Reagent for forming a fine structure and a process for producing the same
Номер патента: DE112004000774T5
Опубликовано: 24-11-2011
Автор(ы): Kiyohisa Takahashi, Masato Nishikawa
Принадлежит: AZ Electronic Materials USA Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 24-11-2011
Автор(ы): Kiyohisa Takahashi, Masato Nishikawa
Принадлежит: AZ Electronic Materials USA Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Resist composition and method for producing resist pattern, and method for producing plated molded article
Номер патента: US20210278765A1. Автор: Takashi Nishimura,Junji Nakanishi,Masako Sugihara. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-09.