Method of forming single crystal silicon thin film using sequential lateral solidification (SLS)
Номер патента: US20050176189A1
Опубликовано: 11-08-2005
Автор(ы): Se-Young Cho
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-08-2005
Автор(ы): Se-Young Cho
Принадлежит: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of manufacturing a thin-film electronic device with a laminated conductor
Номер патента: US6025218A. Автор: Stanley D. Brotherton. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 2000-02-15.