Method of fabricating silicon thin film transistor
Номер патента: KR100654022B1
Опубликовано: 04-12-2006
Автор(ы): 백운서
Принадлежит: 네오폴리((주))
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-12-2006
Автор(ы): 백운서
Принадлежит: 네오폴리((주))
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of fabricating electrodes, method of fabricating thin film transistor, method of fabricating array substrate, thin film transistor, array substrate, and display apparatus
Номер патента: EP3535776A1. Автор: Lei Wang,Liangchen YAN,Xiaoguang XU,Junbiao Peng,Linfeng Lan. Владелец: South China University of Technology SCUT. Дата публикации: 2019-09-11.