Method and apparatus for forming a deposited film using a microwave CVD process
Номер патента: US6096389A
Опубликовано: 01-08-2000
Автор(ы): Masahiro Kanai
Принадлежит: Canon Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-08-2000
Автор(ы): Masahiro Kanai
Принадлежит: Canon Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Plasma processing method and plasma processing apparatus
Номер патента: US5849455A. Автор: Shigenori Ueda,Junichiro Hashizume,Shinji Tsuchida. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-12-15.