Measuring equipment, exposure equipment and lithography system, and measurement method and exposure method
Номер патента: JP7020505B2
Опубликовано: 16-02-2022
Автор(ы): 祐一 柴崎
Принадлежит: Nikon Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-02-2022
Автор(ы): 祐一 柴崎
Принадлежит: Nikon Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Measurement device, lithography system, exposure apparatus, device manufacturing method, control method and overlay measurement method
Номер патента: EP3264179B1. Автор: Yuichi Shibazaki. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-12-27.