Film forming apparatus, film forming method, piezoelectric film, and liquid discharge apparatus
Номер патента: JP5052455B2
Опубликовано: 17-10-2012
Автор(ы): 崇幸 直野, 隆満 藤井
Принадлежит: Fujifilm Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 17-10-2012
Автор(ы): 崇幸 直野, 隆満 藤井
Принадлежит: Fujifilm Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Plasma film forming apparatus and plasma film forming method
Номер патента: US20220076932A1. Автор: Masaru Shimada,Hironori TORII,Kozue Tanaka. Владелец: Jsw Afty Corp. Дата публикации: 2022-03-10.