LOW BAND GAP SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING REDUCED GATE INDUCED DRAIN LEAKAGE (GIDL) AND THEIR METHODS OF FABRICATION
Номер патента: US20190058053A1
Опубликовано: 21-02-2019
Автор(ы): Chu-Kung Benjamin, Dewey Gilbert, Kavalieros Jack T., Kim Seiyon, Le Van H., Metz Matthew V., Rachmady Willy
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-02-2019
Автор(ы): Chu-Kung Benjamin, Dewey Gilbert, Kavalieros Jack T., Kim Seiyon, Le Van H., Metz Matthew V., Rachmady Willy
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor device having passing gate and method for fabricating the same
Номер патента: US09972627B2. Автор: Tae Su Jang,Jeong Seob KYE. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2018-05-15.