric terminals and methods of forming the same

Номер патента: US09673135B2. Автор: Wei Zhang,John D. Weld,Douglas Dean Lopata. Владелец: Altera Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Semiconductor devices and methods of fabricating semiconductor devices

Номер патента: US09640443B2. Автор: Nae-in Lee,Jong-ho Lee,Woo-Hee Kim,Kug-Hwan Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-05-02.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240222123A1. Автор: Jiho Park,Ji-Eun Lee,Young-Seung Cho,Kang In KIM,Si Nyeon KIM,Youngwoo SON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Semiconductor Devices, and Methods of Forming Semiconductor Devices

Номер патента: US20160211324A1. Автор: SHU QIN,Allen Mcteer,Yongjun Jeff Hu. Владелец: US Bank NA. Дата публикации: 2016-07-21.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20200144129A1. Автор: Young-hun Kim,Jaeseok Yang,Haewang LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-05-07.

Method of forming contact hole and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20060134910A1. Автор: Pin-Yao Wang,Min-San Huang,Leon Lai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-06-22.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20160086813A1. Автор: Un-Gyu Paik,Sang-kyun Kim,Dong-jun Lee,Jong-woo Kim,Ye-Hwan Kim,Ji-hoon SEO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-03-24.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20100025827A1. Автор: Hidenori Fujii. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2010-02-04.

Method of fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20180130665A1. Автор: Hyun Park,NaeIn Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-10.

Method of Fabricating a Semiconductor Device

Номер патента: US20150031195A1. Автор: Jihoon Kim,Eun Tae Kim,Jin Ho Oh,Jongmyeong Lee,Heesook Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2015-01-29.

Method of semiconductor device fabrication

Номер патента: US10446396B2. Автор: Tsung-Yao Wen,Angus Hsiao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-10-15.

Methods of fabricating semiconductor devices

Номер патента: US8906805B2. Автор: Sang-Yong Park,Jin-Taek Park,Woon-kyung Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-12-09.

Semiconductor devices and methods of fabricating the same

Номер патента: US20040180502A1. Автор: Young-ok Kim,Cha-Dong Yeo,Sun-ha Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-09-16.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US7651933B2. Автор: Guee-Hwang SIM. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-01-26.

Assemblies used for embedding integrated circuit assemblies, and their uses and method of fabrication thereof

Номер патента: EP4315414A2. Автор: Jayna Sheats. Владелец: Terecircuits Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Assemblies used for embedding integrated circuit assemblies, and their uses and method of fabrication thereof

Номер патента: WO2022212492A3. Автор: Jayna Sheats. Владелец: Terecircuits Corporation. Дата публикации: 2022-11-10.

Memory devices with a connecting region having a band gap lower than a band gap of a body region

Номер патента: US09640260B2. Автор: Haitao Liu,JIAN Li,Chandra Mouli. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Semiconductor device and method of fabricating metal gate of the same

Номер патента: US20090057783A1. Автор: Sung-Ho Park,Jin-seo Noh,Joong-S. Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2009-03-05.

Group iii nitride substrates and their fabrication method

Номер патента: US20160163801A1. Автор: Tadao Hashimoto. Владелец: SixPoint Materials Inc. Дата публикации: 2016-06-09.

Group III nitride substrates and their fabrication method

Номер патента: US09754782B2. Автор: Tadao Hashimoto. Владелец: SixPoint Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Group III nitride substrates and their fabrication method

Номер патента: US09673044B2. Автор: Tadao Hashimoto. Владелец: SixPoint Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Semiconductor device and method of manufacturing said device

Номер патента: US3676755A. Автор: Rene Glaise. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1972-07-11.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20080179648A1. Автор: Dae-Won Ha,Tae-Hyun AN,Min-Young SHIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-07-31.

Semiconductor device package and method of fabricating the same

Номер патента: US20220148948A1. Автор: Younghwan Park,Sunkyu Hwang,Jongseob Kim,Jaejoon Oh,Soogine Chong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-05-12.

Method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US11864370B2. Автор: Mi Na Kim,Kang Yoo SONG. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Semiconductor device with multi-layer interconnection

Номер патента: US6555887B1. Автор: Masayoshi Shirahata,Takeshi Kitani,Takeru Matsuoka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-04-29.

Semiconductor device, method of producing the same, and electronic apparatus

Номер патента: US20230343803A1. Автор: Atsushi Fujiwara,Toshiaki Iwafuchi. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Buffer structure for semiconductor device and methods of fabrication

Номер патента: US20100163848A1. Автор: Prashant Majhi,Jack Kavalieros,Wilman Tsai. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2010-07-01.

Nonvolatile memory device and method of programming in the same

Номер патента: KR20220046926A. Автор: 박정민,주상현,이지상,장준석,박일한,성경훈. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2022-04-15.

Reducing gate induced drain leakage in dram wordline

Номер патента: US20200176451A1. Автор: Gill Yong Lee,Jeffrey W. Anthis,Sang Ho Yu,Shih Chung CHEN,Sung-Kwan Kang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-06-04.

Multiple gate-induced drain leakage current generator

Номер патента: SG11201906878SA. Автор: Shuji Tanaka,Masanobu Saito,Shinji Sato. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2019-08-27.

Vertical semiconductor devices

Номер патента: US10770477B2. Автор: Tae-hun Kim,Bong-Yong Lee,Min-Kyung Bae,Myung-Hun WOO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-09-08.

Two-terminal electronic devices and their methods of fabrication

Номер патента: US09741901B2. Автор: Zhao Chen,Chan-Long Shieh,Gang Yu. Владелец: CBRITE Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

High band gap layer to isolate wells in high voltage power integrated circuits

Номер патента: US20010045615A1. Автор: Janardhanan Ajit. Владелец: International Rectifier Corp USA. Дата публикации: 2001-11-29.

Memory devices having reduced interference between floating gates and methods of fabricating such devices

Номер патента: EP2036122A2. Автор: Seiichi Aritome. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-03-18.

Method of fabricating hafnium oxide layer and semiconductor device having the same

Номер патента: US09831085B2. Автор: Deok Sin Kil,Jae Sung Roh. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Method of fabricating semiconductor device having element isolation trench

Номер патента: US6559031B2. Автор: Kazunori Fujita. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 2003-05-06.

Method of fabricating semiconductor device having capacitor

Номер патента: US20100270647A1. Автор: Chang-jin Kang,Sung-il Cho,Ji-Chul Shin,Seung-Young Son,Keong-Koo Chi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-28.

Memory device including multiple gate-induced drain leakage current generator circuits

Номер патента: US20180211710A1. Автор: Shuji Tanaka,Masanobu Saito,Shinji Sato. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-07-26.

Multiple gate-induced drain leakage current generator

Номер патента: WO2018140084A1. Автор: Shuji Tanaka,Masanobu Saito,Shinji Sato. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC. Дата публикации: 2018-08-02.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20240355757A1. Автор: Jeonghyun Kim,Sangjin Kim,Jaesuk PARK,Changmin Park,Yigwon Kim,Hyungju RYU. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-24.

Memory device including multiple gate-induced drain leakage current generator circuits

Номер патента: US09916901B1. Автор: Shuji Tanaka,Masanobu Saito,Shinji Sato. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Semiconductor devices having dummy patterns and methods of fabricating the same

Номер патента: US09748257B2. Автор: Jaehan Lee,Won-Seok Jung,Kyungjoong JOO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-08-29.

Method of fabricating semiconductor device having fine contact holes

Номер патента: US20080096391A1. Автор: Joo-Young Kim,Jae-Hwang Sim,Dong-Hwa Kwak,Sung-Hyun KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-04-24.

Semiconductor device having improved bias dependability and method of fabricating same

Номер патента: US20020053707A1. Автор: Koichi Yoshikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-09.

Methods of fabricating a semiconductor device having low contact resistance

Номер патента: US20120208335A1. Автор: Ho Jin Cho,Yong Soo Joung,Kyong Bong Rouh. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-08-16.

Integrated method for low-cost wide band gap semiconductor device manufacturing

Номер патента: US12125697B2. Автор: Bishnu Gogoi,Tirunelveli Subramaniam Ravi. Владелец: Thinsic Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Semiconductor device having an internal-field-guarded active region

Номер патента: WO2017042368A1. Автор: Axel Hoffmann,Gerald PAHN,Gordon CALLSEN. Владелец: TECHNISCHE UNIVERSITAT BERLIN. Дата публикации: 2017-03-16.

Semiconductor device having internal wire and method of fabricating the same

Номер патента: US5550409A. Автор: Takehisa Yamaguchi,Hidekazu Oda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1996-08-27.

I-shaped and L-shaped contact structures and their fabrication methods

Номер патента: US20070032012A1. Автор: Ming Lee,Ruichen Liu. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-08.

Semiconductor device having an internal-field-guarded active region

Номер патента: EP3347922A1. Автор: Axel Hoffmann,Gerald PAHN,Gordon CALLSEN. Владелец: TECHNISCHE UNIVERSITAET BERLIN. Дата публикации: 2018-07-18.

Semiconductor device having an internal-field-guarded active region

Номер патента: US20180261718A1. Автор: Axel Hoffmann,Gerald PAHN,Gordon CALLSEN. Владелец: TECHNISCHE UNIVERSITAET BERLIN. Дата публикации: 2018-09-13.

Method of fabricating semiconductor device and method of separating substrate

Номер патента: US20230040281A1. Автор: Wonkeun Kim,Myoungchul Eum,Cheonil Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-09.

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US20060170005A1. Автор: Won Lee,Kyung Hwang. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-08-03.

Apparatus for and method of packaging semiconductor devices

Номер патента: US20030124772A1. Автор: Lance Wright. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2003-07-03.

Semiconductor device having a photon absorption layer to prevent plasma damage

Номер патента: US7026662B2. Автор: Seung-Chul Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-04-11.

Apparatus for and method of packaging semiconductor devices

Номер патента: US20040165975A1. Автор: Lance Wright. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-26.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20010003050A1. Автор: Sachiko Onozawa. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2001-06-07.

Semiconductor device having multiple gate pads

Номер патента: EP3443585A1. Автор: Kyle Terrill,Chanho Park,Ayman SHIBIB. Владелец: Vishay Siliconix Inc. Дата публикации: 2019-02-20.

Semiconductor device having multiple gate pads

Номер патента: US20170294432A1. Автор: Kyle Terrill,Chanho Park,Ayman SHIBIB. Владелец: Vishay Siliconix Inc. Дата публикации: 2017-10-12.

Semiconductor device having multiple gate pads

Номер патента: WO2017180614A1. Автор: Kyle Terrill,Chanho Park,Ayman SHIBIB. Владелец: VISHAY-SILICONIX. Дата публикации: 2017-10-19.

Semiconductor device having polysilicon bit line contact

Номер патента: US7884441B2. Автор: Nam Yoon Kim. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2011-02-08.

Method of fabricating a semiconductor device having a pre metal dielectric liner

Номер патента: US20070155111A1. Автор: Sung Kyung Jung. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-05.

Metal-insulator-metal diodes and methods of fabrication

Номер патента: US09887271B2. Автор: Aya SEIKE. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2018-02-06.

Methods of forming semiconductor devices using semi-bidirectional patterning and islands

Номер патента: US09865473B1. Автор: Atsushi Ogino. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Devices and methods of forming SADP on SRAM and SAQP on logic

Номер патента: US09761452B1. Автор: Jinping Liu,Daniel Jaeger,Jiehui SHU,Garo Jacques DERDERIAN,Haifeng Sheng. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Stacked semiconductor apparatus, system and method of fabrication

Номер патента: US09754921B2. Автор: Yun-sang Lee,Young-don Choi,Kang-Wook Lee,Ki-tae Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-09-05.

Methods of forming semiconductor devices using semi-bidirectional patterning

Номер патента: US09748251B1. Автор: Atsushi Ogino. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Method of fabricating micro-devices

Номер патента: CA2789682C. Автор: Chris C. Yu. Владелец: Anpac Bio Medical Science Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-24.

Method of fabricating micro-devices

Номер патента: CA3068756A1. Автор: Chris C. Yu. Владелец: Anpac Bio Medical Science Co Ltd. Дата публикации: 2011-08-25.

Method of fabricating micro-devices

Номер патента: EP2537176A1. Автор: Chris C. Yu. Владелец: Anpac Bio Medical Science Co Ltd. Дата публикации: 2012-12-26.

Semiconductor device and method of producing the same

Номер патента: EP2345061A1. Автор: Shinya Yamazaki. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2011-07-20.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20040075109A1. Автор: Daisuke Inomata. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-22.

Substrate output for a semiconductor device and a method of fabricating the same

Номер патента: US5121194A. Автор: Hiroki Hozumi,Kichio Aida. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1992-06-09.

Semiconductor device and method of producing the same

Номер патента: WO2010052561A1. Автор: Shinya Yamazaki. Владелец: TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2010-05-14.

Method of fabricating semiconductor device having trench interconnection

Номер патента: US6472318B2. Автор: Kazuyoshi Ueno. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-10-29.

Semiconductor device having multiple gate pads

Номер патента: US20190237458A1. Автор: Kyle Terrill,Chanho Park,Ayman SHIBIB. Владелец: Vishay Siliconix Inc. Дата публикации: 2019-08-01.

Semiconductor device having a contact struture using aluminum

Номер патента: US20020014696A1. Автор: Michio Asahina,Junichi Takeuchi,Kazuki Matsumoto,Naohiro Moriya. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2002-02-07.

(AI,Ga,In)N-Based compound semiconductor and method of fabricating the same

Номер патента: EP1772909A3. Автор: Chung Hoon Lee. Владелец: Seoul Optodevice Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-06.

Semiconductor Device and Method for Manufacturing the same

Номер патента: KR101139987B1. Автор: 오태경. Владелец: 에스케이하이닉스 주식회사. Дата публикации: 2012-05-02.

Memory apparatus using semiconductor devices

Номер патента: US20230420044A1. Автор: Koji Sakui,Nozomu Harada. Владелец: Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Semiconductor device

Номер патента: US20100225401A1. Автор: Hidetoshi Matsumoto,Akira Kuriyama,Masatoshi Hase,Kanji Hayata. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2010-09-09.

Semiconductor device

Номер патента: US8076976B2. Автор: Hidetoshi Matsumoto,Akira Kuriyama,Masatoshi Hase,Kanji Hayata. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2011-12-13.

Method of making semiconductor device having reduced bump height variation

Номер патента: US20240222318A1. Автор: Jing-Cheng Lin,Po-Hao Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Semiconductor devices and methods of fabricating the same

Номер патента: US11889679B2. Автор: Eunjung Kim,Sungyeon RYU. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-30.

Method of fabricating a semiconductor device with reduced oxide film variation

Номер патента: US7947567B2. Автор: Masanori Terahara,Junji Oh. Владелец: Fujitsu Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2011-05-24.

Semiconductor device and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20050062146A1. Автор: Takashi Noma,Tetsuya Miwa,Takayuki Kaida,Mitsuru Okigawa,Ryu Shimizu. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 2005-03-24.

Methods of fabricating buried digit lines

Номер патента: US6555463B2. Автор: Tyler A. Lowrey. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-04-29.

Method of fabricating capacitor for semiconductor device

Номер патента: US6190993B1. Автор: Byung Jae Choi,Soo Jin Seo. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2001-02-20.

Metal line of semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US20020058401A1. Автор: CHANG Kim. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2002-05-16.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20220415644A1. Автор: Le Li,Jun Zhou,Sheng Hu. Владелец: Wuhan Xinxin Semiconductor Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US12094704B2. Автор: Le Li,Jun Zhou,Sheng Hu. Владелец: Wuhan Xinxin Semiconductor Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Method of fabricating semiconductor device with an overlay mask pattern

Номер патента: US09812364B2. Автор: Jong-Su Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-07.

Composite wafer semiconductor devices using offset via arrangements and methods of fabricating the same

Номер патента: US09780136B2. Автор: Doowon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-10-03.

Voltage switchable dielectric materials with low band gap polymer binder or composite

Номер патента: EP2257979A1. Автор: Robert Fleming,Junjun Wu,Ning Shi,Lex Kosowsky. Владелец: Shocking Technologies Inc. Дата публикации: 2010-12-08.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US7772131B2. Автор: Jae-Hyun Kang. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2010-08-10.

Semiconductor device including ferroelectric capacitors and fabricating method thereof

Номер патента: US20030224538A1. Автор: Yoichi Miyasaka. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2003-12-04.

Method of fabricating semiconductor device, and plating apparatus

Номер патента: US8038864B2. Автор: Koji Arita,Ryohei Kitao. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2011-10-18.

Method of fabricating capacitor in semiconductor device and semiconductor device using the same

Номер патента: US20050287758A1. Автор: Jea Kim. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-12-29.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20080085472A1. Автор: Hyoung-Joo Youn. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-04-10.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20190074288A1. Автор: Kenichi Yoshikawa. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-07.

Semiconductor device

Номер патента: US20070155175A1. Автор: Keun Soo Park. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2007-07-05.

Method of fabricating semiconductor device, and plating apparatus

Номер патента: US20080023335A1. Автор: Koji Arita,Ryohei Kitao. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2008-01-31.

Semiconductor package and method of fabricating the same

Номер патента: US20240222303A1. Автор: Daehyun Kim,Kunsil Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Method of Fabricating Semiconductor Device

Номер патента: US20120090535A1. Автор: Takashi Nakao,Hiroshi Itokawa,Tsutomu Sato,Shinji Mori,Ichiro Mizushima,Masahiko Murano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-04-19.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US7022624B2. Автор: Choon Kun Ryu. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-04-04.

Method of handling test pad and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20230395440A1. Автор: Jun Zhou,Sheng Hu,Qiong Zhan. Владелец: Wuhan Xinxin Semiconductor Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Semiconductor package and method of fabricating the same

Номер патента: US20220406755A1. Автор: Hwail Jin,Sang-sick Park,Jongpa Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-12-22.

Semiconductor device and fabrication method

Номер патента: US20100171130A1. Автор: Timothy Ashley,Geoffrey Richard Nash. Владелец: Qinetiq Ltd. Дата публикации: 2010-07-08.

Method of fabricating specimen for analyzing defects of semiconductor device

Номер патента: US5840205A. Автор: Doo-Jin Park,Jeong-Hoi Koo. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1998-11-24.

Method of fabricating a semiconductor package

Номер патента: US9524884B2. Автор: Cheol-soo HAN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-20.

Apparatus for and method of fabricating semiconductor devices

Номер патента: US20190288203A1. Автор: Jiho Park,Jaeho Jung,Jeonghee Park,Kyoung Sun Kim,Changyup Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-09-19.

Method of fabricating semiconductor device and patterning semiconductor structure

Номер патента: US12062547B2. Автор: Hsing Ou Yang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Semiconductor package and method of fabricating the same

Номер патента: US12074142B2. Автор: Hwail Jin,Sang-sick Park,Jongpa Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-27.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20020048904A1. Автор: Takahiro Oka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-04-25.

Formation of ohmic contacts on wide band gap semiconductors

Номер патента: EP3134914A1. Автор: John L. Hostetler. Владелец: United Silicon Carbide Inc. Дата публикации: 2017-03-01.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US11314919B2. Автор: Bonghyun LEE,Yongdeok Kim,Munjun Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-26.

Semiconductor devices and methods of fabricating the same

Номер патента: US12080710B2. Автор: Young-Lim Park,Kyooho JUNG,Yukyung Shin,Changmu AN,Hongseon Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-03.

Semiconductor device fabricating method and semiconductor device

Номер патента: US20150380479A1. Автор: Takuo Narusawa. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-31.

Semiconductor device fabricating method and semiconductor device

Номер патента: US9660018B2. Автор: Takuo Narusawa. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Semiconductor device and fabrication method

Номер патента: WO2010070269A1. Автор: Timothy Ashley,Geoffrey Richard Nash. Владелец: Advantage West Midlands. Дата публикации: 2010-06-24.

Semiconductor device and fabrication method

Номер патента: EP2366198A1. Автор: Timothy Ashley,Geoffrey Richard Nash. Владелец: Advantage West Midlands. Дата публикации: 2011-09-21.

Vertically mountable semiconductor device and methods

Номер патента: US20020031857A1. Автор: Larry Kinsman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-14.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20040229467A1. Автор: Koki Muto. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2004-11-18.

Method of fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20040253800A1. Автор: Yong-Sun Ko,Sang-Sup Jeong,Jae-Woo Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-12-16.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20060263982A1. Автор: Koki Muto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-23.

Molecular electronic device having a patterned electrode and method of fabricating the same

Номер патента: US8035137B2. Автор: Dae-Sik Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2011-10-11.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20240265188A1. Автор: Bonghyun LEE,Yongdeok Kim,Munjun Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2024-08-08.

Semiconductor devices and methods of fabricating the same

Номер патента: US20240371863A1. Автор: Young-Lim Park,Kyooho JUNG,Yukyung Shin,Changmu AN,Hongseon Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-11-07.

Semiconductor package and method of fabricating the same

Номер патента: US20240371835A1. Автор: Hwail Jin,Sang-sick Park,Jongpa Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-11-07.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US09991203B2. Автор: Nae-in Lee,Byung-hee Kim,Rak-Hwan Kim,Jin-Nam Kim,Eun-ji Jung,Jong-min Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-06-05.

Semiconductor devices and methods of fabricating the same

Номер патента: US09911644B2. Автор: Jongmin Baek,Sanghoon Ahn,Sangho Rha,Wookyung You,NaeIn Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-03-06.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US09881809B2. Автор: Hong-Ji Lee,Xin-Guan Lin. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US09847266B2. Автор: Kangmin JEON,Jaehyun Lee,Dongsoo Lee,Hyung Joo Lee,Kyounghoon Han,Tae-Hwa Kim,Chanhoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-12-19.

Method of manufacturing a semiconductor device having deep wells

Номер патента: US09831134B1. Автор: Chen-Chin Liu,Meng-Han LIN,Chih-Ren Hsieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Methods of fabricating memory device with spaced-apart semiconductor charge storage regions

Номер патента: US09793288B2. Автор: Hiroyuki Kamiya,Shinsuke YADA. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2017-10-17.

Methods of fabricating semiconductor devices

Номер патента: US09793165B2. Автор: Kyu-Ha Lee,Taeje Cho,Hogeon SONG,SeYoung JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-10-17.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US09768025B2. Автор: Yongkong SIEW,Sung-yup Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-09-19.

Semiconductor device fabricating method and semiconductor device

Номер патента: US09660018B2. Автор: Takuo Narusawa. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Semiconductor device with air gap and method of fabricating the same

Номер патента: US09627252B2. Автор: Myung-Ok Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US09607985B1. Автор: Chen-Ming Huang,I-Ming Tseng,Wen-An Liang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Semiconductor devices and methods of fabricating the same

Номер патента: US09520300B2. Автор: Jongmin Baek,Sanghoon Ahn,Sangho Rha,Wookyung You,NaeIn Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-13.

A method of fabricating a semiconductor device

Номер патента: MY151464A. Автор: Lee Hing Wah,Daniel Bien Chia SHENG,Rozina Abdul Rani,Mohd Ismahadi Syono. Владелец: MIMOS BERHAD. Дата публикации: 2014-05-30.

Semiconductor device integrated with heat sink and method of fabricating the same

Номер патента: US20070131952A1. Автор: Kuo-Hsin Huang. Владелец: HIGH POWER OPTO Inc. Дата публикации: 2007-06-14.

Method of fabricating memory

Номер патента: US7344938B2. Автор: Yider Wu,Jongoh Kim,Kent Kuohua Chang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2008-03-18.

Method of fabricating a 3-d device

Номер патента: US20110171781A1. Автор: Dong Ho Lee,Jong Ho Lee,Eun Chul Ahn,Yong Chai Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-07-14.

Method of verifying line reliability and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20080160655A1. Автор: Ji Ho Hong. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2008-07-03.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240244818A1. Автор: Yu-Cheng Tung,Janbo Zhang. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Manufacturing Method of Semiconductor Device

Номер патента: US20120077310A1. Автор: Hiromi Abe,Toshihiko Akiba,Masanao Sato,Bunji Yasumura. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2012-03-29.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20180145001A1. Автор: Hiromi Abe,Toshihiko Akiba,Masanao Sato,Bunji Yasumura. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2018-05-24.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20190057913A1. Автор: Hiromi Abe,Toshihiko Akiba,Masanao Sato,Bunji Yasumura. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2019-02-21.

Manufacturing Method of Semiconductor Device

Номер патента: US20160035636A1. Автор: Hiromi Abe,Toshihiko Akiba,Masanao Sato,Bunji Yasumura. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2016-02-04.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US8415199B2. Автор: Hiromi Abe,Toshihiko Akiba,Masanao Sato,Bunji Yasumura. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2013-04-09.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20210272815A1. Автор: Chong Kwang Chang,Sug Hyun SUNG,Dong Hoon KHANG,Min Hwan JEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-09-02.

Fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240023305A1. Автор: Chan Hwang,Sookyung Kim,Jeonghee Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-18.

Methods of fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20170345679A1. Автор: Sangjin Kim,TaeYong KWON,Yunkyeong JANG,Donghoon HWANG,Sebeom OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-30.

Method and system supporting production of a semiconductor device using a plurality of fabrication processes

Номер патента: EP2056338A3. Автор: Masood Syaed. Владелец: Broadcom Corp. Дата публикации: 2013-03-06.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20230282248A1. Автор: Yifei Yan,Huixian Lai. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Method of fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20130034960A1. Автор: HAIYANG Zhang,Dongjiang Wang,Minda Hu. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp. Дата публикации: 2013-02-07.

Semiconductor device having a built-in heat sink and process of manufacturing same

Номер патента: US20010024838A1. Автор: Manny Kin Ma. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-09-27.

Semicondunctor device and method of fabricating the same

Номер патента: WO2012028109A1. Автор: Wei Huang. Владелец: CSMC TECHNOLOGIES FAB1 CO., LTD.. Дата публикации: 2012-03-08.

Isolation structures for semiconductor devices

Номер патента: US12057449B2. Автор: Yi-Jing Lee,Chia-Der Chang,Chao-Shuo Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Method of fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20070254389A1. Автор: Chang-ki Hong,Jeong-Nam Han,Dae-hyuk Kang,Kun-tack Lee,Sung-il Cho,Jung-min Oh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-11-01.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20060091401A1. Автор: Noriaki Matsunaga,Naofumi Nakamura,Takahiko Yoshizawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2006-05-04.

Method of manufacturing a semiconductor device having a pre-metal dielectric liner

Номер патента: US7550397B2. Автор: Sung Kyung Jung. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2009-06-23.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US12074031B2. Автор: Chong Kwang Chang,Sug Hyun SUNG,Dong Hoon KHANG,Min Hwan JEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-27.

Methods of fabricating semiconductor devices

Номер патента: US20050142736A1. Автор: Hyun Shin. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-06-30.

Cmos imager with nitrided gate oxide and method of fabrication

Номер патента: EP1929529A2. Автор: Jiutao Li. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2008-06-11.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240280895A1. Автор: Byung-Hyun Lee,Hoin Lee,Dongkyun Lee,Jinnam YEEM,Sangchul Yang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Method of Fabricating Semiconductor Device

Номер патента: US20090163004A1. Автор: Yeong Sil Kim. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2009-06-25.

Manufacturing method of semiconductor device having DRAM capacitors

Номер патента: US20020086493A1. Автор: Ken Inoue,Ryo Kubota. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20130280882A1. Автор: Young-Nam Hwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-10-24.

Nonvolatile memory device having STI structure and method of fabricating the same

Номер патента: US20020182806A1. Автор: Sun-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-12-05.

Low band dipole and multiband multi-port antenna arrangement

Номер патента: US20240235017A9. Автор: Kostyantyn SEMONOV,Chengyu Xu,Yaohuan LI. Владелец: Rfs Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Method of fabricating surface-emitting laser

Номер патента: US20180356459A1. Автор: Ryosuke Kubota. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2018-12-13.

Semiconductor layer comprising cyclically stacked narrow, intermediate, and wide band gap semiconductor films

Номер патента: CA2032869A1. Автор: Kenichi Kasahara. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1991-06-22.

Semiconductor layer comprising cyclically stacked narrow, intermediate, and wide band gap semiconductor films

Номер патента: CA2032869C. Автор: Kenichi Kasahara. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1995-10-24.

A method of fabricating waveguide channels

Номер патента: CA2408558A1. Автор: Stig Anders Petersson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-15.

A method of fabricating waveguide channels

Номер патента: EP1297585A1. Автор: Stig Anders Petersson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-04-02.

Low band dipole and multi-band multi-port antenna arrangement

Номер патента: US11848492B2. Автор: Kostyantyn SEMONOV,Chengyu Xu,Yaohuan LI. Владелец: Rfs Technologies Inc. Дата публикации: 2023-12-19.

Low band dipole and multiband multi-port antenna arrangement

Номер патента: US20240136706A1. Автор: Kostyantyn SEMONOV,Chengyu Xu,Yaohuan LI. Владелец: Rfs Technologies Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Implantable medical device having specialized anode sheets

Номер патента: EP1307893A2. Автор: Darrel F. Untereker,Jenn-Feng Yan. Владелец: Metronic Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

Compositions containing arsenic and their use in methods of treatment

Номер патента: CA2974843C. Автор: Malvin EUTICK. Владелец: EUPHARMA PTY LTD. Дата публикации: 2023-08-08.

Compositions containing arsenic and their use in methods of treatment

Номер патента: EP3250213A4. Автор: Malvin EUTICK. Владелец: EUPHARMA PTY LTD. Дата публикации: 2018-08-15.

Flexible heating device and method of making same

Номер патента: US11849511B2. Автор: Xiao Tong,Donglei MA,Hing Lung Jason TSANG. Владелец: Calefact Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Flexible heating device and method of making same

Номер патента: US20230164887A1. Автор: Xiao Tong,Donglei MA,Hing Lung Jason TSANG. Владелец: Calefact Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Flexible heating device and methods of manufacture and use of same

Номер патента: US20220394821A1. Автор: Xiao Tong,Donglei MA,Hing Lung Jason TSANG. Владелец: Calefact Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Insect attractants and their use in methods of insect control

Номер патента: EP2254409A2. Автор: James Gordon Campbell Hamilton. Владелец: KEELE UNIVERSITY. Дата публикации: 2010-12-01.

Insect attractants and their use in methods of insect control

Номер патента: WO2009103991A3. Автор: James Gordon Campbell Hamilton. Владелец: KEELE UNIVERSITY. Дата публикации: 2010-08-12.

Insect attractants and their use in methods of insect control

Номер патента: US20100310620A1. Автор: James Gordon Campbell Hamilton. Владелец: KEELE UNIVERSITY. Дата публикации: 2010-12-09.

Insect attractants and their use in methods of insect control

Номер патента: US20120263773A1. Автор: James Gordon Campbell Hamilton. Владелец: KEELE UNIVERSITY. Дата публикации: 2012-10-18.

Metal-chelating compositions and their use in methods of removing or inhibiting barium scale

Номер патента: US20210221715A1. Автор: Justin WILSON,Nikki Thiele. Владелец: CORNELL UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-07-22.

Analog switch having reduced gate-induced drain leakage

Номер патента: EP3272011A1. Автор: John K. Jennings,Ionut C. CICAL,Chandrika Durbha. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 2018-01-24.

Circuit to reduce gate induced drain leakage

Номер патента: EP4395175A1. Автор: Saurabh Goyal,Krishna Thakur. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2024-07-03.

Circuit to reduce gate induced drain leakage

Номер патента: US20240213978A1. Автор: Saurabh Goyal,Krishna Thakur. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2024-06-27.

Circuit to reduce gate induced drain leakage

Номер патента: US12113520B2. Автор: Saurabh Goyal,Krishna Thakur. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2024-10-08.

Semiconductor device having reduced field oxide recess and method of fabrication

Номер патента: US20010051410A1. Автор: Hao Fang,Toru Ishigaki,Masaaki Higashitani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-13.

Semiconductor device having reduced field oxide recess and method of fabrication

Номер патента: US6492229B2. Автор: Hao Fang,Toru Ishigaki,Masaaki Higashitani. Владелец: Fujitsu AMD Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2002-12-10.

Memory device through use of semiconductor device

Номер патента: US12108589B2. Автор: Koji Sakui,Nozomu Harada. Владелец: Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Methods and devices to generate gate induced drain leakage current sink or source path for switch fets

Номер патента: US20220038099A1. Автор: Alper Genc. Владелец: PSemi Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

Polymers with low band gaps and high charge mobility

Номер патента: CA2614958A1. Автор: Xiaobo Shi,Russell Gaudiana,Richard Kingsborough,David Waller,Zhengguo Zhu. Владелец: Zhengguo Zhu. Дата публикации: 2007-01-25.

Polymers with low band gaps and high charge mobility

Номер патента: US20070158620A1. Автор: Russell Gaudiana,Richard Kingsborough,David Waller,Zhengguo Zhu. Владелец: Konarka Technologies Inc. Дата публикации: 2007-07-12.

Memory device through use of semiconductor device

Номер патента: US11915757B2. Автор: Koji Sakui,Nozomu Harada. Владелец: Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Memory apparatus using semiconductor devices

Номер патента: US20230380139A1. Автор: Koji Sakui,Nozomu Harada. Владелец: Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Doped narrow band gap nitrides for embedded resistors of resistive random access memory cells

Номер патента: WO2016094233A1. Автор: Milind Weling,Mihir Tendulkar. Владелец: INTERMOLECULAR, INC.. Дата публикации: 2016-06-16.

Forming electrodes to small electronic devices having self-assembled organic layers

Номер патента: US20100096623A1. Автор: Nikolai Borisovich Zhitenev. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-04-22.

Method of recording and reproducing digital audio signal and apparatus thereof

Номер патента: US5687157A. Автор: Tadao Suzuki,Kenzo Akagiri,Makoto Akune,Kenichi Imai. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1997-11-11.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20240357797A1. Автор: Janbo Zhang. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Low-band conversion chrominance signal processing apparatus and method therefor

Номер патента: US5394197A. Автор: Yong-Je Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1995-02-28.

Method of fabricating a miniature device having an acoustic diaphragm

Номер патента: WO2018212933A1. Автор: Wit Bushko,Prateek Nath,Shawn Prevoir. Владелец: Bose Corporation. Дата публикации: 2018-11-22.

Method of fabricating a miniature device having an acoustic diaphragm

Номер патента: US20200021933A1. Автор: Shawn J. Prevoir,Prateek Nath. Владелец: Bose Corp. Дата публикации: 2020-01-16.

Method of fabricating a miniature device having an acoustic diaphragm

Номер патента: EP3659350A1. Автор: Prateek Nath,Shawn Prevoir. Владелец: Bose Corp. Дата публикации: 2020-06-03.

Method of fabricating memeory

Номер патента: US20060270142A1. Автор: Yider Wu,Jongoh Kim,Kent Chang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2006-11-30.

Method of fabricating memeory

Номер патента: US20070259493A1. Автор: Yider Wu,Jongoh Kim,Kent Kuohua Chang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-11-08.

Method of fabricating a miniature device having an acoustic diaphragm

Номер патента: US20200068315A1. Автор: Shawn J. Prevoir,Wit Bushko,Prateek Nath. Владелец: Bose Corp. Дата публикации: 2020-02-27.

Method of fabricating a miniature device having an acoustic diaphragm

Номер патента: EP3625973A1. Автор: Wit Bushko,Prateek Nath,Shawn Prevoir. Владелец: Bose Corp. Дата публикации: 2020-03-25.

Memory cells, semiconductor structures, semiconductor devices, and methods of fabrication

Номер патента: EP3130014A1. Автор: Gurtej S. Sandhu,Sumeet C. Pandey. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2017-02-15.

Acidophilic fusarium oxysporum strains, methods of their production and methods of their use

Номер патента: EP4361281A2. Автор: Richard E. MACUR,William P. INSKEEP,Mark KOZUBAL. Владелец: Fynder Group Inc. Дата публикации: 2024-05-01.

Acidophilic fusarium oxysporum strains, methods of their production and methods of their use

Номер патента: EP4361281A3. Автор: Richard E. MACUR,William P. INSKEEP,Mark KOZUBAL. Владелец: Fynder Group Inc. Дата публикации: 2024-08-21.

Antioxidant compounds and methods of their use

Номер патента: EP2344454A1. Автор: Steven Bottle,Kathryn Fairfull-Smith,Farina Schill. Владелец: Queensland University of Technology QUT. Дата публикации: 2011-07-20.

Antioxidant compounds and methods of their use

Номер патента: WO2010037172A1. Автор: Steven Bottle,Kathryn Fairfull-Smith,Farina Schill. Владелец: QUEENSLAND UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2010-04-08.

EXTRACT Piper Laetispicum CDC, METHOD OF PRODUCTION AND APPLICATION THEREOF

Номер патента: RU2385160C2. Автор: Ижу ВАНГ,Юи ДЖИАНГ. Владелец: Юи ДЖИАНГ. Дата публикации: 2010-03-27.

Heterocyclic compounds and methods of their use

Номер патента: US09624243B2. Автор: Alan Naylor,Thomas David Mccarthy. Владелец: NOVARTIS AG. Дата публикации: 2017-04-18.

Biosensors coated with co-polymers and their uses thereof

Номер патента: CA3070332A1. Автор: FEI Yu. Владелец: Microtech Medical Hangzhou Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-30.

Microglial cells and methods of use thereof

Номер патента: WO2020232512A1. Автор: Anthony Robert White,Hazel Qian Yin QUEK. Владелец: The Council of the Queensland Institute of Medical Research. Дата публикации: 2020-11-26.

Acetylene Derivatives And Their Use For Binding And Imaging Amyloid Plaques

Номер патента: US20080166299A1. Автор: Hank F. Kung,Mei Ping Kung. Владелец: University of Pennsylvania Penn. Дата публикации: 2008-07-10.

Acetylene derivatives and their use for binding and imaging amyloid plaques

Номер патента: EP2089110A2. Автор: Hank F. Kung,Mei Ping Kung. Владелец: University of Pennsylvania Penn. Дата публикации: 2009-08-19.

Fabrication of fluorescent nanoparticles and their conjugates for in vitro and in vivo diagnostics

Номер патента: US20220268764A1. Автор: Benzhong Tang,Ni XIE. Владелец: Auiset Biotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-25.

Fabrication of fluorescent nanoparticles and their conjugates for in vitro and in vivo diagnostics

Номер патента: WO2021017904A1. Автор: Benzhong Tang,Ni XIE. Владелец: Auiset Biotechnology Co. Ltd.. Дата публикации: 2021-02-04.

New matrices, processes for their preparation and their use in methods of isolating biomolecules

Номер патента: DE102008010692A1. Автор: Roland Fabis,Ralf Himmelreich. Владелец: QIAGEN GmbH. Дата публикации: 2009-08-27.

New matrix materials, processes for their preparation and their use in methods of isolating biomolecules

Номер патента: DE102008010693A1. Автор: Roland Fabis,Ralf Himmelreich. Владелец: QIAGEN GmbH. Дата публикации: 2009-08-27.

NOVEL COMPOSITIONS COMPRISING A PHOSPHODIESTERASE-5 INHIBITOR AND THEIR USE IN METHODS OF TREATMENT

Номер патента: US20130296324A1. Автор: Held Jerry M.. Владелец: VIVUS, INC.. Дата публикации: 2013-11-07.

Styryl phenols, derivatives and their use in methods of analyte detection

Номер патента: US20200174006A1. Автор: Diwu Zhenjun,LUO Zhen,LIU Jixiang,Dong Pengfei. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-04.

METAL-CHELATING COMPOSITIONS AND THEIR USE IN METHODS OF REMOVING OR INHIBITING BARIUM SCALE

Номер патента: US20210221715A1. Автор: Wilson Justin,THIELE Nikki. Владелец: CORNELL UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-07-22.

5-sulfanylhistidines and their disulfides and method of preparation thereof

Номер патента: US20180258077A1. Автор: Irene Erdelmeier,Sylvain Daunay. Владелец: Tetrahedron SAS. Дата публикации: 2018-09-13.

APPARATUS FOR TRANSFERRING CONTAINERS AND THEIR CONTENTS, AND METHODS OF MAKING AND USING THE SAME

Номер патента: US20200324982A1. Автор: WIEBE Abraham. Владелец: DMM Packaging, Inc.. Дата публикации: 2020-10-15.

COMPOSITIONS CONTAINING ARSENIC AND THEIR USE IN METHODS OF TREATMENT

Номер патента: US20170354680A1. Автор: Utick Malvin. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-14.

STYRYL PHENOLS, DERIVATIVES AND THEIR USE IN METHODS OF ANALYTE DETECTION

Номер патента: US20200378975A1. Автор: Diwu Zhenjun,LUO Zhen,LIU Jixiang,Dong Pengfei. Владелец: AAT BIOQUEST, INC.. Дата публикации: 2020-12-03.

POWDERS AND PRODUCTS OF TANTALIUM, NIOBIUM AND THEIR ALLOYS AND METHODS OF PRODUCTION

Номер патента: FR2648826A1. Автор: Prabhat Kumar. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 1990-12-28.

Novel substituted 5-formyluracils and their salts, and method of preparation

Номер патента: FR1512549A. Автор: . Владелец: Societe Industrielle pour la Fabrication des Antibiotiques SA SIFA. Дата публикации: 1968-02-09.

Epoxy-organosilicon compounds and their derivatives, and method of manufacture

Номер патента: FR1222868A. Автор: . Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1960-06-14.

Semiconductor device test system having reduced current leakage

Номер патента: CN101796424B. Автор: 布拉德利·P·史密斯. Владелец: FREESCALE SEMICONDUCTOR INC. Дата публикации: 2014-07-09.

Novel substituted benzylamines and their salts, and method of preparation

Номер патента: FR1429306A. Автор: . Владелец: Societe Industrielle pour la Fabrication des Antibiotiques SA SIFA. Дата публикации: 1966-02-25.

Novel compositions comprising a phosphodiesterase-5 inhibitor and their use in methods of treatment

Номер патента: CA2687679A1. Автор: Jerry M. Held. Владелец: Jerry M. Held. Дата публикации: 2008-11-27.

Uv excitable polyfluorene based conjugates and their use in methods of analyte detection

Номер патента: EP4097477A1. Автор: Zhenjun Diwu,Haitao Guo,Ruogu Peng,Travis Jennings. Владелец: AAT Bioquest Inc. Дата публикации: 2022-12-07.

Eating solutions and their use in methods of therapy or pro

Номер патента: NO985306L. Автор: Warwick Murrow Jameson. Владелец: Warwick Murrow Jameson. Дата публикации: 1999-01-14.

Dental devices, and their systems and methods of manufacture

Номер патента: MA40100A1. Автор: Marc Ginsburg,Stephen Ginsburg. Владелец: MIRADENT GROUP SALES Inc. Дата публикации: 2017-11-30.

Semiconductor device test system having reduced current leakage

Номер патента: CN101796424A. Автор: 布拉德利·P·史密斯. Владелец: FREESCALE SEMICONDUCTOR INC. Дата публикации: 2010-08-04.

Insect attractants and their use in methods of insect control

Номер патента: US8586068B2. Автор: James Gordon Campbell Hamilton. Владелец: KEELE UNIVERSITY. Дата публикации: 2013-11-19.

Sulfonic acids and their derivatives and methods of preparing same

Номер патента: US3555080A. Автор: Paul Raphael Resnick. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1971-01-12.

Fragments of the human zn-alpha2-glycolprotein and their use in methods of treatment of obesity

Номер патента: WO2003050281A2. Автор: Ilya Chumakov,Oxana Guerassimenko. Владелец: Genset S.A.. Дата публикации: 2003-06-19.

Basic substituted amides of n-substituted anthranilic acids and their salts and method of producing said compounds

Номер патента: CA921051A. Автор: Alhede Børge,Neuhold Karl. Владелец: Karl Neuhold. Дата публикации: 1973-02-13.

Styryl phenols, derivatives and their use in methods of analyte detection

Номер патента: US11821901B2. Автор: Zhen Luo,Zhenjun Diwu,Jixiang Liu,Pengfei Dong. Владелец: AAT Bioquest Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Dux4 inhibitors and methods of use thereof

Номер патента: US20230348906A1. Автор: Sean Christopher DAUGHERTY,Lishan Chen,Francis Michael SVERDRUP. Владелец: Ultragenyx Pharmaceutical Inc. Дата публикации: 2023-11-02.

Certain dux4 inhibitors and methods of use thereof

Номер патента: WO2023168202A2. Автор: Sean Christopher DAUGHERTY,Lishan Chen,Francis Michael SVERDRUP. Владелец: Ultragenyx Pharmaceutical Inc.. Дата публикации: 2023-09-07.

Methods of treatment with CD80 extracellular domain polypeptides

Номер патента: US11789010B2. Автор: Ursula Jeffry,Thomas Brennan,Susannah D. BARBEE,Barbara Sennino. Владелец: Five Prime Therapeutics Inc. Дата публикации: 2023-10-17.

Styryl phenols, derivatives and their use in methods of analyte detection

Номер патента: US20200174006A1. Автор: Zhen Luo,Zhenjun Diwu,Jixiang Liu,Pengfei Dong. Владелец: AAT Bioquest Inc. Дата публикации: 2020-06-04.

Styryl phenols, derivatives and their use in methods of analyte detection

Номер патента: US20240077489A1. Автор: Zhen Luo,Zhenjun Diwu,Jixiang Liu,Pengfei Dong. Владелец: AAT Bioquest Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Dux4 inhibitors and methods of use thereof

Номер патента: EP4208548A1. Автор: Sean Christopher DAUGHERTY,Lishan Chen,Francis Michael SVERDRUP. Владелец: Ultragenyx Pharmaceutical Inc. Дата публикации: 2023-07-12.

Certain dux4 inhibitors and methods of use thereof

Номер патента: WO2023168202A3. Автор: Sean Christopher DAUGHERTY,Lishan Chen,Francis Michael SVERDRUP. Владелец: Ultragenyx Pharmaceutical Inc.. Дата публикации: 2023-10-26.

Nerve targeting peptide conjugates and methods of use

Номер патента: US20240207422A1. Автор: Michael Whitney,Quyen Nguyen. Владелец: Alume Biosciences Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Program refresh with gate-induced drain leakage

Номер патента: US20240038316A1. Автор: Tomoharu Tanaka,Eric N. Lee,Kishore Kumar Muchherla,Akira Goda,Huai-Yuan Tseng. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Erase method of non-volatile memory device

Номер патента: US11783900B2. Автор: Sang-Won Park,Won Bo Shim,Bong Soon LIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-10.

Electrochromic devices having reduced switching times and their methods of manufacture

Номер патента: US09939703B1. Автор: Que Anh S. Nguyen. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2018-04-10.

Semiconductor device having reduced leakage and method of operating the same

Номер патента: US20020181291A1. Автор: Shi-Tron Lin,Wei-Fan Chen,Chen-Hsin Lien. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2002-12-05.

Selenophene-Based Low Band Gap Active Layers by Chemical Vapor Deposition

Номер патента: US20130089659A1. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-04-11.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A3. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-08-22.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A2. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-06-27.

Systems and methods of blind bandwidth extension

Номер патента: WO2015089066A1. Автор: Sen Li,Stephane Pierre Villette,Daniel J. Sinder,Pravin Kumar RAMADAS. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2015-06-18.

Systems and methods of blind bandwidth extension

Номер патента: EP3080808A1. Автор: Sen Li,Stephane Pierre Villette,Daniel J. Sinder,Pravin Kumar RAMADAS. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2016-10-19.

Lithographic template having a repaired gap defect method of repair and use

Номер патента: US20040023126A1. Автор: William Dauksher,David Mancini,Kevin Nordquist,Douglas Resnick. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-02-05.

Semiconductor memory device and semiconductor device

Номер патента: US20070214444A1. Автор: Nobuyuki Nakai,Yuji Yamasaki. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2007-09-13.

Method of constructing a reconfigurable photonic band gap device

Номер патента: US7454110B1. Автор: Weimin Zhou. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 2008-11-18.

Blast recorder and method of displaying blast energy

Номер патента: CA1315868C. Автор: Rene Schmidt,Gary Loubert. Владелец: Instantel Inc. Дата публикации: 1993-04-06.

Novel Raft Agents and their Use in the Development of Polyvinylpyrrolidone Grafted Nanoparticles

Номер патента: US20200002447A1. Автор: Lei Wang,Brian Benicewicz. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH CAROLINA. Дата публикации: 2020-01-02.

Virtual reality head-mounted devices having reduced numbers of cameras, and methods of operating the same

Номер патента: WO2017123395A1. Автор: Chung Chun Wan,Choon Ping CHNG. Владелец: GOOGLE INC.. Дата публикации: 2017-07-20.

Crosslinked human or animal tissue products and their methods of manufacture and use

Номер патента: US12065480B2. Автор: Keith E. Myers,W. Jerry Mezger. Владелец: HARBOR MEDTECH Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Raft agents and their use in the development of polyvinylpyrrolidone grafted nanoparticles

Номер патента: US09732169B2. Автор: Lei Wang,Brian C. Benicewicz. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH CAROLINA. Дата публикации: 2017-08-15.

Benzothiazepine derivatives and their method of preparation

Номер патента: US4539151A. Автор: Nobuyuki Fukazawa,Hajime Iizuka,Tsutomu Katakami. Владелец: Mitsui Toatsu Chemicals Inc. Дата публикации: 1985-09-03.

Process and structure for fabrication of mems device having isolated egde posts

Номер патента: EP2021859A1. Автор: David Heald. Владелец: Qualcomm Mems Technologies Inc. Дата публикации: 2009-02-11.

Fabrication method of semiconductor device

Номер патента: US7220521B2. Автор: Eiichi Kawamura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-05-22.

Virtual reality head-mounted devices having reduced numbers of cameras, and methods of operating the same

Номер патента: EP3403163A1. Автор: Chung Chun Wan,Choon Ping CHNG. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2018-11-21.

Process and structure for fabrication of mems device having isolated edge posts

Номер патента: WO2007142737A8. Автор: David Heald. Владелец: David Heald. Дата публикации: 2008-02-28.

Seam for fabric for paper production and industrial fabric and method of its manufacture

Номер патента: RU2482233C2. Автор: Дана ИГЛС. Владелец: Олбани Интернешнл Корп.. Дата публикации: 2013-05-20.

Apparatus and method of exposing light to a semiconductor device having a curved surface

Номер патента: WO2004063813A1. Автор: Nobuo Takeda,Ikuo Nishimoto,Ichitaroh Satoh. Владелец: YAMATAKE CORPORATION. Дата публикации: 2004-07-29.

Acid macromonomers and their method of preparation

Номер патента: WO2002079271A3. Автор: Peter Murer. Владелец: Peter Murer. Дата публикации: 2003-12-18.

Method of fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20200143010A1. Автор: Kang-Min Jung,Sangtae Kim,Bong-Soo Kang,Sooyong Lee,Kyoil KOO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-05-07.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003805A1. Автор: Lee Tae-Jung,PARK MYOUNG-KYU,Bang Kee-In. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001257A1. Автор: MURAKAWA Kouichi. Владелец: RENESAS ELECTRONICS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device Comprising Through Hole Vias Having a Stress Relaxation Mechanism

Номер патента: US20120001330A1. Автор: Huisinga Torsten,Grillberger Michael,Hahn Jens. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003795A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120000484A1. Автор: . Владелец: Denso Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device Including Ultra Low-K (ULK) Metallization Stacks with Reduced Chip-Package Interaction

Номер патента: US20120001323A1. Автор: . Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

CONNECTING MATERIAL, METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING MATERIAL AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120000965A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Composition for providing temporary anticorrosion protection of metals and their alloys and method of obtaining such composition

Номер патента: PL265437A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1988-11-24.

Measuring probe for measurements of oxygen chemical potential in gases and their mixtures and method of making such probe

Номер патента: PL147345B1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1989-05-31.

Oxygenated vinyl compounds and their polymers,and methods of preparing them

Номер патента: AU159378B2. Автор: . Владелец: International General Electric Company Incorporporated. Дата публикации: 1951-09-27.

Oxygenated vinyl compounds and their polymers,and methods of preparing them

Номер патента: AU402151A. Автор: . Владелец: International General Electric Company Incorporporated. Дата публикации: 1951-09-27.

INSECT ATTRACTANTS AND THEIR USE IN METHODS OF INSECT CONTROL

Номер патента: US20120263773A1. Автор: Hamilton James Gordon Campbell. Владелец: KEELE UNIVERSITY. Дата публикации: 2012-10-18.

Polymeric amidoximes and their derivatives anda method of preparing same

Номер патента: AU1229055A. Автор: Leonard Schouteden Ferdinand. Владелец: Gevaert Photo Producten NV. Дата публикации: 1955-03-22.

Polymeric amidoximes and their derivatives anda method of preparing same

Номер патента: AU206401B2. Автор: Leonard Schouteden Ferdinand. Владелец: Gevaert Photo Producten NV. Дата публикации: 1955-03-22.

2,5-dialkoxy-3,4-dihydroxytetrahydrofurans and their hydrolysates, and methods of producing them

Номер патента: CA554091A. Автор: K. F. W. Clauson-Kaas Niels. Владелец: Sadolin and Holmblad AS. Дата публикации: 1958-03-11.

Methods of manufacturing semiconductor devices with Si and SiGe epitaxial layers

Номер патента: US20120003799A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CMOS Image Sensor Including PNP Triple Layer And Method Of Fabricating The CMOS Image Sensor

Номер патента: US20120001241A1. Автор: Park Won-je. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING REDUCED SUB-THRESHOLD LEAKAGE

Номер патента: US20120003810A1. Автор: . Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF FABRICATING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR MODULE AND ELECTRONIC SYSTEM INCLUDING THE SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001272A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Transistor With Embedded Si/Ge Material Having Reduced Offset and Superior Uniformity

Номер патента: US20120001254A1. Автор: Javorka Peter,Kronholz Stephan,Boschke Roman. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING AN INTEGRATED CIRCUIT DEVICE

Номер патента: US20120003806A1. Автор: . Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE AND FABRICATION SYSTEM OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003761A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRODE STRUCTURE, METHOD OF FABRICATING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THE ELECTRODE STRUCTURE

Номер патента: US20120001267A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120003808A1. Автор: Lee Sang-yun. Владелец: BESANG INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

GATE STRUCTURES AND METHOD OF FABRICATING SAME

Номер патента: US20120001266A1. Автор: . Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF FORMING THE SAME

Номер патента: US20120003828A1. Автор: Chang Sung-Il,Choe Byeong-In,KANG Changseok. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods of Forming Nonvolatile Memory Devices Using Nonselective and Selective Etching Techniques to Define Vertically Stacked Word Lines

Номер патента: US20120003831A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MEMORIES AND THEIR FORMATION

Номер патента: US20120002477A1. Автор: Sinha Nishant,Tang Sanh D.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR PACKAGE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001329A1. Автор: Kim Young Lyong,Lee Jongho,AHN EUNCHUL,Kim Hyeongseob. Владелец: Samsung Electronics Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

FLEXIBLE SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001173A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND SOLID-STATE IMAGE SENSOR

Номер патента: US20120001291A1. Автор: Kokumai Kazuo. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Package and Method of Forming Similar Structure for Top and Bottom Bonding Pads

Номер патента: US20120001326A1. Автор: . Владелец: STATS CHIPPAC, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods of Preparing Non-Alcohol Bioactive Esential Oil Mouth Rinses

Номер патента: US20120003162A1. Автор: Mordas Carolyn J.,Queiroz Daniel R.,Tsai Patrick B.. Владелец: McNeil-PPC, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

TAGGED OLIGONUCLEOTIDES AND THEIR USE IN NUCLEIC ACID AMPLIFICATION METHODS

Номер патента: US20120003651A1. Автор: BECKER Michael M.,LIVEZEY Kristin W.,LAM Wai-Chung. Владелец: GEN-PROBE INCORPORATED. Дата публикации: 2012-01-05.

DRIVING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120001881A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120000518A1. Автор: Tokioka Hidetada,ORITA Tae,YAMARIN Hiroya. Владелец: Mitsubishi Electric Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF ARC DETECTION AND SUPPRESSION DURING RF SPUTTERING OF A THIN FILM ON A SUBSTRATE

Номер патента: US20120000765A1. Автор: Halloran Sean Timothy. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

ETCHANTS AND METHODS OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICES USING THE SAME

Номер патента: US20120001264A1. Автор: YANG Jun-Kyu,Kim Hong-Suk,Hwang Ki-Hyun,Ahn Jae-Young,Lim Hun-Hyeong,KIM Jin-Gyun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001324A1. Автор: Watabe Hiroshi,AOKI Hideo,MUKAIDA Hideko,Fukuda Masatoshi,Koshio Yasuhiro. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

WAFER STACKED PACKAGE WAVING BERTICAL HEAT EMISSION PATH AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001348A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING AN ELECTROCHEMICAL DEVICE USING ULTRAFAST PULSED LASER DEPOSITION

Номер патента: US20120003395A1. Автор: CHE Yong,HU Zhendong. Владелец: IMRA AMERICA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

LIGHT EMITTING DIODE HAVING A THERMAL CONDUCTIVE SUBSTRATE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120003766A1. Автор: . Владелец: Seoul Opto Device Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR STRUCTURE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120003815A1. Автор: Lee Sang-yun. Владелец: BESANG INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003829A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001333A1. Автор: HWANG Chang Youn. Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

CANCER BIOMARKERS AND METHODS OF USE THEREOF

Номер патента: US20120003639A1. Автор: KERLIKOWSKE KARLA,TLSTY THEA D.,GAUTHIER MONA L.,BERMAN HAL K.,BREMER TROY,MOLINARO ANNETTE M.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of Estimation of Traffic Information, Device of Estimation of Traffic Information and Car Navigation Device

Номер патента: US20120004836A1. Автор: . Владелец: Xanavi Informatics Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001300A1. Автор: Ito Takayuki,ISHIDA Tatsuya,Yoshino Kenichi,Naito Tatsuya. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS FOR SITE-SPECIFIC DELIVERY OF IMATINIB AND METHODS OF USE

Номер патента: US20120003319A9. Автор: Liversidge Gary,Jenkins Scott. Владелец: ELAN PHARMA INTERNATIONAL LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

REDUCED SUCROSE SUGAR COATINGS FOR CEREALS AND METHODS OF PREPARATION

Номер патента: US20120003360A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VIOLET LASER EXCITABLE DYES AND THEIR METHOD OF USE

Номер патента: US20120004397A1. Автор: . Владелец: LIFE TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

EXPANDABLE SUPPORT DEVICE AND METHOD OF USE

Номер патента: US20120004726A1. Автор: GREENHALGH E. Skott,ROMANO John-Paul. Владелец: STOUT MEDICAL GROUP, L.P.. Дата публикации: 2012-01-05.

TIRE PRESSURE MONITORING DEVICE HAVING POWER SUPPLIED BY MAGNETIC INDUCTION

Номер патента: US20120000277A1. Автор: Fischer Uwe. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTOVOLTAIC MODULE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120000506A1. Автор: Kim Dong-Jin,KANG Ku-Hyun,NAM Yuk-Hyun,Lee Jung-Eun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001168A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001170A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20120001180A1. Автор: Yoshizumi Kensuke,YOKOI Tomokazu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND LAMP

Номер патента: US20120001220A1. Автор: . Владелец: SHOWA DENKO K.K.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001275A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING OF SAME

Номер патента: US20120001321A1. Автор: IMAMURA Tomomi,Natsuda Tetsuo,Nishijo Yoshinosuke. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Manufacturing Method Thereof

Номер патента: US20120001332A1. Автор: TANAKA Tetsuhiro. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

RESIN COMPOSITION FOR ENCAPSULATING SEMICONDUCTOR AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001350A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Field emission electrode, method of manufacturing the same, and field emission device comprising the same

Номер патента: US20120003895A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

Номер патента: US20120001169A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120001304A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001346A1. Автор: SEO Dae-Young,KIM Doo-Kang. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE EQUIPPED WITH A PLURALITY OF MEMORY BANKS AND TEST METHOD OF THE SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120002464A1. Автор: MAE Kenji. Владелец: ELPIDA MEMORY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003820A1. Автор: FURUYA Akira,Kitamura Takamitsu,Nakata Ken,Makabe Isao,Yui Keiichi. Владелец: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF REDUCING EROSION OF A METAL CAP LAYER DURING VIA PATTERNING IN SEMICONDUCTOR DEVICES

Номер патента: US20120003832A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

FLATBAND VOLTAGE ADJUSTMENT IN A SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001253A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF DRIVING A LASER DIODE

Номер патента: US20120002690A1. Автор: Watanabe Hideki,Ikeda Masao,Yokoyama Hiroyuki,Miyajima Takao,Oki Tomoyuki,Kono Shunsuke. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF DRIVING A LASER DIODE

Номер патента: US20120002695A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

VEHICLE CONTROL DEVICE AND METHOD OF CONTROLLING VEHICLE

Номер патента: US20120004801A1. Автор: Watanabe Takashi. Владелец: TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE AND METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001247A1. Автор: Alsmeier Johann. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE & METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001249A1. Автор: Alsmeier Johann,Samachisa George. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE AND METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001250A1. Автор: Alsmeier Johann. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FORMING THE SAME

Номер патента: US20120001255A1. Автор: PARK JIN WON. Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001260A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device

Номер патента: US20120001269A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001294A1. Автор: . Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001331A1. Автор: . Владелец: KABUSHI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PHOTOGRAPHING APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING THE SAME

Номер патента: US20120002065A1. Автор: PARK Wan Je,Seung Jung Ah. Владелец: Samsung Electronics Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

DISPLAY SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND DISPLAY PANEL HAVING THE SAME

Номер патента: US20120003796A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING A SOLAR CELL WITH A TUNNEL DIELECTRIC LAYER

Номер патента: US20120000528A1. Автор: Smith David,Dennis Tim,Harrington Scott,Manning Jane,Waldhauer Ann. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MEMORY CELL THAT EMPLOYS A SELECTIVELY FABRICATED CARBON NANO-TUBE REVERSIBLE RESISTANCE-SWITCHING ELEMENT AND METHODS OF FORMING THE SAME

Номер патента: US20120001150A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

THIN FILM TRANSISTOR AND METHOD OF FABRICATING SAME

Номер патента: US20120001190A1. Автор: Yaneda Takeshi,Aita Tetsuya,Harumoto Yoshiyuki,Inoue Tsuyoshi,OKABE Tohru. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Improvements in Straight Bar Knitting Machines and in the Method of Knitting thereon

Номер патента: GB190313643A. Автор: James Hill Smith,Owen Anderson Hill. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-06-16.

METHOD OF STACKING FLEXIBLE SUBSTRATE

Номер патента: US20120000602A1. Автор: KIM Yong Hae,PARK Dong Jin,Suh Kyung Soo,KIM Gi Heon,KIM Chul Am. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001342A1. Автор: . Владелец: RENESAS ELECTRONICS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

NEW METHODS OF TREATING DRY EYE SYNDROME

Номер патента: US20120003296A1. Автор: Shantha Totada R.,Shantha Erica Maya,Shantha Jessica Gowramma. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRODE ASSEMBLY, METHOD OF FABRICATING ELECTRODE ASSEMBLY, AND SECONDARY BATTERY INCLUDING ELECTRODE ASSEMBLY

Номер патента: US20120003506A1. Автор: SHIN Hosik. Владелец: Samsung SDI Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING A LIGHT EMITTING DIODE CHIP HAVING PHOSPHOR COATING LAYER

Номер патента: US20120003758A1. Автор: HSIEH Chung-Chuan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SCREENING METHOD OF ANTI-LUNG OR ESOPHAGEAL CANCER COMPOUNDS

Номер патента: US20120004172A1. Автор: Nakamura Yusuke,Tsunoda Takuya,Daigo Yataro. Владелец: Oncotherapy Science, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METABOLIC BIOMARKERS FOR OVARIAN CANCER AND METHODS OF USE THEREOF

Номер патента: US20120004854A1. Автор: Gray Alexander,Guan Wei,Fernandez Facundo M.,McDonald John,Zhou Manshui. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of fabric production

Номер патента: RU2516855C2. Автор: Сергей Борисович Шилов. Владелец: Сергей Борисович Шилов. Дата публикации: 2014-05-20.