METHOD OF PROVIDING AN AIR- AND/OR MOISTURE-BARRIER COATING ON A TWO-DIMENSIONAL MATERIAL
Номер патента: US20220093852A1
Опубликовано: 24-03-2022
Автор(ы): GLASS Hugh, Guiney Ivor, Thomas Simon, TYLER Martin, Wallis Robert
Принадлежит: PARAGRAF LIMITED
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 24-03-2022
Автор(ы): GLASS Hugh, Guiney Ivor, Thomas Simon, TYLER Martin, Wallis Robert
Принадлежит: PARAGRAF LIMITED
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of fabricating semiconductor device including two-dimensional material layer defining air-gap, and semiconductor device
Номер патента: US20230163023A1. Автор: Soyoung LEE,Keunwook SHIN,Sungjoo An,Jungsoo YOON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-25.